JP5398534B2 - 半導体セラミック材料およびntcサーミスタ - Google Patents

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Description

この発明は、負の抵抗温度特性を有する半導体セラミック材料およびそれを用いて構成されるNTCサーミスタに関するもので、特に、抵抗温度特性の直線性を向上させるための改良に関するものである。
NTCサーミスタは、常温において抵抗が高く、高温において抵抗が低くなる、という負の抵抗温度特性を有しており、たとえば温度センサや温度補償用回路等に使用されている。
NTCサーミスタの負の抵抗温度特性は、一般的に非直線的である。他方、上記のような温度センサや温度補償用回路等にNTCサーミスタが用いられる場合、微小な温度変化に対して感度良く反応するためには、抵抗温度特性がより直線的であることが求められている。このため、従来、NTCサーミスタが挿入された回路中にICや固定抵抗を設けることによって、所望の抵抗温度特性が得られるように調整することが知られている。しかしながら、このような構成を採用すると、回路構成が複雑になったり、コストが高くなったりするという問題を招く。
このような問題を解決するため、たとえば特開2003−272904号公報(特許文献1)では、負の抵抗温度特性を有する2種類のサーミスタ材料を積層して一体化することによって、温度特性がより直線化されたNTCサーミスタが開示されている。これに類似する技術が、たとえば特開2002−231508号公報(特許文献2)および特開平2−189901号公報(特許文献3)にも開示されている。すなわち、特許文献2では、互いに特性の異なるサーミスタ材料を反応させないで一体化して等価的に第1のサーミスタと第2のサーミスタとを並列的に接続することにより、広い範囲で抵抗温度特性が直線的であるサーミスタが開示されている。特許文献3では、抵抗温度特性の異なる2種類以上の抵抗体層を積層して一体化することによって、抵抗温度特性を直線的にしたNTCサーミスタが開示されている。
これら特許文献1〜3に記載されたものは、いずれも、互いに異なる負の抵抗温度特性を有する少なくとも2種類のサーミスタ材料からなるセラミック層を積層したり、接合したりすることによって、抵抗温度特性のより直線化を図っている。
このため、特許文献1〜3に記載の技術によれば、少なくとも2種類のサーミスタ材料を準備しなければならないばかりでなく、抵抗変化が直線的になるような材料を選択して組み合わせる等、調整が難しいという問題がある。また、少なくとも2種類のサーミスタ材料からなるセラミック層を接合することによって構成されているため、焼成時における元素拡散や収縮率の違い、線膨張係数の違いなどにより、特性の変化が生じたり、接合面が弱く、クラックが生じたりすることがある。
特開2003−272904号公報 特開2002−231508号公報 特開平2−189901号公報
そこで、この発明の目的は、2種類以上の材料を組み合わせる必要がなく、それ自身により直線的な負の抵抗温度特性を与え得る、半導体セラミック材料、およびそれを用いて構成されるNTCサーミスタを提供しようとすることである。
この発明は、Aがランタン元素とバリウム元素とからなり、Bマンガン元素からなる、A(ただし、zは、AおよびBに含まれる元素の価数ならびにxおよびyの値で決まるセラミックとしての電気的中性条件を満たす数である。)で表される酸化物からなり、かつ負の抵抗温度特性を有する、半導体セラミック材料に向けられるものであって、上述した技術的課題を解決するため、x=1かつ0.8≦y≦1.4のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は60〜75モル%であり、x=1かつ1.4<y≦1.5のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は64〜75モル%であり、x=1かつ1.7≦y≦2.3のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は50〜63モル%であることを特徴としている。
この発明に係る半導体セラミック材料において、好ましくは、x=1かつ0.8≦y≦1.5のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は69〜72モル%であり、x=1かつ2.0≦y≦2.1のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は54〜63モル%である。
この発明は、セラミック素体と、セラミック素体の少なくとも一部を挟んで互いに対向するように形成された電極とを備える、NTCサーミスタにも向けられる。この発明に係るNTCサーミスタは、上記セラミック素体がこの発明に係る半導体セラミック材料からなることを特徴としている。
この発明に係る半導体セラミック材料によれば、これ自身により、直線的な負の抵抗温度特性を与えることができる。したがって、この発明に係る半導体セラミック材料を用いることにより、抵抗変化が直線的に生じるNTCサーミスタを容易に提供することができる。
この発明に係る半導体セラミック材料において、AのAにおけるバリウム元素の含有割合が、x=1かつ0.8≦y≦1.5のとき、69〜72モル%と限定され、また、x=1かつ2.0≦y≦2.1のとき、54〜63モル%と限定されると、抵抗変化をより直線的なものとすることができる。
この発明に係るNTCサーミスタによれば、セラミック素体を構成する半導体セラミック材料が1種類のみであるので、たとえば2種類以上のセラミック層を接合して構成される場合のように、焼成時の特性の変化や、線膨張係数の違いなどによるクラック等の問題を回避することができる。また、この発明に係るNTCサーミスタによれば、それ自身で直線的な抵抗温度特性を有しているので、回路中にICや固定抵抗を設けて抵抗温度特性を調整することが不要になる。
この発明の一実施形態によるNTCサーミスタ1の外観を示す斜視図である。 NTCサーミスタの抵抗温度特性に対する、この発明による改善効果を示す図である。
符号の説明
1 NTCサーミスタ
11,12 電極
20 セラミック素体
図1は、この発明の一実施形態によるNTCサーミスタ1の外観を示す斜視図である。
NTCサーミスタ1は、電極11および12と、電極11および12の間に挟まれたセラミック素体20とを備えている。電極11および12は、Ag、Ag−Pd、Pd、PtもしくはAu、またはこれらを含む合金から構成される。セラミック素体20は、後述するこの発明に係る半導体セラミック材料から構成される。
なお、図1では、円板状のNTCサーミスタ1を図示したが、直方体状であっても、また、内部電極を有する積層構造を有していてもよい。
セラミック素体20を構成する半導体セラミック材料は、負の抵抗温度特性を有するもので、Aがランタン元素とバリウム元素とからなり、Bマンガン元素からなる、A(ただし、zは、AおよびBに含まれる元素の価数ならびにxおよびyの値で決まるセラミックとしての電気的中性条件を満たす数である。)で表される酸化物からなる。ここで、x=1かつ0.8≦y≦1.4のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は60〜75モル%であり、x=1かつ1.4<y≦1.5のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は64〜75モル%であり、x=1かつ1.7≦y≦2.3のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は50〜63モル%である。なお、zの値については、酸素欠陥等によって、酸素の含有量が若干ずれる場合においても同様の効果が得られる。
セラミック素体20を構成する半導体セラミック材料が、上述のような組成に選ばれることにより、NTCサーミスタ1の抵抗温度特性を直線的なものとすることができる。
セラミック素体20を構成する半導体セラミック材料において、Aにおけるバリウム元素の含有割合が、より限定的に、x=1かつ0.8≦y≦1.5のとき、69〜72モル%とされ、x=1かつ2.0≦y≦2.1のとき、54〜63モル%とされると、抵抗温度特性の直線性をより良好なものとすることができるとともに、温度変化に対する抵抗変化の感度を高めることができる。
セラミック素体20を構成する半導体セラミック材料としては、より具体的な実施態様では、(La1−αBaαMn(ただし、zは、xおよびyの値で決まるセラミックとしての電気的中性条件を満たす数である。)で表される酸化物が用いられる。ここで、x=1かつ0.8≦y≦1.5のとき、0.60≦α≦0.75であり、x=1かつ1.7≦y≦2.3のとき、0.50≦α≦0.63である。
次に、この発明による効果を確認するために実施した実験例について説明する。
まず、出発原料として、La、BaCOおよびMnの各粉末を用意し、これらを、焼成後において表1〜表3の組成比になるように秤量し、混合した。次いで、これらの出発原料に、純水とポリカルボン酸系の分散剤とを加え、ボールミルにて、ZrOボールとともに混合粉砕して乾燥した後、900℃で2時間仮焼し、さらに、ボールミルにて、再度粉砕して仮焼粉を得た。
次に、得られた仮焼粉100重量部に、水を40重量部、ポリカルボン酸系の分散剤を2.0重量部加え、24時間混合した後、アクリル系の有機バインダを25重量部、可塑剤としてポリオキシエチレンを0.75重量部加え、2時間混合して、セラミックスラリーを得た。
次に、得られたセラミックスラリーを、ドクターブレード法によりシート状に成形し、乾燥させて厚み40μmのセラミックグリーンシートを得、焼成後の大きさが1.6mm×1.6mm×0.5mmとなるように重ねて圧着し、直方体状に切断した。続いて、この直方体状のセラミックグリーンシート圧着体を、大気中において、350℃の温度で10時間、脱脂した後、大気中において、1200℃の温度で2時間、焼成し、焼結したセラミック素体を得た。
次に、Ag含有導電性ペーストを上記セラミック素体の両主面に塗布し、800℃の温度で焼付けすることによって、電極を形成した。これにより、試料1〜96の各々に係るNTCサーミスタを得た。
他方、出発原料として、BaCOに代えて、SrCOを用いたことを除いて上述したのと同様の工程を経て、表4に示す試料101〜103の各々に係るNTCサーミスタを得た。また、出発原料として、BaCOに代えて、CaCOを用いたことを除いて上述したのと同様の工程を経て、表5に示す試料104〜109の各々に係るNTCサーミスタを得た。
次に、これら試料1〜96、101〜103および104〜109の各々に係るNTCサーミスタについて、25〜50℃の温度範囲での抵抗温度係数B25/50、および抵抗温度特性の線形係数Rを求めた。
抵抗温度係数B25/50は、以下の[数1]で示される式により求められるもので、温度変化に対する抵抗変化の感度を示すものである。すなわち、B25/50の値が大きいほど、感度が高いことを示している。
Figure 0005398534
線形係数Rは、以下の[数2]で示される式により求められるもので、抵抗温度特性の直線性を示すものである。すなわち、Rの絶対値が1に近いほど直線性に優れていることを示している。
Figure 0005398534
以上のようにして求められたB25/50およびRが表1ないし表5に示されている。
Figure 0005398534
Figure 0005398534
Figure 0005398534
Figure 0005398534
Figure 0005398534
表1ないし表5において、試料番号に*を付したものはこの発明の範囲外のものである。この発明の範囲外の試料1、2、19、20、29、30、38〜40、46、47、59、65〜67、72、73、78〜80、86〜89、95、96および101〜109では、Rの絶対値が0.98未満となり、抵抗温度特性の直線性が劣っている。
これに対して、この発明の範囲内にある試料3〜18、21〜28、31〜37、41〜45、48〜58、60〜64、68〜71、74〜77、81〜85および90〜94では、Mnが0.8モル以上かつ1.4モル以下のとき、Baが0.60〜0.75モルの範囲内にあり、Mnが1.4モルを超えかつ1.5モル以下のとき、Baが0.64〜0.75モルの範囲内にあり、Mnが1.7モル以上かつ2.3モル以下のとき、Baが0.50〜0.63モルの範囲内にあるため、Rの絶対値が0.98以上の値を示し、抵抗温度特性が良好な直線性を示していることがわかる。
さらに、Mnが0.8〜1.5モルのとき、Baが0.69〜0.72モルの範囲にある試料3〜18、24〜27、34〜36、43および44、ならびに、Mnが2.0〜2.1モルのとき、Baが0.54〜0.63モルの範囲にある試料61〜64、76、83および92によれば、Rが0.99以上の値を示し、抵抗温度特性が直線性により優れていることがわかる。さらに、これら試料3〜18、24〜27、34〜36、43および44、ならびに61〜64、76、83および92によれば、B25/50が970K以上の値を示し、温度変化に対する抵抗変化の感度が高くなっていることがわかる。
図2は、NTCサーミスタの抵抗温度特性に対する、この発明による改善効果を示すもので、表1に示したこの発明の範囲内にある試料25とこの発明の範囲外の試料102とを比較して示したものである。図2において、縦軸は各温度での抵抗値を0℃での抵抗値で割った値を示し、横軸は温度を示している。図2から明らかなように、この発明の範囲内にある試料25によれば、この発明の範囲外の試料102に比べて、抵抗変化の直線性が大幅に改善されている。

Claims (3)

  1. Aがランタン元素とバリウム元素とからなり、Bがマンガン元素からなる、A(ただし、zは、AおよびBに含まれる元素の価数ならびにxおよびyの値で決まるセラミックとしての電気的中性条件を満たす数である。)で表される酸化物からなり、かつ負の抵抗温度特性を有する、半導体セラミック材料であって、
    x=1かつ0.8≦y≦1.4のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は60〜75モル%であり、
    x=1かつ1.4<y≦1.5のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は64〜75モル%であり、
    x=1かつ1.7≦y≦2.3のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は50〜63モル%である、
    半導体セラミック材料。
  2. x=1かつ0.8≦y≦1.5のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は69〜72モル%であり、
    x=1かつ2.0≦y≦2.1のとき、Aにおけるバリウム元素の含有割合は54〜63モル%である、
    請求項1に記載の半導体セラミック材料。
  3. セラミック素体と、前記セラミック素体の少なくとも一部を挟んで互いに対向するように形成された電極とを備える、NTCサーミスタであって、
    前記セラミック素体は請求項1または2に記載の半導体セラミック材料からなる、NTCサーミスタ。
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