JP2009087441A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリカ粒子を含む研磨液を用いてガラス基板1の主表面を鏡面に研磨する鏡面研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、上記鏡面研磨工程では、シリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子がガラス基板1に付着しないようシリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子とガラス基板との電位差を制御する。
【選択図】図1
Description
まず、本発明の製造方法によってその形成を抑制する対象物である、凸状欠陥について説明する。
本発明においてその形成を抑制すべき凸状欠陥は、従来からよく観察されている突起等とは全く形状および寸法が異なる。本発明における凸状欠陥とは、多くは直方体状の突起物であり、その長辺を含む面がガラス基板上になるように形成されている。一部は特定の形状を有しない不定形である。また、この凸状欠陥がガラス基板上に複数確認される場合には、その高さはほぼ同じになっている。そして、その大きさについては、例えば、長さが0.8〜2.0μmであり、幅が0.2〜0.5μmであり、高さが10nm以下である。そして、凸状欠陥の端部は、切り立っており、主表面に対してほぼ垂直になっている。
本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板は、複数の製造工程を経て製造される。具体的には、例えば、シート状のガラスまたはプレス法によって形成された板状のガラスを用いて、形状加工工程、端面研磨工程、研削工程、予備研磨工程、鏡面研磨工程、洗浄工程、化学強化処理工程、検査工程等を経て製造される。なお、化学強化処理工程については、行ってもよく行わなくてもよい。また、他の工程についても鏡面研磨工程、洗浄工程以外に工程は、磁気ディスク用ガラス基板として要求される特性を満たすのであれば省略してもよい。なお、上記各工程については、後述することとし、特に上記凸状欠陥の抑制に関係の深い鏡面研磨工程について以下に詳述する。
続いて、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で実施する鏡面研磨工程について説明する。
まず、上述のガラス基板1を研磨装置10にセットする。すなわち、ガラス基板1を、研磨パッド2を介して上方定盤3a及び下方定盤3bで挟むことにより、ガラス基板1の両面に研磨パッド2を接触させる。続いて、研磨対象であるガラス基板1の表面に、上述の研磨砥粒を含む研磨液を供給する。
次に、上記鏡面研磨工程を行うための装置例について説明する。ここでは、遊星歯車方式の研磨装置を例として説明する。なお、上記鏡面研磨工程は、上記遊星歯車方式の研磨装置以外にも種々の研磨装置を用いてもよい。図1は、上記研磨装置の構成を示す断面図である。
次に、鏡面研磨工程で使用される研磨液について説明する。上記本発明の一実施形態における研磨液は、ガラス基板とシリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子との間の電位差を、シリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子がガラス基板に強固に付着しないように制御できる液性とすることが好ましい。具体的には、ガラス基板とシリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子との間の電位差を小さくするためには、研磨液の液性を酸性とすることが望ましい。研磨液の液性を酸性にすることで、アルカリ性にする場合と比べて、シリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子の電位(ζ電位)をガラス基板の電位に近づけることができるので、簡単に上記電位差を制御することができる。
ここで、シリカ粒子について説明する。上述の研磨液には研磨砥粒としてをコロイド状シリカ粒子(シリカ粒子)が添加されている。なお、研磨液中のコロイド状シリカ粒子の含有量は、5重量%以上40重量%以下とすることが好ましい。
ここで、不純物粒子について説明する、上述の研磨液には研磨砥粒としてをコロイド状シリカ粒子が含まれるが、同時にシリカとは異なる組成の不純物粒子が含まれている。多くは酸化物であり、代表的には珪酸塩物質や珪酸アルミニウム系物質等である。
次に、鏡面研磨工程において研磨対象となるガラス基板について説明する。鏡面研磨工程において研磨対象としてのガラス基板は、ガラス組成、ガラス基板の製造方法については特に限定されるものではない。例えば、ガラス基板の製造方法としては、プレス法によって製造されてもよく、フロート法やフュージョン法、ダウンドロー等によって製造されてもよい。また、ガラス基板として、結晶化ガラスやアモルファスガラスを用いてもよい。このガラス基板は、例えばヘッド浮上量が10nm以下のハードディスクドライブに対応するものである。
そして、本発明では、上記凸状欠陥の形成を抑制または防止するために、鏡面研磨工程および/または鏡面研磨後の洗浄工程において、ガラス基板とシリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子との間のゼータ電位差が所定値以下になるように制御している。具体的には、上記電位差が、ガラス基板上に上記凸状欠陥が形成しないことを考慮して、20mV以下、より好ましくは10mV以下、さらに好ましくは5mV以下となるように制御している。
次に、上記鏡面研磨工程後の洗浄工程について説明する。鏡面研磨後のガラス基板の表面には、研磨砥粒であるシリカ粒子や不純物粒子が付着している。そして、洗浄工程では、付着した当該粒子を除去するが、このときの、シリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子とガラス基板との間の電位差も重要である。具体的には、上記凸状欠陥の形成を抑制または防止するためには、上記シリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子とガラス基板との間の電位差を20mV以下になるように、薬液の選定等の洗浄条件を調整する。
次に、磁気ディスクについて説明する。上記のようにして製造される磁気ディスク用ガラス基板の表面上に、下地層、磁性層、保護層、及び潤滑層を順次成膜することにより、磁気ディスクを製造することが出来る。なお、これら各層の成膜方法および成膜条件等については、周知のため詳細な説明は省略する。
次にシリカ研磨液中に存在するシリカ凝集体もしくは不純物粒子の分離方法について説明する。シリカ研磨液中に存在するシリカ凝集体もしくは不純物粒子とガラス基板との間の電位差を制御するためには、それぞれの粒子のゼータ電位を測定することが必要である。これら粒子は、コロイド状シリカよりも粒径は大きい。または、コロイド状シリカ粒子1個の質量に比べ軽いもしくは重いという特徴を有している。このようにコロイド状シリカ粒子と物性が異なっている。しかしながら、以降に示すゼータ電位の測定方法において、研磨液を直接測定すると、研磨液中に含まれる量が少ないため、電位を測定することができない。
遠心分離機でコロイド状シリカ粒子を沈降させない条件で遠心分離すると、分離容器の底に目的とする付着物の粒子が濃縮する。それを適当な方法で採取する。
ここではガラス基板、コロイド状シリカ粒子、凝集シリカ粒子、及び不純物粒子のζ電位の測定方法について説明する。
溶液に別の相(例えばコロイド粒子等)が接触したとき、その界面では電荷分離が起こり、電気二重層が形成され電位差が生じる。溶液に対して接触した相が相対的に運動しているとき、接触相の表面からある厚さの層にある溶液は粘性のために接触相とともに運動する。この層の表面(滑り面)と界面から充分に離れた溶液の部分との電位差をゼータ電位(ζ電位)という。
△v={2Vn sin(θ/2)}/λ (1)式
ここで得られた泳動速度(V)と電場(E)から(2)式で表すように電気移動度(U)を求めることができる。
U=V/E (2)式
電気移動度(U)からゼータ電位(ζ)への変換は、(3)式のSmoluchowskiの式を用いて求めることができる。
ζ=4πηU/ε (3)式
[η:溶媒の粘度、ε:溶媒の誘電率]
〔実施例1〕
まず、磁気ディスク用ガラス基板、及び垂直磁気記録ディスクの製造方法について説明する。本実施例では、以下の(1)〜(10)の工程を経て、磁気ディスク用ガラス基板、及び垂直磁気記録ディスクを製造した。
まず、アモルファスガラスからなる多成分系のガラス基板を用意した。ガラスの硝種はアルミノシリケートガラスであり、具体的な化学組成は、SiO2が65.1重量%、Al2O3が15.1重量%、Na2Oが11.2重量%、Li2Oが3.9重量%、K2Oが0.4重量%、MgOが0.7重量%、CaOが1.6重量%、ZrO2が2.0重量%とした。
続いて、ガラス基板を回転させながら、ブラシ研磨によりガラス基板の端面(内周、外周)の表面粗さを、最大高さ(Rmax)で1.0μm程度、算術平均粗さ(Ra)で0.3μm程度になるように研磨した。
続いて、#1000の粒度の砥粒を用いて、主表面の平坦度が3μm、Rmaxが2μm程度、Raが0.2μm程度となるようにガラス基板表面を研削した。ここで平坦度とは、基板表面の最も高い部分と、最も低い部分との上下方向(表面に垂直な方向)の距離(高低差)であり、平坦度測定装置で測定した。また、Rmax、及びRaは、原子間力顕微鏡(AFM)(デジタルインスツルメンツ社製ナノスコープ)にて測定した。
続いて、一度に100枚〜200枚のガラス基板の両主表面を研磨できる研磨装置を用いて予備研磨工程を実施した。研磨パッドには、硬質ポリッシャを用いた。研磨パッドには、予め酸化ジルコニウムと酸化セリウムとを含ませてあるものを使用した。
続いて、一度に100枚〜200枚のガラス基板の両主表面を研磨できる研磨装置を用いて、鏡面研磨工程を実施した。研磨パッドには、軟質ポリシャを用いた。
続いて、ガラス基板を、濃度3〜5重量%のNaOH水溶液に浸漬してアルカリ洗浄を行った。なお、洗浄は超音波を印加して行った。さらに、中性洗剤、純水、純水、イソプロピルアルコール、イソプロピルアルコール(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。洗浄後のガラス基板の表面をAFM(デジタルインスツルメンツ社製ナノスコープ)により観察したところ、コロイダルシリカ研磨砥粒の付着および上記凸状欠陥は確認されなかった。また、ステンレスや鉄などの異物も発見されなかった。
続いて、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)とを混合して375℃に加熱した化学強化塩の中に、300℃に予熱した洗浄済みガラス基板1を約3時間浸漬することにより化学強化処理を行った。この処理により、ガラス基板1の表面のリチウムイオン、ナトリウムイオンは、化学強化塩中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板1は化学的に強化される。なお、ガラス基板1の表面に形成された圧縮応力層の厚さは、約100〜200μmであった。化学強化の実施後は、ガラス基板1を20℃の水槽に浸漬して急冷し、約10分維持した。
続いて、上記急冷を終えたガラス基板1を、約40℃に加熱した硫酸に浸漬し、超音波を掛けながら洗浄して、磁気ディスク用ガラス基板の製造を完了した。
続いて、磁気ディスク用ガラス基板について検査を行った。磁気ディスク用ガラス基板の表面の粗さをAFM(原子間力顕微鏡)で測定したところ、最大山高さ(Rp)は1.7nm、算術平均粗さ(Ra)は0.18nmであった。また、表面は清浄な鏡面状態であり、磁気ヘッドの浮上を妨げる異物や、サーマルアスペリティ障害の原因となる異物は存在しなかった。
続いて、上述の磁気ディスク用ガラス基板に、ガラス基板の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。
続いて、以上のように製造された磁気ディスクの検査を行った。まず、浮上量が8nmである検査用ヘッドを用いて磁気ディスク上を浮上走行させるヘッドクラッシュ試験を実施した。その結果、磁気ヘッドが異物等に接触することもなく、クラッシュ障害は生じなかった。
実施例2においては、鏡面研磨工程において、コロイド状シリカ粒子の粒子径を80nmとし、pHを3.0にした以外は、実施例1と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板および垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、この鏡面研磨工程におけるガラス基板とコロイド状シリカ粒子との間の電位差は、10mVであった。その結果、鏡面研磨処理後の洗浄工程を経て得られたガラス基板上には、上記凸状欠陥は観察されなかった。また、垂直磁気記録ディスクを製造した後の各種検査工程は実施例1と同様に、良好であった。
一方、比較例1においては、鏡面研磨工程において、コロイド状シリカ粒子の粒子径を25nmとし、pHを11.0にした以外は、実施例1と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板および垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、この鏡面研磨工程におけるガラス基板とコロイド状シリカ粒子との間の電位差は、32mVであった。その結果、鏡面研磨処理後の洗浄工程を経て得られたガラス基板上には、上記凸状欠陥の形成が確認された。また、上述のガラス基板を用いて垂直磁気記録方式の磁気ディスクを製造し、上記説明したヘッドクラッシュ試験、及びグライドハイト試験を実施したところ、磁気ヘッドの接触によるクラッシュが発生した。
2 研磨パッド
3a 上方定盤
3b 下方定盤
10 研磨装置
Claims (9)
- シリカ粒子を含む研磨液を用いてガラス基板の主表面を鏡面に研磨する鏡面研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記鏡面研磨工程では、研磨液中に含有するシリカ粒子の凝集体または不純物粒子のガラス基板への付着を防止するために十分な前記凝集体または前記不純物粒子とガラス基板との間の電位差に制御することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- シリカ粒子を含む研磨液を用いてガラス基板の主表面を鏡面に研磨する鏡面研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記鏡面研磨工程では、ガラス基板とシリカ粒子の凝集体または不純物粒子との間の電位差が20mV以下となる条件下でガラス基板を研磨することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記シリカ粒子の粒子径は、500nm以下であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記シリカ粒子を含む研磨液のpHが1〜12の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記鏡面研磨工程では、原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定されるガラス基板の主表面の粗さ(Ra)が2nm以下になるように研磨を行うことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板は、ヘッド浮上量が10nm以下のハードディスクドライブに対応する磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記鏡面研磨工程の後に洗浄工程を含み、前記洗浄工程では、前記ガラス基板と前記シリカ粒子の凝集体または不純物粒子との間の電位差が20mV以下となる条件下で前記ガラス基板を洗浄することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1から請求項7のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を用いて製造したガラス基板上に、直接又は他の層を介して磁性層を成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
- 前記磁性層が少なくとも1層の軟磁性層であることを特徴とする請求項8記載の磁気ディスクの製造方法。
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