JP4776683B2 - 高分子電解質膜及びその製法、並びに膜−電極接合体及び固体高分子型燃料電池 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明はビニルアルコール系重合体ブロック(A)及びイオン伝導性基を有する重合体ブロック(B)を構成成分とするブロック共重合体(P)であって、架橋処理の施されたものを主成分として含有する高分子電解質膜に関する。また、本発明は該ブロック共重合体(P)と特定のビニルアルコール系重合体との混合物であって、架橋処理の施されたものを主成分として含有する高分子電解質膜に関する。本発明は、さらに、かかる高分子電解質膜の製法、並びにかかる高分子電解質膜を使用した膜−電極接合体及び固体高分子型燃料電池に関する。
m/(l+m)比(この値に100を掛けた値はけん化度を表す)は0.80以上であることが必要であり、0.88以上であることが好ましく、0.95以上であることがより好ましい(つまりlが0である場合があり得る)。m/(l+m)比が0.80未満である場合には、ブロック共重合体(P)中のビニルアルコール系重合体ブロック(A)部分の結晶化度が不十分となり、かかるブロック共重合体を含有する高分子電解質膜をメタノール等の燃料を直接使用する固体高分子型燃料電池の高分子電解質膜として用いた場合、燃料クロスオーバーが増大する可能性がある。
末端にSH基を含有するビニルアルコール系重合体は、例えば、特開昭59−187003号などに記載されている方法により得ることができる。すなわち、チオール酸の存在下にビニルエステル単量体、例えば酢酸ビニルを主体とするビニル系単量体をラジカル重合して得られるビニルエステル系重合体をけん化する方法が挙げられる。
すなわち、例えば特開昭59−189113号に記載されているように、末端にSH基を有するビニルアルコール系重合体の存在下にイオン伝導性基を有する単量体をラジカル重合させることによりブロック共重合体(P)を得ることができる。このラジカル重合は公知の方法、例えばバルク重合、溶液重合、パール重合、乳化重合などによって行うことができるが、末端にSH基を含有するビニルアルコール系重合体を溶解し得る溶剤、例えば水やジメチルスルホキシドを主体とする媒体中で行うのが好ましい。また、重合プロセスとしては、回分法、半回分法、連続法のいずれをも採用することができる。
まず、得られるブロック共重合体にスルホン酸基を導入する方法について述べる。スルホン化は、公知のスルホン化の方法で行える。このような方法としては、ブロック共重合体の有機溶媒溶液や縣濁液を調製し、スルホン化剤を添加し混合する方法やブロック共重合体に直接ガス状のスルホン化剤を添加する方法等が例示される。
すなわち、ブロック共重合体(P)の溶液又はブロック共重合体(P)とビニルアルコール系重合体(Q)との混合物の溶液から得られる皮膜を、100℃以上の温度で熱処理した後、水、アルコール又はそれらの混合溶媒中で、酸性条件下、ジアルデヒド化合物による架橋処理に付し、ついで水洗処理する。
なお、本発明の高分子電解質膜に無機充填剤を含有させる場合、その方法は、所望の量を含有させることができる方法であれば特に限定されず、例えば、ブロック共重合体(P)の溶液、又はブロック共重合体(P)とビニルアルコール系重合体(Q)との混合物の溶液に無機充填剤を分散もしくは溶解させる方法、或いは、高分子電解質膜に架橋処理を施す際にジアルデヒド化合物と共に無機充填剤を用いる方法等が挙げられる。
熱処理により、ブロック共重合体(P)を構成するビニルアルコール系重合体ブロック(A)、及びビニルアルコール系重合体(Q)との混合皮膜の場合には、ビニルアルコール系重合体ブロック(A)に加え、ビニルアルコール系重合体(Q)の結晶化度が上昇するため、燃料(特にメタノール)を直接使用する固体高分子型燃料電池用高分子電解質膜として用いた場合、燃料クロスオーバーが低減される。
ブロック共重合体の合成例A
還流冷却管、攪拌翼を備え付けた2L四つ口セパラブルフラスコに、水700g、末端にSH基を有するビニルアルコール系重合体としてクラレ製ポバールM−115(重合度1500、けん化度98.5モル%の末端SH化PVA)100gを仕込み、攪拌下95℃まで加熱して該ビニルアルコール系重合体を溶解した後、室温まで冷却した。該水溶液に1/2規定の硫酸を添加してpHを3.0に調整した。別に、p−スチレンスルホン酸ナトリウム50gを水200gに溶解し、これを先に調製した水溶液に攪拌下添加した後、70℃まで加温し、また、水溶液中に窒素をバブリングしながら30分間系内を窒素置換した。窒素置換後、上記水溶液に過硫酸カリウムの4%水溶液50mLを1.5時間かけて逐次的に添加してブロック共重合を開始、進行させた後、系内温度を75℃に1時間維持して重合をさらに進行させ、ついで冷却して、固形分濃度13.7%のPVA−(b)−p−スチレンスルホン酸ナトリウムブロック共重合体水溶液を得た。得られた水溶液の一部を乾燥した後、重水に溶解し、400MHzでの1H−NMR測定に付した結果、酢酸ビニル単位(l)、ビニルアルコール単位(m)及びp−スチレンスルホン酸ナトリウム単位(n)のモル比率は、l:m:n=1.35:88.87:9.78(モル%)であった。
p−スチレンスルホン酸ナトリウム75gを用いたこと以外は、ブロック共重合体の合成例Aと同様に操作を行った。得られた水溶液の一部を乾燥した後、重水に溶解し、400MHzでの1H−NMR測定に付した結果、酢酸ビニル単位(l)、ビニルアルコール単位(m)及びp−スチレンスルホン酸ナトリウム単位(n)のモル比率は、l:m:n=1.29:84.73:13.98(モル%)であった。
p−スチレンスルホン酸ナトリウム10gを用いたこと以外は、ブロック共重合体の合成例Aと同様に操作を行った。得られた水溶液の一部を乾燥した後、重水に溶解し、400MHzでの1H−NMR測定に付した結果、酢酸ビニル単位(l)、ビニルアルコール単位(m)及びp−スチレンスルホン酸ナトリウム単位(n)のモル比率は、l:m:n=1.47:96.41:2.12(モル%)であった。
p−スチレンスルホン酸ナトリウム200gを用いたこと以外は、ブロック共重合体の合成例Aと同様に操作を行った。得られた水溶液の一部を乾燥した後、重水に溶解し、400MHzでの1H−NMR測定に付した結果、酢酸ビニル単位(l)、ビニルアルコール単位(m)及びp−スチレンスルホン酸ナトリウム単位(n)のモル比率は、l:m:n=1.15:75.58:23.27(モル%)であった。
p−スチレンスルホン酸ナトリウム50gの代わりに、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム50gを用いたこと以外は、ブロック共重合体の合成例Aと同様に操作を行った。得られた水溶液の一部を乾燥した後、重水に溶解し、400MHzでの1H−NMR測定に付した結果、酢酸ビニル単位(l)、ビニルアルコール単位(m)及び2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム単位(n)のモル比率は、l:m:n=1.37:89.76:8.87(モル%)であった。
2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム75gを用いたこと以外は、ブロック共重合体の合成例Eと同様に操作を行った。得られた水溶液の一部を乾燥した後、重水に溶解し、400MHzでの1H−NMR測定に付した結果、酢酸ビニル単位(l)、ビニルアルコール単位(m)及び2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム単位(n)のモル比率は、l:m:n=1.31:85.95:12.74(モル%)であった。
攪拌機、温度センサー、滴下漏斗及び還流冷却管を備え付けた6Lセパラブルフラスコに、酢酸ビニル1920g、メタノール1260g及び2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウムのメタノール溶液43.3g(2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウムの濃度=25質量%)を仕込み、攪拌下に系内を窒素置換した後、内温を60℃まで上げた。この系に2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを1.3g含有するメタノール20gを添加し、重合反応を開始した。重合開始時点より2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウムを25質量%含有するメタノール溶液484.7gを系内に添加しながら4時間重合反応を行い、その時点で重合反応を停止した。重合反応を停止した時点における系内の固形分濃度は34.7質量%であった。ついで、系内にメタノール蒸気を導入することで未反応の酢酸ビニル単量体を追い出し、ビニルエステル系共重合体を40質量%含有するメタノール溶液を得た。
けん化反応の進行に伴ってゲル化物が生成した直後にこれを反応系から取り出して粉砕し、ついで、この粉砕物に対して、ゲル化物が生成してから1時間が経過した時点で酢酸メチルを添加することで中和し、膨潤状態のPVAを得た。この膨潤したPVAに対して質量基準で6倍量(浴比6倍)のメタノールを加え、還流下に1時間洗浄し、ろ過した後、65℃で16時間乾燥して、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム単位4モル%、4%水溶液粘度13.6mPa・s(20℃)、重合度1000、けん化度99.2モル%のPVAを得た。
攪拌機、温度センサー、滴下漏斗及び還流冷却管を備え付けた6Lセパラブルフラスコに、酢酸ビニル2340g、メタノール640g、及び2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウムを25質量%含有するメタノール溶液25.7gを仕込み、攪拌下に系内を窒素置換した後、内温を60℃まで上げた。この系に2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを1.2g含有するメタノール20gを添加し、重合反応を開始した。重合開始時点より2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウムを25質量%含有するメタノール溶液193.2gを系内に添加しながら2.5時間重合反応を行い、その時点で重合反応を停止した。重合反応を停止した時点における系内の固形分濃度は31.0%であった。ついで、系内にメタノール蒸気を導入することで未反応の酢酸ビニル単量体を追い出し、ビニルエステル系共重合体を35質量%含有するメタノール溶液を得た。
けん化反応の進行に伴ってゲル化物が生成した直後にこれを反応系から取り出して粉砕し、ついで、この粉砕物に対して、ゲル化物が生成してから1時間が経過した時点で酢酸メチルを添加することで中和し、膨潤状態のPVAを得た。この膨潤したPVAに対して質量基準で6倍量(浴比6倍)のメタノールを加え、還流下に1時間洗浄し、ろ過した後、65℃で16時間乾燥して、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム単位2モル%、4%水溶液粘度33.1mPa・s(20℃)、重合度1900、けん化度99.2モル%のPVAを得た。
実施例1 高分子電解質膜の製造例1
合成例Aで得られたブロック共重合体水溶液を固形分濃度が4質量%となるよう水で希釈した後、PETフィルム上に流延し、室温にて乾燥することで、厚さ50μmの皮膜を得た。熱風乾燥機を用いて、得られた皮膜を120℃で30分間熱処理した。得られた熱処理皮膜を15cm四方にカットし、グルタルアルデヒド4容量%を含有する、塩化水素0.5モル%/リットルのメタノール溶液に20℃で24時間浸漬した後取り出し、得られた皮膜を蒸留水に20℃で24時間浸漬して水洗した後、20℃で乾燥した。
合成例Bで得られたブロック共重合体水溶液を用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例1と同様にして高分子電解質膜を得た。
実施例3 高分子電解質膜の製造例3
合成例Cで得られたブロック共重合体水溶液を用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例1と同様にして高分子電解質膜を得た。
実施例4 高分子電解質膜の製造例4
合成例Eで得られたブロック共重合体水溶液を用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例1と同様にして高分子電解質膜を得た。
実施例5 高分子電解質膜の製造例5
合成例Fで得られたブロック共重合体水溶液を用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例1と同様にして高分子電解質膜を得た。
合成例Aで得られたブロック共重合体水溶液を固形分濃度が4質量%となるように水で希釈した溶液に、PVA−117((株)クラレ製:重合度1750、けん化度98.5モル%)の固形分濃度4%の水溶液を等量混合し、混合溶液を調製した。得られた混合溶液をPETフィルム上に流延し、高分子電解質膜の製造例1と同様にして、高分子電解質膜(ブレンド皮膜)を得た。
PVA−117の代わりに、エチレン変性量5モル%、重合度1700、けん化度98.5モル%のエチレン共重合PVAを用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例6と同様にして、高分子電解質膜(ブレンド皮膜)を得た。
実施例8 高分子電解質膜の製造例8(ブレンド皮膜)
合成例Bで得られたブロック共重合体水溶液を用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例6と同様にして、高分子電解質膜(ブレンド皮膜)を得た。
実施例9 高分子電解質膜の製造例9(ブレンド皮膜)
合成例Bで得られたブロック共重合体水溶液を用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例7と同様にして、高分子電解質膜(ブレンド皮膜)を得た。
合成例Dで得られたブロック共重合体水溶液を固形分濃度が4%となるよう水で希釈した溶液7部に、PVA−117(クラレ製:重合度1750、けん化度98.5モル%)の固形分濃度4%の水溶液93部を混合し、混合溶液を調製した。得られた混合溶液をPETフィルム上に流延し、高分子電解質膜の製造例1と同様にして、高分子電解質膜(ブレンド皮膜)を得た。
実施例11 高分子電解質膜の製造例11(ブレンド皮膜)
PVA−117の代わりに、エチレン変性量5モル%、重合度1700、けん化度98.5モル%のエチレン共重合PVAを用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例10と同様にして、高分子電解質膜(ブレンド皮膜)を得た。
パーフルオロカーボンスルホン酸系高分子電解質膜として、DuPont社ナフィオンフィルム(Nafion112)を選択した。膜厚は50μmであった。
比較例2
パーフルオロカーボンスルホン酸系高分子電解質膜として、DuPont社ナフィオンフィルム(Nafion117)を選択した。膜厚は175μmであった。
酢酸ビニルと2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウムとの共重合体のけん化物の合成例aで得られたPVAを用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例1と同様にして、高分子電解質膜を得た。
比較例4 高分子電解質膜の比較製造例2
酢酸ビニルと2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウムとの共重合体のけん化物の合成例bで得られたPVAを用いたこと以外は、高分子電解質膜の製造例1と同様にして、高分子電解質膜を得た。
以下の1)〜5)の試験において試料としては各実施例又は比較例で得られたスルホン化ブロック共重合体から調製した高分子電解質膜又はナフィオン膜を使用した。
1)膜の電気抵抗の測定
1cm×4cmの試料を一対の白金電極で挟み、開放系セルに装着した。測定セルを温度60℃、相対湿度90%に調節した恒温恒湿器内に設置し、交流インピーダンス法により膜の電気抵抗を測定した。
2)膜の水中での線膨張率の測定
5cm×5cmの試料を25℃の純水に浸漬し、24時間後の膨潤したフィルムの長さを求め、以下の式から線膨張率を求めた。
線膨張率=[(膨潤後のフィルムの長さ−膨潤前のフィルムの長さ)/膨潤前のフィルムの長さ]×100
3)膜のメタノール透過速度の測定
メタノール透過速度は、電解質膜をH型セルに挟み込み、セルの片側に55mlの3M(モル/リットル)のメタノール水溶液を、他方のセルに55mlの純水を注入し、25℃で攪拌しながら、電解質膜を通って純水中に拡散してくるメタノール量をガスクロマトグラフィーを用いて測定することで算出した(電解質膜の面積は、4.5cm2)。
Claims (6)
- ビニルアルコール系重合体ブロック(A)及びイオン伝導性基を有する重合体ブロック(B)を構成成分とするブロック共重合体(P)であって、架橋処理の施されたものを主成分として含有する高分子電解質膜であって、ブロック共重合体(P)が下記一般式(I)
[式中、重合体ブロック(A)は、単量体繰返し単位l及びmからなり、m/(l+m)≧0.80であり、重合体ブロック(B)は、単量体繰返し単位nからなり、0.01≦n/(l+m+n)≦0.50であり、R 1 は水素原子又はメチル基を表し、Xはメチル基で置換されていてもよいフェニレン基又はナフチレン基を表し、Yはスルホニルオキシ基を表し、Mは水素原子、アンモニウムイオン又はアルカリ金属イオンを表す]で表されるブロック共重合体であるか、又は下記一般式(II)
[式中、重合体ブロック(A)は、単量体繰返し単位l及びmからなり、m/(l+m)≧0.80であり、重合体ブロック(B)は、単量体繰返し単位nからなり、0.01≦n/(l+m+n)≦0.50であり、R 1 は水素原子又はメチル基を表し、Yはスルホニルオキシ基を表し、Mは水素原子、アンモニウムイオン又はアルカリ金属イオンを表す]で表されるブロック共重合体である前記高分子電解質膜。 - 請求項1記載のブロック共重合体(P)と重合度200〜8000、けん化度80モル%以上のビニルアルコール系重合体(Q)との、両者の割合(質量比)が(P)/(Q)≧3/97である混合物であって、架橋処理の施されたものを主成分として含有する高分子電解質膜。
- イオン交換容量が、0.30meq/g以上である請求項1記載の高分子電解質膜。
- ブロック共重合体(P)の溶液、又はブロック共重合体(P)とビニルアルコール系重合体(Q)との混合物の溶液から得られる皮膜を、100℃以上の温度で熱処理した後、水、アルコール又はそれらの混合溶媒中で、酸性条件下、ジアルデヒド化合物による架橋処理に付し、ついで水洗処理することを特徴とする請求項1記載の高分子電解質膜の製造方法。
- 請求項1記載の高分子電解質膜を使用した膜−電極接合体。
- 請求項5記載の膜−電極接合体を使用した固体高分子型燃料電池。
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