JP5383621B2 - パワー半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は、パワー半導体装置に関し、特に、パワー半導体装置の小型化、低コスト化ならびに、パワー半導体装置に接続されるプリント配線板の小型化も実現可能なトランスファーモールド樹脂封止型のパワー半導体装置に関する。
一般にパワー半導体装置は、大電流、高電圧下で動作するため、そのようなパワーモジュールにおいては、熱抵抗を小さくし、高い絶縁性を確保するとともに、小型化、低コスト化することが重要である。
たとえば、特許文献1で示されるように、所定の電気回路の配線パターンが形成されているリードフレーム上にパワー半導体素子が搭載されており、アルミ板または銅板と、高熱伝導性の絶縁層と、銅箔とからなる金属基板の一方の面がはんだ付けされ、その後、金属基板の他方の面が露出されるように、全体がトランスファーモールド樹脂で封止されている構造がある。この構造によりトランスファーモールド樹脂封止型のパワーモジュールの小型化、低コスト化、製造工程の簡略化を図っている。
特開平11−204724号公報
特許文献1で示されている従来技術は、パワー半導体装置の小型化を実現するためのものであり、プレス打ち抜きで形成されたリードフレームを用いること、高熱伝導金属基板をパワー半導体素子が実装されたリードフレームの直下に設けることにより、小型化、低コスト化を図ろうとするものである。しかし、この従来技術は、パワー半導体装置の小型化、低コスト化を実現する手段としては、十分な効果は得られない構造である。
つまり、従来技術のリードフレームを用いたトランスファーモールド樹脂封止型のパワー半導体装置においては、トランスファー工程上、端子となるリードフレームはパワー半導体装置の側面周囲方向からのみ取り出しが可能となる構造であり、トランスファーモールド樹脂封止後、各種電極を分離するためリードフレームのタイバー部を切断し、プリント配線板への実装のため外部端子であるリード部を折り曲げる加工を施す必要がある。
更に、これらリードで形成された外部端子は金属が露出している状態であり絶縁はされていない。そのため、外部端子間は十分な絶縁距離を確保する必要があり、パワー半導体素子が搭載され封止されているモールド樹脂封止部を小型化しても、パワー半導体装置の大きさは、側面から出ているリード外部端子の絶縁距離を確保するための外部端子間の絶縁距離で規定されてしまうため、小型化には限度が生じる。
この問題に対する一つの解決策としては、外部端子をパワー半導体装置の上面から取り出すという方法が考えられる。つまり、面内で外部電極を配置する方法である。この手法は現在の弱電関係の半導体装置に適用されており、小型化に向けて、リードフレームのかわりに金属からなるピン電極を表面上に形成した、PGAパッケージなどのエリアアレイパッケージがこの考えを考慮して開発されている。
つまり、外部端子を平面上で配置することにより小型化が可能となる。この方法をパワー半導体装置に適用することにより、平面内で絶縁距離を保ちながら外部端子を取り出せることにより、パワー半導体装置の小型化は可能となる。
しかし、パワー半導体装置表面から直接真上に外部端子が形成されるために、外部端子の取り出し位置はパワー半導体装置内のパワー半導体素子のレイアウトに大きく影響を受けることになり、外部端子によりパワー半導体装置と接合されるプリント配線板のパターンの引き回しが複雑になるため、プリント配線板のパターン設計の自由度が失われ、結果としてプリント配線板が大きくなってしまうという問題が生じることになる。
本発明は上記のような問題点を解消するためになされたものであり、パワー半導体素子上方において、絶縁距離を保ちつつ所望の位置に外部端子を引き回すことができ、小型化が可能なパワー半導体装置を提供することを目的とする。
本発明にかかるパワー半導体装置は、下地上の配線パターンに裏面が接合され、前記裏面に対向する表面に表面電極を有する、パワー半導体素子と、前記パワー半導体素子の前記表面電極上、および/または前記配線パターン上に底面が接合された、筒状の連通部と、前記連通部の上面を露出させる凹部を有し、前記連通部の上面以外と、前記下地と、前記配線パターンと、前記パワー半導体素子とを覆うトランスファーモールド樹脂と、一端が前記連通部の上面に挿入され、他端が上方へ導かれた外部端子とを備え、少なくとも1つの前記外部端子は、両端部間においてL字曲折する曲折領域を有し、前記曲折領域は、前記トランスファーモールド樹脂の前記凹部に埋没する。
本発明にかかるパワー半導体装置によれば、下地上の配線パターンに裏面が接合され、前記裏面に対向する表面に表面電極を有する、パワー半導体素子と、前記パワー半導体素子の前記表面電極上、および/または前記配線パターン上に底面が接合された、筒状の連通部と、前記連通部の上面を露出させる凹部を有し、前記連通部の上面以外と、前記下地と、前記配線パターンと、前記パワー半導体素子とを覆うトランスファーモールド樹脂と、一端が前記連通部の上面に挿入され、他端が上方へ導かれた外部端子とを備え、少なくとも1つの前記外部端子は、両端部間においてL字曲折する曲折領域を有し、前記曲折領域は、前記トランスファーモールド樹脂の前記凹部に埋没することにより、パワー半導体素子上方において、所望の位置に外部端子を引き回すことができ、小型化が可能となる。
本発明の実施の形態1にかかるパワー半導体装置を示す断面模式図である。 本発明の実施の形態1にかかる外部装置であるプリント配線板とパワー半導体装置が外部端子で接続されている断面模式図である。 本発明の実施の形態1にかかるパワー半導体装置上面のトランスファーモールド樹脂表面上に形成された凹部の中に埋没されている鳥瞰図である。 本発明の実施の形態1にかかるL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態2にかかるL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態2にかかるL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態2にかかるL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態2にかかるL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態2にかかるL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態3にかかるはんだ接合用のL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態3にかかるプレスフィット接合用のL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態3にかかるプレスフィット接合用のL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態3にかかるスプリング接合用のL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態3にかかるスプリング接合用のL字形状を有した外部端子の構造図である。 本発明の実施の形態4にかかる凸形状が形成されたパワー半導体装置の構造図である。 本発明の実施の形態4にかかる凹形状が形成されたパワー半導体装置の構造図である。
<A.実施の形態1>
<A−1.構成>
図1は、本発明の実施の形態1にかかるパワー半導体装置を示す断面模式図である。図1に示すように、本実施の形態1のパワー半導体装置は、パワー半導体装置の熱を放熱する金属放熱体である金属板1の一方の面(上面)に、下地としての、高熱伝導性の絶縁層2が設けられている。さらにこの高熱伝導性の絶縁層2の上面には、金属箔の配線パターン3が形成されている。金属板1と高熱伝導性の絶縁層2と配線パターン3とで、回路基板である金属回路基板8を構成している。
配線パターン3上には、パワー半導体素子5と筒状の連通部6とが、略垂直にはんだ4を介して接合されている。パワー半導体素子5は、その裏面が配線パターン3と接合され、裏面と対向する面である表面に表面電極を有しており、連通部6は、パワー半導体素子5の表面電極上、および/または配線パターン3上に底面が接合される。また、配線パターン3と配線パターン3との間、パワー半導体素子5とパワー半導体素子5との間、および、配線パターン3とパワー半導体素子5との間が、ワイヤーボンド9で電気的に接続されている。
そして、金属回路基板8の配線パターン3形成面、周辺側面と、パワー半導体素子5、ワイヤーボンド9、筒状の連通部6の外側は、トランスファーモールド樹脂7で封止されている。しかし、連通部6の上部に位置する凹部12、凹部20には、トランスファーモールド樹脂7は充填されておらず、連通部6の上面が露出するように形成されている。連通部6には、L字形状を有した外部端子10と直線形状を有した外部端子11とがそれぞれ挿入される。外部端子10、外部端子11は、一端が連通部6の上面に挿入され、他端が上方へ導かれている。なお、挿入される外部端子10、外部端子11の形状に対応して凹部12、凹部20が形成されているが、その配置については、例えば凹部12がパワー半導体素子5上の連通部6上面に形成されてもよく、その場合には、凹部12には対応する外部端子10が挿入されるので、外部端子10がパワー半導体素子5上に配置されることになる。
本実施の形態1において、金属板1には、熱伝導性に優れた金属、例えば、アルミニウムおよびアルミニウム合金、銅および銅合金、鉄および鉄合金、あるいは、銅/鉄−ニッケル合金/銅、アルミニウム/鉄−ニッケル合金/アルミニウム等の複合材料を用いることが出来る。特に、電流容量が大きいパワー半導体素子5を用いる場合には熱伝導性に優れた銅を用いるのが好ましい。また、金属板1の厚み、長さ、幅とは、パワー半導体素子5の電流容量により、適宜決定される。すなわち、パワー半導体素子5の電流容量が大きくなると、金属板1の厚みを厚くし、金属板1の長さと幅を大きくする。
また、本実施の形態1において、高熱伝導性の絶縁層2には、例えば、各種セラミックスや無機粉末を含有する樹脂絶縁シート、ガラス繊維を含有する樹脂絶縁シートを用いることが出来る。高熱伝導性の絶縁層2に含有される無機粉末としては、アルミナ、ベリリア、ボロンナイトライド、マグネシア、シリカ、窒化珪素、窒化アルミニウムが挙げられる。そして、高熱伝導性の絶縁層2の厚みは、例えば20〜400μmである。
また、本実施の形態1において、配線パターン3には、例えば、銅箔が用いられ、ワイヤーボンド9には、アルミニウム線が用いられる。配線パターン3に用いられる銅箔の厚み、および、ワイヤーボンド9に用いられるアルミニウム線の線径・本数もパワー半導体素子5の電流容量により、適宜決められる。
また、本実施の形態1において、筒状の連通部6には、たとえば、金属筒が用いられ、その材質は、熱伝導性と電気伝導性とに優れ、配線パターン3とはんだ4で接合できる金属、たとえば、銅および銅合金、アルミニウムおよびアルミニウム合金のめっき品を用いるのが好ましい。筒状の連通部6の厚みは、トランスファーモールド時の成型圧力により変形しない厚み以上で、電流容量により適宜決められる。
連通部6の高さは、後で挿入接続する外部端子が十分に接続できる高さであれば良い。連通部6の内径は、後で挿入接続するL字形状を有した外部端子10、直線形状を有した外部端子11の挿入部の外径から決まり、少なくとも、外部端子10、外部端子11を取り付けることができる内径であれば良い。そして、筒状の連通部6のトランスファーモールド樹脂表面側端部の内径を、中心部の内径以上としても良い。このようにすると、連通部6への外部端子10、外部端子11の挿入が容易になる。
また、連通部6にはテーパー形状が設けられている。これは、配線パターン3と連通部6との接合に用いられるはんだ4の濡れ性を良くし、信頼性を向上させるためである。また、トランスファーモールド樹脂7で封止された連通部6の凹部12、凹部20もテーパー形状を有し、そのテーパー形状により、後で挿入する外部端子10、外部端子11が連通部6に挿入しやすくなるという利点もある。
本実施の形態1では、はんだ付けする底面側、トランスファーモールド樹脂封止する上面側ともに、同じテーパー形状の向きとしているが、はんだ付けする底面側においてテーパー形状の向きは逆であっても、本発明の効果は得られる。また、テーパー形状の角度ははんだの種類等によって適宜変える。
また、本実施の形態1において、トランスファーモールド樹脂7には、例えば、フィラーとしてシリカ粉末が充填されたエポキシ樹脂が用いられる。トランスファーモールド樹脂7において、充填されるシリカ粉末の含有率は、本装置に用いられる部材の熱膨張係数などを考慮して最適な量が選定される。
例えば、配線パターン3と金属板1とに銅を用いた場合、トランスファーモールド樹脂7の熱膨張係数を銅の熱膨張係数である16ppm/℃に合わすように、エポキシ樹脂へのシリカ粉末の充填量が設定される。このようにすることにより、反りのないパワー半導体装置が得られる。
また、トランスファーモールド樹脂7の放熱性を向上させる場合は、フィラーとしてシリカ粉末の代わりにアルミナ粉末を用いることが好ましい。
<A−2.製法>
次に、本実施の形態1におけるパワー半導体装置の製造方法の一例について説明する。本実施の形態1のパワー半導体装置は、例えば、金属板1として厚み3mmの銅板に、高熱伝導の絶縁層2としてBステージ状態のアルミナ粉末を含有するエポキシ樹脂シートを載せ、その上に厚み0.3mmの銅箔を重ねる。
そして、銅板とアルミナ粉末を含有するエポキシ樹脂シートと銅箔とを積層したものを加熱・加圧して、銅板と銅箔とをアルミナ粉末を含有するエポキシ樹脂シートで接合する。次に、銅箔をエッチングして配線パターン3を形成する。
このようにして、銅からなる金属板1とアルミナ粉末を含有するエポキシ樹脂の絶縁層2と銅の配線パターン3とからなる金属回路基板8を形成する。
次に、配線パターン3上の任意の場所に設けられる素子搭載部にパワー半導体素子5を、そして配線パターン3上の任意の場所に設けられる外部端子10、外部端子11との接合部に、筒状の連通部6を各々はんだ4を用いて接合する。
そして、配線パターン3と配線パターン3との間、パワー半導体素子5とパワー半導体素子5との間、および、配線パターン3とパワー半導体素子5との間において、導通が必要な箇所をアルミニウムのワイヤーボンド9で接続する。また、本実施の形態1においては、ワイヤーボンド9により配線パターン3とパワー半導体素子5の接続を行っているが、これに限るものではなく、それ以外の電気的接続を行えるものであれば、本発明の効果は得られる。
上記のはんだ付け・ワイヤーボンドの形成順では、ワイヤーボンド9をすべての部品のはんだ接合終了後に行うため、連通部6と導通のある配線パターン3上にパワー半導体素子5もしくは別の配線パターン3からワイヤボンディングを行う際に、ワイヤボンディング装置の制約上、連通部6の高さによって近傍にワイヤーボンドを打てない可能性がある。そのため、実装面積に限界が生じる。そこで、実装面積をさらに縮小する方法として、次の方法が挙げられる。配線パターン3とパワー半導体素子5のはんだ付けのあとにワイヤーボンドを行い、その後配線パターン3と連通部6を接合する方法である。二回に分けて接合するので、配線パターン3と連通部6の接合には、低融点はんだを用いるか、もしくははんだ以外の接合方法を用いる。例えば、銀ペーストで接着する方法や、超音波接合による方法が挙げられる。
次に、ワイヤーボンドされたパワー半導体素子5と連通部6とを搭載した金属回路基板8は、金型にセットされ、トランスファーモールド法により、例えばシリカ粉末が充填されたエポキシ樹脂系のトランスファーモールド樹脂7で封止される。
上記に述べた本発明は、金属回路基板8に限定する物ではなく、セラミック基板を構成部材として用いても、本発明の効果を得ることは可能である。
トランスファーモールド樹脂7で封止された連通部6には、外部端子10、外部端子11が挿入される。
連通部6と接続される外部端子10、外部端子11の外部端子形状としては、挿入される連通部6に対し、L字形状を有した外部端子10を用いることが望ましいが、連通部6に対しそのまま直上してなる、直線形状を有した外部端子11と併用しても問題ない。
L字形状を有した外部端子10を部分的にでも用いることにより、外部端子10で接続されるパワー半導体装置と外部装置において、外部装置の接続部位位置を任意に設計することが可能となる。
つまり、パワー半導体装置を最も小型化になるようにパワー半導体素子5と連通部6の位置で設計されたパワー半導体装置を用いた場合においても、L字形状を有した外部端子10を用いることにより、パワー半導体装置の連通部6に対応する外部装置の接続部位を任意な位置に設定することが可能となることから、外部装置の小型化、さらには電気的損失を低減できる配線が可能となる。
電気的損失の低減の一例として、パワー半導体素子5として、IGBT素子とダイオード素子を用いた2イン1構造のパワー半導体装置の場合、パワー半導体装置内で形成されたP電極筒状の連通部とN電極筒状の連通部に接続された各々の外部端子にL字形状を有した2本の外部端子を用いることにより、端子同士を隣接させると同時に並行配線で外部装置に接合する配線の引き回しが可能となり、インダクタンスの低減が可能となる。
一方、直線形状を有した外部端子11のみをパワー半導体装置と外部装置の接合端子として用いた場合、連通部6直上に外部装置の接続部位を設置する必要が生じることから、外部装置における最適な回路引き回しが困難となると同時に外部装置が大きくなるという不具合が生じる。
<A−3.連通部の構成>
図2は、本発明の実施の形態1にかかる外部装置であるプリント配線板13とパワー半導体装置とが外部端子10、外部端子11で接続されている断面模式図である。L字形状を有した外部端子10、直線形状を有した外部端子11において、外部端子10、外部端子11の一方の先端が連通部6内に挿入されていると同時に、他方の先端が外部装置であるプリント配線板13のスルーホール部14、またはランド部15に接合されることにより、パワー半導体装置とプリント配線板13に、外部端子10、外部端子11を用い一括で接続することが可能であるため、プロセス的にも簡単であると同時に、長期信頼性を向上させることが可能である。
本断面模式図では省略しているが、外部装置であるプリント配線板13には、抵抗部品、コンデンサ部品、トランス部品、マイコン部品等のパワー半導体装置を駆動させるための実装部品が搭載されている。
図3は、L字形状を有した外部端子10において連通部6、さらにはプリント配線板13のスルーホール部14、またはランド部15に接合されない辺、すなわち、外部端子10の曲折領域21が、パワー半導体装置上面のトランスファーモールド樹脂7表面上に形成された外部端子の凹部12の中に埋没されている鳥瞰図である。
トランスファーモールド樹脂上の外部端子の凹部12内に、L字形状を有した外部端子10の曲折領域21を埋没させることにより、隣接する異電極外部端子間の沿面絶縁距離が長くなることから、一定の沿面距離まで異電極外部端子の間隔を短くすることが出来、それによりパワー半導体装置の小型化が可能となる。
図4に実施の形態1で示したトランスファーモールド樹脂7表面に形成された凹部12の中に埋没されている、外部端子111の曲折領域22に、凹部12に対する固定用の突起18が形成されている場合を示す。
固定用の突起18を設けることにより、トランスファーモールド樹脂表面に形成された凹部12にL字形状を有した外部端子111が高位置精度で固定される。これによりプリント配線板13のスルーホール部14,またはランド部15に対する外部端子111の先端部の位置精度が向上するため、簡易に挿入が可能と同時に、接合後の信頼性も向上する。
パワー半導体素子5にワイドバンドギャップ半導体としての例えばSiCを用いることにより、電流密度の向上が可能となり、パワー半導体装置の小型化が可能となる。これは以下の実施の形態でも同様である。
<A−4.効果>
本発明にかかる実施の形態1によれば、パワー半導体装置において、下地としての絶縁層2上の配線パターン3に裏面が接合され、裏面に対向する表面に表面電極を有する、パワー半導体素子5と、パワー半導体素子5の表面電極上、および/または配線パターン3上に底面が接合された、筒状の連通部6と、連通部6の上面を露出させる凹部20、凹部12を有し、連通部6の上面以外と、絶縁層2と、配線パターン3と、パワー半導体素子5とを覆うトランスファーモールド樹脂7と、一端が連通部6の上面に挿入され、他端が上方へ導かれた外部端子11、外部端子10とを備え、少なくとも1つの外部端子10は、両端部間においてL字曲折する曲折領域21を有し、曲折領域21は、トランスファーモールド樹脂7の凹部12に埋没することで、パワー半導体素子5上方において、沿面絶縁距離を保ちつつ装置上の端子間の距離を短くすることが可能となり、所望の位置に外部端子を引き回し、装置の小型化を実現することができる。
また、本発明にかかる実施の形態1によれば、パワー半導体装置において、外部端子11、外部端子10の上方に配置された、プリント配線板13をさらに備え、外部端子11、外部端子10の他端は、プリント配線板13のスルーホール部14、又はランド部15に接合されることで、外部端子11、外部端子10を用いて、スルーホール部14への挿入による接合でも、ランド部15への接合でも、一括でプリント配線板13と接続することができ、プリント配線板13の設計も制限せずに済む。また、長期信頼性も向上する。
また、本発明にかかる実施の形態1によれば、パワー半導体装置において、外部端子111は、曲折領域22において、トランスファーモールド樹脂7の凹部12の側面に係合される突起18を有することで、トランスファーモールド樹脂表面に形成された凹部12にL字形状を有した外部端子111が高位置精度で固定され、外部端子111の先端部の位置精度が向上するため、簡易に挿入が可能と同時に、接合後の信頼性も向上する。
<B.実施の形態2>
<B−1.構成>
図5〜9は、L字形状を有した外部端子において、連通部6内に接合される部位とプリント配線板13のスルーホール部14、またはランド部15に接合される部位とが各々1つ以上を有するL字形状を有した外部端子の構造図を示す。
図5は、連通部6内に接合される部位とプリント配線板13に接合する部位が各々1つを有するL字形状を有した外部端子100の構造図を示す。
図6は、連通部6内に接合される部位が2カ所、プリント配線板13に接合する部位が1カ所を有するL字形状を有した外部端子101、外部端子102の構造図を示す。
図7は、連通部6内に接合される部位が1カ所、プリント配線板13に接合する部位が2カ所を有するL字形状を有した外部端子103の構造図を示す。
図8は、連通部6内に接合される部位が2カ所、プリント配線板13に接合する部位が2カ所を有するL字形状を有した外部端子104、外部端子105の構造図を示す。
パワー半導体装置において、電流容量が比較的小容量の場合は、接合部位が両先端各々1カ所ずつの図5で示すL字形状を有した外部端子100を用いれば問題ないが、電流容量が大容量のパワー半導体装置においては、接続部が1カ所のみで通電を行うと、部分的(局所的な)な発熱により、はんだのクラック、剥離等の問題、プリント配線板13の耐熱性の問題等が発生するため、装置の信頼性が低下する。
このような場合は、図6〜8で示すように通電部の箇所を増やすことで、電流容量が増え発熱集中等の問題は解決でき、装置の信頼性は向上する。しかし一方で、パワー半導体装置内の連通部6、プリント配線板13のスルーホール部14,ランド部15の数が多くなり、小型化を阻害する可能性があるため、接続部の形状、数量を最適化して使用する必要がある。
パワー半導体素子5にワイドバンドギャップ半導体であるSiCが用いられるような場合には、電流密度の向上に伴い、図9に示すL字形状を有した外部端子110を用いるのが望ましい。
外部端子110は、曲折領域23の幅を、通常のパワー半導体素子5(Siが用いられている場合)に比べ広くすることにより、外部端子110自身の発熱を押さえることが可能になり、パワー半導体装置のロスを下げることが出来る。
<B−2.効果>
本発明にかかる実施の形態2によれば、パワー半導体装置において、外部端子100〜105、外部端子110はその両端部にそれぞれ1または複数の接続部を有することで、発熱集中の度合と小型化の要請とを考慮しながら、接続部の形状、数量を最適化することが可能となる。
また、本発明にかかる実施の形態2によれば、パワー半導体装置において、外部端子110の曲折領域23は、外部端子110の長さ方向と略直交する方向の幅が、外部端子110のそれ以外の領域の幅より広いことで、パワー半導体素子5にワイドバンドギャップ半導体であるSiCが用いられるような場合に電流密度が上昇しても、適切に対応することができる。
また、本発明にかかる実施の形態2によれば、パワー半導体装置において、パワー半導体素子5は、ワイドバンドギャップ半導体からなることで、パワー半導体装置の電流密度が向上し、さらなる小型化が可能となる。
<C.実施の形態3>
<C−1.構成>
図10は、L字形状を有した外部端子100の連通部6、さらにはプリント配線板13のスルーホール部14、ランド部15への接合方法として、はんだ接合を用いる場合の外部端子100の構造を示す。
はんだ接合を用いることにより、外部端子100の先端形状を工夫する必要がないため、外部端子の低コスト化につながる。はんだ接合に用いるL字形状を有した外部端子100の材料としては、銅、または銅合金等の電気伝導性に優れた材料が好まれる。はんだ接合を行うために、スズ、ニッケルめっき等も必要に応じて用いられる。上記はんだ接合においては、直線形状を有した外部端子11への適用も同様である。
図11、12にL字形状を有した外部端子106、外部端子107の連通部6、さらにはプリント配線板13のスルーホール部14への接合方法として、プレスフィットを用いる場合の外部端子106、外部端子107の構造を示す。
例えば図11は、一般的にスターピンと呼ばれる先端をかしめた構造のプレスフィット形状のL字形状を有した外部端子106である。
図12は、一般的にコンプライアントピンとよばれるプレスフィット形状のL字形状を有した外部端子107である。
形状はこれら2種類に限定される物ではなく、C型プレスフィット形状、Σ型プレスフィット形状などの外部端子106、外部端子107も用いることができる。プレスフィットを用いた外部端子106、外部端子107の材料としては、バネ性を有すると同時に電気伝導性に優れた銅合金材料が好まれて使用される。
プレスフィット接合を用いることにより、はんだレス接合が可能になり、接合部の信頼性向上、組み立て加工費の低減につながる。なお上記プレスフィットを用いた接合においては、直線形状を有した外部端子11への適用も同様である。
図13、14にL字形状を有した外部端子108、外部端子109の連通部6、さらにはプリント配線板13のランド部15への接合方法として、スプリングを用いる場合の外部端子108、外部端子109の構造を示す。
例えば図13は、C型形状のスプリングを有した外部端子108である。
図14は、一般的なスプリング形状を有した外部端子109である。
形状はこれら2種類に限定される物ではなく、スプリング機能で接合を可能にするものならどの様な形状でも用いることが出来る。スプリング機能を用いる外部端子108、外部端子109の材料としては、スプリング性を有すると同時に電気伝導性に優れた銅合金材料が好まれて使用される。
スプリング機能により接合を取ることにより、プリント配線板13のランド部15のみで接合が可能となり、スルーホール部14が不要となりプリント配線板13の小型化が可能となる。なお上記スプリングを用いた接合においては、直線形状を有した外部端子11への適用も同様である。
L字形状を有した外部端子10、直線形状を有した外部端子11の連通部6、さらにはプリント配線板13のスルーホール部14,ランド部15への接合方法について具体的に説明したが、接合方法は外部端子の両端で別々の接合方法を併用しても問題はない。
<C−2.効果>
本発明にかかる実施の形態3によれば、パワー半導体装置において、外部端子106、外部端子107の少なくともいずれかの端部は、プレスフィットを用いて接合されることで、はんだレス接合が可能になり、接合部の信頼性向上、組み立て加工費の低減が可能となる。
また、本発明にかかる実施の形態3によれば、パワー半導体装置において、外部端子108、外部端子109の少なくともいずれかの端部は、スプリングを用いて接合されることで、プリント配線板13のランド部15のみで接合が可能となり、スルーホール部14が不要となりプリント配線板13の小型化が可能となる。
<D.実施の形態4>
<D−1.構成>
パワー半導体装置上面に引き回された異電極の外部端子10間、さらには外部端子11間のトランスファーモールド樹脂7表面に、凸形状16が形成されたパワー半導体装置を図15に示す。
トランスファーモールド樹脂7表面に形成された絶縁性の凸形状16を異電極の外部端子10間、さらには外部端子11間に設けることにより、沿面距離を長くすることが出来るため、外部端子10間、外部端子11間の実質的な横距離を縮めることが可能になり、パワー半導体装置の小型化が可能となり、低コスト化が達成できる。
パワー半導体装置上面に引き回された異電極の外部端子10間、さらには外部端子11間のトランスファーモールド樹脂7表面に、凹形状17が形成されたパワー半導体装置を図16に示す。
凹形状17を異電極の外部端子10間、さらには外部端子11間に設けることにより、沿面距離を長くすることが出来るため、L字形状を有した外部端子10間の横距離を縮めることが可能になり、パワー半導体装置の小型化が可能となり、低コスト化が達成できる。
なお、凸形状16、凹形状17は、1つのパワー半導体装置において混在していてもよい。
<D−2.効果>
本発明にかかる実施の形態4によれば、パワー半導体装置において、トランスファーモールド樹脂7は、凹部20、凹部12を複数備え、トランスファーモールド樹脂7は、所定の凹部20、凹部12の間に、凸形状16および/または凹形状17を有することで、沿面距離を長くすることが出来るため、外部端子10間、外部端子11間の実質的な横距離を縮めることが可能になり、パワー半導体装置の小型化が可能となり、低コスト化が達成できる。
本発明の実施の形態では、各構成要素の材質、材料、実施の条件等についても記載しているが、これらは例示であって記載したものに限られるものではない。
1 金属板、2 絶縁層、3 配線パターン、4 はんだ、5 パワー半導体素子、6 連通部、7 トランスファーモールド樹脂、8 金属回路基板、9 ワイヤーボンド、10,11,100〜111 外部端子、12,20 凹部、13 プリント配線板、14 スルーホール部、15 ランド部、16 凸形状、17 凹形状、18 突起、21〜23 曲折領域。

Claims (9)

  1. 下地上の配線パターンに裏面が接合され、前記裏面に対向する表面に表面電極を有する、パワー半導体素子と、
    前記パワー半導体素子の前記表面電極上、および/または前記配線パターン上に底面が接合された、筒状の連通部と、
    前記連通部の上面を露出させる凹部を有し、前記連通部の上面以外と、前記下地と、前記配線パターンと、前記パワー半導体素子とを覆うトランスファーモールド樹脂と、
    一端が前記連通部の上面に挿入され、他端が上方へ導かれた外部端子とを備え、
    少なくとも1つの前記外部端子は、両端部間においてL字曲折する曲折領域を有し、
    前記曲折領域は、前記トランスファーモールド樹脂の前記凹部に埋没する、
    パワー半導体装置。
  2. 前記外部端子の上方に配置された、プリント配線板をさらに備え、
    前記外部端子の他端は、前記プリント配線板のスルーホール部、又はランド部に接合される、
    請求項1に記載のパワー半導体装置。
  3. 前記外部端子は、前記曲折領域において、前記トランスファーモールド樹脂の前記凹部の側面に係合される突起を有する、
    請求項1または2に記載のパワー半導体装置。
  4. 前記外部端子はその両端部にそれぞれ1または複数の接続部を有する、
    請求項1〜3のいずれかに記載のパワー半導体装置。
  5. 前記外部端子の前記曲折領域は、前記外部端子の長さ方向と略直交する方向の幅が、前記外部端子のそれ以外の領域の幅より広い、
    請求項1〜4のいずれかに記載のパワー半導体装置。
  6. 前記パワー半導体素子は、ワイドバンドギャップ半導体からなる、
    請求項1〜5のいずれかに記載のパワー半導体装置。
  7. 前記外部端子の少なくともいずれかの端部は、プレスフィットを用いて接合される、
    請求項1〜6のいずれかに記載のパワー半導体装置。
  8. 前記外部端子の少なくともいずれかの端部は、スプリングを用いて接合される、
    請求項1〜7のいずれかに記載のパワー半導体装置。
  9. 前記トランスファーモールド樹脂は、前記凹部を複数備え、
    前記トランスファーモールド樹脂は、所定の前記凹部の間に、凸形状および/または凹形状を有する、
    請求項1〜8のいずれかに記載のパワー半導体装置。
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Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101278393B1 (ko) * 2010-11-01 2013-06-24 삼성전기주식회사 파워 패키지 모듈 및 그의 제조방법
JP5716637B2 (ja) * 2011-11-04 2015-05-13 住友電気工業株式会社 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法
JP2013258387A (ja) 2012-05-15 2013-12-26 Rohm Co Ltd パワーモジュール半導体装置
WO2013179638A1 (ja) * 2012-05-29 2013-12-05 日本精工株式会社 半導体モジュール及びその製造方法
CN104603933B (zh) * 2012-08-31 2018-09-18 三菱综合材料株式会社 功率模块用基板及功率模块
US8847384B2 (en) * 2012-10-15 2014-09-30 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Power modules and power module arrays having a modular design
JP6028592B2 (ja) 2013-01-25 2016-11-16 三菱電機株式会社 半導体装置
JP6065625B2 (ja) * 2013-02-08 2017-01-25 トヨタ自動車株式会社 半導体装置の製造方法
JP2014157927A (ja) * 2013-02-15 2014-08-28 Denso Corp 半導体装置及びその製造方法
JP5776707B2 (ja) 2013-02-27 2015-09-09 株式会社デンソー 半導体装置
DE102013211405B4 (de) * 2013-06-18 2020-06-04 Infineon Technologies Ag Verfahren zur herstellung eines halbleitermoduls
KR102143890B1 (ko) 2013-10-15 2020-08-12 온세미컨덕터코리아 주식회사 파워 모듈 패키지 및 이의 제조 방법
JP6154342B2 (ja) 2013-12-06 2017-06-28 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
DE102013225805A1 (de) * 2013-12-12 2015-06-18 Continental Automotive Gmbh Verfahren zum Herstellen einer Baugruppe und Baugruppe
JP6274058B2 (ja) 2014-09-22 2018-02-07 株式会社デンソー 電子装置、及び電子装置を備えた電子構造体
DE102014116793B4 (de) 2014-11-17 2018-03-08 Infineon Technologies Ag Leistungshalbleitermodul und Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls
JP6269451B2 (ja) * 2014-11-19 2018-01-31 株式会社デンソー 電気接続構造
JP6380244B2 (ja) * 2015-06-15 2018-08-29 三菱電機株式会社 半導体装置、電力変換装置
JP2017022346A (ja) * 2015-07-15 2017-01-26 富士電機株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
US9888561B2 (en) * 2015-07-21 2018-02-06 Apple Inc. Packaged electrical components with supplemental conductive structures
JP6468984B2 (ja) * 2015-10-22 2019-02-13 三菱電機株式会社 半導体装置
JP6673012B2 (ja) * 2016-05-26 2020-03-25 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP6493317B2 (ja) * 2016-06-23 2019-04-03 三菱電機株式会社 半導体装置
DE102016211479A1 (de) * 2016-06-27 2017-12-28 Siemens Aktiengesellschaft Leistungsmodul
JP6732583B2 (ja) * 2016-07-26 2020-07-29 株式会社三社電機製作所 端子取付基板
JP6559728B2 (ja) * 2017-04-04 2019-08-14 株式会社豊田中央研究所 半導体装置及び電力変換装置
DE112017007673B4 (de) * 2017-06-21 2022-08-18 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitereinrichtung, Leistungsumwandlungsvorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitereinrichtung
WO2019059384A1 (ja) * 2017-09-22 2019-03-28 日立化成株式会社 保護材付き厚銅回路
JP6841199B2 (ja) * 2017-09-29 2021-03-10 三菱電機株式会社 半導体装置
JP6806024B2 (ja) * 2017-10-03 2020-12-23 三菱電機株式会社 半導体装置
CN111406316B (zh) * 2017-10-26 2023-08-01 新电元工业株式会社 电子部件
CN108091619A (zh) * 2017-12-08 2018-05-29 广东美的制冷设备有限公司 智能功率模块及其制造方法、空调器
DE112018007278T5 (de) 2018-03-14 2020-11-26 Mitsubishi Electric Corporation Halbleiter-leistungsmodul und leistungswandler
JP6921794B2 (ja) * 2018-09-14 2021-08-18 株式会社東芝 半導体装置
DE102018221246A1 (de) * 2018-12-07 2020-06-10 Danfoss Silicon Power Gmbh Halbleiter-Leistungsmodul und Verfahren zum Verbinden desselben mit anderen elektrischen Komponenten
EP3696854A1 (de) * 2019-02-13 2020-08-19 Siemens Aktiengesellschaft Leistungshalbleitermodul und verfahren zur herstellung eines leistungshalbleitermoduls
JP2020141010A (ja) * 2019-02-27 2020-09-03 株式会社豊田自動織機 半導体装置
JP7280789B2 (ja) 2019-09-24 2023-05-24 株式会社東芝 パワーモジュール
EP3797962A1 (de) * 2019-09-30 2021-03-31 Siemens Aktiengesellschaft Gehäuse eines elektronikmoduls und dessen herstellung
DE102020207686A1 (de) 2020-06-22 2021-12-23 Zf Friedrichshafen Ag Leistungsmodul zum Betreiben eines Elektrofahrzeugantriebs mit optimierter Kühlung und Kontaktierung
CN111987068B (zh) * 2020-08-11 2022-08-26 四川旭茂微科技有限公司 一种引线结构及使用该结构的引线框架
DE102021203704A1 (de) 2021-04-14 2022-10-20 Zf Friedrichshafen Ag Halbbrücke, Leistungsmodul und Inverter für einen elektrischen Antrieb eines Elektrofahrzeugs oder eines Hybridfahrzeugs

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62142338A (ja) 1985-12-17 1987-06-25 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置用パツケ−ジ
JPH01191455A (ja) 1988-01-27 1989-08-01 Hitachi Ltd 半導体装置
JPH08288427A (ja) 1995-04-20 1996-11-01 Nec Kyushu Ltd 半導体装置
JP3390661B2 (ja) 1997-11-13 2003-03-24 三菱電機株式会社 パワーモジュール
JP4490041B2 (ja) * 2001-04-02 2010-06-23 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
JP4453498B2 (ja) * 2004-09-22 2010-04-21 富士電機システムズ株式会社 パワー半導体モジュールおよびその製造方法
JP2007235004A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US7557421B1 (en) * 2006-07-20 2009-07-07 Rf Micro Devices, Inc. Hybrid radio frequency integrated circuit using gallium nitride epitaxy layers grown on a donor substrate
JP4410242B2 (ja) * 2006-12-27 2010-02-03 三菱電機株式会社 電子制御装置及びその製造方法
DE112008000229B4 (de) * 2007-01-22 2014-10-30 Mitsubishi Electric Corp. Leistungshalbleitervorrichtung
US7816781B2 (en) * 2007-10-02 2010-10-19 Infineon Technologies Ag Power semiconductor module
JP2009200416A (ja) * 2008-02-25 2009-09-03 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP4576448B2 (ja) 2008-07-18 2010-11-10 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
JP4567773B2 (ja) 2008-07-18 2010-10-20 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
TWI394258B (zh) * 2008-11-11 2013-04-21 Cyntec Co Ltd 晶片封裝結構及其製作方法
JP4634497B2 (ja) * 2008-11-25 2011-02-16 三菱電機株式会社 電力用半導体モジュール
JP4658268B2 (ja) * 2008-11-26 2011-03-23 三菱電機株式会社 電力用半導体モジュール
JP4607995B2 (ja) * 2008-11-28 2011-01-05 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
JP4825259B2 (ja) * 2008-11-28 2011-11-30 三菱電機株式会社 電力用半導体モジュール及びその製造方法
JP2010129867A (ja) 2008-11-28 2010-06-10 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置
JP5245880B2 (ja) * 2009-02-04 2013-07-24 三菱電機株式会社 電力用半導体モジュールとその製造方法
JP5272768B2 (ja) * 2009-02-05 2013-08-28 三菱電機株式会社 電力用半導体装置とその製造方法
JP5345017B2 (ja) * 2009-08-27 2013-11-20 三菱電機株式会社 電力用半導体装置とその製造方法
JP5511621B2 (ja) * 2010-10-13 2014-06-04 三菱電機株式会社 半導体装置

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