JP6010450B2 - 光観察装置及び光観察方法 - Google Patents
光観察装置及び光観察方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6010450B2 JP6010450B2 JP2012278184A JP2012278184A JP6010450B2 JP 6010450 B2 JP6010450 B2 JP 6010450B2 JP 2012278184 A JP2012278184 A JP 2012278184A JP 2012278184 A JP2012278184 A JP 2012278184A JP 6010450 B2 JP6010450 B2 JP 6010450B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- optical system
- observation
- imaging
- kinoform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 221
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 115
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 69
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 17
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 21
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 21
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 19
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/32—Holograms used as optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/002—Scanning microscopes
- G02B21/0024—Confocal scanning microscopes (CSOMs) or confocal "macroscopes"; Accessories which are not restricted to use with CSOMs, e.g. sample holders
- G02B21/0032—Optical details of illumination, e.g. light-sources, pinholes, beam splitters, slits, fibers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/36—Microscopes arranged for photographic purposes or projection purposes or digital imaging or video purposes including associated control and data processing arrangements
- G02B21/365—Control or image processing arrangements for digital or video microscopes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/02—Simple or compound lenses with non-spherical faces
- G02B3/08—Simple or compound lenses with non-spherical faces with discontinuous faces, e.g. Fresnel lens
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1814—Diffraction gratings structurally combined with one or more further optical elements, e.g. lenses, mirrors, prisms or other diffraction gratings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/0005—Adaptation of holography to specific applications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/08—Synthesising holograms, i.e. holograms synthesized from objects or objects from holograms
- G03H1/0841—Encoding method mapping the synthesized field into a restricted set of values representative of the modulator parameters, e.g. detour phase coding
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/0005—Adaptation of holography to specific applications
- G03H2001/005—Adaptation of holography to specific applications in microscopy, e.g. digital holographic microscope [DHM]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/0005—Adaptation of holography to specific applications
- G03H2001/0094—Adaptation of holography to specific applications for patterning or machining using the holobject as input light distribution
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/08—Synthesising holograms, i.e. holograms synthesized from objects or objects from holograms
- G03H1/0841—Encoding method mapping the synthesized field into a restricted set of values representative of the modulator parameters, e.g. detour phase coding
- G03H2001/085—Kinoform, i.e. phase only encoding wherein the computed field is processed into a distribution of phase differences
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Description
また、本発明による光観察方法は、観察対象物からの被観察光を撮像するための光観察方法であって、二次元配列された複数の領域を含む位相変調面を有する空間光変調器を用いて、フレネル型キノフォームに基づいて複数の領域毎に光の位相を変調して、変調光を生成し、変調光を観察対象物に集光し、撮像光学系を用いて、観察対象物からの被観察光を撮像し、撮像光学系を移動させる光学系移動機構を用いて、フレネル型キノフォームによる変調光の光軸方向における集光位置の変化に対応して撮像光学系の焦点位置が変化するように光学系移動機構を制御することを特徴とする。
但し、iは虚数単位であり、kは波数(=2π/λ、λは変調光L2の波長)であり、zは再生像面とホログラム面との距離であり、Amは複素振幅成分(すなわち光の強さ)であり、θmは位相成分であり、δは各画素での初期位相である。また、rmは次の数式(2)
により定義される数値であって、再生像面内の各点光源からホログラム面の各画素までの距離を表している。
そして、この総和utotal(xa,yb)から位相成分を抽出することにより、計算機合成ホログラム(Computer Generated Hologram;CGH)を作成する。なお、ここで位相成分を抽出するのは、空間光変調器20が位相変調型の空間光変調器であることから、波面伝搬関数umに含まれる振幅情報を無視するためである。また、この計算の際、位相折り畳みの折り返し線がナイキスト周波数を越えないように、すなわち波面伝搬関数umの位相項exp(−iθm)において、隣接する画素との位相差がπ(rad)を越えないように、波面伝搬関数umの関数領域を制限する必要がある。
なお、この初期位相θm’は、収差補正、ビーム整形、ビーム拡がりなどを調整するためのものであってもよい。
空間光変調器20から共役面までの距離Lは
であるため、これらの数式(5)及び(6)に基づいて、最適な前段レンズ12a及び後段レンズ12bの組み合わせを決定することができ、光学系の最適化を図ることができる。
これと同様に、合成焦点距離f’と後段レンズ12bとの合成焦点距離fは、次の数式(8)によって算出される。
そして、Δzは次の数式(9)によって算出される。
図7は、上記実施形態の第1変形例として、光観察装置1Bの構成を示す図である。この光観察装置1Bは、上記実施形態の後段光学系12Aに代えて、後段光学系12Bを備えている。なお、後段光学系12Bを除く他の構成については、上記実施形態と同様である。
図8は、上記実施形態の第2変形例として、光観察装置1Cの構成を示す図である。この光観察装置1Cは、上記実施形態の光観察装置1Aの撮像光学系15及び光学系移動機構16に代えて、ビームスプリッタ34、撮像光学系35、及び光学系移動機構36を備えている。これらは、観察対象物Bを支持するステージ13に対して観察対象物Bと同じ側に配置されており、観察対象物Bにおいて反射した被観察光L4(観察光像)の画像を取得するために設けられている。
図9は、上記実施形態の第3変形例として、光観察装置1Dの構成を示す図である。この光観察装置1Dは、上記実施形態の光観察装置1Aの撮像光学系15及び光学系移動機構16に代えて、ビームスプリッタ44、撮像光学系45、及び光学系移動機構46を備えている。これらは、第2変形例と同様に、観察対象物Bを支持するステージ13に対して観察対象物Bと同じ側に配置されており、観察対象物Bにおいて反射した被観察光L4(観察光像)の画像を取得するために設けられている。
Claims (8)
- 観察対象物からの被観察光を撮像するための光観察装置であって、
光を出力する光源と、
二次元配列された複数の領域を含む位相変調面を有し、フレネル型キノフォームを前記位相変調面に表示し、前記複数の領域毎に前記光の位相を変調することにより変調光を生成し、前記変調光を前記観察対象物へ出射する空間光変調器と、
前記観察対象物からの前記被観察光を撮像する撮像光学系と、
前記撮像光学系を移動させる光学系移動機構と、
前記フレネル型キノフォームによる前記変調光の光軸方向における集光位置の変化に対応して前記撮像光学系の焦点位置が変化するように前記光学系移動機構を制御する制御部とを備えることを特徴とする、光観察装置。 - 前記撮像光学系が、前記観察対象物において透過した前記被観察光を撮像することを特徴とする、請求項1に記載の光観察装置。
- 前記観察対象物を前記被観察光の光軸方向に移動させる観察対象物移動機構を更に備えることを特徴とする、請求項1または2に記載の光観察装置。
- 前記撮像光学系が結像レンズを含み、前記光学系移動機構が前記結像レンズを移動させることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光観察装置。
- 前記撮像光学系が撮像装置を含み、前記光学系移動機構が前記撮像装置を移動させることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光観察装置。
- 前記制御部は、前記観察対象物に前記変調光を出射中に、前記位相変調面に表示されている前記フレネル型キノフォームに基づいて、前記撮像光学系の焦点位置が変化するように前記光学系移動機構を制御することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光観察装置。
- 前記制御部は、前記観察対象物に前記変調光を出射後に、予め記憶された前記フレネル型キノフォームに基づいて、前記撮像光学系の焦点位置が変化するように前記光学系移動機構を制御することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光観察装置。
- 観察対象物からの被観察光を撮像するための光観察方法であって、
二次元配列された複数の領域を含む位相変調面を有する空間光変調器を用いて、フレネル型キノフォームに基づいて前記複数の領域毎に前記光の位相を変調して、変調光を生成し、
前記変調光を前記観察対象物に集光し、
撮像光学系を用いて、前記観察対象物からの前記被観察光を撮像し、
前記撮像光学系を移動させる光学系移動機構を用いて、前記フレネル型キノフォームによる前記変調光の光軸方向における集光位置の変化に対応して前記撮像光学系の焦点位置が変化するように前記光学系移動機構を制御することを特徴とする、光観察方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012278184A JP6010450B2 (ja) | 2012-12-20 | 2012-12-20 | 光観察装置及び光観察方法 |
US14/651,364 US9846267B2 (en) | 2012-12-20 | 2013-12-13 | Optical observation device |
PCT/JP2013/083510 WO2014097996A1 (ja) | 2012-12-20 | 2013-12-13 | 光観察装置 |
CN201380067052.4A CN104871064B (zh) | 2012-12-20 | 2013-12-13 | 光观察装置 |
DE112013006111.2T DE112013006111B4 (de) | 2012-12-20 | 2013-12-13 | Optische Beobachtungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012278184A JP6010450B2 (ja) | 2012-12-20 | 2012-12-20 | 光観察装置及び光観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014122969A JP2014122969A (ja) | 2014-07-03 |
JP6010450B2 true JP6010450B2 (ja) | 2016-10-19 |
Family
ID=50978328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012278184A Active JP6010450B2 (ja) | 2012-12-20 | 2012-12-20 | 光観察装置及び光観察方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9846267B2 (ja) |
JP (1) | JP6010450B2 (ja) |
CN (1) | CN104871064B (ja) |
DE (1) | DE112013006111B4 (ja) |
WO (1) | WO2014097996A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11609427B2 (en) | 2015-10-16 | 2023-03-21 | Ostendo Technologies, Inc. | Dual-mode augmented/virtual reality (AR/VR) near-eye wearable displays |
US11106273B2 (en) | 2015-10-30 | 2021-08-31 | Ostendo Technologies, Inc. | System and methods for on-body gestural interfaces and projection displays |
US10345594B2 (en) | 2015-12-18 | 2019-07-09 | Ostendo Technologies, Inc. | Systems and methods for augmented near-eye wearable displays |
US10578882B2 (en) | 2015-12-28 | 2020-03-03 | Ostendo Technologies, Inc. | Non-telecentric emissive micro-pixel array light modulators and methods of fabrication thereof |
US10353203B2 (en) | 2016-04-05 | 2019-07-16 | Ostendo Technologies, Inc. | Augmented/virtual reality near-eye displays with edge imaging lens comprising a plurality of display devices |
US10453431B2 (en) | 2016-04-28 | 2019-10-22 | Ostendo Technologies, Inc. | Integrated near-far light field display systems |
US10522106B2 (en) * | 2016-05-05 | 2019-12-31 | Ostendo Technologies, Inc. | Methods and apparatus for active transparency modulation |
JP6784514B2 (ja) * | 2016-06-06 | 2020-11-11 | オリンパス株式会社 | レーザ走査型顕微鏡 |
DE102016214695B3 (de) * | 2016-08-08 | 2017-10-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System und Verfahren zur Korrektur von Maskenfehlern mit diesem System |
JP2018180296A (ja) * | 2017-04-13 | 2018-11-15 | 横河電機株式会社 | 顕微鏡システム、顕微鏡、処理装置、及び顕微鏡用カメラ |
CN109239930A (zh) * | 2018-10-10 | 2019-01-18 | 哈尔滨工业大学 | 一种自反馈式激光片状光束整形装置 |
JP2021043837A (ja) * | 2019-09-13 | 2021-03-18 | キオクシア株式会社 | メモリシステム |
JP7386672B2 (ja) * | 2019-11-15 | 2023-11-27 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置及び位相パターンの調整方法 |
US12028625B2 (en) * | 2019-12-03 | 2024-07-02 | Sony Group Corporation | Imaging device manufacturing apparatus, method for manufacturing imaging device, and imaging device |
CN112304246B (zh) | 2020-12-21 | 2021-03-23 | 苏州大学 | 基于空间相干结构调控的光学成像系统及成像方法 |
KR102375960B1 (ko) * | 2021-07-01 | 2022-03-17 | 주식회사 에이치비테크놀러지 | 빔 프로파일의 제어가 가능한 레이저 리페어 장치 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992021050A1 (en) | 1991-05-21 | 1992-11-26 | Seiko Epson Corporation | Optical device and optical machining system using the optical device |
JPH11326860A (ja) * | 1998-05-18 | 1999-11-26 | Olympus Optical Co Ltd | 波面変換素子及びそれを用いたレーザ走査装置 |
TW498152B (en) | 2000-09-11 | 2002-08-11 | Olympus Optical Co | Confocal microscope |
JP4606831B2 (ja) | 2004-08-31 | 2011-01-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置 |
EP1865354B1 (en) * | 2005-03-17 | 2016-03-16 | Hamamatsu Photonics K.K. | Microscopic image capturing device |
JP5299078B2 (ja) * | 2009-05-15 | 2013-09-25 | 株式会社ニコン | レーザ走査顕微鏡、3次元画像取得方法、及びプログラム |
US8362409B2 (en) * | 2009-10-29 | 2013-01-29 | Applied Precision, Inc. | System and method for continuous, asynchronous autofocus of optical instruments |
DE202010010932U1 (de) * | 2010-04-19 | 2011-10-07 | Witec Wissenschaftliche Instrumente Und Technologie Gmbh | Vorrichtung zur Abbildung einer Probenoberfläche |
DE102010060121C5 (de) * | 2010-10-22 | 2023-09-28 | Leica Microsystems Cms Gmbh | SPIM-Mikroskop mit sequenziellem Lightsheet |
-
2012
- 2012-12-20 JP JP2012278184A patent/JP6010450B2/ja active Active
-
2013
- 2013-12-13 US US14/651,364 patent/US9846267B2/en active Active
- 2013-12-13 DE DE112013006111.2T patent/DE112013006111B4/de active Active
- 2013-12-13 WO PCT/JP2013/083510 patent/WO2014097996A1/ja active Application Filing
- 2013-12-13 CN CN201380067052.4A patent/CN104871064B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104871064B (zh) | 2017-10-17 |
DE112013006111T5 (de) | 2015-09-17 |
JP2014122969A (ja) | 2014-07-03 |
US9846267B2 (en) | 2017-12-19 |
DE112013006111B4 (de) | 2022-11-17 |
CN104871064A (zh) | 2015-08-26 |
US20150301256A1 (en) | 2015-10-22 |
WO2014097996A1 (ja) | 2014-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6010450B2 (ja) | 光観察装置及び光観察方法 | |
JP5951451B2 (ja) | 光照射装置、顕微鏡装置及びレーザ加工装置 | |
JP4786291B2 (ja) | 光ピンセット装置 | |
JP7236381B2 (ja) | シングルプレーンイルミネーション顕微鏡 | |
US10108008B2 (en) | Image-forming optical system, illumination apparatus, and observation apparatus | |
JP5802109B2 (ja) | 光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置 | |
JP5802110B2 (ja) | 光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置 | |
JP6162688B2 (ja) | ビームエクスパンダ | |
JP6302403B2 (ja) | ビーム整形装置 | |
JP6168822B2 (ja) | パターン照射装置 | |
WO2014073611A1 (ja) | 位相変調方法および位相変調装置 | |
US20170205611A1 (en) | Imaging optical system, illuminating device, and microscope apparatus | |
US20170192217A1 (en) | Optical-axis-direction scanning microscope apparatus | |
US20170205609A1 (en) | Image-forming optical system, illumination apparatus, and microscope apparatus | |
TW201819083A (zh) | 雷射光照射裝置 | |
US20170176732A1 (en) | Image-forming optical system, illumination apparatus, and observation apparatus | |
US10545458B2 (en) | Optical sectioning using a phase pinhole | |
JP6539391B2 (ja) | 顕微鏡装置及び画像取得方法 | |
JPWO2018190339A1 (ja) | 収差補正方法及び光学装置 | |
JP2015212744A (ja) | 標本像データ生成装置、及び、標本像データ生成方法 | |
JP6259491B2 (ja) | 光照射装置、顕微鏡装置、レーザ加工装置、及び光照射方法 | |
WO2023026398A1 (ja) | スポット光生成装置、光学情報検知装置及び顕微鏡 | |
JP2019086562A (ja) | 観察装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160823 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160913 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160916 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6010450 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |