JP5507178B2 - 半導体集積回路装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
102、202、302、402 ポリサイド膜(ヒューズ素子)
103、203、403 層間絶縁膜
104、204、404 BPSG膜
105、205、305、405 コンタクト孔
106、206、306、406 第1層目のアルミニウム膜(配線層)
107、207、407 第1層目の金属間絶縁膜
408 SOG膜
109、209、409 第2層目の金属間絶縁膜
110、210、410 SiN膜(保護膜)
311 開口領域
212 サイドスペーサー
B、D スペース幅
C、E 側壁厚さ
Claims (4)
- 半導体基板上に配置された素子分離絶縁膜と、
前記素子分離絶縁膜上に配置されたヒューズ素子と、
前記ヒューズ素子上に配置された絶縁膜と、
前記絶縁膜に設けられた接続孔を介して前記ヒューズ素子に接続される第1配線層と、
前記第1配線層とその上方に配置された第2配線層との間に設けられた、平坦化された第1金属間絶縁膜および第2金属間絶縁膜と、
前記第2金属間絶縁膜の上に設けられた保護膜と、
を有する半導体集積回路装置であって、
前記保護膜は前記ヒューズ素子上方に開口領域を有しており、
隣り合う前記ヒューズ素子に接続される前記第1配線層間のスペース幅を前記第1金属間絶縁膜の側壁厚さの2倍未満とし、前記開口領域の内側に露出する前記第1配線層間が前記第1金属絶縁層のみで埋め込まれていることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 半導体基板上に配置された素子分離絶縁膜と、
前記素子分離絶縁膜上に配置されたヒューズ素子と、
前記ヒューズ素子上に配置された絶縁膜と、
前記絶縁膜に設けられた接続孔を介して前記ヒューズ素子に接続される第1配線層と、
前記第1配線層とその上方に配置された第2配線層との間に設けられた、平坦化された第1金属間絶縁膜および第2金属間絶縁膜と、
前記第2金属間絶縁膜の上に設けられた保護膜と、
を有する半導体集積回路装置であって、
前記保護膜は前記ヒューズ素子上方に開口領域を有し、
前記第1配線層の側面にサイドスペーサーを有し、
隣り合う前記ヒューズ素子に接続される前記第1配線層間のスペース幅を、前記サイドスペーサーを形成するための絶縁膜の側壁厚さの2倍未満とし、前記開口領域の内側に露出する前記第1配線層間が前記第1金属絶縁層のみで埋め込まれていることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 前記サイドスペーサーは、シリコン酸化膜あるいはリン珪酸ガラス(PSG)膜あるいはシリコン窒化膜であることを特徴とする請求項2記載の半導体集積回路装置。
- 半導体基板上に素子分離絶縁膜を設ける工程と、
前記素子分離絶縁膜上にヒューズ素子を設ける工程と、
前記ヒューズ素子上に絶縁膜を設ける工程と、
前記絶縁膜に接続孔を介して前記ヒューズ素子に接続される第1配線層を、隣り合う前記ヒューズ素子に接続される前記第1配線層間のスペース幅を前記絶縁膜の側壁厚さの2倍未満となるよう設ける工程と、
前記第1配線層の側面にサイドスペーサーを形成する工程と、
前記第1配線層および前記サイドスペーサーを覆うように第1金属間絶縁膜を形成する工程と、
前記第1金属間絶縁膜の上にSOGを設けてからエッチバックにより前記第1金属間絶縁膜を平坦化し、その上に第2金属間絶縁膜を設ける工程と、
前記第2金属間絶縁膜の上に保護膜を形成する工程と、
前記ヒューズ素子上方の前記保護膜に開口領域を、前記開口領域の内側に前記第1配線層および前記第1配線層間に埋め込まれた第1金属絶縁層が露出するように形成する工程と、
を有する半導体集積回路装置の製造方法。
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