JP4909741B2 - 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 - Google Patents
液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4909741B2 JP4909741B2 JP2006546766A JP2006546766A JP4909741B2 JP 4909741 B2 JP4909741 B2 JP 4909741B2 JP 2006546766 A JP2006546766 A JP 2006546766A JP 2006546766 A JP2006546766 A JP 2006546766A JP 4909741 B2 JP4909741 B2 JP 4909741B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- face
- plasma
- discharge end
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
- H05H1/4645—Radiofrequency discharges
- H05H1/466—Radiofrequency discharges using capacitive coupling means, e.g. electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/48—Generating plasma using an arc
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0809—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes employing two or more electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0824—Details relating to the shape of the electrodes
- B01J2219/0835—Details relating to the shape of the electrodes substantially flat
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0877—Liquid
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Toxicology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
前記液体と接触する放電端面を有する導電部材と、該放電端面を少なくとも除く該導電部材の外周を覆う絶縁部材と、を有し、少なくとも端部が前記容器内に設けられる液中プラズマ用電極と、
少なくとも前記導電部材に電力を供給する高周波電源と、
を有し、前記液中プラズマ用電極は、前記放電端面をもつ前記導電部材の導電端部の断面が略円形または略矩形であり該断面における短径または短辺の長さをd、前記放電端面と略平行な前記絶縁部材の端面を基準面とし該基準面から該放電端面を含む面までの距離をx、とし、xについて前記放電端面が前記絶縁部材の端面よりも外側に突出しているときを正、前記放電端面が前記絶縁部材の端面よりも内側にへこんでいるときを負としたときに、−2d≦x≦2dを満たすことを特徴とする。
容器3は、石英ガラス製で円筒形状である容器本体と、その下部開口端および上部開口端を閉塞するステンレス製で略円板状の閉塞部材とからなる。下部開口端を閉塞する閉塞部材には、その中心部に液中プラズマ用電極1が固定される。液中プラズマ用電極1は、電極端部10が容器3の内部に突出して配置される。
[実施例1]
液中プラズマ用電極1' は、金属製の導電部材12と絶縁部材17からなる。図5は、実施例1〜5の液中プラズマ用電極1' の一例であって、電極端部10' の軸方向断面図である。導電部材12として、純アルミニウム(A1050(JIS))製で一端に平坦な端面121を有する円柱体(直径3mm(d=3))を使用した。本実施例では、この端面121を放電端面とした。端面121の縁部には、R=0.2mmの面取り部122を形成した。また、絶縁部材17として、円筒形状のセラミックス絶縁管(内径:3mm、外径5mm、長さ25mm)を使用した。絶縁部材17の筒内には導電部材12を挿入した。液中プラズマ用電極1' の電極端部10' では、導電部材12の挿入位置を調整して、端面121と平行な絶縁部材の端面を基準面171とし基準面171から端面121(放電端面)までの距離xを決定した。本実施例では、基準面171から端面121(放電端面)までの距離を5mm(x=5)、1mm(x=1)、0mm(x=0)となるようにした液中プラズマ用電極1' を上記液体プラズマ発生装置に組み付けた。なお、本実施例では、x=5の電極を#1−1、x=1の電極を#1−2、x=0の電極を#1−3とした。
実施例2では、水酸基を含む液体の例として、液体Lにアルコールを用いた。すなわち、液体Lをエタノール、容器内圧力を100hPaとした他は、実施例1と同様にして液中プラズマ発生装置でプラズマを発生させた。この際に用いた液中プラズマ用電極1' は、x=1、x=0、x=−1となるように容器3に組み付けた。各電極について、放電の起こった高周波電力の値を表2に示す。
導電部材12の直径を1.5mm(d=1.5)とし、液体Lをエタノール、電極間距離Dを3mm、容器内圧力を100hPaとした他は、実施例1と同様にして液中プラズマ発生装置でプラズマを発生させた。絶縁部材17の内径も導電部材12の直径に合わせて1.5mmに変更した。この際に用いた液中プラズマ用電極1' は、x=±4、±3、±1、0となるように容器3に組み付けた。各電極について、放電の起こった高周波電力の値を表3に示す。
導電部材12を純銅製(C1011;無酸素銅(JIS))で直径を4mm(d=4)とし、液体Lをテトラエトキシシラン(TEOS)、電極間距離Dを3mm、容器内圧力を50hPaとした他は、実施例1と同様にして液中プラズマ発生装置でプラズマを発生させた。絶縁部材17の内径も導電部材12の直径に合わせて変更した。この際に用いた液中プラズマ用電極1' は、x=±1、0となるようにした。各電極について、放電の起こった高周波電力の値を表4に示す。
導電部材12を純銅製(C1011)で直径を0.3mm(d=0.3)とし、液体Lをエタノール、電極間距離を3mm、容器内圧力を50hPaとした他は、実施例1と同様にして液中プラズマ発生装置でプラズマを発生させた。絶縁部材17の内径も導電部材12の直径に合わせて変更した。この際に用いた液中プラズマ用電極1' は、x=±0.5、0となるようにした。各電極について、放電の起こった高周波電力の値を表5に示す。
本実施例では、液中プラズマ用電極1の形状を変更し、導電部材および絶縁部材の材質、液体Lの種類、電極間距離、容器圧力を表6〜表14に示した値に変更して、実施例1と同様にして液中プラズマ発生装置でプラズマを発生させた。以下に、各実施例において用いた液中プラズマ用電極1''について図6を用いて説明する。
実施例1の液中プラズマ用電極1' において、導電部材12の素材として様々な金属(具体的には、高純度のモリブデン(Mo)、銀(Ag)、アルミニウム(Al:A1050)、タングステン(W)、銅(Cu:C1011))を使用して放電を起こす電力の比較を行った結果を表15に示す。液中プラズマ用電極1は、導電部材12の直径をd=0.7mm、基準面171から端面121(放電端面)までの距離をx=2mmとした。各電極について、放電の起こった高周波電力の値を表15に示す。
本発明の液中プラズマ発生方法を水溶液に適用した実施例について説明する。液中プラズマ用電極1' には、導電部材12としてd=0.7の純銅(C1011)を使用し、液体LとしてNaCl1%水溶液またはミョウバン0.5%水溶液を用い、第2電極4は液体Lに浸さない(これは整合を取ることを目的としている)ほかは、実施例1と同様とした。また、基準面171から端面121(放電端面)までの距離をx=−2mmとした。
本発明の液中プラズマ発生方法を物質の分解に適用した実施例について説明する。本実施例では食用色素の分解について示す。液中プラズマ用電極1' には、導電部材12としてd=2.8の純銅(C1011)を使用し、液体Lとして0.1g/Lの濃度の緑色(青色1号1%、黄色4号3.5%、澱粉94%)または赤色(赤色102号10%、澱粉90%)の色素を含む水溶液を300cc用いたほかは、実施例1と同様とした。また、基準面171から端面121(放電端面)までの距離をx=2mmとした。
Claims (12)
- 液体中でプラズマを発生させる液中プラズマ用電極であって、
前記液体と接触する放電端面を有する導電部材と、該放電端面を少なくとも除く該導電部材の外周を覆う絶縁部材と、
を有し、
前記放電端面をもつ前記導電部材の導電端部の断面が略円形または略矩形であり該断面における短径または短辺の長さをd、前記放電端面と略平行な前記絶縁部材の端面を基準面とし該基準面から該放電端面を含む面までの距離をx、とし、xについて前記放電端面が前記絶縁部材の端面よりも外側に突出しているときを正、前記放電端面が前記絶縁部材の端面よりも内側にへこんでいるときを負としたときに、−2d≦x≦2dを満たすことを特徴とする液中プラズマ用電極。 - 前記dおよび前記xは、−d≦x≦dを満たすものである請求項1に記載の液中プラズマ用電極。
- 前記xは、−1≦x≦1(単位はmm)を満たす請求項1に記載の液中プラズマ用電極。
- 前記導電端部の断面は、真円または長方形である請求項1〜3のいずれかに記載の液中プラズマ用電極。
- 前記xは、x<0である請求項1〜4のいずれかに記載の液中プラズマ用電極。
- 前記xは、x=0である請求項1〜4のいずれかに記載の液中プラズマ用電極。
- 前記xは、0<xである請求項1〜4のいずれかに記載の液中プラズマ用電極。
- 液体を入れる容器と、
前記液体と接触する放電端面を有する導電部材と、該放電端面を少なくとも除く該導電部材の外周を覆う絶縁部材と、を有し、少なくとも端部が前記容器内に設けられる液中プラズマ用電極と、
少なくとも前記導電部材に電力を供給する高周波電源と、
を有し、
前記液中プラズマ用電極は、前記放電端面をもつ前記導電部材の導電端部の断面が略円形または略矩形であり該断面における短径または短辺の長さをd、前記放電端面と略平行な前記絶縁部材の端面を基準面とし該基準面から該放電端面を含む面までの距離をx、とし、xについて前記放電端面が前記絶縁部材の端面よりも外側に突出しているときを正、前記放電端面が前記絶縁部材の端面よりも内側にへこんでいるときを負としたときに、−2d≦x≦2dを満たすことを特徴とする液中プラズマ発生装置。 - さらに、前記液中プラズマ用電極の端部と対向する第2電極を有する請求項8に記載の液中プラズマ発生装置。
- 液体中でプラズマを発生させる液中プラズマ発生方法であって、該液体と接触する放電端面を有する導電部材と、該放電端面を少なくとも除く該導電部材の外周を覆う絶縁部材と、を有し、前記放電端面をもつ前記導電部材の導電端部の断面が略円形または略矩形であり該断面における短径または短辺の長さをd、前記放電端面と略平行な前記絶縁部材の端面を基準面とし該基準面から該放電端面を含む面までの距離をx、とし、xについて前記放電端面が前記絶縁部材の端面よりも外側に突出しているときを正、前記放電端面が前記絶縁部材の端面よりも内側にへこんでいるときを負としたときに、−2d≦x≦2dを満たす液中プラズマ用電極に、高周波電源によって電力を供給することを特徴とする液中プラズマ発生方法。
- 前記液体として水を含むものを使用する請求項10に記載の液中プラズマ発生方法。
- 前記液体が入れられる反応容器を含む空間を、排気手段を用いて減圧する請求項10又は11に記載の液中プラズマ発生方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006546766A JP4909741B2 (ja) | 2004-12-03 | 2005-12-02 | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004350516 | 2004-12-03 | ||
JP2004350516 | 2004-12-03 | ||
PCT/JP2005/022611 WO2006059808A1 (ja) | 2004-12-03 | 2005-12-02 | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 |
JP2006546766A JP4909741B2 (ja) | 2004-12-03 | 2005-12-02 | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006059808A1 JPWO2006059808A1 (ja) | 2008-06-05 |
JP4909741B2 true JP4909741B2 (ja) | 2012-04-04 |
Family
ID=36565224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006546766A Active JP4909741B2 (ja) | 2004-12-03 | 2005-12-02 | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8653404B2 (ja) |
JP (1) | JP4909741B2 (ja) |
KR (1) | KR100934139B1 (ja) |
CN (1) | CN101112132B (ja) |
DE (1) | DE112005003029B4 (ja) |
WO (1) | WO2006059808A1 (ja) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5518281B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2014-06-11 | 三菱レイヨン株式会社 | 表面処理方法 |
JP5182989B2 (ja) | 2008-03-07 | 2013-04-17 | 株式会社豊田自動織機 | 液中プラズマ成膜装置、液中プラズマ用電極および液中プラズマを用いた成膜方法 |
JP5360966B2 (ja) * | 2009-01-28 | 2013-12-04 | 国立大学法人愛媛大学 | 液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 |
JP5246710B2 (ja) * | 2009-06-16 | 2013-07-24 | 国立大学法人愛媛大学 | 液中プラズマを用いた成膜方法および液中プラズマ成膜装置 |
US9480137B2 (en) * | 2009-07-02 | 2016-10-25 | Corona Plasma Systems, Inc | Electrolytic cell for heating electrolyte by a glow plasma field in the electrolyte |
US8926914B2 (en) | 2009-09-02 | 2015-01-06 | Korea Basic Science Institute | Liquid medium plasma discharge generating apparatus |
KR100976839B1 (ko) * | 2009-10-14 | 2010-08-20 | (주)솔고나노어드벤스 | 스틱형상의 액체 주입형 카트리지를 이용한 나노 콜로이드 생성 장치 및 이에 이용되는 카트리지 장치 |
WO2011099247A1 (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-18 | 国立大学法人愛媛大学 | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP5678493B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2015-03-04 | 国立大学法人名古屋大学 | 液中プラズマ用電極および液中プラズマ装置 |
JP5696447B2 (ja) * | 2010-11-25 | 2015-04-08 | Jfeスチール株式会社 | 表面処理金属材料の製造方法 |
JP5874111B2 (ja) | 2011-04-28 | 2016-03-02 | 株式会社エイプル技研 | ナノ粒子製造装置、ナノ粒子製造方法、ナノ粒子、亜鉛/酸化亜鉛ナノ粒子および水酸化マグネシウムナノ粒子 |
EP2711342A4 (en) | 2011-05-17 | 2014-04-09 | Panasonic Corp | PLASMA GENERATION DEVICE AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING |
US9586840B2 (en) | 2012-04-18 | 2017-03-07 | Georgia Tech Research Corporation | Systems and methods for clustering particles by liquid-phase electric plasma discharge |
JP5796174B2 (ja) * | 2012-07-24 | 2015-10-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
JP5934924B2 (ja) * | 2013-01-28 | 2016-06-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体中の元素分析装置 |
JP2014167880A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nagoya Univ | 液中プラズマ用電極および液中プラズマ発生装置 |
KR20160021133A (ko) * | 2013-06-19 | 2016-02-24 | 옵셰스트바 에스 아그라니첸니 아트베츠트벤나스티유 ″플라즈마-에스카″ | 나노스케일 탄소의 콜로이드 용액 제조방법 |
KR101493673B1 (ko) * | 2013-07-09 | 2015-02-16 | 한국기초과학지원연구원 | 액체 플라즈마 토치 발생장치 |
US10328410B2 (en) * | 2014-02-18 | 2019-06-25 | King Abdullah University Of Science And Technology | Systems and methods for producing electrical discharges in compositions |
CZ2014290A3 (cs) * | 2014-04-29 | 2015-07-22 | Vysoké Učení Technické V Brně | Systém trysky pro generování plazmatu v kapalinách |
US10101275B2 (en) | 2015-01-13 | 2018-10-16 | Arkray, Inc. | Plasma spectrochemical analysis method and plasma spectrochemical analyzer |
JP6656931B2 (ja) | 2015-01-13 | 2020-03-04 | アークレイ株式会社 | プラズマ分光分析方法およびプラズマ分光分析装置 |
KR101698957B1 (ko) * | 2015-04-24 | 2017-01-23 | 한국기계연구원 | 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 처리 방법 |
EP3412120B1 (en) * | 2016-02-03 | 2021-09-08 | King Abdullah University Of Science And Technology | In-liquid plasma devices and methods thereof for synthesizing nanomaterials |
JP6653475B2 (ja) * | 2016-02-17 | 2020-02-26 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置 |
JP6667166B2 (ja) | 2016-06-15 | 2020-03-18 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 改質液生成装置および改質液生成方法 |
EP3273228A1 (en) | 2016-07-22 | 2018-01-24 | ARKRAY, Inc. | Plasma spectroscopic analysis method and plasma spectroscopic analyzer |
DE102017126886B3 (de) * | 2017-11-15 | 2019-01-24 | Graforce Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur plasmainduzierten Wasserspaltung |
CN109600902A (zh) * | 2018-12-10 | 2019-04-09 | 杨春俊 | 低温等离子体活化液激发装置及其使用方法 |
CN110408421A (zh) * | 2019-07-29 | 2019-11-05 | 大连海事大学 | 一种利用液相放电提质重油原料的方法 |
CN110317636B (zh) * | 2019-07-29 | 2024-06-07 | 大连海事大学 | 一种利用液相放电原位加氢提质重油原料的方法和装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002373888A (ja) * | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
WO2003032932A1 (fr) * | 2001-10-12 | 2003-04-24 | Phild Co., Ltd. | Liquide de regeneration capillaire comprenant de l'eau dispersee avec des particules ultrafines d'un metal du groupe titane par une decharge de plasma sous eau et procede et systeme de production |
WO2003096767A1 (en) * | 2002-05-08 | 2003-11-20 | Chak Man Thomas Chang | A plasma formed in a fluid |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2263443A (en) * | 1938-12-03 | 1941-11-18 | Dow Chemical Co | Apparatus for making acetylene |
FR1600278A (ja) * | 1968-12-31 | 1970-07-20 | Anvar | |
EP0096493B1 (en) * | 1982-05-25 | 1987-08-19 | Johnson Matthey Public Limited Company | Plasma arc furnace |
US4642440A (en) * | 1984-11-13 | 1987-02-10 | Schnackel Jay F | Semi-transferred arc in a liquid stabilized plasma generator and method for utilizing the same |
US4801435A (en) * | 1986-09-08 | 1989-01-31 | Plasma Holdings N.V. | Hybrid plasma reactor |
JPH07130490A (ja) * | 1993-11-02 | 1995-05-19 | Komatsu Ltd | プラズマトーチ |
JPH0824562A (ja) | 1994-07-11 | 1996-01-30 | Nagatoshi Suzuki | 放電プラズマを用いた脱臭装置 |
US7075031B2 (en) * | 2000-10-25 | 2006-07-11 | Tokyo Electron Limited | Method of and structure for controlling electrode temperature |
WO2002038872A1 (en) * | 2000-11-08 | 2002-05-16 | Jeung Su Lee | Placementing method of reinforcing strips for constructing precast concrete facing panel and pulling-up device of reinforcing strips |
AUPR129900A0 (en) * | 2000-11-08 | 2000-11-30 | Chang, Chak Man Thomas | Plasma electroplating |
JP2002301136A (ja) | 2001-04-04 | 2002-10-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 有害物および有害菌分解装置 |
KR20020083564A (ko) * | 2001-04-27 | 2002-11-04 | 주식회사 엘지이아이 | 다중 플라즈마 발생장치 |
ITRM20010291A1 (it) * | 2001-05-29 | 2002-11-29 | Ct Sviluppo Materiali Spa | Torcia al plasma |
US20030146310A1 (en) * | 2001-08-17 | 2003-08-07 | Jackson David P. | Method, process and apparatus for high pressure plasma catalytic treatment of dense fluids |
JP5095058B2 (ja) * | 2001-08-30 | 2012-12-12 | 株式会社日立製作所 | エッチング処理装置における耐プラズマ性高分子材料からなる膜の厚さの決定方法 |
US20030101936A1 (en) * | 2001-12-04 | 2003-06-05 | Dong Hoon Lee And Yong Moo Lee | Plasma reaction apparatus |
JP2003218035A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-31 | Sekisui Chem Co Ltd | 放電プラズマ処理方法 |
US20050045103A1 (en) * | 2002-01-23 | 2005-03-03 | Mikhael Michael G. | Method and apparatus for applying material to glass |
JP3720777B2 (ja) * | 2002-02-20 | 2005-11-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置用保護膜の取付け方法 |
JP3624238B2 (ja) | 2002-04-01 | 2005-03-02 | 株式会社テクノネットワーク四国 | プラズマを発生させる方法およびプラズマ発生装置 |
JP3624239B2 (ja) * | 2002-10-29 | 2005-03-02 | 株式会社テクノネットワーク四国 | 液中プラズマ発生装置、薄膜形成方法およびシリコンカーバイト膜 |
JP2004202454A (ja) | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Ebara Corp | 液体中パルス放電を用いるろ過膜及びろ材の洗浄方法と装置 |
US7538294B2 (en) * | 2005-05-17 | 2009-05-26 | Huys Industries Limited | Welding electrode and method |
-
2005
- 2005-12-02 WO PCT/JP2005/022611 patent/WO2006059808A1/ja active Application Filing
- 2005-12-02 DE DE112005003029T patent/DE112005003029B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-02 US US11/792,174 patent/US8653404B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-02 KR KR1020077012623A patent/KR100934139B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-12-02 JP JP2006546766A patent/JP4909741B2/ja active Active
- 2005-12-02 CN CN2005800472533A patent/CN101112132B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002373888A (ja) * | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
WO2003032932A1 (fr) * | 2001-10-12 | 2003-04-24 | Phild Co., Ltd. | Liquide de regeneration capillaire comprenant de l'eau dispersee avec des particules ultrafines d'un metal du groupe titane par une decharge de plasma sous eau et procede et systeme de production |
WO2003096767A1 (en) * | 2002-05-08 | 2003-11-20 | Chak Man Thomas Chang | A plasma formed in a fluid |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100934139B1 (ko) | 2009-12-29 |
DE112005003029T5 (de) | 2007-12-13 |
CN101112132B (zh) | 2012-07-04 |
DE112005003029B4 (de) | 2012-10-04 |
US20090109141A1 (en) | 2009-04-30 |
WO2006059808A1 (ja) | 2006-06-08 |
JPWO2006059808A1 (ja) | 2008-06-05 |
US8653404B2 (en) | 2014-02-18 |
CN101112132A (zh) | 2008-01-23 |
KR20070085750A (ko) | 2007-08-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4909741B2 (ja) | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 | |
JP5182989B2 (ja) | 液中プラズマ成膜装置、液中プラズマ用電極および液中プラズマを用いた成膜方法 | |
JP5472601B2 (ja) | 液中プラズマ処理装置、金属ナノ粒子製造方法及び金属担持物製造方法 | |
JP2008071656A (ja) | 溶液プラズマ反応装置及び該装置を使用したナノ材料の製造方法 | |
WO2005091687A1 (ja) | マイクロプラズマジェット発生装置 | |
WO2011099247A1 (ja) | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 | |
EP1504813A1 (en) | Submerged plasma generator, method of generating plasma in liquid and method of decomposing toxic substance with plasma in liquid | |
CN101146741B (zh) | 无定形碳膜的制备方法 | |
JP2020518438A (ja) | 硫黄生成 | |
JP2006275351A (ja) | ガス加熱装置 | |
JP2005108600A (ja) | 液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 | |
JP4517098B2 (ja) | 液中プラズマ発生方法 | |
JPS61208743A (ja) | 紫外線処理装置 | |
Zhao et al. | Optical study of active species produced by microwave discharge in water | |
JP5390315B2 (ja) | 金属担持物製造装置及び金属担持物製造方法 | |
JP3769625B1 (ja) | 液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 | |
JP4915697B2 (ja) | 液中プラズマを用いた成膜方法および液中プラズマ成膜装置 | |
JP5176051B2 (ja) | プラズマ発生装置およびダイヤモンド生成方法 | |
JP2019085301A (ja) | 水素製造装置 | |
US20100171425A1 (en) | Electrode for a plasma generator | |
KR100497458B1 (ko) | 마이크로파를 이용한 프라즈마에 의한 오존 발생장치 | |
JP6971812B2 (ja) | マイクロ波処理装置、マイクロ波処理方法、加熱処理方法及び化学反応方法 | |
KR200312825Y1 (ko) | 마이크로파를 이용한 프라즈마에 의한 오존 발생장치 | |
Shimizu et al. | High-Efficient Hydrogen Generation Study by a Reverse Tailing Pulsed-Plasma Water Dissociation Applying Wet Electrode Method | |
JPH11103107A (ja) | ヨウ素レーザ発生装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111222 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120116 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4909741 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |