JP4767688B2 - 磁気共鳴イメージング装置 - Google Patents
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Description
(第1の実施の形態)
第1の実施の形態のMRI装置は、図1にその全体構成を示したように、静磁場発生装置2と、傾斜磁場発生系3と、ベッド21と、送信系5と、受信系6と、信号処理系7と、シーケンサ4と、中央演算処理装置(CPU)8とを備えている。
第2の実施の形態のMRI装置は、支持部材25の構造が第1の実施の形態とは異なっている。他の構造については第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
第3の実施の形態のMRI装置は、支持部材25の構造が第1の実施の形態とは異なっている。他の構造については第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
第4の実施の形態のMRI装置を図8を用いて説明する。図8のMRI装置では、傾斜磁場コイル9の振動モードのうち振動振幅が大きい主振動モードや、共振や騒音に寄与している振動モード等、その振動振幅を低減したい振動モードの振幅を直接的に低減する手段をさらに配置したものである。具体的には、低減したい振動モードの振幅が大きい位置(振動の腹の位置もしくはその近傍)の貫通孔22hに、弾性材料で形成された柱状の振動振幅抑制部材124を立設し、振動振幅抑制部材124の先端を傾斜磁場コイル22に接触させることにより傾斜磁場コイル22の振動を直接的に押さえ、振動振幅を減少させる。支持部材25および磁性体片23は、第1の実施の形態と同様に配置する。また、他の構成も第1の実施の形態と同様である。
第5の実施の形態では、第1〜第4の実施の形態に示した構成に加えて、図9のように傾斜磁場コイル9の外周部にリング状の振動減衰部材224を配置する。
つぎに、本発明の第6の実施の形態のMRI装置について図10を用いて説明する。第6の実施の形態では、シムトレイ22を3層構造とし、中層324を振動減衰部材で形成している。傾斜磁場コイル9側に位置する上層22aおよび静磁場発生磁石2a、2b側に位置する下層22bは、第1の実施の形態と同様にアルミやFRP(Fiber Reinforced Plastics)等の非磁性材料によって形成されている。
Claims (18)
- 互いに対向して配置され、その間の空間に静磁場領域を形成する一対の静磁場発生部と、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第1の支持部材を介して配置された平板状の傾斜磁場発生部と、前記静磁場発生部と前記傾斜磁場発生部との間にそれぞれ配置された、静磁場均一度補正のための静磁場補正部とを有し、
前記静磁場補正部は、静磁場均一度を補正するための磁性体片が配置されている平板状のシムトレイであって、前記傾斜磁場発生部との間及び前記静磁場発生部との間に空隙を有し且つ前記傾斜磁場発生部と独立して、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第2の支持部材を介して配置されており、
前記シムトレイは1以上の貫通孔を有し、前記第1の支持部材は前記貫通孔内に、貫通孔内壁に対し非接触に配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 互いに対向して配置され、その間の空間に静磁場領域を形成する一対の静磁場発生部と、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第1の支持部材を介して配置された平板状の傾斜磁場発生部と、前記静磁場発生部と前記傾斜磁場発生部との間にそれぞれ配置された、静磁場均一度補正のための静磁場補正部とを有し、
前記静磁場補正部は、静磁場均一度を補正するための磁性体片が配置されている平板状のシムトレイであって、前記傾斜磁場発生部との間及び前記静磁場発生部との間に空隙を有し且つ前記傾斜磁場発生部と独立して、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第2の支持部材を介して配置されており、前記第1の支持部材に対し非接触であり、
前記シムトレイには、予め定めたパターンで複数の貫通孔が備えられ、前記複数の貫通孔のうち1以上の孔には、前記磁性部材片が挿入され、別の1以上の孔には、前記第1の支持部材が挿入されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記貫通孔は、前記傾斜磁場発生部に対して中心対称に配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記シムトレイは非磁性材料により形成されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 請求項4に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記シムトレイは導電性を有する材料で形成されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 互いに対向して配置され、その間の空間に静磁場領域を形成する一対の静磁場発生部と、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第1の支持部材を介して配置された平板状の傾斜磁場発生部と、前記静磁場発生部と前記傾斜磁場発生部との間にそれぞれ配置された、静磁場均一度補正のための静磁場補正部とを有し、
前記静磁場補正部は、静磁場均一度を補正するための磁性体片が配置されている平板状のシムトレイであって、前記傾斜磁場発生部との間及び前記静磁場発生部との間に空隙を有し且つ前記傾斜磁場発生部と独立して、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第2の支持部材を介して配置されており、前記第1の支持部材に対し非接触であり、
前記静磁場発生部は、前記対向面に凹部を有し、前記シムトレイと前記傾斜磁場発生部は、前記凹部内に配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項6に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記凹部の内周面と前記傾斜磁場発生部との間には、前記傾斜磁場発生部の主平面方向の振動を減衰させる部材が配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記第1の支持部材は、振動減衰部材を含むことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 互いに対向して配置され、その間の空間に静磁場領域を形成する一対の静磁場発生部と、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第1の支持部材を介して配置された平板状の傾斜磁場発生部と、前記静磁場発生部と前記傾斜磁場発生部との間にそれぞれ配置された、静磁場均一度補正のための静磁場補正部とを有し、
前記静磁場補正部は、静磁場均一度を補正するための磁性体片が配置されている平板状のシムトレイであって、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第2支持部材を介して配置され、
前記第1の支持部材は、磁性を有する部材を含み、静磁場均一度を補正していることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項9に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記シムトレイは1以上の貫通孔を有し、前記第1の支持部材は前記貫通孔内に、貫通孔内壁に対し非接触に配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 互いに対向して配置され、その間の空間に静磁場領域を形成する一対の静磁場発生部と、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第1の支持部材を介して配置された平板状の傾斜磁場発生部と、前記静磁場発生部と前記傾斜磁場発生部との間にそれぞれ配置された、静磁場均一度補正のための静磁場補正部とを有し、
前記静磁場補正部は、静磁場均一度を補正するための磁性体片が配置されている平板状のシムトレイであって、予め定めたパターンで複数の貫通孔が備えられ、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第2の支持部材を介して配置されており、
前記複数の貫通孔には大径と小径の2種類があり、前記磁性部材片は、前記小径の貫通孔に挿入され、前記第1の支持部材は、前記大径の貫通孔に挿入されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項2、10または11に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記シムトレイの複数の貫通孔のうち、前記磁性部材片および前記第1の支持部材のいずれもが配置されていない貫通孔の少なくとも1つには、前記傾斜磁場発生部の振動振幅抑制のための部材が挿入され、
前記振動振幅抑制部材は、前記静磁場発生源に一端が固定され、他端が傾斜磁場発生部に接触する弾性部材であることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項12に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記振動振幅抑制部材は、前記傾斜磁場発生部の振動の腹の位置に配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 請求項2、10または11に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記シムトレイの複数の貫通孔のうち、前記磁性部材片および支持部材のいずれもが配置されていない貫通孔の少なくとも1つには、振動減衰材料が充填されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 請求項8に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記第1の支持部材は、前記振動減衰部材を挟んで配置された第1固定部と第2固定部とを有し、前記第1固定部は、前記静磁場発生部に固定され、前記第2固定部は、前記傾斜磁場発生部に固定されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 互いに対向して配置され、その間の空間に静磁場領域を形成する一対の静磁場発生部と、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第1の支持部材を介して配置された平板状の傾斜磁場発生部と、前記静磁場発生部と前記傾斜磁場発生部との間にそれぞれ配置された、静磁場均一度補正のための静磁場補正部とを有し、
前記静磁場補正部は、静磁場均一度を補正するための磁性体片が配置されている平板状のシムトレイであって、前記傾斜磁場発生部との間及び前記静磁場発生部との間に空隙を有し且つ前記傾斜磁場発生部と独立して、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第2の支持部材を介して配置されており、前記第1の支持部材に対し非接触であり、
前記第1の支持部材は、振動減衰部材を含み、前記静磁場発生部に固定された第1固定部と、前記傾斜磁場発生部に固定された第2固定部とを有し、
前記第1固定部は、前記静磁場発生部に固定されていない側に、前記振動減衰部材を収納した容器形状部を有し、
前記第2固定部は、一端が前記傾斜磁場発生部に固定され、他端が前記容器形状部の前記振動減衰部材の中に挿入されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記磁性体片は、振動減衰部材の中に磁性体を混合した材料によって形成されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
- 互いに対向して配置され、その間の空間に静磁場領域を形成する一対の静磁場発生部と、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第1の支持部材を介して配置された平板状の傾斜磁場発生部と、前記静磁場発生部と前記傾斜磁場発生部との間にそれぞれ配置された、静磁場均一度補正のための静磁場補正部とを有し、
前記静磁場補正部は、静磁場均一度を補正するための磁性体片が配置されている平板状のシムトレイであって、前記傾斜磁場発生部との間及び前記静磁場発生部との間に空隙を有し且つ前記傾斜磁場発生部と独立して、前記一対の静磁場発生部の対向面にそれぞれ第2の支持部材を介して配置されており、前記第1の支持部材に対し非接触であり、
前記シムトレイは、複数層構造であって、少なくとも一層は振動減衰材料で形成されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
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