JP2018038818A - 磁気共鳴イメージング装置 - Google Patents

Abstract

【課題】傾斜磁場コイルに由来する固体伝搬音を低減させること。【解決手段】磁気共鳴イメージング装置は、静磁場磁石１０１と、傾斜磁場コイル１０３と、空間形成体と、磁石支持部材と、空間形成体支持部とを備える。傾斜磁場コイル１０３は、静磁場磁石１０１の内周側に設けられる。空間形成体は、傾斜磁場コイル１０３の内周側において、患者空間を形成する。磁石支持部材は、静磁場磁石１０１を床面で支持する。空間形成体支持部は、磁石支持部材に取り付けられ、空間形成体を支持する。【選択図】図２

Description

本発明の実施形態は、磁気共鳴イメージング装置に関する。

従来、磁気共鳴イメージング（Magnetic Resonance Imaging：ＭＲＩ）装置において、傾斜磁場コイルから発生される音（騒音）を低減させるための静音化技術が種々提案されている。

傾斜磁場コイルから発生される音には、周囲の空気を媒質として伝わる空気伝搬音と、接触する固体を媒質として伝わる固体伝搬音とがある。例えば、傾斜磁場コイルを密閉容器内に配置し、密閉容器内の周囲の空間を真空状態にすることで、空気伝搬音を低減させる技術が知られている。また、例えば、患者空間（「ボア」とも呼ばれる）を形成するボアチューブと傾斜磁場コイルとの間を防振材で絶縁することで、固体伝搬音を低減させることが行われている。

特許第５２８００２２号明細書 再公表ＷＯ２００６／０６２０２８号公報 特許第４６４３１５８号明細書 特開２０１５−１１９９５３号公報

本発明が解決しようとする課題は、傾斜磁場コイルに由来する固体伝搬音を低減させることができる磁気共鳴イメージング装置を提供することである。

実施形態の磁気共鳴イメージング装置は、静磁場磁石と、傾斜磁場コイルと、空間形成体と、磁石支持部材と、空間形成体支持部とを備える。傾斜磁場コイルは、前記静磁場磁石の内周側に設けられる。空間形成体は、前記傾斜磁場コイルの内周側において、患者空間を形成する。磁石支持部材は、前記静磁場磁石を床面で支持する。空間形成体支持部は、前記磁石支持部材に取り付けられ、前記空間形成体を支持する。

図１は、実施形態に係るＭＲＩ装置の構成を示すブロック図である。 図２は、実施形態に係るＭＲＩ装置の架台の構成を説明するための図である。 図３は、実施形態に係るＭＲＩ装置の架台の構成を説明するための図である。 図４は、実施形態に係るＭＲＩ装置による効果を説明するための図である。 図５は、実施形態に係るＭＲＩ装置による効果を説明するための図である。 図６は、実施形態に係るＭＲＩ装置による効果を説明するための図である。 図７は、その他の実施形態に係るＭＲＩ装置の架台の構成を説明するための図である。 図８は、その他の実施形態に係るＭＲＩ装置の架台の構成を説明するための図である。 図９は、その他の実施形態に係るＭＲＩ装置の架台の構成を説明するための図である。 図１０は、その他の実施形態に係るＭＲＩ装置の架台の構成を説明するための図である。 図１１は、その他の実施形態に係る寝台レールの構成を説明するための図である。

以下、図面を参照して、実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置を説明する。

（実施形態）
図１は、実施形態に係るＭＲＩ装置１００の構成を示すブロック図である。なお、以下では、磁気共鳴イメージング装置をＭＲＩ（Magnetic Resonance Imaging）装置１００と称する。

図１に示すように、ＭＲＩ装置１００は、静磁場磁石１０１と、静磁場電源１０２と、傾斜磁場コイル１０３と、傾斜磁場電源１０４と、寝台１０５と、寝台制御回路１０６と、ＷＢ（Whole Body）コイル１０７と、送信回路１０８と、受信コイル１０９と、受信回路１１０と、シーケンス制御回路１２０と、計算機１３０とを備える。なお、ＭＲＩ装置１００に、被検体Ｐ（例えば、人体）は含まれない。また、図１に示す構成はあくまで一例であり、図示の構成に限定されるものではない。

静磁場磁石１０１は、中空の略円筒形状に形成された磁石であり、内部の空間に静磁場を発生する。静磁場磁石１０１は、例えば、超伝導磁石等であり、静磁場電源１０２から電流の供給を受けて励磁する。静磁場電源１０２は、静磁場磁石１０１に電流を供給する。なお、静磁場磁石１０１は、永久磁石でもよく、この場合、ＭＲＩ装置１００は、静磁場電源１０２を備えなくてもよい。また、静磁場電源１０２は、ＭＲＩ装置１００とは別に備えられてもよい。また、略円筒形状には、真円の円筒形状のみならず、ＭＲＩ装置１００の機能を大きく損なわない範囲で歪んだ楕円の円筒形状も含まれる。

傾斜磁場コイル１０３は、中空の略円筒形状に形成されたコイル構造体であり、静磁場磁石１０１の内側に配置される。傾斜磁場コイル１０３は、互いに直交するｘ、ｙ、及びｚの各軸に対応する３つのコイルが組み合わされて形成されており、これら３つのコイルは、傾斜磁場電源１０４から個別に電流の供給を受けて、ｘ、ｙ、及びｚの各軸に沿って磁場強度が変化する傾斜磁場を発生する。傾斜磁場コイル１０３によって発生するｘ、ｙ、及びｚの各軸の傾斜磁場は、例えば、スライスエンコード傾斜磁場Ｇ_ＳＥ（若しくはスライス選択傾斜磁場Ｇ_ＳＳ）、位相エンコード傾斜磁場Ｇ_ＰＥ、及び周波数エンコード傾斜磁場Ｇ_ＲＯである。傾斜磁場コイル１０３は、例えば、これら３つのコイルがエポキシ樹脂等で含浸されて形成される。傾斜磁場電源１０４は、傾斜磁場コイル１０３に電流を供給する。

寝台１０５は、被検体Ｐが載置される天板１０５ａを備え、寝台制御回路１０６による制御の下、天板１０５ａを、被検体Ｐが載置された状態で、傾斜磁場コイル１０３の空洞（撮像口）内へ挿入する。通常、寝台１０５は、長手方向が静磁場磁石１０１の中心軸と平行になるように設置される。寝台制御回路１０６は、計算機１３０による制御の下、寝台１０５を駆動して天板１０５ａを長手方向及び上下方向へ移動する。

ＷＢコイル１０７は、傾斜磁場コイル１０３の内側に配置され、送信回路１０８からＲＦパルスの供給を受けて、高周波磁場を発生する。また、ＷＢコイル１０７は、高周波磁場の影響によって被検体Ｐから発せられる磁気共鳴信号（以下、適宜「ＭＲ（Magnetic Resonance）信号」）を受信し、受信したＭＲ信号を受信回路１１０に出力する。

送信回路１０８は、対象とする原子の種類及び磁場強度で定まるラーモア周波数に対応するＲＦパルスをＷＢコイル１０７に供給する。

受信コイル１０９は、傾斜磁場コイル１０３の内側に配置され、高周波磁場の影響によって被検体Ｐから発せられるＭＲ信号を受信する。受信コイル１０９は、ＭＲ信号を受信すると、受信したＭＲ信号を受信回路１１０へ出力する。

なお、上述したＷＢコイル１０７及び受信コイル１０９はあくまで一例であり、これに限定されるものではない。例えば、受信コイル１０９は、必ずしも備えられていなくてもよい。また、ＷＢコイル１０７及び受信コイル１０９は、送信機能のみを備えたコイル、受信機能のみを備えたコイル、及び送受信機能を備えたコイルのうち、１つ若しくは複数を組み合わせることによって構成されればよい。

受信回路１１０は、受信コイル１０９から出力されるＭＲ信号を検出し、検出したＭＲ信号に基づいてＭＲデータを生成する。具体的には、受信回路１１０は、受信コイル１０９から出力されるＭＲ信号をデジタル変換することによってＭＲデータを生成する。また、受信回路１１０は、生成したＭＲデータをシーケンス制御回路１２０へ送信する。

シーケンス制御回路１２０は、計算機１３０から送信されるシーケンス情報に基づいて、傾斜磁場電源１０４、送信回路１０８及び受信回路１１０を駆動することによって、被検体Ｐの撮像を行う。ここで、シーケンス情報は、撮像を行うための手順を定義した情報である。シーケンス情報には、傾斜磁場コイル１０３に供給する電流の強さや電流を供給するタイミング、送信回路１０８がＷＢコイル１０７に供給するＲＦパルスの強さやＲＦパルスを印加するタイミング、受信回路１１０がＭＲ信号を検出するタイミング等が定義される。例えば、シーケンス制御回路１２０は、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等の集積回路、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＭＰＵ（Micro Processing Unit）等の電子回路である。

また、シーケンス制御回路１２０は、傾斜磁場電源１０４、送信回路１０８及び受信回路１１０を制御して被検体Ｐを撮像した結果、受信回路１１０からＭＲ信号データを受信すると、受信したＭＲ信号データを計算機１３０へ転送する。

計算機１３０は、ＭＲＩ装置１００の全体制御や、ＭＲ画像の生成等を行う。例えば、計算機１３０は、操作者から入力される撮像条件に基づいてシーケンス制御回路１２０に撮像シーケンスを実行させる。また、計算機１３０は、シーケンス制御回路１２０から送信されたＭＲ信号データに基づいて画像を再構成する。計算機１３０は、再構成された画像を記憶部に格納したり、表示部に表示したりする。なお、計算機１３０は、例えば、コンピュータ等の情報処理装置である。

このような構成のもと、実施形態に係るＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬音を低減させる。

ここで、固体伝搬音は、傾斜磁場コイル１０３の振動が固体を媒質として伝搬し、最終的に空気振動に変換されることにより被検体Ｐに伝わる。つまり、傾斜磁場コイル１０３から伝搬する振動（「固体伝搬振動」とも表記する）を低減させることは、固体伝搬音を低減させることと等価であると言える。

そこで、実施形態に係るＭＲＩ装置１００は、静磁場磁石１０１を支持する磁石足（後述する磁石足１２ａ〜１２ｄ）を起点とするボアチューブ支持構造体によりボアチューブ１４を支持する。これによれば、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動は、磁石足を経由（迂回）してからボアチューブ１４へ伝搬するので、伝搬経路の距離に応じて減衰（低減）される。このため、ＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬音（固体伝搬振動）を低減させることができる。

なお、以下の実施形態では、固体伝搬音（固体伝搬振動）を低減させるための構成について説明するが、以下の構成に限定されるものではない。例えば、ＭＲＩ装置１００は、以下の構成に加え、空気伝搬音を低減させるための構成を備えていてもよい。空気伝搬音を低減させるための構成としては、傾斜磁場コイル１０３を収容した密閉容器内を真空にする技術や、吸音材や遮音材を用いて空気伝搬を遮断する技術など、従来の如何なる静音化技術が併用されてもよい。言い換えると、以下の実施形態に説明する構成を従来の静音化技術と併用することにより、従来の静音化技術において残存していた固体伝搬音を低減させることが可能となる。

図２及び図３は、実施形態に係るＭＲＩ装置１００の架台１０の構成を説明するための図である。図２には、架台１０の内部構造を軸方向から見た図を例示する。また、図３には、静磁場磁石１０１の中心軸を通るｙｚ平面における断面図を例示する。なお、図２及び図３の内容はあくまで一例であり、図示の例に限定されるものではない。

図２及び図３に示すように、架台１０は、例えば、被検体Ｐが置かれる略円筒形状の空間（ボア）を有し、架台カバー１１により囲まれた構造である。架台１０の内部には、略円筒形状の静磁場磁石１０１及び傾斜磁場コイル１０３が設置される。

静磁場磁石１０１は、磁石足１２ａ、磁石足１２ｂ、磁石足１２ｃ、及び磁石足１２ｄ（図示せず）によって床面から支持される。なお、磁石足１２ｄは、図示されないが、ｙｚ平面に対して磁石足１２ｃの位置と対称な位置に配置される。

各磁石足１２ａ〜１２ｄは、静磁場磁石１０１を床面に支持する。例えば、磁石足１２ａ〜１２ｄは、静磁場磁石１０１の軸方向から見て両側において、静磁場磁石１０１の外周面と床面との間に設置される。図示の例では、磁石足１２ａ〜１２ｄは、ｙｚ平面に対して対称な位置に配置される。言い換えると、磁石足１２ａ〜１２ｄは、床面上であって、軸方向に対して対称な位置に配置される。なお、磁石足１２ａ〜１２ｄの配置は、図示の例に限定されるものではない。例えば、磁石足１２ａ〜１２ｄは、静磁場磁石１０１と床面との間の空間であって、ｙｚ平面により区分される２つの空間のそれぞれに、少なくとも一つずつ配置されればよい。また、磁石足１２ａ〜１２ｄは、必ずしもｙｚ平面に対して対称な位置に配置されなくてもよい。

各磁石足１２ａ〜１２ｄと床面との間には、防振部材２０ａ〜２０ｄがそれぞれ配置される。具体的には、磁石足１２ａと床面との間には、防振部材２０ａが配置される。また、磁石足１２ｂと床面との間には、防振部材２０ｂが配置される。また、磁石足１２ｃと床面との間には、防振部材２０ｃが配置される。また、磁石足１２ｄと床面との間には、防振部材２０ｄが配置される。各防振部材２０ａ〜２０ｄは、架台１０の重量を支えつつ架台１０の振動を低減するために、ゴムやエラストマーなどの防振材により形成される。なお、各磁石足１２ａ〜１２ｄは、磁石支持部材の一例である。また、以下の説明では、防振性を有する材料を総称して「防振材」と表記し、防振材を成型するなどして形成された部材を総称して「防振部材」と表記する。

傾斜磁場コイル１０３は、静磁場磁石１０１の内部の空間において、コイル支持部材１３ａ及びコイル支持部材１３ｂにより支持される。コイル支持部材１３ａ，１３ｂは、傾斜磁場コイル１０３の振動を低減しつつその重量を支えるために、例えば、ゴムやエラストマーなどの防振材により形成される。

また、傾斜磁場コイル１０３の内部の空間には、被検体Ｐが置かれる空間（ボア）を形成するボアチューブ１４が配置される。ボアチューブ１４には、ＷＢコイル１０７及び寝台レール１５が設置される。寝台レール１５は、被検体Ｐを載置した天板１０５ａをボアに挿入するためのレールである。

ここで、ボアチューブ１４は、磁石足１２ａ〜１２ｄを起点としたボアチューブ支持構造体により支持される。ボアチューブ支持構造体は、磁石足１２ａ〜１２ｄに取り付けられ、ボアチューブ１４を支持する。ボアチューブ支持構造体は、前部フレーム、後部フレーム、及び下部フレームにより形成される。

前部フレームは、ボアチューブ１４の寝台側（寝台１０５が存在する側）の端部を支持する支持部材である。前部フレームは、支持部材３０ａ、支持部材３１ａ、及び支持部材３１ｂにより形成される。

後部フレームは、ボアチューブ１４の反寝台側（寝台側の反対側）の端部を支持する支持部材である。後部フレームは、支持部材３０ｂ、支持部材３１ｃ、及び支持部材３１ｄ（図示せず）により形成される。なお、支持部材３１ｄは、図示されないが、ｙｚ平面に対して支持部材３１ｃの位置と対称な位置に配置される。

下部フレームは、静磁場磁石１０１の軸方向の長さより長い部材（梁）であって、軸方向の両端において前部フレーム及び後部フレームをそれぞれ支持する支持部材である。下部フレームは、支持部材３２ａ及び支持部材３２ｂを含む。支持部材３２ａは、磁石足１２ａ，１２ｄにより支持される。支持部材３２ｂは、磁石足１２ｂ，１２ｃにより支持される。

このように、実施形態に係るＭＲＩ装置１００において、下部フレームは、静磁場磁石１０１の軸方向の長さより長い部材であって、磁石足に取り付けられる。また、前部フレームは、下部フレームの寝台側の端部において、ボアチューブ１４の端部を支持する。また、後部フレームは、下部フレームの反寝台側の端部において、ボアチューブ１４の端部を支持する。これによれば、ＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬音（固体伝搬振動）を低減させることができる。

例えば、実施形態に係るＭＲＩ装置１００において、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動は、コイル支持部材１３ａ，１３ｂを介して静磁場磁石１０１へ伝搬し、磁石足１２ａ〜１２ｄへ伝わる。そして、固体伝搬振動は、磁石足１２ａ〜１２ｄから下部フレームを経由して前部フレーム及び後部フレームに伝搬し、ボアチューブ１４に伝わる。言い換えると、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動は、磁石足１２ａ〜１２ｄを経てボアチューブ１４へ伝搬する。これによれば、例えば、磁石足１２ａ〜１２ｄを経ずに伝搬する場合と比較して、固体伝搬振動の伝搬経路が長くなる。このため、実施形態に係るＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動を伝搬経路の長さに応じて減衰（低減）させることができる。

支持部材３０ａ，３０ｂは、下部フレーム（支持部材３２ａ，３２ｂ）の両端部に設置される。支持部材３０ａ，３０ｂは、静磁場磁石１０１の端面に取り付けられる。図示の例では、支持部材３０ａは、静磁場磁石１０１の寝台側の端面に防振部材２１ａを介して取り付けられる。また、支持部材３０ｂは、静磁場磁石１０１の反寝台側の端面に防振部材２１ｂを介して取り付けられる。防振部材２１ａ，２１ｂは、例えば、制振合金（「防振合金」とも呼ばれる）により形成される。制振合金としては、例えば、転位型制振合金や双晶型制振合金など任意の制振合金が適用可能である。また、防振部材２１ａ，２１ｂは、制振合金に限らず、例えば、ゴムやエラストマーなどの防振材により形成されてもよい。

ここで、支持部材３０ａ，３０ｂが静磁場磁石１０１の端面に取り付けられるのは、ボアチューブ１４（及びＷＢコイル１０７）の軸方向（ｚ方向）の動き（揺れ）を抑制するためである。具体的には、防振部材２１ａがｚ方向の正の方向の動きを抑制し、防振部材２１ｂがｚ方向の負の方向の動きを抑制する。これにより、傾斜磁場コイル１０３に設置されるＲＦシールドとＷＢコイル１０７との位置関係の変化による画質劣化を抑えることができる。なお、図示の例では、各支持部材３０ａ，３０ｂが静磁場磁石１０１の端面に取り付けられる場合を説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、ボアチューブ１４の軸方向の動きを抑制可能であれば、支持部材３０ａ，３０ｂのうちいずれか一方が静磁場磁石１０１の端面に取り付けられればよい。すなわち、支持部材３０ａ，３０ｂのうち少なくとも一方が、防振部材２１ａ及び／又は防振部材２１ｂを介して静磁場磁石１０１の端面に取り付けられればよい。なお、支持部材３０ａ，３０ｂのうちいずれか一方が静磁場磁石１０１の端面に取り付けられる場合については、後述する。

支持部材３０ａは、各支持部材３１ａ，３１ｂと弾性接着剤により接着される。また、支持部材３０ｂは、各支持部材３１ｃ，支持部材３１ｄと弾性接着剤により接着される。なお、弾性接着剤とは、硬化物が弾性体となる接着剤であり、例えば、シリコーン系、変成シリコーン系、若しくはウレタン系などの接着剤である。これにより、前部フレーム及び後部フレームは、振動を減衰させる効果（ダンピング効果）が増強されるので、固体伝搬音を低減させることができる。

各支持部材３１ａ〜３１ｄは、各防振部材２２ａ〜２２ｄを介してボアチューブ１４の端部を支持する。各防振部材２２ａ〜２２ｄは、ゴムやエラストマーなどの防振材により形成される。図示の例では、支持部材３１ａは、防振部材２２ａを介してボアチューブ１４の寝台側の端部を支持する。また、支持部材３１ｂは、防振部材２２ｂを介してボアチューブ１４の寝台側の端部を支持する。また、支持部材３１ｃは、防振部材２２ｃを介してボアチューブ１４の反寝台側の端部を支持する。また、支持部材３１ｄは、防振部材２２ｄを介してボアチューブ１４の反寝台側の端部を支持する。なお、防振部材２２ｄは、図示されないが、ｙｚ平面に対して防振部材２２ｃの位置と対称な位置に配置される。

また、各支持部材３１ａ〜３１ｄは、プラスチックやステンレス（ＪＩＳ規格におけるＳＵＳ３１６）などの材料で形成される。これは、静磁場磁石１０１の内側の領域に対応する部材は、傾斜磁場コイル１０３から漏えいする傾斜磁場の影響を受ける可能性が考えられるからである。つまり、傾斜磁場コイル１０３の両端部から傾斜磁場がｚ方向に漏えいするため、導電性や磁性を有する材料には渦電流が生じて振動してしまう可能性がある。このため、ｚ方向から見て静磁場磁石１０１の内側の領域に対応する部材は、非導電性及び非磁性のうち少なくとも一方の性質を有する材料であることが好ましい。なお、各支持部材３１ａ〜３１ｄは、プラスチックやステンレスに限らず、非導電性及び非磁性のうち少なくとも一方の性質を有する材料であれば形成される。また、各支持部材３１ａ〜３１ｄに限らず、前部フレームや後部フレームを形成する部材のうち、静磁場磁石１０１の内側の領域に対応する部材は、非導電性及び非磁性のうち少なくとも一方の性質を有する材料で形成されるのが好ましい。つまり、架台１０のｘｙｚ座標系において、ｘ座標とｙ座標とが静磁場磁石１０１の内径に含まれる領域に対応する位置の部材は、非導電性及び非磁性のうち少なくとも一方の性質を有する材料で形成されるのが好ましい。

また、支持部材３０ａ，３０ｂ及び支持部材３１ａ〜３１ｄは、中空に形成され、形成された中空の領域に防振性を有するゲル状の材料が充填される。なお、防振性を有するゲル状の材料としては、シリコーンゲルやウレタンゲルなどのゲル状の防振材が適用されるが、これに限らず、任意のゲル状（若しくはゼリー状）の材料が適用可能である。これにより、支持部材３０ａ，３０ｂ及び支持部材３１ａ〜３１ｄは、振動を減衰させる効果が増強されるので、固体伝搬音を低減させることができる。

支持部材３２ａ，３２ｂは、静磁場磁石１０１の軸方向の長さより長い部材であって、磁石足１２ａ〜１２ｄにより支持される。図示の例では、支持部材３２ａは、磁石足１２ａ及び磁石足１２ｄを軸方向に貫通するように支持される。また、支持部材３２ｂは、磁石足１２ｂ及び磁石足１２ｃを軸方向に貫通するように支持される。また、各支持部材３２ａ，３２ｂは、それぞれ中空に形成される。これにより、各支持部材３２ａ，３２ｂは、形成された中空の領域（空洞）に、架台１０を運搬するための治具を取り付けることができる。なお、運搬用の治具を取り付ける場合には、各支持部材３２ａ，３２ｂは、ｙｚ平面に対して互いに対称な位置に設置されるのが好ましい。

各支持部材３２ａ，３２ｂは、防振部材２３ａ〜２３ｄを介して前部フレーム及び後部フレームを支持する。各防振部材２３ａ〜２３ｄは、ゴムやエラストマーなどの防振材により形成される。図示の例では、支持部材３２ａは、防振部材２３ａを介して支持部材３０ａを支持する。また、支持部材３２ａは、防振部材２３ｄ（図示せず）を介して支持部材３０ｂを支持する。また、支持部材３２ｂは、防振部材２３ｂを介して支持部材３０ａを支持する。また、支持部材３２ｂは、防振部材２３ｃを介して支持部材３０ｂを支持する。なお、防振部材２３ｄは、図示されないが、ｙｚ平面に対して防振部材２３ｃの位置と対称な位置に配置される。

ここで、防振部材２３ａは、防振部材２３ｄのばね定数とは異なるばね定数の防振材により形成される。また、防振部材２３ｂは、防振部材２３ｃのばね定数とは異なるばね定数の防振材により形成される。すなわち、前部フレームの下面に設置される防振部材２３ａ，２３ｂのばね定数は、後部フレームの下面に設置される防振部材２３ｃ，２３ｄのばね定数とは異なる。これは、ボアチューブ１４への固体伝搬振動の伝搬経路に対応する前部フレームと後部フレームとのばね定数を異ならせることで、ボアチューブ１４の共振条件を変え、ボアチューブ１４における共振を防止するためである。

下部フレームの軸方向における両端部と床面との間には、防振部材２４ａ〜２４ｄが配置される。図示の例では、支持部材３２ａの寝台側の端部と床面との間に、防振部材２４ａが配置される。また、支持部材３２ａの反寝台側の端部と床面との間に、防振部材２４ｄが配置される。また、支持部材３２ｂの寝台側の端部と床面との間に、防振部材２４ｂが配置される。また、支持部材３２ｂの寝台側の端部と床面との間に、防振部材２４ｃが配置される。なお、防振部材２４ｄは、図示されないが、ｙｚ平面に対して防振部材２４ｃの位置と対称な位置に配置される。

ここで、防振部材２４ａ〜２４ｄは、防振部材２０ａ〜２０ｄのばね定数とは異なるばね定数の防振材により形成される。すなわち、下部フレームの下面に設置される防振部材２４ａ〜２４ｄのばね定数は、磁石足１２ａ〜１２ｄの下面に設置される防振部材２０ａ〜２０ｄのばね定数とは異なる。これは、下部フレームと床面との間で伝わる固体伝搬振動による下部フレームの共振を防止するためである。

上述したように、実施形態に係るＭＲＩ装置１００において、磁石足１２ａ〜１２ｄを起点とした構造によりボアチューブ１４が支持される。言い換えると、ＭＲＩ装置１００において、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動は、磁石足１２ａ〜１２ｄを経てボアチューブ１４へ伝搬する。これによれば、例えば、磁石足１２ａ〜１２ｄを経ずに伝搬する場合と比較して、固体伝搬振動の伝搬経路が長くなる。例えば、固体伝搬振動が傾斜磁場コイル１０３を収容する密閉容器からボアチューブ１４に伝搬する場合や、静磁場磁石１０１の端面から支持部材を経由してボアチューブ１４に伝搬する場合と比較して、固体伝搬振動の伝搬経路が長くなる。このため、実施形態に係るＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動を伝搬経路の長さに応じて減衰（低減）させることができる。

図４〜図６は、実施形態に係るＭＲＩ装置１００による効果を説明するための図である。図４には、架台１０の内部構造を軸方向から見た図を例示する。また、図５には、静磁場磁石１０１の中心軸を通るｙｚ平面における断面図を例示する。また、図６には、図５に例示の静磁場磁石１０１の拡大図を例示する。なお、図４〜図６において、波形の図は、図示した位置における固体伝搬振動を示し、波形の大きさは振動の大きさに対応する。また、図４〜図６において、矢印の図は、固体伝搬振動が伝搬する方向を示し、矢印の太さは振動の大きさに対応する。

図４及び図５に示すように、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動は、静磁場磁石１０１を経て磁石足１２ａ〜１２ｄへ伝搬する。そして、固体伝搬振動は、磁石足１２ａ〜１２ｄにより支持される下部フレーム（支持部材３２ａ，３２ｂ）を経て前部フレーム（支持部材３０ａ，３１ａ，３１ｂ）及び後部フレーム（支持部材３０ｂ，３１ｃ，３１ｄ）へと伝わり、最終的にボアチューブ１４へ伝搬する。言い換えると、ＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３から磁石足１２ａ〜１２ｄへの伝搬経路と、磁石足１２ａ〜１２ｄからボアチューブ１４への伝搬経路とが互いに交わらないように構成されることにより、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動が磁石足１２ａ〜１２ｄを経由することとなる。これにより、例えば、磁石足１２ａ〜１２ｄを経ずに伝搬する場合と比較して、固体伝搬振動の伝搬経路が長くなるので、実施形態に係るＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動を低減させることができる。具体的には、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動は、静磁場磁石１０１、磁石足１２ａ〜１２ｄ、下部フレーム、前部フレーム（又は後部フレーム）、ボアチューブ１４の順に伝搬することで、伝搬距離に応じて減衰することとなる（図４及び図５の波形及び矢印を参照）。

ここで、磁石足１２ａ〜１２ｄは、静磁場磁石１０１及び架台１０に搭載される構造物の重量を支えているため、ＭＲＩ装置１００の構造物の中でも剛性がかなり高いという特徴がある。また、磁石足１２ａ〜１２ｄは、床面に接触しているため、振動エネルギーを床面に分散させることができる。したがって、磁石足１２ａ〜１２ｄへ伝搬した固体伝搬振動は、磁石足１２ａ〜１２ｄの剛性と床面への振動エネルギーの分散によって減衰される。

また、図６に示すように、静磁場磁石１０１は、静磁場磁石１０１の内周面を形成する板部材１０１ａと、端面を形成する板部材１０１ｂと、外周面を形成する板部材１０１ｃとによって形成され、その内部に超伝導コイルが収容された構造である。このため、静磁場磁石１０１に伝搬した固体伝搬振動は、板部材１０１ａ、板部材１０１ｂ、板部材１０１ｃの順に伝搬する。つまり、静磁場磁石１０１に伝搬した固体伝搬振動は、静磁場磁石１０１の内部を磁石足１２ａ〜１２ｄに向かって直線的に伝搬するのではなく、静磁場磁石１０１の表面を回り込むように伝搬する。このように、実施形態に係るＭＲＩ装置１００は、静磁場磁石１０１の表面上の距離を利用して、固体伝搬振動を低減させることができる。

以上、実施形態に係るＭＲＩ装置１００によれば、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬振動の伝搬経路を長くすることにより、伝搬経路の長さに応じて減衰させることができる。この結果、ＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬音を低減させることができる。

なお、図２及び図３において、支持部材３０ａ，３０ｂは、それぞれ防振部材２１ａ，２１ｂを介して静磁場磁石１０１の端面に取り付けられると説明したが、これは、ボアチューブ１４（及びＷＢコイル１０７）の軸方向（ｚ方向）の動き（揺れ）を抑制するためである。言い換えると、ボアチューブ１４の重量及びボアチューブ１４にかかる重量（寝台レール１５の重量や被検体Ｐの体重など）は、支持部材３２ａ，３２ｂによって支持される。つまり、ＭＲＩ装置１００は、ボアチューブ１４の重量及びボアチューブ１４にかかる重量を支持するために静磁場磁石１０１の端面に取り付けられる場合と比較して、柔らかい防振材を防振部材２１ａ，２１ｂとして適用することができる。このため、ＭＲＩ装置１００は、静磁場磁石１０１の端面から防振部材２１ａ，２１ｂを介して支持部材３０ａ，３０ｂに伝わる固体伝搬振動を減衰させることができる。

また、図２及び図３において、寝台レール１５は、ボアチューブ１４によって支持される。このため、ボアチューブ１４によって支持されず、寝台レール１５の両端が支持部材（例えば、前部フレーム及び後部フレーム）によって支持される場合と比較して、寝台レール１５の剛性を下げることが可能となる。この結果、ＭＲＩ装置１００においては、寝台レール１５を軽量化及び低コスト化することが可能となる。

また、図２及び図３において、ボアチューブ１４の重量及びボアチューブ１４にかかる重量は、ボアチューブ支持構造体によって支持される。このため、ボアチューブ１４の重量及びボアチューブ１４にかかる重量が傾斜磁場コイル１０３にかからないので、例えば、比較的軟らかい真空シール部材によって傾斜磁場コイル１０３の端部を塞ぐ静音化技術などを併用することが可能となる。

なお、図２〜図６に図示した内容はあくまで一例であり、必ずしも図示の構成に限定されるものではない。例えば、上記の例では、各支持部材３２ａ，３２ｂが静磁場磁石１０１の軸方向の長さより長い部材である場合を説明したが、これに限定されるものではない。例えば、各支持部材３２ａ，３２ｂが軸方向における中央付近で分割され、前部フレームと後部フレームとを個別に支持する構造であってもよい。ただし、図示したように、各支持部材３２ａ，３２ｂが軸方向に連続した構造である方が剛性が高く、ボアチューブ１４の重量及びボアチューブ１４にかかる重量を支える上で有用である。

また、上記の例では、説明の都合上、前部フレームと後部フレームとを区別して説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、前部フレームと後部フレームとが同一の部材により構成される場合には、両者が区別される必要はない。

また、上記の例では、前部フレーム及び後部フレームが３つの部材（前部フレームは支持部材３０ａ，３１ａ，３１ｂ）により形成される場合を説明したが、実施形態はこれに限定されるものではなく、任意数の部材を組み合わせて構成されてもよい。

また、上記の例では、ボアチューブ１４がボアチューブ支持構造体により直接的に支持される場合を説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、ボアチューブ１４は、ボアチューブ支持構造体により間接的に支持されてもよい。例えば、ボアチューブ１４は、寝台レール１５を介して間接的にボアチューブ支持構造体により支持可能である。具体的には、ボアチューブ支持構造体が寝台レール１５を支持し、寝台レール１５がボアチューブ１４を支持することとなる。なお、この場合、寝台レール１５は、ボアチューブ１４の重量及びボアチューブ１４にかかる重量を支持することが可能な程度の剛性を有する。

（その他の実施形態）
さて、これまで実施形態について説明したが、上述した実施形態以外にも、種々の異なる形態にて実施されてもよい。

（軸方向の動きの片側支持）
例えば、上記の実施形態（図２，３）では、ボアチューブ１４の軸方向の動きを抑制するために、静磁場磁石１０１の軸方向の両側から支持する場合を説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、ボアチューブ１４の軸方向の動きは、静磁場磁石１０１の軸方向の片側から支持することも可能である。

図７は、その他の実施形態に係るＭＲＩ装置１００の架台１０の構成を説明するための図である。図７には、静磁場磁石１０１の中心軸を通るｙｚ平面における断面図を例示する。なお、図７の例では、支持部材３０ａが静磁場磁石１０１の端面（寝台側の端面）に取り付けられる場合を説明するが、支持部材３０ｂが静磁場磁石１０１の端面（反寝台側の端面）に取り付けられる場合であってもよい。

図７に示すように、支持部材３０ａは、静磁場磁石１０１の寝台側の端面に段付きボルト２５を介して取り付けられる。段付きボルト２５は、その一端が防振部材２６を介して静磁場磁石１０１の端面に取り付けられる。また、段付きボルト２５は、防振部材２７及び防振部材２８を介して支持部材３０ａに取り付けられる。

ここで、防振部材２７は、ｚ方向の正の方向の動きを抑制する。また、防振部材２８は、ｚ方向の負の方向の動きを抑制する。これにより、ボアチューブ１４の軸方向の動きは、静磁場磁石１０１の軸方向の片側から支持される。

（空間形成体）
上記の実施形態では、ボアチューブ１４が磁石足から支持される場合を説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。つまり、上記の実施形態は、ボアチューブ１４に限らず、患者空間を形成する構造物（空間形成体）を磁石足から支持することで、被検体（患者）へ伝わる固体伝搬音を低減させることができる。

すなわち、空間形成体は、傾斜磁場コイル１０３の内周側において、患者空間を形成する。この場合、上述したボアチューブ支持構造体は、磁石支持部材に取り付けられ、空間形成体を支持する。ボアチューブ支持構造体は、空間形成体支持部とも称される。ここで、空間形成体としては、以下に説明する４つのパターン（第１〜第４のパターン）が適用可能である。

第１のパターンは、空間形成体が、ＷＢコイル１０７を支持するボアチューブ１４である場合である。この構成は、図２−６にて説明した通りである。なお、第１のパターンにおいて、空間（ボア）の外装面を形成する架台カバー１１（ボアカバー）は、ボアチューブ１４及びＷＢコイル１０７の内周側に配置されている（図３参照）。

第２のパターンは、空間形成体が、ボアカバーを兼ねるボアチューブ１４として形成される場合である。つまり、空間形成体は、最内周側に配置されたボアチューブである。ここで、図８を用いて、空間形成体の第２のパターンについて説明する。

図８は、その他の実施形態に係るＭＲＩ装置の架台の構成を説明するための図である。図８の左図には、架台１０の内部構造を軸方向から見た図を例示する。図８の右図には、静磁場磁石１０１の中心軸を通るｙｚ平面における断面図を例示する。なお、図８に示した構成のうち、図２及び図３において説明した構成と同様の構成については、図２及び図３と同一の符号を付し、説明を省略する。

図８に示すように、架台１０の内部には、ボアチューブ１４に代えて、ボアチューブ４０が配置される。ボアチューブ４０は、中空の略円筒形状に形成された構造であり、架台１０のボアの最内周側に配置される。ボアチューブ４０は、軸方向における架台の一端と他端とを繋ぐ形状であり、この形状を維持可能な強度を備える。ボアチューブ４０の内側には、寝台レール１５が設置される。ボアチューブ４０の内周面は塗装され、ボアの外装面（被検体から見える側の面）を形成する。

ボアチューブ４０は、磁石足１２ａ〜１２ｄを起点とした空間形成体支持部により支持される。空間形成体支持部の構成は、図２及び図３にて説明したボアチューブ支持構造体の構成と同様である。つまり、前部フレーム（支持部材３０ａ、支持部材３１ａ、及び支持部材３１ｂ）は、下部フレーム（支持部材３２ａ及び支持部材３２ｂ）の寝台側の端部において、ボアチューブ４０の端部を支持する。また、後部フレーム（支持部材３０ｂ、支持部材３１ｃ、及び支持部材３１ｄ（図示せず））は、下部フレームの反寝台側の端部において、ボアチューブ４０の端部を支持する。これによれば、ＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬音（固体伝搬振動）を低減させることができる。

なお、図８では、ＷＢコイル１０７が傾斜磁場コイル１０３により支持される場合を示したが、これに限らず、ＷＢコイル１０７は、如何なる支持機構により支持されてもよい。例えば、ＷＢコイル１０７は、ボアチューブ４０の外周面に設置されることにより支持されても良い。

第３のパターンは、空間形成体が、寝台レールと、寝台レールの上部カバーとによって形成される場合である。ここで、図９を用いて、空間形成体の第３のパターンについて説明する。

図９は、その他の実施形態に係るＭＲＩ装置の架台の構成を説明するための図である。図９の左図には、架台１０の内部構造を軸方向から見た図を例示する。図９の右図には、静磁場磁石１０１の中心軸を通るｙｚ平面における断面図を例示する。なお、図９に示した構成のうち、図２及び図３において説明した構成と同様の構成については、図２及び図３と同一の符号を付し、説明を省略する。

図９に示すように、架台１０の内部には、ボアチューブ１４に代えて、寝台レール１５と、寝台レール１５の上部カバー５０とによって形成される空間形成体が配置される。寝台レール１５は、被検体が載置される天板１０５ａを移動可能に支持する。寝台レール１５は、上部カバー５０が取り付けられる点を除き、図２及び図３にて説明した構成と同様の構成を有する。

上部カバー５０は、寝台レール１５の上部の空間を傾斜磁場コイル１０３の内周に沿って覆う構造である。上部カバー５０は、架台１０のｘｙ断面における形状がＣ型形状になるように湾曲された部材により形成される。この上部カバー５０が寝台レール１５の上部に配置されることにより、患者空間が形成される。上部カバー５０は、患者空間を維持可能な強度を備える。上部カバー５０の内周面は塗装され、ボアの外装面（被検体から見える側の面）を形成する。

図９の空間形成体（寝台レール１５及び上部カバー５０）は、磁石足１２ａ〜１２ｄを起点とした空間形成体支持部により支持される。空間形成体支持部の構成は、図２及び図３にて説明したボアチューブ支持構造体の構成と同様である。つまり、前部フレーム（支持部材３０ａ、支持部材３１ａ、及び支持部材３１ｂ）は、下部フレーム（支持部材３２ａ及び支持部材３２ｂ）の寝台側の端部において、空間形成体の端部を支持する。具体的には、支持部材３１ａ及び支持部材３１ｂは、寝台レール１５及び上部カバー５０それぞれを支持する。また、後部フレーム（支持部材３０ｂ、支持部材３１ｃ、及び支持部材３１ｄ（図示せず））は、下部フレームの反寝台側の端部において、空間形成体の端部を支持する。具体的には、支持部材３１ｃ及び支持部材３１ｄは、寝台レール１５及び上部カバー５０それぞれを支持する。これによれば、ＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬音（固体伝搬振動）を低減させることができる。

なお、図９では、ＷＢコイル１０７が傾斜磁場コイル１０３により支持される場合を示したが、これに限らず、ＷＢコイル１０７は、如何なる支持機構により支持されてもよい。例えば、ＷＢコイル１０７は、図９の空間形成体（寝台レール１５及び上部カバー５０）の外周面に設置されることにより支持されても良い。

第４のパターンは、空間形成体が、ＷＢコイル１０７を含むコイル構造体によって形成される場合である。ここで、図１０を用いて、空間形成体の第４のパターンについて説明する。

図１０は、その他の実施形態に係るＭＲＩ装置の架台の構成を説明するための図である。図１０の左図には、架台１０の内部構造を軸方向から見た図を例示する。図１０の右図には、静磁場磁石１０１の中心軸を通るｙｚ平面における断面図を例示する。なお、図１０に示した構成のうち、図２及び図３において説明した構成と同様の構成については、図２及び図３と同一の符号を付し、説明を省略する。

図１０に示すように、架台１０の内部には、ボアチューブ１４に代えて、コイル構造体６０が配置される。コイル構造体６０は、例えば、ＷＢコイル１０７の導体パターンを含むように含浸されて形成される。コイル構造体６０は、中空の略円筒形状に形成された構造である。コイル構造体６０は、軸方向における架台の一端と他端とを繋ぐ形状であり、この形状を維持可能な強度を備える。コイル構造体６０の内側には、寝台レール１５が設置される。コイル構造体６０の内周面は塗装され、ボアの外装面を形成する。

コイル構造体６０は、磁石足１２ａ〜１２ｄを起点とした空間形成体支持部により支持される。空間形成体支持部の構成は、図２及び図３にて説明したボアチューブ支持構造体の構成と同様である。つまり、前部フレーム（支持部材３０ａ、支持部材３１ａ、及び支持部材３１ｂ）は、下部フレーム（支持部材３２ａ及び支持部材３２ｂ）の寝台側の端部において、コイル構造体６０の端部を支持する。また、後部フレーム（支持部材３０ｂ、支持部材３１ｃ、及び支持部材３１ｄ（図示せず））は、下部フレームの反寝台側の端部において、コイル構造体６０の端部を支持する。これによれば、ＭＲＩ装置１００は、傾斜磁場コイル１０３に由来する固体伝搬音（固体伝搬振動）を低減させることができる。

なお、図１０では、コイル構造体６０がボアカバーを兼ねる構成を説明したが、これに限らず、コイル構造体６０の内周側に別の構造物としてボアカバーが配置されても良い。

また、図８〜１０に図示した内容はあくまで一例であり、図示の例に限定されるものではない。例えば、図８〜図１０に図示した構成のうち、空間形成体に関する構成以外の構成については、任意に変更可能である。

（寝台レールの構造）
また、上記の実施形態において例示した寝台レール１５の構造はあくまで一例であり、これに限定されるものではない。例えば、寝台レールは、２つの部材により構成されてもよい。

図１１は、その他の実施形態に係る寝台レールの構成を説明するための図である。図１１には、架台１０の内部構造を軸方向から見た図を例示する。なお、図１１に示した構成のうち、図２において説明した構成と同様の構成については、図２と同一の符号を付し、説明を省略する。

図１１に示すように、架台１０には、２本の寝台レール７０，７１が設置される。寝台レール７０，７１それぞれは、軸方向に延在する棒状の部材であり、天板１０５ａを移動可能に支持する。なお、寝台レール７０，７１は、上述した４つのパターンの空間形成体のうち、第１、第２、及び第４のパターンに適用可能である。

以上説明した少なくともひとつの実施形態によれば、傾斜磁場コイルに由来する固体伝搬音を低減させることができる。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

１００ ＭＲＩ装置
１０１ 静磁場磁石
１０３ 傾斜磁場コイル
１４ ボアチューブ
１２ａ〜１２ｄ 磁石足

Claims (18)

1. 静磁場磁石と、
   前記静磁場磁石の内周側に設けられた傾斜磁場コイルと、
   前記傾斜磁場コイルの内周側において、患者空間を形成する空間形成体と、
   前記静磁場磁石を床面で支持する磁石支持部材と、
   前記磁石支持部材に取り付けられ、前記空間形成体を支持する空間形成体支持部と
   を備えた、磁気共鳴イメージング装置。
2. 前記空間形成体は、ＷＢ（Whole Body）コイルを支持するボアチューブである、
   請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
3. 前記空間形成体は、最内周側に配置されたボアチューブである、
   請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
4. 前記空間形成体は、被検体が載置される天板を移動可能に支持する寝台レールと、前記寝台レールの上部の空間を前記傾斜磁場コイルの内周に沿って覆う上部カバーとによって形成される、
   請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
5. 前記空間形成体は、ＷＢ（Whole Body）コイルを含むコイル構造体である、
   請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
6. 前記傾斜磁場コイルは、前記静磁場磁石の内周側と前記傾斜磁場コイルの外周側との間に設けられたコイル支持部材により支持される、
   請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
7. 前記空間形成体支持部は、
   前記静磁場磁石の軸方向に延びる部材であって、前記磁石支持部材により支持される第１支持部材と、
   前記空間形成体と前記第１支持部材とを前記静磁場磁石の軸方向の端面で接続する第２支持部材とを有する、
   請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
8. 前記磁石支持部材は、前記静磁場磁石と前記床面との間の空間であって、前記静磁場磁石の軸方向を通る垂直な面で区分される２つの空間のそれぞれに、少なくとも一つずつ配置され、
   前記第１支持部材は、前記磁石支持部材を前記軸方向に貫通するように支持される、
   請求項７に記載の磁気共鳴イメージング装置。
9. 前記第１支持部材は、中空に形成される、
   請求項７又は８に記載の磁気共鳴イメージング装置。
10. 前記第２支持部材は、複数の部材によって形成され、
    前記複数の部材それぞれは、弾性接着剤により接着される、
    請求項７〜９のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
11. 前記第２支持部材を形成する前記複数の部材のうち、前記静磁場磁石の内側の領域に対応する部材は、非導電性及び非磁性のうち少なくとも一方の性質を有する材料で形成される、
    請求項１０に記載の磁気共鳴イメージング装置。
12. 前記第２支持部材は、中空に形成され、当該中空の領域に防振性を有するゲル状の材料が充填される、
    請求項７〜１１のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
13. 前記第１支持部材は、第１防振部材を介して前記第２支持部材を支持する、
    請求項７〜１２のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
14. 前記第１防振部材が前記第１支持部材の軸方向の両端それぞれに配置される場合、両端に配置される前記第１防振部材のそれぞれは、互いに異なるばね定数の防振材により形成される、
    請求項１３に記載の磁気共鳴イメージング装置。
15. 前記第２支持部材は、前記静磁場磁石の端面に第２防振部材を介して取り付けられる、
    請求項７〜１４のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
16. 前記第２防振部材は、制振合金で形成される、
    請求項１５に記載の磁気共鳴イメージング装置。
17. 前記第１支持部材の軸方向における一方の端部と床面との間に、第３防振部材が配置され、
    前記第１支持部材の軸方向における他方の端部と床面との間に、第４防振部材が配置される、
    請求項７〜１６のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
18. 前記第３防振部材は、前記第４防振部材のばね定数とは異なるばね定数の防振材により形成される、
    請求項１７に記載の磁気共鳴イメージング装置。

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