JP2012079371A - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】ガラス基板の内端面を含む全ての領域を洗浄することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法およびその情報記録媒体用ガラス基板を備えた情報記録媒体を提供する。
【解決手段】洗浄工程において、超音波を走査させながらガラス基板１の洗浄を行なっている。これにより、ガラス基板１の全面を同時に洗浄することが可能となる。特に、ガラス基板１の孔１Ｈの内端部にも超音波が入り込むことにより、内端部の清浄度を向上させることができる。
【選択図】図６

Description

本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体に関し、特に、情報記録媒体の製造に用いられる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、およびその情報記録媒体用ガラス基板を備えた情報記録媒体に関する。

磁気ディスク等の情報記録媒体は、コンピュータ等にハードディスクとして搭載される。情報記録媒体は、情報記録媒体用ガラス基板（以下、ガラス基板ともいう）から製造される。ガラス基板の主表面上に、磁気、光、または光磁気等の性質を利用した記録層を含む磁気薄膜層が形成される。記録層が磁気ヘッドによって磁化されることによって、所定の情報が磁気ディスク等の情報記録媒体に記録される。

ハードディスクは年々記録密度が向上している。それに伴いハードディスクに使用される基板の品質も高度化している。具体的には、耐衝撃性、高清浄度、高平坦度でありこれらを同時に達成させる必要がある。

耐衝撃性に関しては従来のアルミニウム基板に代わり、ガラス基板が用いられている。高平坦度に関しては研磨剤にコロイダルシリカなどの微粒子を使用することにより達成されている。

高清浄度についてもこれまで様々な洗浄方法が検討されている。この中で、ガラス基板の主表面（記録面）を洗浄する方法については、多く提案されている。しかし、ハードディスクの表面のみならず端面、特に内端面での清浄度も求められるようになってきている。ハードディスクの内端面は記録を行なわないものの、内端面に汚れが存在すると、その汚れにより記録面が汚染される。この課題を解決する方法として下記の特許文献１に、超音波を斜めにして、ハードディスクの照射する洗浄方法が開示されている。

特開２０１０−１１５７３１号公報

しかしながら、上記特許文献１に記載の洗浄方法では、ガラス基板の主表面のみが洗浄され、主表面とは反対側の面の洗浄、および、内端面の洗浄は不十分であった。

本発明は、上記の実情に鑑みて為されたものであって、ガラス基板の内端面を含む全ての領域を洗浄することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法およびその情報記録媒体用ガラス基板を備えた情報記録媒体を提供することを目的とする。

この発明に基づいた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、円形ディスク形状で中心に穴を有するガラス基板の表面に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、上記ガラス基板を洗浄液中に保持し、板状の振動板および一方向に延びる超音波振動ユニットを含む超音波発生装置から超音波を発生させて上記ガラス基板を洗浄する工程を有し、上記超音波の周波数は９００ｋＨｚ以上であり、上記振動板に対向配置されるとともに、上記ガラス基板の上記表面に対して、上記超音波振動ユニットの長手方向が平行となるように、複数の上記超音波振動ユニットを配置し、複数の上記超音波振動ユニットを上記洗浄液の液面に対して上記超音波振動ユニットからの超音波の進行方向を走査させながら、上記ガラス基板を上記洗浄液中で洗浄する。

他の形態においては、上記ガラス基板は上記洗浄液中に主面が対向するように複数が整列保持され、超音波の進行方向の走査角度（θ）は、t／ｒ＜ｔａｎθ＜Ｒ／Ｄである。ただし、tは上記ガラス基板の厚さ（ｍｍ）、rは上記ガラス基板の穴の直径（ｍｍ）、Ｒは上記ガラス基板の外径（ｍｍ）、Ｄは整列保持される基板間隔（ｍｍ）である。

他の形態においては、上記ガラス基板の上記表面が、上記洗浄液の上記液面に対して垂直となるように、上記ガラス基板が上記洗浄液中に保持される。

他の形態においては、上記ガラス基板は上記洗浄液中に複数枚保持され、上記ガラス基板の保持間隔をＤ（ｍｍ）とすると、Ｄ≦１０ｍｍである。

他の形態においては、上記振動板の厚みは、上記超音波の波長をλとすると、λ／２の整数倍である。

他の形態においては、上記振動板は、上記振動板内の超音波波長が共振する厚さである第１の領域と、並列配置された上記超音波振動ユニットについて、隣接する上記超音波振動ユニットからの位相が異なる振動の上記振動板への影響が小さくなるように、上記振動板内の超音波の振動波長よりも厚さ方向の距離を共振しない厚さである第２の領域とを含む。

他の形態においては、上記ガラス基板の外端部の表面粗さ（Ｒａ）は、０．５μｍ以下であり、上記洗浄液中で上記ガラス基板は、保持部材により保持され、上記保持部材は、フッ素樹脂製ある。

この発明に基づいた情報記録媒体においては、上述の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られたガラス基板と、上記ガラス基板の上記主表面上に形成された磁気薄膜層とを備える。

本発明によれば、ガラス基板の内端面を含む全ての領域を洗浄することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法およびその情報記録媒体用ガラス基板を備えた情報記録媒体を提供することが可能となる。

実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を示す斜視図である。 実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を備えた磁気ディスクを示す斜視図である。 実施の形態におけるガラス基板の製造方法を示すフローチャート図である。 実施の形態における基板洗浄装置を示す断面図である。 図４中の矢印Ｖ方向から見た基板洗浄装置の概略断面図である。 実施の形態における超音波振動ユニットの走査角度（θ）を示す図である。 複数の超音波振動ユニットから、ガラス基板への超音波の位相を変化させる方法を示す第１図である。 複数の超音波振動ユニットから、ガラス基板への超音波の位相を変化させる方法を示す第２図である。 超音波振動ユニットの長手方向に沿って複数の振動子の配列状態を示す模式図である。 実施の形態における振動板と超音波振動ユニットとの配置パターンを示す図である。 実施の形態における振動板と超音波振動ユニットとの他の配置パターンを示す図である。 実施の形態における振動板と超音波振動ユニットとの他の配置パターンを示す図である。 実施の形態における振動板と超音波振動ユニットとの他の配置パターンを示す図である。 欠陥検査装置における欠陥数（異物数）の測定方法を示す拡大模式図である。 実施例１〜４、比較例１における欠陥数を示す図である。

本発明に基づいた実施の形態について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。

［ガラス基板１・磁気ディスク１０］
図１および図２を参照して、まず、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板１、およびガラス基板１を備えた磁気ディスク１０について説明する。図１は、磁気ディスク１０（図２参照）に用いられるガラス基板１を示す斜視図である。図２は、情報記録媒体として、ガラス基板１を備えた磁気ディスク１０を示す斜視図である。

図１に示すように、磁気ディスク１０に用いられるガラス基板１（情報記録媒体用ガラス基板）は、中心に孔１Ｈが形成された環状の円板形状を呈している。ガラス基板１は、表主表面１Ａ、裏主表面１Ｂ、内周端面１Ｃ、および外周端面１Ｄを有している。

ガラス基板１の大きさは、たとえば０．８インチ、１．０インチ、１．８インチ、２．５インチ、または３．５インチである。ガラス基板の厚さは、破損防止の観点から、たとえば０．３０〜２．２ｍｍである。本実施の形態におけるガラス基板の大きさは、外径が約６４ｍｍ、内径が約２０ｍｍ、厚さが約０．８ｍｍである。ガラス基板の厚さとは、ガラス基板上の点対象となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値である。

図２に示すように、磁気ディスク１０は、上記したガラス基板１の表主表面１Ａ上に磁気薄膜層２が形成されることによって構成される。図２中では、表主表面１Ａ上にのみ磁気薄膜層２が形成されているが、裏主表面１Ｂ上にも磁気薄膜層２が形成されていてもよい。

磁気薄膜層２は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板１の表主表面１Ａ上にスピンコートすることによって形成される（スピンコート法）。磁気薄膜層２は、ガラス基板１の表主表面１Ａに対してスパッタリング法、または無電解めっき法等により形成されてもよい。

ガラス基板１の表主表面１Ａに形成される磁気薄膜層２の膜厚は、スピンコート法の場合は約０．３μｍ〜１．２μｍ、スパッタリング法の場合は約０．０４μｍ〜０．０８μｍ、無電解めっき法の場合は約０．０５μｍ〜０．１μｍである。薄膜化および高密度化の観点からは、磁気薄膜層２はスパッタリング法または無電解めっき法によって形成されるとよい。

磁気薄膜層２に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。また、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、ＦｅＰｔ系の材料が用いられてもよい。

また、磁気記録ヘッドの滑りをよくするために磁気薄膜層２の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、たとえば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。

さらに、必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスク１０における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、またはＮｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。

また、下地層は単層とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造としても構わない。たとえば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。

磁気薄膜層２の摩耗や腐食を防止する保護層としては、たとえば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一または異種の層からなる多層構成としてもよい。

上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ２)層を形成してもよい。

［ガラス基板の製造方法］
次に、図３に示すフローチャート図を用いて、本実施の形態におけるガラス基板（情報記録媒体用ガラス基板）の製造方法について説明する。

本実施の形態におけるガラス基板の製造方法は、（１）粗ラッピング工程（ステップＳ１０）、（２）形状加工工程（ステップ２０）、（３）粗面化工程（ステップ３０）、（４）精ラッピング工程（ステップ４０）、（５）端面研磨工程（ステップ５０）、（６）主表面研磨工程（ステップ６０）、（７）化学強化工程（ステップ７０）、および（８）洗浄工程（ステップＳ８０）を経ることによって得られたガラス基板（図１におけるガラス基板１に相当）に対して、磁気薄膜形成工程（ステップＳ９０）が実施されてもよい。磁気薄膜形成工程（ステップＳ９０）によって、磁気ディスク１０が得られる。

以下、これらの各ステップＳ１０〜Ｓ９０について順に説明する、以下には、各ステップＳ１０〜Ｓ８０間に適宜行なわれる簡易的な洗浄については記載していない。

（１） 粗ラッピング工程（ステップＳ１０）
溶融ガラスを、上型、下型、および胴型を用いてダイレクトプレスし、直径６６ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍの円盤状のガラス基板を得た。ガラス基板のガラス素材は、たとえばアルミノシリケートガラスである。ダイレクトプレス法以外に、ダウンドロー法、フロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出し、円盤状のガラス基板を得ても良い。

アルミノシリケートガラスの組成は、ＳｉＯ_２が５８質量％〜７５質量％、Ａｌ_２Ｏ_３が５質量％〜２３質量％、Ｌｉ_２Ｏが３質量％〜１０質量％、Ｎａ_２Ｏが４質量％〜１３質量％を主成分として含有している。

次に、ガラス基板に対して、ラッピング加工を施した。このラッピング加工は、寸法精度および形状精度の向上を目的としている。このラッピング工程は、両面ラッピング装置を用いて行い、砥粒の粒度を＃４００（粒径約４０〜６０μｍ）で行なった。詳しくは、研磨装置において粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、上定盤の荷重を１００ｋｇ程度に設定することによって、キャリア内に収納したガラス基板の両面を面精度０μｍ〜１μｍ、表面粗さＲｍａｘで６μｍ程度に仕上げた。

（２） 形状加工工程（ステップＳ２０）
次に、形状加工工程においては、外周端面および内周端面の研削を行ない、外径を６５ｍｍ、内径（中心部の孔１Ｈの直径）を２０ｍｍとした後、外周端面および内周端面の所定の面取り加工を施した。このときのガラス基板の端面の面粗さは、Ｒｍａｘで２μｍ程度であった。なお、一般的に、２．５インチ型のハードディスクには、外径が６５ｍｍのガラス基板が用いられる。

（３） 粗面化工程（第１研削工程：ステップＳ３０）
この粗面化工程においては、平面研磨機による遊離砥粒研磨を用いる機械的方法を適用した。遊離砥粒研磨を用いてガラス基板の表面全体が、略均一の表面粗さ（Ｒａ＝０．０１μｍ〜０．４μｍ程度）になるように研磨加工を施した。なお、粗面化工程において目標とする表面粗さは、後述する精ラッピング工程で使用する固定砥粒の粒度との関係で決めることが好ましい。

（４） 精ラッピング工程（第２研削工程：ステップＳ４０）
この精ラッピング工程においては、粗面化されたガラス基板の主表面に対して、固定砥粒研磨パッドを用いて研削した。この精ラッピング工程では、粗面化されたガラス基板をラッピング装置にセットして、ダイヤモンドシートを用いてガラス基板の表面をラッピングした。ガラス基板の表面粗さＲａは、０．１μｍ以下で、平坦度は７μｍ以下とすることができた。

このように、事前にガラス基板の主表面が粗面化工程で粗面化されているため、微細な固定砥粒の引っ掛かりがガラス基板の主表面に形成される。これにより、固定砥粒がガラス基板の表面を滑る不具合を防止することができる。この場合、本精ラッピング工程における加工レートは、表面研磨開始から高い加工レートで実現できるものとなっている。

（５） 端面研磨工程（ステップＳ５０）
端面研磨工程においては、ブラシ研磨方法により、ガラス基板を回転させながらガラス基板の外周端面および内周端面の表面の粗さを、Ｒｍａｘで０．４μｍ、Ｒａで０．１μｍ程度になるように研磨した。そして、このような端面研磨を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。

（６） 主表面研磨工程（第１研磨工程、第２研磨工程：ステップＳ６０）
主表面研磨工程においては、まず、精ラッピング工程で残留した傷や歪みを除去するための第１研磨工程を、上述した両面研磨装置を用いて行なった。この第１研磨工程においては、ポリッシャがスウェードパッドである研磨パッドを用いて、以下の条件の下ガラス基板表面の主表面の研磨を行なった。

研磨液 ：酸化セリウム（平均粒径１．３μｍ）＋水
荷 重 ：８０ｇ／ｃｍ^２〜１００ｇ／ｃｍ^２
研磨時間：３０分〜５０分
除去法 ：３５μｍ〜４５μｍ
次に、上記ガラス基板を洗浄し付着している研磨剤を除去した。洗浄方法は、ＨＦを１質量％、硫酸を３質量％混合させた液で、８０ｋＨｚの超音波を照射させた。その後、中性洗剤で１２０ｋＨｚ超音波洗浄、最後に純粋でリンスを行ない、ＩＰＡ乾燥させた。

続いて、ガラス基板に対して、第２研磨工程を行なった。この第２研磨工程においては、軟質ポリッシャ（スウェード）である研磨パッドを用いて、ガラス基板の主表面の研磨を行なった。なお、研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウムよりも微細なシリカ砥粒を用いた。

（７） 化学強化工程（ステップＳ７０）
化学強化工程においては、上述した主表面研磨工程を終えたガラス基板に化学強化を施した。この場合、ガラス基板の表面に存在するイオン（たとえば、アルミノシリケートガラス使用の場合、Ｌｉ＋およびＮａ＋）よりもイオン半径の大きなイオン（Ｎａ＋およびＫ＋）にイオン交換を行なった。

ここでは、ガラス基板の表面において（たとえば、ガラス基板表面から約５μｍまで）、イオン半径の大きい原子とイオン交換を行なって、ガラス基板の表面に圧縮応力を与えることで、ガラス基板の剛性を向上させている。

（８） 洗浄工程（ステップＳ８０）
次に、図４から図６を参照して、洗浄工程について説明する。まず、図４および図５を参照して、本実施の形態に用いる基板洗浄装置１０００について説明する。この基板洗浄装置１００は、洗浄槽１００の槽本体２００の底部に振動板３１０が設けられ、振動板３１０の裏面に複数の超音波振動ユニット３２０が設けられている。振動板３１０および複数の超音波振動ユニット３２０により超音波発生装置３００が構成される。本実施の形態の形態では、超音波の周波数は９００ｋＨｚ以上である。

洗浄槽２００の上部には、排水受部５００が設けられている。槽本体２００の下部には、洗浄液供給口２００ａが設けられ、排水受部５００の下部には、洗浄液排水口５００ａが設けられている。洗浄槽２００内には、洗浄物およびパーティクルの性質に応じて純水或いはアルコール系の化学洗浄液等の洗浄液６００が満たされている。

振動板３１０は、板状の形状を有し、超音波振動ユニット３２０は、一方向に延びる直方体形状を有している。超音波振動ユニット３２０は、振動板３１０に接するように対向配置されるとともに、ガラス基板１の表面に対して、超音波振動ユニット３２０の長手方向が平行となるように配置されている。また、超音波振動ユニット３２０は、洗浄液６００の液面Ｗに対して超音波振動ユニット３２０からの超音波の進行方向を走査させながら、ガラス基板１を洗浄液６００中で洗浄している。これにより、ガラス基板１に対して斜め方向に超音波を進行させることで、ガラス基板１の内周端面１Ｃを良好に洗浄可能としている。超音波の進行方向を走査する点については、後述する。

各超音波振動ユニット３２０は、超音波発振機Ｍにより超音波を発振させて振動板３１０に振動を与えて、洗浄液６００に直進流を発生させている。なお、各超音波振動ユニット３２０が静止状態では、直進流は、振動板３１０に対して垂直方向に発生する。

上記基板洗浄装置１０００において、ガラス基板１は、記ガラス基板１の表面が、洗浄液６００の液面Ｗに対して垂直となり、それぞれのガラス基板１の表面が対向するように複数収容されるとともに、図５に示すように、超音波振動ユニット３２０の長手方向に沿っても複数枚収容されている。この構成を採用することで、ガラス基板の設置が容易となり、また、基板洗浄装置１０００の構成も簡単な構成となる。また、好ましくは、ガラス基板１の保持間隔をＤ（ｍｍ）とすると、Ｄ≦１０ｍｍである。

再び、図４を参照して、ガラス基板１の外周端面１Ｄの表面粗さ（Ｒａ）は、０．５μｍ以下であり、洗浄液６００中でガラス基板１は、保持部材７００により保持されている。この保持部材７００は、フッ素樹脂製であると良い。外周端面１Ｄを平滑にすることで、洗浄中に超音波のエネルギーを受けて、ガラス基板１が回転し、洗浄斑（ムラ）の発生の低減を期待することができる。なお、保持部材７００の最下端部と振動板３１０の表面との間の距離（Ｘ）は、２０ｍｍ以上設けることが好ましい。

洗浄液６００は、超音波振動によって洗浄槽２００の開口部に盛り上がり、洗浄槽２００内から溢れ出した洗浄液６００は、排水受部５００に流れ込む。排水受部５００に流れ込んだ洗浄液６００は、循環ポンプＰでフィルタＦを介して、洗浄液排水口５００ａから洗浄液供給口２００ａを経て槽内に供給されている。洗浄液６００は循環使用される。

ガラス基板１は上記洗浄液６００中に主面が対向するように複数が整列保持され、超音波の進行方向の走査角度（θ）は、t／ｒ＜ｔａｎθ＜Ｒ／Ｄ（図６参照）であることが好ましい。これにより、超音波振動ユニット３２０の中央が、ガラス基板１の中心の孔１Ｈを通過する条件となる（図６中の矢印Ｕ１）。ただし、tは上記ガラス基板１の厚さ（ｍｍ）、rは上記ガラス基板１の穴１Ｈの直径（ｍｍ）、Ｒは上記ガラス基板１の外径（ｍｍ）、Ｄは整列保持される基板間隔（ｍｍ）である。なお、ガラス基板１の基板間隔Ｄ（ｍｍ）は、２．０ｍｍ≦Ｒ≦１０．０ｍｍ程度である。図６中において、白抜きの矢印Ｕ２は、振動板３１０から進行する超音波の進行方向であり、図７および図８で説明するように複数の振動ユニットの位相を制御することで振動ユニット３２０の上面に垂直な方向から傾斜させている。

また、具体的には、ガラス基板１に対する、超音波振動ユニット３２０の走査角度（θ）は、２．３°≦θ≦１０°であると良い。

複数の超音波振動ユニット３２０から、ガラス基板１へのそれぞれの超音波の位相を変化させる方法として、図７および図８に示す方法が挙げられる。図８に示すように、複数の超音波振動ユニット３２０のそれぞれの位相を段階的に変化させることで、図７に示すように、超音波の全体としての波面３２０Ｕの進行方向を走査し（傾斜させて）、ガラス基板１の洗浄を行なう。

なお、図９に示すように、超音波振動ユニット３２０には、その長手方向に沿って複数の振動子３２１が配列されている。なお、振動子３２１は、図９に示すように筐体内に収容してユニット化するだけでなく、振動子３２１を、直接振動板に固定してもかまわない。

また、振動板３１０の厚みは、超音波の波長をλとすると、λ／２の整数倍であることが好ましい。これにより振動板３１０を効率良く振動させることができる。

たとえば、振動板３１０は、振動板３１０内の超音波波長が共振する厚さである第１の領域（図１０の領域Ａ１，図１１の領域Ａ３，図１２の領域Ａ５，図１３の領域Ａ７）と、並列配置された超音波振動ユニット３２０について、隣接する超音波振動ユニット３２０からの位相が異なる振動の振動板３１０への影響が小さくなるように、振動板３１０内の超音波の振動波長よりも厚さ方向の距離を共振しない厚さである第２の領域（図１０の領域Ａ２，図１１の領域Ａ４，図１２の領域Ａ６，図１３の領域Ａ８）とを含むことが好ましい。これにより、隣接する超音波振動ユニット３２０からの影響を小さくすることができる。

振動板３１０と超音波振動ユニット３２０との配置パターンとして、図１０から図１３に示す配置パターンが挙げられる。図１０に示す振動板３１０Ａは、各超音波振動ユニット３２０に対応して、波状に成形されている。具体的には、各超音波振動ユニット３２０の幅に対応した凹凸形状を有し、超音波振動ユニット３２０に対向する箇所が凸部（領域Ａ１）となり、波長のλ／２の厚さを有している。

図１１に示す振動板３１０Ｂは、超音波振動ユニット３２０に対応して、波状に成形されれている。振動板３１０Ｂは、振動板３１０Ａとは上限が逆に配置され、超音波振動ユニット３２０に対向する箇所が凸部（領域Ａ３）となり、波長のλ／２の厚さを有している。

図１２に示す振動板３１０Ｃは、各超音波振動ユニット３２０に対応して、波状に成形されている。具体的には、各超音波振動ユニット３２０の幅に対応した凹凸形状を有し、超音波振動ユニット３２０に対向する箇所が凹部（領域Ａ５）となり、波長のλ／２の厚さを有している。

図１３に示す振動板３１０Ｄは、超音波振動ユニット３２０に対応して、波状に成形されれている。振動板３１０Ｄは、振動板３１０Ｃとは上限が逆に配置され、超音波振動ユニット３２０に対向する箇所が凹部（領域Ａ７）となり、波長のλ／２の厚さを有している。凹部には、超音波振動ユニット３２０が収容されている。

以上の（１）粗ラッピング工程（ステップＳ１０）、（２）形状加工工程（ステップ２０）、（３）粗面化工程（ステップ３０）、（４）精ラッピング工程（ステップ４０）、（５）端面研磨工程（ステップ５０）、（６）主表面研磨工程（ステップ６０）、（７）化学強化工程（ステップ７０）、および（８）洗浄工程（ステップ８０）を経ることによってガラス基板１（図１参照）が得られた。なお、主表面研磨工程における第２研磨工程は、化学強化工程の後に行なっても良い。

（９） 磁気薄膜形成工程（ステップＳ９０）
洗浄工程が完了したガラス基板（図１に示すガラス基板１に相当）の両主表面（またはいずれか一方の主表面）に対し、磁気薄膜層が形成される。磁気薄膜層は、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系からなる保護層、およびＦ系からなる潤滑層が順次成膜されることによって形成される。磁気薄膜層の形成によって、図２に示す磁気ディスク１０に相当する垂直磁気記録ディスクを得ることができる。

本実施の形態における磁気ディスクは、磁気薄膜層から構成される垂直磁気ディスクの一例である。磁気ディスクは、いわゆる面内磁気ディスクとして磁性層等から構成されてもよい。

[作用・効果]
本実施の形態によれば、洗浄工程において、複数の超音波振動ユニット３２０を洗浄液６００の液面Ｗに対して超音波振動ユニット３２０からの超音波Ｕの位相をずらせながら、超音波全体としての進行方向を走査して（傾斜させて）、ガラス基板１を洗浄液６００中で洗浄している。これにより、ガラス基板１の全面を同時に洗浄することが可能となる。特に、ガラス基板１の孔１Ｈの内端部にも超音波が入り込むことにより、ガラス基板１の内周端面１Ｃの全面の洗浄が可能となり、内周端面１Ｃの清浄度を向上させることができる。

[実施例・比較例]
（実施例１）
実施例１では、上記製造方法で製造したガラス基板１を、光学式端面検査機で欠陥数を測定した。洗浄工程において、振動板には図１０に示すパターン化された振動板３１０Ａを用いた。なお、光学式端面検査機を用いたガラス基板１の穴１Ｈにおける欠陥数（異物数）の測定方法を、図１４に示す。

この測定方法においては、欠陥（異物）Ｐ１に検査光Ｌ１が照射された場合、散乱光が反射鏡Ｍ１により集光レンズＲ１に到達することで、欠陥（異物）の数量が測定される。光学的散乱検査で入射する検査光Ｌ１の波長λは、６３３ｎｍである。

（実施例２）
実施例２では、上記製造方法で製造したガラス基板１を、光学式端面検査機で欠陥数を測定した。洗浄工程において、振動板には図６に示すパターン化されていない振動板３１０を用いた。それ以外は、実施例１と同じである。

（実施例３）
ガラス基板１の内周端面１Ｃ、および外周端面１ＤのＲａを２μｍとし、実施例２と同様の製造方法でガラス基板１を製造した。なお、各端面のＲａは，端面研磨工程（Ｓ５０）で調整した。

（実施例４）
図６に示す超音波の走査角度を下記（式１）範囲から外れるように洗浄させた。具体的にはθを３０°で洗浄した。ｔ／ｒ＜ｔａｎθ＜Ｒ／Ｄ・・・（式１）
（比較例１）
実施例１と同様の加工で、超音波を走査させずに洗浄し、光学式端面検査機で欠陥数を測定した。

実施例１〜４および比較例１における光学式端面検査機で測定した欠陥数を図１５に示す。実施例１の結果が一番良く、欠陥数は「５」、次いで実施例２の欠陥数「１３」、次いで実施例３の欠陥数「２０」、次いで実施例４の欠陥数「４２」であった。比較例は最も悪く、欠陥数は「５７」であった。

以上、本発明に基づいた実施の形態および各実施例について説明したが、今回開示された実施の形態および各実施例はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

１ ガラス基板、１Ａ 表主表面、１Ｂ 裏主表面、１Ｃ 内周端面、１Ｄ 外周端面、１Ｈ 孔、２ 磁気薄膜層、１０ 磁気ディスク、１００ 洗浄槽、２００ 槽本体、２００ａ 洗浄液供給口、３００ 超音波発生装置、３１０，３１０Ａ，３１０Ｂ，３１０Ｃ，３１０Ｄ 振動板、３２０ 超音波振動ユニット、３２１ 振動子、５００ 排水受部、５００ａ 洗浄液排水口、６００ 洗浄液、７００ 保持部材、１０００ 基板洗浄装置。

Claims (8)

1. 円形ディスク形状で中心に穴を有するガラス基板の表面に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
   前記ガラス基板を洗浄液中に保持し、板状の振動板および一方向に延びる超音波振動ユニットを含む超音波発生装置から超音波を発生させて前記ガラス基板を洗浄する工程を有し、
   前記超音波の周波数は９００ｋＨｚ以上であり、
   前記振動板に対向配置されるとともに、前記ガラス基板の前記表面に対して、前記超音波振動ユニットの長手方向が平行となるように、複数の前記超音波振動ユニットを配置し、
   複数の前記超音波振動ユニットを前記洗浄液の液面に対して前記超音波振動ユニットからの超音波の進行方向を走査させながら、前記ガラス基板を前記洗浄液中で洗浄する、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
2. 前記ガラス基板は前記洗浄液中に主面が対向するように複数が整列保持され、
   超音波の進行方向の走査角度（θ）は、t／ｒ＜ｔａｎθ＜Ｒ／Ｄである、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
   ただし、tは前記ガラス基板の厚さ（ｍｍ）、rは前記ガラス基板の穴の直径（ｍｍ）、Ｒは前記ガラス基板の外径（ｍｍ）、Ｄ（ｍｍ）は整列保持される基板間隔である。
3. 前記ガラス基板の前記表面が、前記洗浄液の前記液面に対して垂直となるように、前記ガラス基板が前記洗浄液中に保持される、請求項１または２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
4. 前記ガラス基板は前記洗浄液中に複数枚保持され、
   前記ガラス基板の保持間隔をＤ（ｍｍ）とすると、Ｄ≦１０ｍｍである、請求項１〜３のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
5. 前記振動板の厚みは、前記超音波の波長をλとすると、λ／２の整数倍である、請求項１から４のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
6. 前記振動板は、
   前記振動板内の超音波波長が共振する厚さである第１の領域と、
   並列配置された前記超音波振動ユニットについて、隣接する前記超音波振動ユニットからの位相が異なる振動の前記振動板への影響が小さくなるように、前記振動板内の超音波の振動波長よりも厚さ方向の距離を共振しない厚さである第２の領域とを含む、請求項１〜５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
7. 前記ガラス基板の外端部の表面粗さ（Ｒａ）は、０．５μｍ以下であり、
   前記洗浄液中で前記ガラス基板は、保持部材により保持され、
   前記保持部材は、フッ素樹脂製である、請求項１から６のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
8. 請求項１から７のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られたガラス基板と、
   前記ガラス基板の前記主表面上に形成された磁気薄膜層と、を備える、
   情報記録媒体。

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