JP4988385B2 - 磁気共鳴イメージング装置 - Google Patents

Description

本発明は、磁気共鳴を利用した磁気共鳴イメージング装置（以下、ＭＲＩ装置と呼ぶ）に関する。

ＭＲＩ装置は、撮影空間に均一な静磁場を発生させる静磁場発生手段と、被検体の生体組織の原子核に核磁気共鳴を生じさせるための電磁波を照射するＲＦコイルと、核磁気共鳴信号を受信する受信コイルと、さらに、核磁気共鳴信号に位置情報を付与するために静磁場に重ねて線形な傾斜磁場を発生させる傾斜磁場コイルを備えている。撮影時には、所望のパルスシーケンスに従い、均一な静磁場中に置かれた被検体にＸ，Ｙ，Ｚ軸方向に線形傾斜磁場が重ねられ、被検体の原子スピンがラーモア周波数で磁気的に励起される。この励起に伴い、磁気共鳴信号が検出され、被検体の、例えば、２次元断層像が再構成される。

静磁場中に配置された傾斜磁場コイルにパルス電流を流すと、ローレンツ力が作用し、傾斜磁場コイルが振動して騒音を発生する。画質を向上させるために、静磁場強度や傾斜磁場強度（傾斜磁場コイルに流す電流）を大きくすると、ローレンツ力が増大し、傾斜磁場コイルの振動による騒音が増大する。この騒音は、撮影空間内に横になっている被検体に非常な不快感・不安感を与える。

騒音を軽減するために、ＲＦベース板とその上に取り付ける高周波磁場コイルとの間にシート状の減衰材を設けたゴムやウレタンフォームなどの材質の高分子材料を用いた遮蔽機構，傾斜磁場コイルの均一磁場領域に対して反対側に消音器として音波を干渉で消音するリアクタンス形、更に、単純膨張形と分類される消音器の減衰機構、とを設け、傾斜磁場コイルの均一磁場領域側に傾斜磁場コイルからの音を遮音することが知られ、例えば特許文献１に記載されている。

特開２００４−１９４９７４号公報

上記従来技術では、テーブル装置の荷重の一部をＭＲＩ装置で支持し、ＲＦベース板で荷重を受け持たせ、被検者を搭載するテーブル装置の小型化，軽量化を図っている。しかし、ＲＦベース板はポールピースの突起部もしくは内側面で外周部のみが支持されるように取り付けられているため、平板状で外周部が支持されると同様になり、撓みやすい。そして、ＲＦベースの板厚を大きくして剛性を確保しようとすると、ＲＦベースを配置するスペースが増加し、撮影空間を狭めて被検者に閉塞感・圧迫感を与えることになるか、もしくは、撮影空間ギャップを同じとする場合は静磁場発生源が高さ方向に大きくならざるを得ない。

本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、撮影空間ギャップを狭めることなく、または、ＭＲＩ装置を大型化（高さ方向に大きく）することなく、傾斜磁場コイル振動による騒音を低減することにある。また、ＲＦベース板の撓みによりＲＦコイルを構成する導体やコンデンサ等の電気部品の接続が外れることを防ぎ、ＲＦコイルの位置精度を確保することにある。

上記目的を達成するため、本発明は、撮影空間に垂直方向の静磁場を発生するための静磁場発生装置と、前記静磁場に傾斜した磁場を発生する傾斜磁場コイルと、核磁気共鳴現象を生じさせるための高周波電磁場を送信するＲＦコイルとを有する磁気共鳴イメージング装置において、前記静磁場発生装置の撮影空間側に設けられた凹部と、前記凹部内に配置された前記傾斜磁場コイルと、前記ＲＦコイルを支持する円板状のＲＦベースと、を備え、前記傾斜磁場コイルは、前記凹部の側面，底面、前記ＲＦベースにより覆われて前記凹部内に配置され、前記ＲＦベースは前記凹部内に配置されているものである。

本発明によれば、撮影空間側に円筒状の凹部を設け、その側面，底面，ＲＦベースに減衰を付与し、真空容器凹部側面に接する大きさとする減衰材により傾斜磁場コイルが覆われているようにするので、撮影空間ギャップを狭めることなく、ＭＲＩ装置を大型化（高さ方向に大きく）することなく、傾斜磁場コイル振動による騒音を低減することができる。

ＭＲＩ装置を静磁場発生源として超電導コイルを用いた超電導磁石を採用した例において説明する。図１はＭＲＩ装置の断面図であり、図２はＭＲＩ装置外観の斜視図である。

静磁場発生装置として、１対の超電導コイル２ａ，２ｂが撮影空間１を挟んで上下方向に対向して配置される。各超電導コイルは上下１対の真空容器３ａ，３ｂに内蔵され、上下の真空容器は２本の真空容器連結管４ａ，４ｂで連結される。
図１では、超電導コイルは１対であるが、複数対あっても良い。図２に示すように真空容器３ａ，３ｂが撮影空間１を挟んで上下に対向して配置され、また、２本の真空容器連結管４ａ，４ｂが撮影空間を挟んで対称位置に配置される。本実施例では、真空容器連結管は２本対称に配置しているが、非対称，１本，４本で良い。

撮影空間１の中心を原点とし、この撮影空間に対して、垂直方向（上下方向）をＺ軸、２本の真空容器連結管が配置される左右方向をＸ軸、このＸ軸に直交する前後方向をＹ軸とする。図１はＸＺ面における断面図である。
超電導コイル２ａ，２ｂは円環状に巻かれており、撮影空間に均一な垂直方向の静磁場を発生する。超電導コイルは円環状の冷却容器５ａ，５ｂ内に収納され、冷却容器内に貯蔵された液体ヘリウムなどの冷媒に浸漬される。そして、超電導特性を示す温度まで冷却され、その冷却温度を保持する。冷却容器５ａ，５ｂは真空容器３ａ，３ｂにそれぞれ内蔵される。

撮影空間を挟んで上下に配置した冷却容器は冷却容器の外周近傍に配置した冷却容器連結管（図示せず）を用いて、上下方向に所定の距離だけ離して支持され、上下の冷却容器は機械的かつ熱的に連結される。真空容器と真空容器連結管により、冷却容器と冷却容器連結管は完全に覆われる。冷却容器は真空容器に繊維補強合成樹脂材料等で構成される荷重支持体（図示せず）により断熱支持される。

真空容器の最も撮影空間側の面（以下、開口面と呼ぶ）３ｅ，３ｆの距離を大きくし、真空容器連結管４ａ，４ｂを撮影空間から離し、また、被検者の撮影空間側から見える面を小さくすることにより被検体が入る空間が広がり、被検者への開放性が高まる。真空容器と冷却容器等の超電導磁石を構成する部材には、主としてステンレス鋼等の非磁性の金属系材用を用いる。

磁気共鳴信号の位置情報を付与するために静磁場に傾斜した磁場を印加する円板状の傾斜磁場コイル６ａ，６ｂは、真空容器の撮影空間側に、撮影空間を挟んで対向して、真空容器の撮影空間側に設けられた円筒状の凹部（以下、真空容器凹部と呼ぶ）内に配置される。真空容器凹部は円板状の凹部底面３ｃ，３ｄとリング状の凹部側面３ｇ，３ｈから構成される。傾斜磁場コイルは、真空容器の凹部底面３ｃ，３ｄに弾性部材１０で複数箇所支持される。

傾斜磁場コイルは、均一な静磁場空間に線形に傾斜した磁場を発生するメインコイルと、メインコイルにより発生した磁場が静磁場発生用磁石側に漏れるのを防ぐシールドコイルからなる。シールドコイルは静磁場発生用磁石を構成する真空容器等に不要な渦電流が流れて悪影響が発生することを防ぐ役割を果たし、所望のシールド性能を得るために、メインコイルから所定の距離に配置される。メインコイルはシールドコイルより撮影空間側に配置される。メインコイルとシールドコイルは樹脂で一体モールドされ、円板状の傾斜磁場コイルを形成する。メインコイル，シールドコイルは図示せず、これらを一体モールドして形成された傾斜磁場コイルのみを図示している。

電磁波を照射し、被検体の生体組織の原子核に核磁気共鳴を生じさせるＲＦコイル７ａ，７ｂが傾斜磁場コイルの撮影空間側に、撮影空間を挟んで、対向して配置される。ＲＦコイルは電流路となる導体やコンデンサ素子等からなり所定のパルス状の電磁波を被検体に照射する。ＲＦコイルにより発生した高周波電磁波をシールドするため、ＲＦシールド８ａ，８ｂがＲＦコイルの傾斜磁場コイル側に配置される。ＲＦシールドは、例えば、銅箔からなり、ＲＦコイルによって発生した電磁波が傾斜磁場コイル等と干渉することによる悪影響を防ぐ役割を果たし、ＲＦコイルの照射効率向上のためにＲＦコイルから所定の距離で保持され、また、電気的に絶縁される。

ＲＦコイルは導体やコンデンサ素子を円板状の基板に取り付けたものである。ＲＦシールドは数十μｍ程度の箔や薄い板状の導体である。ＲＦコイル及びＲＦシールドはそれ自体で十分な剛性を有しないため、十分な剛性を有するＲＦベース９ａ，９ｂに取り付けられる。ここで、ＲＦベースに求められる剛性は、ＲＦベースの自重及びＲＦコイルの重さによりＲＦコイルの位置精度を確保できない、または、ＲＦコイルの電気部品の接続が外れる、程度までＲＦベースが撓まないことである。

ＲＦコイルは基板をボルト等でＲＦベースに固定される。また、ＲＦシールドは接着シートでＲＦベースに接着される。ＲＦベースの両面にＲＦコイルとＲＦシールドを取り付けることにより、所定の距離で保持し、電気的に絶縁している。
ＲＦベースは、例えば、ガラスエポキシ樹脂のような非磁性，非金属材料で製作される。ＲＦコイル及びＲＦシールドに対し、ＲＦベースは径が大きく、また、十分な剛性を持たすために、板厚が大きい。
ＲＦベースはＲＦベース支持部材１１により真空容器の凹部底面３ｃ，３ｄに複数箇所剛に支持される。ＲＦベース支持部材はＲＦベースの位置精度を確保するだけの剛性が必要である。ＲＦベース支持部材は傾斜磁場コイルに設けた貫通孔１２を通るが、ＲＦベース支持部材は傾斜磁場コイルには接触しない。

ＲＦコイルの撮影空間側の面７ｃ，７ｄが真空容器の開口面３ｅ，３ｆと同じ位置になるようにＲＦベースは真空容器凹部内に配置される。このようにＲＦベースを配置することにより、ＲＦベース９ａ，９ｂと真空容器の凹部側面３ｇ，３ｈ及び凹部底面３ｃ，
３ｄで傾斜磁場コイルを覆う空間を構成する。

ＲＦベースの外周部は真空容器の凹部側面３ｇ，３ｈとは接触せず、ギャップを有し、ＲＦベースはＲＦベース支持部材のみで支持される。
その他、図示していないが、ＭＲＩ装置には、被検者を載せて撮影空間に案内するテーブル装置，超電導磁石装置や傾斜磁場コイル，高周波コイルなどに電源を供給する電源装置，ＭＲＩ装置全体を制御する制御装置，被検者の生体組織の原子核から発生した核磁気共鳴信号を受信する受信コイル及びその核磁気共鳴信号に基づき磁気共鳴画像を得る画像再構築装置などが付属している。

次に、ＭＲＩ装置の動作を説明する。
撮影時には傾斜磁場コイルにパルス状の電流が流れ、ローレンツ力により傾斜磁場コイルが振動し、傾斜磁場コイルから騒音を放射する。傾斜磁場コイルから放射される騒音は、ＲＦベース９ａ，９ｂと真空容器の凹部底面３ｃ，３ｄと凹部側面３ｇ，３ｈで構成された閉空間で遮音される。閉空間の遮音性を高めるためには、閉空間を構成する遮音部材の遮音性能を高めることと、閉空間の密閉性を高めることが必要である。一般に、遮音部材の遮音性能を表す透過損失ＴＬ［ｄＢ］は、以下の（１）式で表される。

ここで、ｆ：音の周波数［Ｈｚ］、ρ：遮音部材の材料密度［kg／ｍ³ ］、ｔ：遮音部材の厚さ［ｍ］である。したがって、（１）式から遮音部材としては、密度が大きく、板厚が大きいほど遮音性能が高くなる。

被検者への騒音においては、傾斜磁場コイルの撮影空間側の遮音性能が重要であり、傾斜磁場コイルの撮影空間側の遮音部材としてはＲＦコイル，ＲＦベース，ＲＦシールドとなる。その遮音性能は、大きさ，板厚からＲＦベースの特性が主となる。

ＲＦベースを、例えば、ガラスエポキシ樹脂で密度２.０kg／ｍ³ ，厚さ０.０２ｍとすると、その時の（１）式に基づく透過損失を図３に示す。ＭＲＩ装置では、騒音レベルは５００Ｈｚ〜２０００Ｈｚが大きいため、騒音レベルの大きな周波数域で、３０ｄＢ以上の騒音低減効果を得ることができる。

傾斜磁場コイル６ａ，６ｂの振動は傾斜磁場コイルの支持部を介して、まず、真空容器の凹部底面３ｃ，３ｄに伝搬し、そして、撮影空間へ騒音を放射する放射面であるＲＦベース，ＲＦコイル及び真空容器の開口面に伝搬し、放射面の振動により騒音が発生する。これら固体伝播による騒音（以下、固体伝搬音と呼ぶ）は、傾斜磁場コイル振動が放射面に伝播するために生じる。ＲＦベースが十分な遮音性能を有するため、騒音の主要因はこの固体伝搬音になる。

傾斜磁場コイルを弾性部材１０で支持しているため、傾斜磁場コイル振動の真空容器凹部底面への伝播を低減でき、固体伝搬音を低減できる。
一般に、弾性部材による傾斜磁場コイル振動の低減効果は、以下の（２）式で表される。

（２）式は１自由度系における振動伝達率λであり、質点に作用する加振力による質点の振動がばね，ダンパーを介してどの程度伝播するかを表すものである。
ここで、ｆは加振振動数［Ｈｚ］、ｆｎは系の固有振動数［Ｈｚ］、ζは減衰比［−］を表す。

（２）式より減衰比が０.０１ ［−］の時の振動伝達率を図４に示す。図４の横軸の振動数比［−］は、系の固有振動数に対する加振振動数の比である。振動伝達率が１より大きいと伝播する振動が大きくなる。振動数比が√２より大きい振動数域では伝播する振動が低減する。従って、系の固有振動数を振動伝搬したい振動数（加振振動数）の１／√２倍より小さくすると振動伝搬を低減できる。

振動低減効果を大きくするには、系の固有振動数をより小さくする、つまり、弾性部材のばね定数を小さくした方が良い。ただし、系の固有振動数では共振するため、傾斜磁場コイルの振動が極大となり、系の固有振動数（弾性部材のばね定数）が小さい方が傾斜磁場コイルの共振時の振動が大きくなる。傾斜磁場コイルの過大な振動は傾斜磁場の線形性を損ねるため画像劣化を生じる。従って、傾斜磁場コイルの振動と振動絶縁効果を考慮して、弾性部材のばね定数を設定する。

傾斜磁場コイルは複数個の弾性部材で支持される。弾性部材は非磁性であり、所定のばね定数に設定できる必要がある。弾性部材として、例えば、ゴムを使用する場合は、所定のばね定数になるように、ゴム硬度，寸法を選択する。傾斜磁場コイルの共振時の振動モードは、弾性部材が変形して、傾斜磁場コイルは変形せずに剛体的に水平方向や垂直方向に並進したり、軸回転したりする。軸回転の振動モードを抑制するために、好ましくは、弾性部材は傾斜磁場コイルの外周部付近に配置する。また、傾斜磁場コイルの共振時の振動を抑制するために、弾性部材は減衰が大きい方が好ましい。

ＲＦベース９ａ，９ｂにはＲＦベース支持部材１１を介して振動が伝播する。ＲＦベースはＲＦベース支持部材複数個で支持されるが、必要な支持剛性を有するだけの最低限の本数で支持される。ここで、ＲＦベース支持部材に求められる支持剛性は、ＲＦベースが所定の位置に保持されることであり、必要な支持剛性を得られるようにＲＦベース支持部材の材料及び寸法を選択する。

ＲＦベース支持部材本数を最小とすることにより振動伝搬経路を少なくでき、ＲＦベース支持部材を介してのＲＦベースへの振動伝搬が低減し、騒音が低減する。また、ＲＦベース支持部材を制振性の高い非磁性の金属材料（制振鋼板）で構成すると、ＲＦベース支持部材の支持剛性を確保しつつ、高減衰を得ることができるため、ＲＦベース支持部材で振動が減衰し、ＲＦベースへの振動伝搬が低減し、さらに、騒音を低減することができる。

ＲＦベースをＲＦベース外周部のみで真空容器の凹部側面に支持する場合に比べて、
ＲＦベースをＲＦベース支持部材で垂直方向に支持する構造は、ＲＦベースの曲げに対する強度が大きいため、同じ材料においてはＲＦベースの板厚を小さくすることができ、
ＲＦベースの設置空間の省スペース化が図れる。
被検者を搭載するテーブル装置の小型化，軽量化のためにテーブル装置の荷重の一部をＭＲＩ装置で受ける場合がある。この場合、テーブル装置の荷重はＲＦコイルもしくは
ＲＦベースで受けることになる。
ＲＦベースはＲＦベース支持部材で垂直方向に支持するため、荷重負荷点近傍にＲＦベース支持部材を配置する等によりＲＦベース支持部材の剛性のみでテーブル装置の荷重を受けることができる。この時ＲＦベース支持部材に必要な剛性は、前述と同じであり、この剛性を得ることができるようにＲＦベース支持部材の材料，寸法等を選択する。

テーブル装置の荷重を主にＲＦベース支持部材で受ける構造であるため、ＲＦベースをＲＦベース外周部のみで真空容器の凹部側面に支持する場合に比べて、ＲＦベースの曲げに対する強度が大きいため、同じ材料においてはＲＦベースの板厚を小さくすることができ、ＲＦベースの設置空間の省スペース化が図れる。

図５に下側のＲＦベース９ｂ，ＲＦコイル７ｂ及びＲＦシールド８ｂのみを示す。ＲＦベース９ｂの内部に空間を設け、その空間に粒状体１３を封入する。ＲＦベースの振動エネルギーが粒状体の振動エネルギーに変換され、粒状体同士や粒状体と粒状体を封入した空間の壁面との衝突による摩擦等により粒状体の振動エネルギーが熱エネルギーに変換され、振動エネルギーが消散される。つまり、ＲＦベースの振動を低減し、騒音を低減する。ＲＦベースの剛性はその板厚が支配的であるが、ＲＦベース内部に部分的に空間を設けてもＲＦベースの剛性にはほとんど影響がない。また、ＲＦベース内部に粒状体を配置するだけであるので、ＲＦベースの設置スペースを増加することなく騒音を低減できる。

ＲＦベースに溝を作製し、粒状体を配置し、蓋部材で蓋をする等によりＲＦベース内部の空間に粒状体を封入するが、粒状体の衝突，摩擦をより生じさせるために粒状体は空間に密に封入される方が好ましい。また、粒状体の総重量が大きい方が、振動エネルギーの消散効果が大きいため、粒状体の密度は大きい方が好ましい。粒状体を空間に封入する蓋をＲＦコイル，ＲＦシールドで行っても良い。

図６に下側真空容器の凹部内の構造のみを示すが、ＲＦシールド８ｂの反撮影空間側にシート状の減衰材１４を貼付しても良い。固体伝搬音の主な放射面であるＲＦベースに減衰を付与すると、ＲＦベースの振動が低減するため、騒音を低減できる。減衰材を設置するスペースが小さい場合は、ＲＦベースの板厚を減衰材の厚さ分小さくして設置する。このように設置しても、減衰材の密度がＲＦベースと同程度であれば、ＲＦベース部による遮音性能は変わらない。従って、遮音性能を変えることなく、ＲＦベースに減衰を付与することができる。

また、図７に図５同様に下側のＲＦベース９ｂ，ＲＦコイル７ｂ及びＲＦシールド８ｂを示すが、減衰材１４をＲＦベース９ｂで挟み込んで設置しても良い。拘束型で使用されるため、減衰材が同じ材料，厚さの場合、図６のような非拘束型より減衰効果が大きい。 図６において、ＲＦベース９ｂは真空容器の凹部側面３ｈと接しておらず、真空容器凹部から傾斜磁場コイルの騒音が漏出する観点からは、そのギャップは小さい方が好ましい。このギャップからの漏出音が大きい場合は、スポンジやゴム等のシーリング部材１５をＲＦベース外周部と真空容器の凹部側面間に配置し、漏出音を防止する。シーリング部材により遮音空間の密閉性を高められるため、騒音をより低減できる。

このシーリング部材の漏出音低減効果は遮音部材と同様に密度や厚さが大きいほど効果が大きい。従って、同じ厚さであればスポンジより密度の大きいゴムの方が漏出音低減効果は大きい。

シーリング部材は、ＲＦベースを設置後、ＲＦベースの外周部と真空容器凹部側面間に押し込むように配置するか、ＲＦベース外周部に設けた溝にシーリング部材を配置して、ＲＦベースを設置する。スポンジのように柔らかいものであれば設置作業性が良いが、硬度の大きいＯリングのような硬いものであれば、押し込む力が必要となるので設置作業性は良くない。そのため、シーリング部材の材料は、漏出音低減効果及び設置作業性を考慮して決定する。

図８は図６においてシーリング部材１５をなくし、減衰材１４の径を大きくしたものである。減衰材の径を真空容器凹部側面３ｈに接する大きさとすることにより、ＲＦベースに減衰を付与するとともに、シーリング部材の役目を果たす。シーリング部材を用意する必要がなく、遮音空間の密閉性を高めることができる。図７においても同様の構造を採用することができる。
傾斜磁場コイルの発生する交流磁場によりＲＦシールドに渦電流は発生し、この渦電流と静磁場がカップリングしてＲＦシールドに電磁力が作用する。従って、好ましくは、
ＲＦシールドはメッシュ状とする。メッシュ状とすることにより発生する渦電流を低減でき、ＲＦシールドに作用する電磁力によるＲＦシールド、つまりは、ＲＦベースの振動を低減でき、騒音を低減できる。

減衰材の減衰特性は一般に温度依存性を示す。従って、減衰材をＲＦシールド上に貼り付ける構造においては、ＲＦシールドの発熱による温度上昇を考慮して、実稼動時の温度で最大の減衰特性を有する減衰材を選定すれば良い。

本発明による一実施の形態であるＭＲＩ装置を示す縦断面図。 図１の斜視図。 透過損失計算例を示すグラフ。 振動伝達率計算例を示すグラフ。 一実施の形態において粒状体を封入した下側のＲＦベースを示す断面図。 一実施の形態において下側の真空容器凹部内を示す断面図。 一実施の形態において減衰材をＲＦベースで挟んだ下側のＲＦベースを示す断面図。 他の実施の形態による真空容器凹部内を示す断面図。

符号の説明

１ 撮影空間
２ 超電導コイル
３ 真空容器
４ 真空容器連結管
５ 冷却容器
６ 傾斜磁場コイル
７ ＲＦコイル
８ ＲＦシールド
９ ＲＦベース
１０ 弾性部材
１１ ＲＦ支持部材
１２ 貫通孔
１３ 粒状体
１４ 減衰材
１５ シーリング部材

Claims (4)

1. 撮影空間に垂直方向の静磁場を発生するための静磁場発生装置と、前記静磁場に傾斜し
   た磁場を発生する傾斜磁場コイルと、核磁気共鳴現象を生じさせるための高周波電磁場を
   送信するＲＦコイルとを有する磁気共鳴イメージング装置において、
   前記静磁場発生装置の撮影空間側に設けられた凹部と、
   前記凹部内に配置された前記傾斜磁場コイルと、
   前記ＲＦコイルを支持する円板状のＲＦベースと、
   を備え、前記傾斜磁場コイルは、前記凹部の側面，底面、前記ＲＦベースにより覆われて
   前記凹部内に配置され、前記ＲＦベースは前記凹部内に配置され、
   前記静磁場発生装置は真空容器に内蔵された超電導コイルが前記撮影空間を挟んで上下方向に対向して配置されたものであり、前記凹部は前記真空容器に形成され、前記ＲＦベースは前記真空容器の凹部底面から複数のＲＦ支持部材で支持され、
   ＲＦコイルよりも撮影空間側とは反対側に設けられ、ＲＦベースに減衰を付与し、真空容器凹部側面に接する大きさとする減衰材を有する
   ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
2. 請求項１に記載のものにおいて、前記傾斜磁場コイルを弾性部材で支持したことを特徴
   とする磁気共鳴イメージング装置。
3. 請求項１に記載のものにおいて、前記静磁場発生装置は真空容器に内蔵された超電導コ
   イルが前記撮影空間を挟んで上下方向に対向して配置されたものであり、前記凹部は前記
   真空容器に形成され、前記ＲＦベースは前記真空容器の凹部底面から非磁性の金属とされ
   たＲＦ支持部材で支持されることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
4. 請求項１に記載のものにおいて、前記ＲＦベース内部に粒状体を封入したことを特徴と
   する磁気共鳴イメージング装置。

Images