JP5782041B2 - ハードディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
(ここで、η:溶媒の粘度、ε:溶媒の誘電率である)
下記の組成(質量%)のガラス組成物で構成される溶融状ガラスを、外径が1.8インチ、厚みが1mmの円盤状のガラス素板に押圧加工し、平行度、平坦度及び厚みを予備調整し、さらに微調整して、研磨前のガラス基板50を作製した。
Al2O3:0〜20%
B2O3:0〜5%
ただし、SiO2+Al2O3+B2O3=50〜85%
また、Li2O+Na2O+K2O=0〜20%
また、MgO+CaO+BaO+SrO+ZnO=2〜20%
コロイダルシリカを含有する研磨液として、フジミインコーポレーテッド社製の「Compol 20」を用いた。
研磨装置10の上下定盤11,12に用いる研磨パッドPとして、FILWEL社製のスウェード系研磨パッドを用いた。
表1に示すように、研磨液のpHを硫酸や水酸化カリウムを添加することにより様々に変化させたところ、研磨パッドPのζ電位(ζP)、コロイダルシリカのζ電位(ζS)、ガラス基板50のζ電位(ζG)が表1に示すように変化した。それぞれを精密研磨工程における電位条件A〜Iとした。なお、電位条件Iでは、さらに、ζ電位を調整するための水溶性ポリマーや界面活性剤を研磨液に添加することにより、表1に示すようなゼータ電位(ζP、ζS、ζG)を実現した。
表2に示すように、試験1〜9では、化学強化工程Gを精密研磨工程Dと洗浄工程Eとの間に含む工程Iによりガラス基板50を製造した。試験11〜19では、化学強化工程Gを粗研磨工程Cと精密研磨工程Dとの間に含む工程IIによりガラス基板50を製造した。試験21〜29では、化学強化工程Gを含まない工程IIIによりガラス基板50を製造した。また、試験1〜9、試験11〜19、試験21〜29では、それぞれ、精密研磨工程Dにおいて、電位条件A〜Iにより、ガラス基板50を研磨した。
製造されたガラス基板50の異物や欠陥の個数を、KLA−Tencor社から商業的に入手し得る光学的表面分析装置「Candela 6300」等を用いて計測した。結果を表2に示す。表2中の評価は下記の評価基準による。
○:13〜20個
△:21〜39個
×:40個以上
電位条件A〜Eは、精密研磨工程Dにおける電位条件(ζS<0、ζG<0、ζP<0、かつ、ζG<ζP)がすべて満足されているものである。電位条件F、Gは、精密研磨工程Dにおける電位条件(ζS<0、ζG<0、ζP<0、かつ、ζG<ζP)のうち、(ζS<0)が満足されていないものである。電位条件Hは、精密研磨工程Dにおける電位条件(ζS<0、ζG<0、ζP<0、かつ、ζG<ζP)のうち、(ζS<0、ζP<0)が満足されていないものである。電位条件Iは、精密研磨工程Dにおける電位条件(ζS<0、ζG<0、ζP<0、かつ、ζG<ζP)のうち、(ζG<ζP)が満足されていないものである。
Claims (6)
- コロイダルシリカを含有し、pHが10〜13である研磨液が用いられる精密研磨工程を含むハードディスク用ガラス基板の製造方法であって、
精密研磨工程において、コロイダルシリカのζ電位(ζS)、ガラス基板のζ電位(ζG)、及び研磨パッドのζ電位(ζP)がすべて0未満であり(ζS<0、ζG<0、ζP<0)、かつ、ガラス基板のζ電位が研磨パッドのζ電位よりも低い(ζG<ζP)電位条件の下で、ガラス基板を研磨することを特徴とするハードディスク用ガラス基板の製造方法。 - 研磨液は、ζ電位を調整するために、水溶性ポリマー及び/又は界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- (ζG/ζP)>2であることを特徴とする請求項1または2に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 化学強化工程をさらに含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 研磨液は、循環使用されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 研磨液は、循環使用に際して、前記電位条件(ζS<0、ζG<0、ζP<0、かつ、ζG<ζP)が達成されるように再調製されることを特徴とする請求項5に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012536175A JP5782041B2 (ja) | 2010-09-30 | 2011-09-14 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010221978 | 2010-09-30 | ||
JP2010221978 | 2010-09-30 | ||
PCT/JP2011/005184 WO2012042769A1 (ja) | 2010-09-30 | 2011-09-14 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP2012536175A JP5782041B2 (ja) | 2010-09-30 | 2011-09-14 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012042769A1 JPWO2012042769A1 (ja) | 2014-02-03 |
JP5782041B2 true JP5782041B2 (ja) | 2015-09-24 |
Family
ID=45892264
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012536175A Active JP5782041B2 (ja) | 2010-09-30 | 2011-09-14 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5782041B2 (ja) |
WO (1) | WO2012042769A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102170859B1 (ko) * | 2016-07-29 | 2020-10-28 | 주식회사 쿠라레 | 연마 패드 및 그것을 사용한 연마 방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006120912A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法および製造装置 |
JP2006306924A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Kao Corp | 研磨液組成物 |
JP2009087441A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
WO2010038617A1 (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-08 | 旭硝子株式会社 | 研磨スラリー、その製造方法、研磨方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP2010192041A (ja) * | 2009-02-18 | 2010-09-02 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、それが使用される磁気記録媒体用ガラス基板、および、垂直磁気記録媒体 |
-
2011
- 2011-09-14 WO PCT/JP2011/005184 patent/WO2012042769A1/ja active Application Filing
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006120912A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法および製造装置 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2012042769A1 (ja) | 2014-02-03 |
WO2012042769A1 (ja) | 2012-04-05 |
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