JP4767708B2 - 塗布ユニットおよびパターン修正装置 - Google Patents
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Description
また、この発明に係る他の塗布ユニットは、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、その底に第1の孔が開口され、修正液が注入された容器と、容器の開口された上面に固定され、第2の孔が開口された蓋とを備えたものである。容器は第1および第2の孔を除いて蓋によって密閉されている。この塗布ユニットは、さらに、第1および第2の孔を貫通可能に形成された塗布針と、塗布針を第1および第2の孔を通る直線に沿って上下動可能に支持する直動案内部材と、塗布針を下方に移動させて塗布針の先端部を第1の孔から突出させ、塗布針の先端部に修正液を付着させる駆動部とを備え、塗布針の先端部に付着した修正液を欠陥部に塗布することを可能とする。
また、この発明に係るさらに他の塗布ユニットは、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、その底に第1の孔が開口され、修正液が注入された容器と、容器の底の下面の第1の孔の周辺に配置され、第1の孔から漏れた修正液を吸収する吸収部材と、少なくとも先端部が第1の孔を貫通可能に形成された塗布針と、塗布針を上下動可能に支持する直動案内部材と、塗布針を下方に移動させて塗布針の先端部を第1の孔から突出させ、塗布針の先端部に修正液を付着させる駆動部とを備え、塗布針の先端部に付着した修正液を欠陥部に塗布することを可能とするものである。
図1は、この発明の実施の形態1によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。図1において、パターン修正装置1は、基板の表面を観察する観察光学系2と、観察された画像を映し出すモニタ3と、観察光学系2を介して基板にレーザ光を照射し不要部をカットするカット用レーザ部4と、修正液を塗布針先端に付着させて基板の欠陥部に塗布する塗布ユニット5と、欠陥部に塗布された修正液を加熱する基板加熱部6と、欠陥部を認識する画像処理部7と、装置全体を制御するホストコンピュータ8と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ9とを備える。さらに、その他に欠陥部を有する基板をXY方向(水平方向)に移動させるXYステージ10と、XYステージ10上で基板を保持するチャック部11と、観察光学系2や塗布ユニット5をZ方向(垂直方向)に移動させるZステージ12などが設けられている。
ザ部4を用いてレーザ加工することによって、欠陥部の形状を修正し易い任意の形状にしてもよい。その後、予め設定された観察光学系2と塗布ユニット5とのオフセット位置に基づいてXYステージ10を移動させ、塗布ユニット5の塗布針14の直下に欠陥部15aを位置させる。
図6(A)〜(D)は、実施の形態2によるパターン修正装置の塗布ユニット5の構成および塗布動作を示す断面図である。図6(A)を参照して、塗布ユニット5は、修正液13が注入された容器部16と、塗布針先端部14aに修正液13を付着させて欠陥部に塗布する塗布部17と、塗布部17を垂直方向に駆動する駆動部18と、ケース22とを含む。
図18は、この発明の実施の形態3によるパターン修正装置の要部の構成を示す図である。図16において、実施の形態1,2で用いたリニアガイド23に代わって、リニアブッシュ35を直動案内装置として用いている。
Claims (12)
- 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、
その底に第1の孔が開口され、修正液が注入された容器、
少なくとも先端部が前記第1の孔を貫通可能に形成された塗布針、
前記塗布針の基端部を固定保持する塗布針固定部材、
前記塗布針固定部材を介して前記塗布針を上下動可能に支持する直動案内部材、および
前記塗布針固定部材を上下動させ、待機時に前記塗布針の先端部を前記容器に注入された修正液中に保持し、塗布時に前記塗布針を下方に移動させて前記塗布針の先端部を前記第1の孔から突出させ、前記塗布針の先端部に修正液を付着させる駆動部を備え、
前記塗布針の先端部に付着した修正液を前記欠陥部に塗布することを可能とし、
前記駆動部は、
前記塗布針固定部材を下側から支持する支持部材と、
前記支持部材を上下動させるシリンダとを含み、
前記塗布針の先端部が前記欠陥部に接触したときに前記塗布針の先端部から前記欠陥部に所定値以上の圧力が加わらないように、少なくとも前記塗布針の先端部が前記欠陥部に接触したときは前記塗布針固定部材の保持を開放する、塗布ユニット。 - 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、
その底に第1の孔が開口され、修正液が注入された容器、および
前記容器の開口された上面に固定され、第2の孔が開口された蓋を備え、
前記容器は前記第1および第2の孔を除いて前記蓋によって密閉されており、
さらに、前記第1および第2の孔を貫通可能に形成された塗布針、
前記塗布針を前記第1および第2の孔を通る直線に沿って上下動可能に支持する直動案内部材、および
前記塗布針を下方に移動させて前記塗布針の先端部を前記第1の孔から突出させ、前記塗布針の先端部に修正液を付着させる駆動部を備え、
前記塗布針の先端部に付着した修正液を前記欠陥部に塗布することを可能とする、塗布ユニット。 - 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、
その底に第1の孔が開口され、修正液が注入された容器、
前記容器の底の下面の前記第1の孔の周辺に配置され、前記第1の孔から漏れた修正液を吸収する吸収部材、
少なくとも先端部が前記第1の孔を貫通可能に形成された塗布針、
前記塗布針を上下動可能に支持する直動案内部材、および
前記塗布針を下方に移動させて前記塗布針の先端部を前記第1の孔から突出させ、前記塗布針の先端部に修正液を付着させる駆動部を備え、
前記塗布針の先端部に付着した修正液を前記欠陥部に塗布することを可能とする、塗布ユニット。 - さらに、前記塗布針の基端部を固定保持する塗布針固定部材を備え、
前記直動案内部材は、前記塗布針固定部材を介して前記塗布針を上下動可能に支持し、
前記駆動部は、前記塗布針固定部材を上下動させ、待機時に前記塗布針の先端部を前記容器に注入された修正液中に保持し、塗布時に前記塗布針の先端部を前記第1の孔から突出させる、請求項2または請求項3に記載の塗布ユニット。 - 前記駆動部は、前記塗布針の先端部が前記欠陥部に接触したときに前記塗布針の先端部から前記欠陥部に所定値以上の圧力が加わらないように、少なくとも前記塗布針の先端部が前記欠陥部に接触したときは前記塗布針固定部材の保持を開放する、請求項4に記載の塗布ユニット。
- 前記駆動部は、
前記塗布針固定部材を下側から支持する支持部材と、
前記支持部材を上下動させるシリンダとを含む、請求項4または請求項5に記載の塗布ユニット。 - 前記塗布針固定部材は磁性体材料で構成され、
前記駆動部は、鉄心と、該鉄心に巻かれたコイルとを含み、前記コイルに電流が流されたことに応じて、前記塗布針固定部材との間の磁気吸引力によって前記塗布針固定部材を上方に移動させ、前記コイルの電流が止められたことに応じて、前記塗布針固定部材を下方に移動させる、請求項4または請求項5に記載の塗布ユニット。 - さらに、前記塗布針固定部材の上端に固定された永久磁石を備え、
前記駆動部は、鉄心と、該鉄心に巻かれたコイルとを含み、前記コイルに電流が流されたことに応じて、前記永久磁石との間の磁気反発力によって前記塗布針固定部材を下方に移動させ、前記コイルの電流が止められたことに応じて、前記永久磁石との間の磁気吸引力によって前記塗布針固定部材を上方に移動させる、請求項4または請求項5に記載の塗布ユニット。 - さらに、前記塗布針固定部材の上端に固定された鉄心を備え、
前記駆動部は、ソレノイドコイルを含み、前記ソレノイドコイルに電流が流されたことに応じて、前記鉄心との間の磁気吸引力によって前記塗布針固定部材を上方に移動させ、前記ソレノイドコイルの電流が止められたことに応じて、前記塗布針固定部材を下方に移動させる、請求項4または請求項5に記載の塗布ユニット。 - 1つのケースと、
前記1つのケース内に設けられた複数組の前記容器、前記塗布針および前記駆動部とを備える、請求項1から請求項9までのいずれかに記載の塗布ユニット。 - 請求項1から請求項10までのいずれか1項に記載の塗布ユニット、および
前記塗布時に前記塗布ユニットと前記基板を相対的に移動させ、前記塗布針の先端部に付着した修正液を前記欠陥部に塗布する移動装置を備える、パターン修正装置。 - 複数の塗布ユニットを備え、各塗布ユニットの容器には他の塗布ユニットの容器に注入された修正液と異なる種類の修正液が注入され、
前記移動装置は、少なくとも前記複数の塗布ユニットのうちの前記欠陥部の種類に応じて選択された塗布ユニットと前記基板を相対的に移動させ、前記塗布針の先端部に付着した修正液を前記欠陥部に塗布する、請求項11に記載のパターン修正装置。
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