JP5209103B2 - 顕微鏡画像撮像装置 - Google Patents
顕微鏡画像撮像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5209103B2 JP5209103B2 JP2011217896A JP2011217896A JP5209103B2 JP 5209103 B2 JP5209103 B2 JP 5209103B2 JP 2011217896 A JP2011217896 A JP 2011217896A JP 2011217896 A JP2011217896 A JP 2011217896A JP 5209103 B2 JP5209103 B2 JP 5209103B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- imaging
- objective lens
- imaging unit
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 title claims description 48
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 137
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 47
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 29
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000001575 pathological effect Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/24—Base structure
- G02B21/241—Devices for focusing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/24—Base structure
- G02B21/26—Stages; Adjusting means therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/36—Microscopes arranged for photographic purposes or projection purposes or digital imaging or video purposes including associated control and data processing arrangements
- G02B21/365—Control or image processing arrangements for digital or video microscopes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Image Input (AREA)
Description
スキャン光源41と、光学系42と、撮像部であるCCDカメラ43と、ステージ用XY軸駆動機構38(第1駆動機構)と、フォーカス用Z軸駆動機構44(第2駆動機構)と、制御装置5(制御部)とを備える。スキャン光源41は、スキャン送りステージ33(図6参照)の試料載置面33Aに載置されたスライドガラスSGに下方から撮像光を照射する。光学系42は、スライドガラスSGを透過した撮像光が入射される対物レンズ42Aを含む。CCDカメラ43は、光学系42を介して撮像光を受光する。ステージ用XY軸駆動機構38は、スキャン送りステージ33を、対物レンズ42Aの光軸に直交するスキャン面に沿って移動させる。フォーカス用Z軸駆動機構44は、CCDカメラ43とともに光学系42の対物レンズ42AをZ軸の光軸方向に位置制御することでスライドガラスSGに対するCCDカメラ43の焦点位置を調整するとを備えている。
Claims (5)
- 試料が載置される試料載置面を有する試料載置ステージと、
前記試料載置面に対向するよう配置され、前記試料載置面上の撮像対象エリア内の各部を順次撮像する撮像部と、
前記撮像部と前記試料載置面との間に配置され、前記撮像対象エリアのうち前記撮像部の撮像可能エリアの局所顕微鏡画像を前記撮像部に結像するための対物レンズと、
前記試料載置ステージをスキャン平面に沿って移動させることにより、前記試料載置ステージ及び前記対物レンズの相対位置を調節する第1駆動機構と、
前記対物レンズを前記対物レンズの光軸方向に沿って移動させることにより、前記試料載置ステージ及び前記対物レンズの相対位置を調節する第2駆動機構と、そして、
前記第1及び第2駆動機構を制御することで、前記撮像対象エリアにおける前記撮像部の焦点位置を調節しながら前記撮像部の撮像可能エリアを所定のスキャン方向に沿って相対的に移動させる制御部と、を備え、
前記試料載置ステージの試料載置面は、前記スキャン平面に対して傾いており、
前記制御部は、
前記撮像対象エリアに対して複数の焦点計測位置を設定し、
設定された前記複数の焦点計測位置における合焦点位置に基づいて、フォーカスマップを作成し、
前記撮像対象エリア内において前記撮像部の撮像可能エリアが前記所定のスキャン方向に相対的に移動している間、作成された前記フォーカスマップに基づいて、前記対物レンズをその光軸方向に沿って移動させる
ことを特徴とする顕微鏡画像撮像装置。 - 前記制御部は、前記撮像対象エリア内において前記撮像部の撮像可能エリアが前記所定のスキャン方向に相対的に移動している間、前記撮像部の焦点位置が前記対物レンズの光軸方向に沿って一方向のみに単調に調節されるよう、前記第1駆動機構を制御することを特徴とする請求項1記載の顕微鏡画像撮像装置。
- 前記試料載置ステージの試料載置面は、前記対物レンズの光軸と交差する該試料載置面上の直線が前記スキャン平面と所定角度で交差する程度の傾きを有することを特徴とする請求項1記載の顕微鏡画像撮像装置。
- 前記複数の焦点測定位置は、前記撮像エリアを構成する撮像単位ごとに設定されることを特徴とする請求項1記載の顕微鏡画像撮像装置。
- 前記試料載置ステージの前記試料載置面は、前記試料載置面上に試料が載置されたとき、該試料の前記対物レンズを介して前記撮像部に対面する面を前記スキャン平面に対して傾斜させる程度の傾きを有することを特徴とする請求項1記載の顕微鏡画像撮像装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011217896A JP5209103B2 (ja) | 2005-03-17 | 2011-09-30 | 顕微鏡画像撮像装置 |
US13/611,227 US20130084390A1 (en) | 2005-03-17 | 2012-09-12 | Film-forming apparatus and film-forming method |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005077990 | 2005-03-17 | ||
JP2005077990 | 2005-03-17 | ||
JP2011217896A JP5209103B2 (ja) | 2005-03-17 | 2011-09-30 | 顕微鏡画像撮像装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007508232A Division JP4871264B2 (ja) | 2005-03-17 | 2006-03-17 | 顕微鏡画像撮像装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012042970A JP2012042970A (ja) | 2012-03-01 |
JP2012042970A5 JP2012042970A5 (ja) | 2012-08-09 |
JP5209103B2 true JP5209103B2 (ja) | 2013-06-12 |
Family
ID=36991787
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007508232A Active JP4871264B2 (ja) | 2005-03-17 | 2006-03-17 | 顕微鏡画像撮像装置 |
JP2011217896A Active JP5209103B2 (ja) | 2005-03-17 | 2011-09-30 | 顕微鏡画像撮像装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007508232A Active JP4871264B2 (ja) | 2005-03-17 | 2006-03-17 | 顕微鏡画像撮像装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8422127B2 (ja) |
EP (1) | EP1865354B1 (ja) |
JP (2) | JP4871264B2 (ja) |
WO (1) | WO2006098443A1 (ja) |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7825488B2 (en) * | 2006-05-31 | 2010-11-02 | Advanced Analogic Technologies, Inc. | Isolation structures for integrated circuits and modular methods of forming the same |
KR101274088B1 (ko) * | 2005-06-13 | 2013-06-12 | 트리패스 이미징, 인코포레이티드 | 현미경 이미지 장치를 이용한 슬라이드상의 시료 내의 물체를 재배치하기 위한 시스템 및 방법 |
WO2010122547A1 (en) * | 2009-04-20 | 2010-10-28 | Bio-Rad Laboratories Inc. | Non-scanning surface plasmon resonance ( spr) system |
JP5443096B2 (ja) * | 2009-08-12 | 2014-03-19 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 半導体製造装置および半導体製造方法 |
JP5732284B2 (ja) * | 2010-08-27 | 2015-06-10 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 成膜装置および成膜方法 |
GB2494734B (en) * | 2011-09-14 | 2016-04-06 | Malvern Instr Ltd | Apparatus and method for measuring particle size distribution by light scattering |
JP6136085B2 (ja) * | 2011-10-05 | 2017-05-31 | ソニー株式会社 | 画像取得装置、画像取得方法、およびコンピュータプログラム |
JP5981241B2 (ja) | 2012-06-25 | 2016-08-31 | 浜松ホトニクス株式会社 | 顕微鏡撮像装置及び顕微鏡撮像方法 |
JP6027875B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2016-11-16 | オリンパス株式会社 | 撮像装置及び顕微鏡システム |
JP6010450B2 (ja) * | 2012-12-20 | 2016-10-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光観察装置及び光観察方法 |
JP6147006B2 (ja) * | 2013-01-09 | 2017-06-14 | オリンパス株式会社 | 撮像装置、顕微鏡システム及び撮像方法 |
JP6086366B2 (ja) * | 2013-04-05 | 2017-03-01 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 顕微鏡、焦準器具、流体保持器具、及び光学ユニット |
HUE051846T2 (hu) | 2013-04-26 | 2021-03-29 | Hamamatsu Photonics Kk | Képfelvevõ berendezés és fókuszáló eljárás képfelvevõ berendezés számára |
CN105143954B (zh) | 2013-04-26 | 2018-06-19 | 浜松光子学株式会社 | 图像取得装置、取得试样的对准焦点信息的方法以及系统 |
HUE052489T2 (hu) * | 2013-04-26 | 2021-04-28 | Hamamatsu Photonics Kk | Képfelvevõ berendezés és eljárás és rendszer fókusztérkép elõállítására minta számára |
JP6134249B2 (ja) | 2013-11-01 | 2017-05-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像取得装置及び画像取得装置の画像取得方法 |
WO2015077819A1 (en) | 2013-11-26 | 2015-06-04 | Ansell Limited | Effervescent texturing |
TWI654666B (zh) | 2014-01-27 | 2019-03-21 | Veeco Instruments, Inc. | 用於化學氣相沉積系統之具有複合半徑容置腔的晶圓載具 |
CN106133873B (zh) * | 2014-03-12 | 2019-07-05 | 应用材料公司 | 在半导体腔室中的晶片旋转 |
CN112697792A (zh) * | 2014-12-26 | 2021-04-23 | 希森美康株式会社 | 细胞拍摄装置、细胞拍摄方法及试样池 |
HU231246B1 (hu) * | 2015-08-31 | 2022-05-28 | 3Dhistech Kft | Konfokális elvû tárgylemez szkenner |
CN108700411B (zh) * | 2016-03-09 | 2023-04-21 | 浜松光子学株式会社 | 测定装置、观察装置、及测定方法 |
DE102016107336B4 (de) * | 2016-04-20 | 2017-11-02 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Koordinatenmessgerät, Verfahren zur Herstellung eines Koordinatenmessgeräts und Verfahren zur Messung eines optischen Filters |
CN106094194B (zh) * | 2016-08-17 | 2019-06-14 | 江浩 | 显微镜下样本图片的获取方法、成像装置及其获取样本图片的方法 |
US10636628B2 (en) * | 2017-09-11 | 2020-04-28 | Applied Materials, Inc. | Method for cleaning a process chamber |
EP3829158A4 (en) * | 2018-07-23 | 2021-09-01 | GeneMind Biosciences Company Limited | IMAGING PROCESS, DEVICE, AND SYSTEM |
CN214848503U (zh) * | 2018-08-29 | 2021-11-23 | 应用材料公司 | 注入器设备、基板处理设备及在机器可读介质中实现的结构 |
JP7312020B2 (ja) * | 2019-05-30 | 2023-07-20 | 株式会社Screenホールディングス | 熱処理方法および熱処理装置 |
US11523046B2 (en) * | 2019-06-03 | 2022-12-06 | Molecular Devices, Llc | System and method to correct for variation of in-focus plane across a field of view of a microscope objective |
US11499817B2 (en) * | 2020-05-29 | 2022-11-15 | Mitutoyo Corporation | Coordinate measuring machine with vision probe for performing points-from-focus type measurement operations |
TW202212620A (zh) * | 2020-06-02 | 2022-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 處理基板之設備、形成膜之方法、及控制用於處理基板之設備之方法 |
WO2022123944A1 (ja) * | 2020-12-08 | 2022-06-16 | ソニーグループ株式会社 | スライドガラス搬送装置及びスライドガラス撮影システム |
CN113686857A (zh) * | 2021-08-31 | 2021-11-23 | 杭州智微信息科技有限公司 | 一种用于骨髓涂片扫描仪的玻片盒旋转升降结构 |
Family Cites Families (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3826558A (en) * | 1972-07-21 | 1974-07-30 | Us Air Force | Mechanical rotary tilt stage |
US4328553A (en) * | 1976-12-07 | 1982-05-04 | Computervision Corporation | Method and apparatus for targetless wafer alignment |
JPS60134117U (ja) * | 1984-02-16 | 1985-09-06 | アルプス電気株式会社 | 光学式ロ−タリエンコ−ダ |
US4819167A (en) * | 1987-04-20 | 1989-04-04 | Applied Materials, Inc. | System and method for detecting the center of an integrated circuit wafer |
US4833790A (en) * | 1987-05-11 | 1989-05-30 | Lam Research | Method and system for locating and positioning circular workpieces |
JPH0658795B2 (ja) * | 1989-05-09 | 1994-08-03 | 日本電子株式会社 | ダイナミックフォーカス回路 |
US5155336A (en) * | 1990-01-19 | 1992-10-13 | Applied Materials, Inc. | Rapid thermal heating apparatus and method |
JPH04110960A (ja) | 1990-08-31 | 1992-04-13 | Sharp Corp | 電子写真装置の帯電装置 |
JP2572767Y2 (ja) * | 1991-01-25 | 1998-05-25 | 日本分光株式会社 | 顕微赤外スペクトル測定装置 |
US5337178A (en) * | 1992-12-23 | 1994-08-09 | International Business Machines Corporation | Titlable optical microscope stage |
JPH06309035A (ja) * | 1993-04-21 | 1994-11-04 | Hitachi Ltd | 試料ステージ |
JPH0756093A (ja) * | 1993-08-19 | 1995-03-03 | Fujitsu Ltd | 顕微鏡のステージ装置 |
JPH07174980A (ja) | 1993-12-17 | 1995-07-14 | Olympus Optical Co Ltd | 顕微鏡ステージ |
JPH0821961A (ja) | 1994-07-08 | 1996-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 顕微鏡の自動焦点装置 |
US5660472A (en) * | 1994-12-19 | 1997-08-26 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for measuring substrate temperatures |
US5755511A (en) * | 1994-12-19 | 1998-05-26 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for measuring substrate temperatures |
US5822213A (en) * | 1996-03-29 | 1998-10-13 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for determining the center and orientation of a wafer-like object |
JPH09304703A (ja) | 1996-05-16 | 1997-11-28 | Olympus Optical Co Ltd | フォーカシング装置 |
US5781693A (en) * | 1996-07-24 | 1998-07-14 | Applied Materials, Inc. | Gas introduction showerhead for an RTP chamber with upper and lower transparent plates and gas flow therebetween |
US6395363B1 (en) * | 1996-11-05 | 2002-05-28 | Applied Materials, Inc. | Sloped substrate support |
US6157106A (en) * | 1997-05-16 | 2000-12-05 | Applied Materials, Inc. | Magnetically-levitated rotor system for an RTP chamber |
US6123766A (en) * | 1997-05-16 | 2000-09-26 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for achieving temperature uniformity of a substrate |
US6226453B1 (en) * | 1997-09-16 | 2001-05-01 | Applied Materials, Inc. | Temperature probe with fiber optic core |
DE19748088A1 (de) * | 1997-10-30 | 1999-05-12 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren und Vorrichtung zum Erkennen einer Fehllage einer Halbleiterscheibe |
JP3863993B2 (ja) * | 1998-03-18 | 2006-12-27 | オリンパス株式会社 | 顕微鏡 |
US6185030B1 (en) * | 1998-03-20 | 2001-02-06 | James W. Overbeck | Wide field of view and high speed scanning microscopy |
US6164816A (en) * | 1998-08-14 | 2000-12-26 | Applied Materials, Inc. | Tuning a substrate temperature measurement system |
JP2000241713A (ja) | 1999-02-16 | 2000-09-08 | Leica Microsystems Wetzler Gmbh | 試料担持体用ホールダ |
US6654668B1 (en) * | 1999-02-16 | 2003-11-25 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus, processing system, distinguishing method, and detecting method |
US6275742B1 (en) * | 1999-04-16 | 2001-08-14 | Berkeley Process Control, Inc. | Wafer aligner system |
JP3437118B2 (ja) * | 1999-04-23 | 2003-08-18 | 東芝機械株式会社 | ウエーハ加熱装置及びその制御方法 |
US6423949B1 (en) * | 1999-05-19 | 2002-07-23 | Applied Materials, Inc. | Multi-zone resistive heater |
US6586343B1 (en) * | 1999-07-09 | 2003-07-01 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for directing constituents through a processing chamber |
US6500266B1 (en) * | 2000-01-18 | 2002-12-31 | Applied Materials, Inc. | Heater temperature uniformity qualification tool |
US7518652B2 (en) * | 2000-05-03 | 2009-04-14 | Aperio Technologies, Inc. | Method and apparatus for pre-focus in a linear array based slide scanner |
US6610968B1 (en) * | 2000-09-27 | 2003-08-26 | Axcelis Technologies | System and method for controlling movement of a workpiece in a thermal processing system |
US20020131167A1 (en) | 2000-11-09 | 2002-09-19 | Nguyen Francis T. | Sample holder for an imaging system |
US6350964B1 (en) * | 2000-11-09 | 2002-02-26 | Applied Materials, Inc. | Power distribution printed circuit board for a semiconductor processing system |
US6634882B2 (en) * | 2000-12-22 | 2003-10-21 | Asm America, Inc. | Susceptor pocket profile to improve process performance |
JP4603177B2 (ja) * | 2001-02-02 | 2010-12-22 | オリンパス株式会社 | 走査型レーザ顕微鏡 |
KR100416292B1 (ko) * | 2001-02-24 | 2004-01-31 | (주)지우텍 | 위치 불량 감지 장치 및 방법 |
JP4690584B2 (ja) | 2001-06-06 | 2011-06-01 | 有限会社ユナテック | 表面評価装置及び表面評価方法 |
JP4631218B2 (ja) | 2001-06-21 | 2011-02-16 | 株式会社ニコン | 顕微鏡装置 |
US6924929B2 (en) * | 2002-03-29 | 2005-08-02 | National Institute Of Radiological Sciences | Microscope apparatus |
US6900877B2 (en) * | 2002-06-12 | 2005-05-31 | Asm American, Inc. | Semiconductor wafer position shift measurement and correction |
US7778533B2 (en) * | 2002-09-12 | 2010-08-17 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor thermal process control |
JP4064402B2 (ja) * | 2003-01-09 | 2008-03-19 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理システムおよび基板処理装置 |
US6950774B2 (en) * | 2003-01-16 | 2005-09-27 | Asm America, Inc. | Out-of-pocket detection system using wafer rotation as an indicator |
US7505832B2 (en) * | 2003-05-12 | 2009-03-17 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for determining a substrate exchange position in a processing system |
US6855916B1 (en) * | 2003-12-10 | 2005-02-15 | Axcelis Technologies, Inc. | Wafer temperature trajectory control method for high temperature ramp rate applications using dynamic predictive thermal modeling |
US8500916B2 (en) * | 2004-11-05 | 2013-08-06 | HGST Netherlands B.V. | Method for aligning wafers within wafer processing equipment |
US7364922B2 (en) * | 2005-01-24 | 2008-04-29 | Tokyo Electron Limited | Automated semiconductor wafer salvage during processing |
TW200802552A (en) * | 2006-03-30 | 2008-01-01 | Sumco Techxiv Corp | Method of manufacturing epitaxial silicon wafer and apparatus thereof |
US8104951B2 (en) * | 2006-07-31 | 2012-01-31 | Applied Materials, Inc. | Temperature uniformity measurements during rapid thermal processing |
US8162584B2 (en) * | 2006-08-23 | 2012-04-24 | Cognex Corporation | Method and apparatus for semiconductor wafer alignment |
JP4870604B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-02-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 気相成長装置 |
US8057602B2 (en) * | 2007-05-09 | 2011-11-15 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for supporting, positioning and rotating a substrate in a processing chamber |
US8057601B2 (en) * | 2007-05-09 | 2011-11-15 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for supporting, positioning and rotating a substrate in a processing chamber |
JP5409649B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2014-02-05 | ラム リサーチ コーポレーション | 位置およびオフセットを決定するためのシステムおよび方法 |
EP3573092B1 (en) * | 2008-05-02 | 2021-12-22 | Applied Materials, Inc. | System for non radial temperature control for rotating substrates |
WO2010038674A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の異常載置状態の検知方法、基板処理方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および基板処理装置 |
US8150242B2 (en) * | 2008-10-31 | 2012-04-03 | Applied Materials, Inc. | Use of infrared camera for real-time temperature monitoring and control |
US8109669B2 (en) * | 2008-11-19 | 2012-02-07 | Applied Materials, Inc. | Temperature uniformity measurement during thermal processing |
DE102009010555A1 (de) * | 2009-02-25 | 2010-09-02 | Siltronic Ag | Verfahren zum Erkennen einer Fehllage einer Halbleiterscheibe während einer thermischen Behandlung |
JP5384220B2 (ja) * | 2009-06-22 | 2014-01-08 | 東京応化工業株式会社 | アライメント装置およびアライメント方法 |
JP5038381B2 (ja) * | 2009-11-20 | 2012-10-03 | 株式会社東芝 | サセプタおよび成膜装置 |
-
2006
- 2006-03-17 WO PCT/JP2006/305434 patent/WO2006098443A1/ja active Application Filing
- 2006-03-17 EP EP06729423.1A patent/EP1865354B1/en active Active
- 2006-03-17 US US11/886,255 patent/US8422127B2/en active Active
- 2006-03-17 JP JP2007508232A patent/JP4871264B2/ja active Active
-
2011
- 2011-09-30 JP JP2011217896A patent/JP5209103B2/ja active Active
-
2012
- 2012-09-12 US US13/611,227 patent/US20130084390A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8422127B2 (en) | 2013-04-16 |
WO2006098443A1 (ja) | 2006-09-21 |
EP1865354A4 (en) | 2011-01-26 |
EP1865354A1 (en) | 2007-12-12 |
EP1865354B1 (en) | 2016-03-16 |
JP4871264B2 (ja) | 2012-02-08 |
US20090002811A1 (en) | 2009-01-01 |
JP2012042970A (ja) | 2012-03-01 |
US20130084390A1 (en) | 2013-04-04 |
JPWO2006098443A1 (ja) | 2008-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5209103B2 (ja) | 顕微鏡画像撮像装置 | |
US9575301B2 (en) | Device for a microscope stage | |
JP5581851B2 (ja) | ステージ制御装置、ステージ制御方法、ステージ制御プログラム及び顕微鏡 | |
JP5923026B2 (ja) | 画像取得装置及び画像取得方法 | |
US7518790B2 (en) | Microscope and virtual slide forming system | |
WO2014069053A1 (ja) | 画像取得装置及び画像取得装置のフォーカス方法 | |
KR100954360B1 (ko) | 자동 외관검사장치 | |
JP5307221B2 (ja) | 画像取得装置及び画像取得装置のフォーカス方法 | |
US9906729B2 (en) | Imaging apparatus and microscope system | |
WO2018042786A1 (ja) | 画像処理方法、画像処理装置、および撮像装置 | |
JP2006039315A (ja) | 自動焦点装置及びそれを用いた顕微鏡装置 | |
JP2021502552A (ja) | スライドラックカルーセル | |
JP2007155412A (ja) | 外観検査装置及び外観検査方法 | |
JP6802636B2 (ja) | 顕微鏡システムおよび標本観察方法 | |
JP5662223B2 (ja) | 形状測定装置 | |
JP5296861B2 (ja) | 画像取得装置及び画像取得装置のフォーカス方法 | |
JP2009223164A (ja) | 顕微鏡画像撮影装置 | |
JP5981241B2 (ja) | 顕微鏡撮像装置及び顕微鏡撮像方法 | |
EP2947489A1 (en) | Image acquisition device and focus method for image acquisition device | |
JP7266514B2 (ja) | 撮像装置及び表面検査装置 | |
JP2008045894A (ja) | 撮像装置及び計測装置 | |
JP6353872B2 (ja) | 撮像装置および撮像方法 | |
JP2016205985A (ja) | 測定装置 | |
WO2014112083A1 (ja) | 画像取得装置及び画像取得装置のフォーカス方法 | |
JP2003295066A (ja) | 顕微鏡装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120619 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120621 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130125 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130219 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130220 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160301 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5209103 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |