JP5647056B2 - ハードディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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図2に示した製造工程に従い、下記の組成(質量%)のガラス素材を用いて、外径が約65mm(2.5インチ)、内径(円孔の径)が約20mm、板厚が1mmの環状のアルミノシリケート製ガラス基板を作製した。
・SiO2:50〜70%
・Al2O3:0.1〜20%
・B2O3:0〜5%
ただし、SiO2+Al2O3+B2O3=50〜85%であり、また、Li2O+Na2O+K2O=0.1〜20%であり、また、MgO+CaO+BaO+SrO+ZnO=2〜20%である。
実施例1〜6及び比較例1〜3では、2次研磨工程において、図3に示した研磨装置10(研磨パッドPはポリウレタン製のスウェードパッド)を用い、コロイダルシリカを研磨砥粒として含む研磨液を用いて、第1研磨液貯留タンク15を用いる循環使用工程と、第2研磨液貯留タンク17を用いる掛け流し使用工程とを行った。そして、掛け流し使用工程において、「ウォーターウォッチャー」を用いて研磨液中のコロイダルシリカに電荷を付与し、同じく「ウォーターウォッチャー」を用いて第2研磨液貯留タンク17(PC製)に電荷を付与した。表1に、各実施例及び比較例における研磨液のpH、コロイダルシリカに付与した電荷の符号、タンク17に付与した電荷の符号を示す。
各実施例及び比較例において、ガラス基板は、1バッチ100枚で作製し、そのうち10枚のガラス基板について、ガラス基板の表面粗さ(Ra)を原子間力顕微鏡(AFM)(Veeco Instruments社製の「Dimension V」)を用いて評価した。具体的には、ガラス基板の中心から半径方向に21mmの位置におけるスキャンサイズ1μm×1μm及び10μm×10μmの平均表面粗さ、表面粗さの最大値、表面粗さの最小値を測定した。表2に、10枚のガラス基板についての各スキャンサイズの平均表面粗さ、表面粗さの最大値、表面粗さの最小値を示す。また、表2中の判定は下記基準による。
◎:平均Ra≦1.4Å かつ 最大Ra−最小Ra≦0.1Å
○:1.4Å<平均Ra≦1.6Å かつ 0.1Å<最大Ra−最小Ra≦0.2Å
△:1.6Å<平均Ra≦1.7Å かつ 0.2Å<最大Ra−最小Ra≦0.3Å
×:1.7Å<平均Ra かつ 0.3Å<最大Ra−最小Ra
◎:平均Ra≦1Å かつ 最大Ra−最小Ra≦0.15Å
○:1Å<平均Ra≦1.1Å かつ 0.15Å<最大Ra−最小Ra≦0.2Å
△:1.1Å<平均Ra≦1.2Å かつ 0.2Å<最大Ra−最小Ra≦0.25Å
×:1.2Å<平均Ra かつ 0.25Å<最大Ra−最小Ra
研磨液中のコロイダルシリカに付与した電荷の符号と第2研磨液貯留タンク17に付与した電荷の符号とが同じである実施例1〜6は、研磨液中のコロイダルシリカに付与した電荷の符号と第2研磨液貯留タンク17に付与した電荷の符号とが異なる比較例1〜3に比べて、表面粗さの評価結果が優れていた。
15 第1研磨液貯留タンク(循環使用工程用)
17 第2研磨液貯留タンク(掛け流し使用工程用)
50 ガラス基板
Claims (6)
- 平均粒径1〜100nmの研磨砥粒を含む研磨液を用いてガラス基板の表面を研磨する研磨工程を含むハードディスク用ガラス基板の製造方法であって、
研磨工程では、研磨液中の研磨砥粒の電荷と同じ符号の電荷を付与した研磨液貯留タンクを用いることを特徴とするハードディスク用ガラス基板の製造方法。 - 研磨液のpHは1〜5であることを特徴とする請求項1に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 研磨砥粒はコロイダルシリカであり、コロイダルシリカをマイナス帯電させた研磨液を用いることを特徴とする請求項1又は2に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 研磨液貯留タンクは樹脂製であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 研磨工程は、研磨液を循環使用する循環使用工程と、この循環使用工程の後、研磨液を掛け流し使用する掛け流し使用工程とを含み、
掛け流し使用工程において、研磨液中の研磨砥粒の電荷と同じ符号の電荷を付与した研磨液貯留タンクを用いることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。 - 同じバッチで作製された10枚のガラス基板の表面粗さRaを、原子間力顕微鏡を用いて、スキャンサイズ1μm×1μmで測定したとき、平均表面粗さRaが1.6Å以下であり、かつ、表面粗さRaの最大値と表面粗さRaの最小値との差が0.2Å以下であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
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