JP5326638B2 - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、それが使用される磁気記録媒体用ガラス基板、および、垂直磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
また、本発明に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、磁気記録媒体用ガラス基板の表面を、二種類の砥粒を含むスラリーを伴って研磨する仕上げ研磨工程を含み、スラリーはさらに塩を含み、ガラス基板の算術平均粗さ(Ra)と塩の濃度の関係を表わす特性線をあらかじめ取得し、特性線を用いて塩の濃度を制御することにより、仕上げ研磨工程により研磨されたガラス基板の表面における算術平均粗さ(Ra)が、1.0nm以下において±0.05nmの範囲内で制御されることを特徴とする。
粒径1.5μmの10wt%セリアとされ、加工圧力は、100gf/cm2に設定される。
12 基体
14 軟磁性層
16 配向制御層
18 垂直記録層
Claims (5)
- 磁気記録媒体用ガラス基板の表面を、二種類の砥粒を含むスラリーを伴って研磨する仕上げ研磨工程を含み、
前記ガラス基板の算術平均粗さ(Ra)と前記スラリーの水素イオン濃度指数(pH)の関係を表わす特性線をあらかじめ取得し、該特性線を用いて前記スラリーの水素イオン濃度指数(pH)を制御することにより、
前記仕上げ研磨工程により研磨された前記ガラス基板の表面における算術平均粗さ(Ra)が、1.0nm以下において±0.05nmの範囲内で制御されることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記スラリーの水素イオン濃度指数(pH)が7.5〜9.5であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 磁気記録媒体用ガラス基板の表面を、二種類の砥粒を含むスラリーを伴って研磨する仕上げ研磨工程を含み、
前記スラリーはさらに塩を含み、前記ガラス基板の算術平均粗さ(Ra)と前記塩の濃度の関係を表わす特性線をあらかじめ取得し、該特性線を用いて前記塩の濃度を制御することにより、前記仕上げ研磨工程により研磨された前記ガラス基板の表面における算術平均粗さ(Ra)が、1.0nm以下において±0.05nmの範囲内で制御されることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス基板の算術平均粗さ(Ra)と前記スラリーの水素イオン濃度指数(pH)の関係を表わす特性線をあらかじめ、さらに取得し、該特性線を用いて前記スラリーの水素イオン濃度指数(pH)をさらに制御することを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記スラリーは、粒径の互いに異なる第1の砥粒および第2の砥粒を所定の混合比率で含むことを特徴とする請求項1乃至請求項4のうちのいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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