CN111175955B - 分配器附件及其用于由激光光刻写入3d结构的装置的用途 - Google Patents
分配器附件及其用于由激光光刻写入3d结构的装置的用途 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111175955B CN111175955B CN201911098492.1A CN201911098492A CN111175955B CN 111175955 B CN111175955 B CN 111175955B CN 201911098492 A CN201911098492 A CN 201911098492A CN 111175955 B CN111175955 B CN 111175955B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- fluid
- lithography
- space
- lithographic
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/02—Objectives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
- B29C64/135—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
- B29C64/205—Means for applying layers
- B29C64/209—Heads; Nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
- B29C64/264—Arrangements for irradiation
- B29C64/268—Arrangements for irradiation using laser beams; using electron beams [EB]
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/30—Auxiliary operations or equipment
- B29C64/307—Handling of material to be used in additive manufacturing
- B29C64/321—Feeding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/30—Auxiliary operations or equipment
- B29C64/307—Handling of material to be used in additive manufacturing
- B29C64/321—Feeding
- B29C64/336—Feeding of two or more materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/30—Auxiliary operations or equipment
- B29C64/35—Cleaning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/30—Auxiliary operations or equipment
- B29C64/364—Conditioning of environment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y30/00—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y40/00—Auxiliary operations or equipment, e.g. for material handling
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/33—Immersion oils, or microscope systems or objectives for use with immersion fluids
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70416—2.5D lithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
- B29K2995/0037—Other properties
- B29K2995/0072—Roughness, e.g. anti-slip
- B29K2995/0073—Roughness, e.g. anti-slip smooth
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
本发明涉及分配器附件(38),特别是用于显微镜物镜的分配器附件(38),在用于借助激光光刻在光刻流体(22)中写入三维结构的装置(10)中的用途,光刻流体(22)可通过激光照射而固化。本发明还涉及一种适于放置到物镜(18)上的分配器附件(38)。
Description
技术领域
本发明涉及用于物镜的分配器附件在激光光刻领域中的用途。本发明还涉及用于物镜的分配器附件。
背景技术
例如,本文中称为激光光刻的技术也称为立体光刻或直接激光打字。在该技术中,借助于写入光束将结构写到通常最初为液体的光敏物质(其在本文中被称为光刻流体)中。在这种情况下,通过写入光束的激光辐射,在光刻流体中局部触发固化效果。固化例如由于光子吸收引起的光刻流体的局部聚合而发生。在光学光刻领域中,光刻流体也称为光致抗蚀剂。
激光光刻或直接激光打字的技术有利地用在需要高精度并且同时要保持设计的自由度和成形的灵活性的微结构或纳米结构的生产中。与例如在掩模光刻方法中不同,可以在不通过掩模等预先确定结构的情况下写入各种结构。
原则上已知通过依次写入一系列子结构(这些子结构然后彼此互补以形成所需的结构)来生成所需的整体结构。通常,整体结构以层或片的形式被写入。为此目的,在已知技术中,写入光束撞击一定体积的光刻流体的表面并导致该表面上的局部固化。为了写入三维扩展的结构,在这种方法中,在一个施加步骤中写入一层之后,施加另外的一层光刻流体。例如,这可以通过以下方式实现:在光刻流体浴中逐渐降低基板连同待在其上写入的结构,并通过每次在表面上的写入光束进行结构化。
另一种方法利用双光子聚合或通常多光子聚合的物理原理,即使在一定体积的光刻流体中,即在表面之下,也可以实现光刻流体的固化。
这通过以下事实成为可能:写入光束和光刻流体彼此配合,使得借助于非线性效应而产生固化效果。例如,在通常不能在光刻流体中引起固化作用的光谱范围内选择写入光束。例如,光刻流体和写入光束可以彼此配合,使得所引起的固化只能通过具有与实际使用的写入光束的波长的一部分(特别是完整的一部分)相对应的波长的辐射来进行。结果,只有在同时吸收写入光束的两个或更多个光子(双光子聚合或多光子聚合)的情况下才可能进行固化过程。在本文中,术语“多光子聚合”是指通过同时吸收两个或两个以上的光子而引起的聚合。在这方面,对于本说明书,术语“多光子吸收”还包括“双光子吸收”的过程。多光子聚合所需的条件通常仅在强度增加的区域中实现。在写入光束的聚焦区域中提供了该强度增加的区域。在这方面,聚焦区域是由合适的光学器件(例如,光束引导光学器件、光束成形光学器件和/或物镜)生成的写入光束的光束腰。对于扩展的3D结构的光刻生产,聚焦区域然后可以根据几何写入数据而移动通过一定体积的光刻流体,并且在每种情况下都可以局部触发固化过程。
例如,在DE 101 11 422 A1中描述了相应的技术,其公开了在容器中的光刻材料浴内利用多光子聚合的3D激光光刻。为此目的所描述的设备包括用于将激光光束聚焦到容器内的聚焦区域上的输出光学器件。
从显微镜检查领域,已知是将显微镜的物镜连同其出射透镜一起浸没在浸油中。为此目的,浸油分配器以用于显微镜物镜的附件的方式是已知。例如,US 2010/0027109 A1和US 3,837,731 B公开了用于放置在显微镜物镜上的浸油分配器。这些分配器包括外壳,当将外壳放置在物镜上时,该外壳限定了通向输出间隙的流体腔室,该输出间隙通常环形地围绕物镜的出射透镜。然后,将浸油提供到流体空间中,并且可以通过输出间隙离开。出于改善成像质量和分辨率的目的,在显微镜检查领域中进行浸没在浸油中。
在微结构化或纳米结构化技术中,通常期望提高生产率,并使该技术可用于大量生产。特别地,期望能够在写入结构之后快速更换基板。对于每个单独的结构,还应该能够生成大的结构深度和/或能够以扩展的方式在大面积上生成结构。为了生成扩展的结构,在所述技术中,必须以足够大的体积来提供光刻流体,并且如果需要的话,要对其进行补充。这并不是没有问题的,因为光刻流体会随着时间的流逝而部分降解或经历不希望的变化,这会影响所生成的结构的质量。
发明内容
所解决的问题是在激光光刻或直接激光打字中以合适的方式释放和补充(如果有必要的话)光刻流体。
通过使用根据权利要求1的用途步骤的分配器附件或分配器来解决该问题。
分配器附件用在借助于激光光刻来在光刻流体中写入三维结构的装置中。这种类型的装置包括用于发射写入光束的激光光束源,和通常在其上可以吸收并提供一定体积的光刻流体的基板。光刻流体可以借助于写入光束而局部固化以生成结构。该装置还包括各种光学部件,例如光束引导和形成设备以及物镜,该物镜用于引导写入光束并用于在光刻流体中形成写入光束的聚焦区域。在本文中,物镜是特别重要的。物镜包括具有出射透镜的物镜外壳,写入光束通过出射透镜从物镜射出。在本文中,术语“出射透镜”通常是指形成从物镜到环境的过渡的光学元件。出射透镜可以是适当意义上的透镜工具(例如会聚透镜)。然而,出射透镜不必一定具有光学透镜效果,而是例如也可以被设计为出射窗。
所使用的分配器附件包括特别是帽状的分配器外壳,其被设计为放置在物镜或物镜外壳上。在这种情况下,分配器外壳被设计成使得当放置时,在物镜外壳和分配器外壳之间形成流体空间。流体空间通向形成在分配器外壳和物镜的出射透镜之间的输出间隙。流体可以通过输出间隙从流体空间逸出到出射透镜前方的空间中。特别地,分配器外壳在出射透镜的区域中具有开口,以使得在开口边缘和出射透镜之间形成环形间隙。分配器附件还包括通入流体空间以用于将流体供应到流体空间中的流体通道,使得流体可以连续地通过输出间隙逸出。
对于要求保护的用途,执行各个步骤。首先,提供与激光光束源配合的光刻流体,使得固化只能在聚焦区域中并且仅通过利用双光子过程或更普遍地利用多光子过程而发生。然后将光刻流体通过流体通道供应到流体空间中。然后,该用途包括通过输出间隙施加一定体积的光刻流体的步骤。在这种情况下,施加应理解为通过输出间隙将光刻流体分配到外部空间中。特别地,该一定体积的光刻流体被施加到基板上或被施加到现有体积的光刻流体上。最后,写入光束,或更具体地是写入光束的聚焦区域,通过物镜被引入到该一定体积的光刻流体中。这使得光刻流体通过双光子过程或更普遍地多光子过程(同时涉及两个或更多光子)在聚焦区域中进行局部固化。以这种方式,可以在光刻流体内写入三维结构。
由于使用分配器附件的这种方式,激光光刻装置被扩展和改进成使得可以连续地生成结构。特别地,可以生成高的结构和/或相对于写入光束的引入方向具有大的轮廓深度的结构。这可以通过将物镜或包括物镜的光刻装置的打印头远离基板表面移动并通过输出间隙连续补充光刻流体来执行。
所述用途例如提供的优点在于,在基板上写入结构之后,可以将其移除并且可以提供新的基板。特别地,在写入结构之前,不必将一层或一定体积的光刻流体施加到基板。在这方面,可以减少和简化预处理步骤。结果,通过所述类型的激光光刻装置可以进行具有高生产率的生产过程。
在所描述的过程中,可以将光刻流体存储在单独的容器中,该容器通过流体管线连接到流体空间。可选地,可以提供流体泵,其将流体从储存器泵送到流体空间中。结果,很大程度上避免了光刻流体曝光于环境大气。这可以减少光刻流体的污染和光刻流体的不期望的降解。这有利于写入结构的质量。
在要求保护的用途中,特别地,也可以使用显微镜物镜,因为它们可用作显微镜的标准部件。特别地,然后可以使用分配器附件,如在显微镜领域中用于施加浸油以改善光学性能那样。在这方面,本发明涉及上述类型的分配器用于施加光刻流体的目的的用途。
根据一个基本方面,聚焦区域特别地定位在基板的表面与物镜的出射透镜之间的区域中。
根据有利的实施方式,执行施加光刻流体的步骤,以使得光刻流体保持与出射透镜接触,并且在其仍与出射透镜接触时,写入光束被引入到光刻流体中。在这方面,聚焦区域被引入到与出射透镜接触的一定体积的光刻流体中。由于光刻流体的局部固化仅通过利用双光子过程或更普遍地利用多光子过程而在聚焦区域中发生,因此固化在与出射透镜间隔开的聚焦区域中发生,而不是直接在光刻流体体积的粘附至出射透镜的区域中发生。这防止了出射透镜由于固化的光刻流体而粘附。由于光刻流体直接粘附到出射透镜,因此避免了出射透镜与聚焦区域之间的光束路径中的光学界面(例如,在空气与光刻流体之间或透镜与空气之间的过渡中会出现的)。结果,可以减少像差,其可以导致写入结构中的误差和质量损失。所描述的程序使光刻流体在原位可用。施加的步骤和写入结构的步骤可以连续执行,而没有中断。为了写入扩展的结构,例如,可以首先施加光刻流体的液滴,然后将结构写入该液滴中,并且然后补充该光刻流体以为另外的结构部分提供更多的空间。
如果施加步骤被执行成使得光刻流体保持与基板以及与出射透镜接触并且在光刻流体与出射透镜和基板接触的同时将写入光束引入到光刻流体中,则会是有利的。在这方面,光刻流体特别地填充出射透镜和基板之间的空间。在这方面,在出射透镜和基板之间形成有内聚力的液滴,这使流体体积和在其中写入的结构稳定。在这里同样,通过连续远离基板移动物镜并连续补充光刻流体,可以连续写入大型结构。特别地,可以防止光刻流体的液滴被拉离物镜。
该用途的有利改进在于,提供第一光刻流体并通过流体空间和输出间隙施加第一光刻流体,并且然后,可选地插入另外的步骤,提供第二光刻流体并通过流体空间和输出间隙施加第二光刻流体。在这种情况下,特别可以想到的是,第一光刻流体和第二光刻流体是特别具有不同的材料特性的不同材料。特别地,在施加第一光刻流体之后并且在施加第二光刻流体之前,可以首先通过写入光束而在光刻流体中写入第一结构。此后,可以施加第二光刻流体并且可以写入第二子结构。在这方面,可以在该过程中生产多材料结构。
然而,将两种不同的光刻流体相继施加并混合在一起也是有利的。然后优选将写入光束引入到一定体积的混合的第一光刻流体和第二光刻流体中。因此,所描述的过程使得可以以针对性的方式(例如通过不同的混合比)来修改材料特性。两种光刻流体能够以各种方式混合,例如通过固有扩散过程或使用混合助剂(例如压缩空气射流)。
在另一实施方式中,在引入写入光束和特别是聚焦区域的步骤之后,并且在光刻流体的局部固化之后,提供显影剂流体,并且通过流体通道将显影剂流体供应到流体空间中。显影剂流体特别地被设计成曝光和/或固化所写入的三维结构。例如,显影剂流体可以是溶剂,其与光刻流体配合,以使得仅未固化的光刻流体被溶解并且固化的光刻流体留下。通过经由输出间隙施加一定体积的显影剂流体,可以在原位曝光所写入的结构。
通过将压缩气体供应到流体空间中,可以进一步改进所描述的过程。特别地,然后可以提供一个步骤,其中压缩气体通过输出间隙离开。该步骤可以在不同的时间提供,例如在第一次施加光刻流体之前提供。在这种情况下,例如,可以从基板去除污染物。然而,还可以想到,在施加一定体积的光刻流体之后,压缩气体通过输出间隙逸出,以便将光刻流体分配或移位到基板上。还可以想到,在施加两种不同的光刻流体(见上文)之后,通过逸出压缩气体来混合两种光刻流体。压缩空气或惰性气体例如可以用作压缩气体。
在另一个实施方式中,可以提供清洁流体并将其供应到流体空间,并可选地通过输出间隙喷射该清洁流体。特别地,清洁流体被设计成使得未固化的(液体的)光刻流体和固化的光刻流体都被溶解。清洁流体通过输出间隙被喷射,特别地使得出射透镜被清洁流体润湿。借助于该过程,特别是在自动清洁过程的意义上,可以在原位进行清洁。这优选地在写入结构之后和/或在更换基板之前进行。因为可以简化和缩短清洁过程,因此这可以缩短处理时间。
流体空间可用于产生附加功能。例如,可以例如借助于通入流体空间的光波导,将光引入到流体空间中。根据该配置,光然后通过输出间隙射出并且可以用于照亮基板和/或已经施加的一定体积的光刻流体和/或已经写入的三维结构。这是有利的,因为在直接激光打字过程中,通常需要对写入结构进行原位图像监控。此外可以想到的是,借助于用于写入的物镜,还记录照亮的结构和/或基板的图像。例如,在通过流体通道将光刻流体供应到流体空间之后,可以引入光。在这种情况下,光刻流体可有助于将光从流体空间引导通过输出间隙。例如,光可以通过流体通道或通过单独的通道而透入到流体空间中。
浸没透镜原则上可以用作物镜。这种浸没透镜例如作为显微镜中的配件是已知的,并且在该领域中用于实现提高的成像质量。特别地,使用具有与所使用的光刻流体的折射率相适应的配置的浸没透镜。
开头所述的问题也通过分配器附件解决,该分配器附件对于上述用途是特别有利的。特别地,为了解决该问题,还使用了由物镜和与其适配的分配器附件组成的系统。
有利的分配器附件或由分配器附件和物镜组成的有利系统包括特别是帽状的外壳,该外壳被设计为放置到物镜或物镜外壳上,使得形成流体空间,并且在分配器外壳和物镜的出射透镜之间形成输出间隙。此外,分配器附件具有用于将流体供应到流体空间中的流体通道。特别合适的分配器附件是由于以下事实:分配器外壳适合于物镜,以使得输出间隙是围绕出射透镜的环形间隙,该环形间隙由分配器外壳的外围边缘界定成使得出口镜头突出超过分配器外壳。特别地,出射透镜在写入光束的光束方向上突出超过分配器外壳。结果,当根据以上描述使用时,已经写入的结构在物镜移动期间被防止抵接分配器外壳并且由此防止被损坏。
还获得了特别适合于所述用途的分配器附件或由分配器附件和物镜组成的特别合适的系统,其中分配器外壳具有内壁和围绕该内壁的外壁,使得内壁面向物镜外壳,并且,在内壁和外壁之间形成流体空间。优选地,内壁具有透射窗,该透射窗由流体密封且光学透明的材料制成并且面向出射透镜。特别地,出射透镜的透射窗被定位,以在光束方向上相对。输出间隙优选形成在出射窗和外壁之间。在这方面,这种分配器附件包括双壁分配器外壳,并且在内壁和外壁之间引导流体。借助于透射窗,防止出射透镜直接与光刻流体接触。内壁还防止物镜外壳和/或物镜的光学部件与光刻流体接触。这可以防止污染。另外,所述实施方式允许使用标准的空气物镜。内壁和外壁优选形成为大致圆柱形的壁。优选地,外壁同轴地围绕内壁。穿过物镜和分配器附件的光束路径优选同中心地穿过这些壁。
由分配器附件和物镜组成的可有利使用的分配器附件或系统还由于以下事实:分配器外壳具有至少一个通入流体空间的附加通道。附加通道特别是与流体通道分开形成的。通过此通道可以将附加功能引入到流体空间中。例如,可以提供用于将流体(例如加压流体或不同的光刻流体)供应到流体空间中或用于将光供应到流体空间中的通道。在这种情况下,通道可以包括光波导,借助该光波导,优选来自外部光源的光可被引入到流体空间中。
附图说明
下面将参考附图更详细地解释本发明,其中:
图1是用于借助于激光光刻在光刻流体中写入结构的装置的示意图;
图2是用在根据图1的装置中的分配器附件的概图。
图3是说明用在根据图1的装置中的分配器附件的另外的可能实施方式的概图;和
图4是说明用在根据图1的装置中的分配器附件的另外的可能实施方式的概图。
具体实施方式
在下面的描述和附图中,对于相同或相应的特征,在每种情况下均使用相同的附图标记。
图1是用于在光刻流体中借助于激光光刻来写入三维结构的装置10(简称为激光光刻装置10)的概图。装置10包括用于发射激光的写入光束14的激光光束源12。根据该实施方式,写入光束14穿过光束引导和形成设备16,该光束引导和形成设备16由激光光束源12发出的光形成适合于激光光刻目的的写入光束,并且例如根据所需结构的几何写入数据使写入光束偏转或移动。为此目的,光束引导和形成设备16可以与控制设备(未示出)相互作用。
借助于物镜18将写入光束14转换成具有聚焦区域20的输出光束。聚焦区域20特别是以写入光束14的光束腰的方式形成。
为了写入三维结构,将聚焦区域20引入到一定体积的光刻流体22中,并且如果必要的话,根据所需结构的几何写入数据而在该体积中移动。在聚焦区域20中,写入光束14在光刻流体22中引发固化反应。从而,固化反应也可以在光刻流体22的体积内,即在光刻流体22的表面下方发生,为了本发明的目的,光刻流体22与写入光束14配合,以使得固化仅在聚焦区域20中发生并且仅通过利用多光子吸收过程而发生。
在所示的示例中,该一定体积的光刻流体22以液滴的形式施加到基板24上。但是,这不是强制性的。该一定体积的光刻流体22也可以被提供在容器中,或者如下所讨论的,可以以与物镜18接触的液滴的形式提供。基板24可以附接到基板支架26,其例如设计成在写入平面内可移动。
物镜18可以例如被安装在装置10的顶板28上。可以想到的是,顶板28还被设计为使用相应的致动器而可稍微移动。
总体而言,装置12的配置允许聚焦区域20在该一定体积的光刻流体22内沿三个空间方向移动。
物镜18包括物镜外壳30,该物镜外壳30优选地安装在顶板28上,使得物镜18的入射孔32对应于顶板28中的相应开口34。写入光束14通过开口34和入射孔32在光束方向上被照射。物镜18还包括出射透镜36,写入光束14通过出射透镜36出射并形成聚焦区域20。
参照图2至图4,以示例的方式说明分配器附件38以图1中的方式在装置中的使用。这些附图分别示出了图1所示类型的装置10的细节的示例,其作为顶板28和物镜18的区域中的细节的视图。
图2示出了包括分配器外壳40的分配器附件38,分配器外壳40可以放置在物镜18上,使得分配器外壳40至少在一些区域中围绕物镜18。结果,由分配器外壳40或由分配器外壳与物镜外壳30的壁区域一起界定出流体空间42。分配器外壳40具有向下(即,背离顶板28)的开口,使得输出间隙44与物镜18一起被形成。输出间隙44优选地被设计成使得其特别环形地围绕出射透镜36。优选地,输出间隙44直接邻接出射透镜36的边缘。在这方面,流体空间42通过输出间隙44通向环境。
优选地,分配器外壳40的内部中的流体空间42的体积被界定和密封,因为分配器外壳40的壁的密封突起46径向向内指向,以使得当分配器外壳40被放置在物镜18上时,密封突起46抵接物镜外壳30并由此密封流体空间42。例如,可以在密封突起46中布置相应的环形密封件48,以提高流体密封性。
分配器附件38还包括用于将流体供应到流体空间42中的流体通道50。为此目的,例如,流体管线52可以穿过分配器外壳40上的相应的密封部分54,并且可以通入流体空间42。
物镜18和分配器附件38优选地形成配合的系统。特别地,使用配合的安装工具,物镜18和分配器附件38安装在装置10的打印头上。如图2中所示的,顶板28可以例如包括双螺纹环56,物镜外壳30被拧到双螺纹环56的内螺纹,并且分配器外壳40被拧到双螺纹环56的相反的外螺纹上。
根据一个有利的方面,物镜18和分配器附件38彼此配合,使得在写入光束14的传播方向上,物镜18的出射透镜36在外围边缘58的区域中突出超过分配器外壳40(参见图2)。
然后,通过首先提供光刻流体22并通过流体通道50将所述流体供应到流体空间42中,而随后将分配器附件与物镜18一起用在装置10中。根据总体的方面,可以提供,通过流体通道50以相应的压力供应光刻流体,使得光刻流体尽可能均匀地分布在流体空间42中,并在输出间隙44的方向上从流体空间42推出。这允许通过输出间隙44例如以液滴的形式将一定体积的光刻流体施加到基板24上(参见图1)。还可以想到,在光刻流体22已经通过输出间隙44离开之后,一定体积的光刻流体22粘附到物镜18的出射透镜36上。如果施加足够的光刻流体22,以供其填充出射透镜36和基板24之间的空间,则这也是有利的。在这方面,在物镜18的合适实施方式中,出射透镜38可以浸没在所施加的一定体积的光刻流体22中(以浸没透镜的方式)。
此后,通过以参照图1说明的方式生成具有聚焦区域20的写入光束,可以写入期望的结构。如果需要,然后可以补充另外的光刻流体22,即通过将光刻流体22通过流体通道50供应到流体空间42中并通过输出间隙44来进行补充。
通过图3所示的实施方式,分配器附件38的另一种有利用途是可能的。根据所述实施方式,分配器附件38可以是双壁的,并且在这方面可以具有内壁60和与其同中心地延伸的外壁62。结果,在内壁60和外壁62之间形成了流体空间42。优选地,内壁60和外壁62都围绕物镜外壳30同轴地延伸,例如以圆柱侧表面的方式延伸。
在另一实施方式中,面向物镜18的内壁60可具有透射窗64,该透射窗在分配器附件38的装配状态中面向出射透镜36,使得通过出射透镜36出射的写入光束14通过透射窗64出射。特别地,内壁60和透射窗64被形成为使得围绕物镜外壳30和出射透镜36形成封闭的空气空间66,该封闭的空气空间66通过内壁60和/或透射窗64而与流体空间42分开。
使用该分配器帽38,光刻流体22通过流体通道50被供应到流体空间42中,并且不与物镜18的出射透镜36接触。优选地,然后在透射窗64和分配器附件38的外壁62之间形成输出间隙44。
分配器附件38的使用允许各种附加的功能(见图4)。为此目的,分配器外壳40可以被设计成使得在流体空间42中提供附加通道68。例如,可以通过附加通道68引导光波导(未更详细地示出),通过附加通道68可以将光波导光引入到流体空间42中,例如以照亮出射透镜36前方的空间。还可以想到的是,压缩气体或其他流体通过如上所述的附加通道68被引入到流体空间42中。
分配器附件38的有利使用是由于以下事实:通过流体通道50将特别具有不同材料特性的不同光刻流体相继供应到流体空间42中(参见图4)。为此目的,可以在单独的流体储存器70a,70b中提供不同的光刻流体22。可选地,来自储存器70a或70b的流体然后可以经由相应的切换阀72(例如,借助于流体泵74)而通过流体管线52被输送到流体空间42中。在另一个实施方式中,还可以想到的是,在至少一个附加储存器76中提供显影剂流体或清洁流体,该显影剂流体或清洁流体进而能够可选地经由切换阀72并且如果必要经由流体泵74被供应到流体空间42。
图2至4中所示的分配器附件基本上根据开头所述的使用步骤而使用。
Claims (15)
1.一种在用于借助于激光光刻而在光刻流体(22)中写入三维结构的装置(10)中使用分配器附件(38)借助于激光光刻而生成三维结构的方法,所述分配器附件(38)是用于显微镜物镜的分配器附件(38),所述光刻流体(22)能够通过激光照射而固化,
所述装置(10)包括:
- 用于发射写入光束(14)的激光光束源(12);
- 用于接收光刻流体(22)的基板(24);
- 物镜(18),所述物镜(18)用于在所述光刻流体(22)中形成所述写入光束(14)的聚焦区域(20),所述物镜(18)包括物镜外壳(30)和出射透镜( 36);
所述分配器附件(38)包括:
- 分配器外壳(40),所述分配器外壳(40)被设计成放置在所述物镜(18)上,以使得:在所述物镜外壳(30)和所述分配器外壳(40)之间形成流体空间(42),并且在所述分配器外壳(40)和所述出射透镜(36)之间形成输出间隙(44);和
- 通入所述流体空间(42)的流体通道(50);
所述方法包括以下步骤:
- 提供与所述激光光束源(12)配合的光刻流体(22),以使得固化仅在所述聚焦区域(20)中发生并且通过利用多光子过程而发生;
- 通过所述流体通道(50)将所述光刻流体(22)供应到所述流体空间(42)中;
- 通过所述输出间隙(44)施加一定体积的光刻流体(22);
- 通过所述物镜(18)将所述写入光束(14)引入到所述一定体积的光刻流体(22)中,并借助于多光子过程使所述光刻流体(22)在所述聚焦区域(20)中局部固化以写入所述三维结构;
- 远离所述基板(24)的表面移动所述物镜(18); 和
- 通过所述输出间隙(44)连续地补充光刻流体。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,施加步骤被执行为使得:所述光刻流体(22)保持与所述出射透镜(36)接触,并且在所述光刻流体(22)与所述出射透镜(36)接触的同时,所述写入光束(14)被引入到所述光刻流体(22)中。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,施加步骤被执行为使得所述光刻流体(22)保持与所述基板(24)以及与所述出射透镜(36)接触。
4.根据权利要求1或2所述的方法,其中,提供第一光刻流体(22),通过所述流体通道(50)将所述第一光刻流体(22)供应到所述流体空间(42)中,并且通过所述输出间隙(44)施加第一体积的所述第一光刻流体(22),
并且其中,在此之后,提供第二光刻流体(22),通过所述流体通道(50)将所述第二光刻流体(22)供应到所述流体空间(42)中,并且,通过所述输出间隙(44)施加第二体积的所述第二光刻流体(22)。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述第一光刻流体(22)和所述第二光刻流体(22)是具有不同材料特性的不同材料。
6.根据权利要求4所述的方法,其中,在施加所述第一光刻流体(22)之后并且在施加所述第二光刻流体(22)之前,执行如下至少一个步骤:将所述写入光束(14)引入到所述一定体积的第一光刻流体(22)中,和局部固化所述第一光刻流体(22)。
7.根据权利要求4所述的方法,其中,首先施加所述第一光刻流体(22),并且然后施加所述第二光刻流体(22),并且然后将所述第一光刻流体和所述第二光刻流体混合。
8.根据权利要求1或2所述的方法,其中,在引入所述写入光束(14)和局部固化所述光刻流体(22)的步骤之后,执行以下步骤:
- 提供显影剂流体,所述显影剂流体用于曝光和/或固化写入的所述三维结构;
- 通过所述流体通道(50)将所述显影剂流体供应到所述流体空间(42)中;
- 通过所述输出间隙施加一定体积的显影剂流体。
9.根据权利要求1或2所述的方法,包括以下步骤:
- 提供加压气体并且通过所述流体通道(50)或通过通入所述流体空间(42)的附加通道(68)将所述加压气体供应到所述流体空间(42)中。
10.根据权利要求1或2所述的方法,包括以下步骤:
- 提供清洁流体,所述清洁流体设计成溶解未固化和固化的光刻流体(22);
- 通过所述流体通道(50)或通过通入所述流体空间(42)的附加通道(68)将所述清洁流体供应到所述流体空间(42)中;
- 通过所述输出间隙(44)喷射清洁流体。
11.根据权利要求1或2所述的方法,包括以下步骤:
- 借助于光波导将光引入到所述流体空间(42)中,所述光波导通入所述流体空间(42)。
12.根据权利要求1或2所述的方法,其中,将浸没透镜用作所述物镜(18)。
13.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述分配器外壳(40)被设计成使得所述输出间隙(44)是围绕所述出射透镜(36)的环形间隙,所述环形间隙被所述分配器外壳(40)的外围边缘(58)界定成使得所述出射透镜(36)突出超过所述分配器外壳(40)。
14.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述分配器外壳(40)具有内壁(60)和围绕所述内壁(60)的外壁(62),以使得所述内壁(60)面向所述物镜外壳(30),并且在于,所述流体空间(42)形成在所述内壁(60)和所述外壁(62)之间,并且在于,所述内壁(60)具有透射窗(64),所述透射窗(64)由流体密封且光学透明的材料制成并且面向所述出射透镜(36),所述输出间隙(44)形成在所述透射窗(64)和所述外壁(62)之间。
15.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述分配器外壳(40)包括通入所述流体空间(42)的至少一个附加通道(68),所述至少一个附加通道(68)被设计用于将流体或光供应到所述流体空间(42)中。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102018128418.7A DE102018128418B3 (de) | 2018-11-13 | 2018-11-13 | Verwendung eines Dispenser-Aufsatzes und Dispenser-Aufsatz für eine Vorrichtung zum Schreiben von 3D-Strukturen mittels Laserlithografie |
DE102018128418.7 | 2018-11-13 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111175955A CN111175955A (zh) | 2020-05-19 |
CN111175955B true CN111175955B (zh) | 2022-12-20 |
Family
ID=68280722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201911098492.1A Active CN111175955B (zh) | 2018-11-13 | 2019-11-12 | 分配器附件及其用于由激光光刻写入3d结构的装置的用途 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200147865A1 (zh) |
EP (1) | EP3653363A1 (zh) |
JP (1) | JP2020078927A (zh) |
CN (1) | CN111175955B (zh) |
DE (1) | DE102018128418B3 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102020111715A1 (de) * | 2020-04-29 | 2021-11-04 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Immersionsobjektiv und verfahren zur immersionsmikroskopie |
US11694031B2 (en) * | 2020-11-30 | 2023-07-04 | International Business Machines Corporation | Identifying routine communication content |
DE102022129094A1 (de) * | 2022-11-03 | 2024-05-08 | push4impact GmbH | Mikroskopobjektiv sowie Objektivrevolver und Mikroskop umfassend ein solches Mikroskopobjektiv |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105359025A (zh) * | 2013-07-10 | 2016-02-24 | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 | 用于光片显微技术的设备 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3837731A (en) | 1973-06-22 | 1974-09-24 | Corning Glass Works | Oil dispenser for microscope objective |
CA2326322C (en) * | 1998-04-21 | 2011-03-01 | University Of Connecticut | Free-form nanofabrication using multi-photon excitation |
DE10111422A1 (de) | 2001-03-09 | 2002-09-26 | Hannover Laser Zentrum | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Formkörpers aus einem durch Bestrahlung zu verfestigenden flüssigen Material |
EP1524558A1 (en) * | 2003-10-15 | 2005-04-20 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4253592B2 (ja) * | 2004-01-06 | 2009-04-15 | オリンパス株式会社 | 液浸対物レンズ、蛍光分析装置および倒立型顕微鏡。 |
US8199407B2 (en) | 2006-09-07 | 2012-06-12 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Immersion objective, apparatus for forming an immersion film and method |
US8339572B2 (en) * | 2008-01-25 | 2012-12-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
NL2005610A (en) * | 2009-12-02 | 2011-06-06 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and surface cleaning method. |
DE102010020158A1 (de) * | 2010-05-11 | 2011-11-17 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung sowie Verfahren zur Erzeugung dreidimensionaler Strukturen |
DE202011111072U1 (de) * | 2011-02-25 | 2019-03-27 | Nanoscribe Gmbh | Vorrichtung zum ortsaufgelösten Einbringen eines Intensitätsmusters aus elektromagnetischer Strahlung in eine photosensitive Substanz |
EP2964968B1 (en) * | 2013-03-06 | 2020-02-19 | Roller Bearing Company of America, Inc. | Linkage apparatus having a low profile asymmetrical head |
DE102013011544A1 (de) * | 2013-07-11 | 2015-01-15 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Vorrichtung zum Ausbilden eines Immersionfilmes |
EP3432049A3 (en) * | 2013-12-06 | 2019-04-03 | 3M Innovative Properties Co. | Semi-submersible microscope objective and use of the same in multiphoton imaging method |
JP6775760B2 (ja) * | 2015-07-06 | 2020-10-28 | 株式会社リコー | 立体造形用液体セット、立体造形物の製造方法、立体造形物の製造装置、及びハイドロゲル造形体 |
EP3287263A1 (de) * | 2016-08-26 | 2018-02-28 | Multiphoton Optics Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur lasergestützten bearbeitung von körpern oder oberflächen |
-
2018
- 2018-11-13 DE DE102018128418.7A patent/DE102018128418B3/de active Active
-
2019
- 2019-10-10 EP EP19202490.9A patent/EP3653363A1/de active Pending
- 2019-10-29 US US16/667,803 patent/US20200147865A1/en not_active Abandoned
- 2019-11-01 JP JP2019199611A patent/JP2020078927A/ja active Pending
- 2019-11-12 CN CN201911098492.1A patent/CN111175955B/zh active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105359025A (zh) * | 2013-07-10 | 2016-02-24 | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 | 用于光片显微技术的设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200147865A1 (en) | 2020-05-14 |
JP2020078927A (ja) | 2020-05-28 |
DE102018128418B3 (de) | 2019-11-14 |
EP3653363A1 (de) | 2020-05-20 |
CN111175955A (zh) | 2020-05-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111175955B (zh) | 分配器附件及其用于由激光光刻写入3d结构的装置的用途 | |
US11630394B2 (en) | Method and device for lithographically producing a target structure on a non-planar initial structure | |
JP6302006B2 (ja) | リソグラフィ装置および装置製造方法 | |
US10870243B2 (en) | Method and device for producing microstructures on optical fibers | |
US7015488B2 (en) | Exposure head, exposure apparatus, and application thereof | |
US20150034007A1 (en) | Compact apparatus for producing a three-dimensional object by hardening a photocuring material | |
CN111168995B (zh) | 一种膜涂层多材料光固化3d打印设备及其使用方法 | |
US20190224918A1 (en) | 3d printing systems and methods thereof | |
US8168373B2 (en) | Method for fabricating 3D microstructure | |
NL2010176A (en) | Device, lithographic apparatus, method for guiding radiation and device manufacturing method. | |
JP7301816B2 (ja) | 媒体供給装置およびレンズにおいて使用するための光学レンズ、媒体供給装置、および顕微鏡 | |
Lambert et al. | Design considerations for mask projection microstereolithography systems | |
KR20210152502A (ko) | 스테레오 리소그래피 3d 인쇄 어셈블리 및 스테레오 리소그래피 3d 인쇄 방법 | |
JP4231924B2 (ja) | 透明材料の微細加工装置 | |
US20220219388A1 (en) | Device for treating or inspecting a material, use of the device | |
CN112823313B (zh) | 制造三维物体的方法及系统 | |
US20220043354A1 (en) | Apparatus and method for optically characterizing or processing an object, and object transport unit | |
CN108604067A (zh) | 衬底台、光刻设备和操作光刻设备的方法 | |
JP4773110B2 (ja) | 光造形装置 | |
KR20100106904A (ko) | 노광 장치, 노광 방법, 클리닝 장치, 및 디바이스 제조 방법 | |
KR102624399B1 (ko) | 프레임 경화 템플릿 및 프레임 경화 템플릿 이용 시스템 및 방법 | |
JP2006145786A (ja) | カラーフィルタの欠陥修正方法 | |
CN115256928A (zh) | 用于使用多孔基板用紫外线可固化材料来增材制造三维(3d)打印物体的系统和方法 | |
JP2009021365A (ja) | 露光装置、デバイス製造方法、メンテナンス方法、及び膜形成装置 | |
JP2003302746A (ja) | エマルジョンマスクパターン欠陥修正方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
CB02 | Change of applicant information | ||
CB02 | Change of applicant information |
Address after: Ergenstein leoberzhafen, Germany Applicant after: Nanuo 3D Technology Co.,Ltd. Address before: Ergenstein leoberzhafen, Germany Applicant before: Nanons Cypress Co.,Ltd. |
|
CB02 | Change of applicant information | ||
CB02 | Change of applicant information |
Address after: Ergenstein leoberzhafen, Germany Applicant after: Nanuo three dimensional Technology Holding Co.,Ltd. Address before: Ergenstein leoberzhafen, Germany Applicant before: Nanuo 3D Technology Co.,Ltd. |
|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |