WO2015170632A1

WO2015170632A1 - 磁気共鳴イメージング装置

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Publication number: WO2015170632A1
Application number: PCT/JP2015/062737
Authority: WO
Inventors: 源太山内; 吉村　保廣; 茂春大久保
Original assignee: 株式会社日立メディコ
Priority date: 2014-05-08
Filing date: 2015-04-27
Publication date: 2015-11-12
Also published as: JPWO2015170632A1; JP6296576B2

Abstract

磁気共鳴イメージング装置（１）は、外装カバー（１０）の振動による騒音を抑制するために、外装カバー（１０）と静磁場発生手段（３ｂ）との間の層（１１）に外装カバー支持部材（１３）を備えている。このとき、外装カバー支持部材（１３）は、２つの連結柱（６ａ，６ｂ）の中心をつなぐ直線（ｍ）上でかつ連結柱（６ａ）側の開口部（３ｄ）上の点（ａ）を、開口部（３ｄ）の表面に沿って５５度～７５度あるいは１１０度～１３０度回転させた位置（１２ａ，１２ｂ）もしくはその両方の位置に設けられる。

Description

磁気共鳴イメージング装置

　本発明は、核磁気共鳴現象を利用した磁気共鳴イメージング装置に関する。

　磁気共鳴イメージング装置（以降、ＭＲＩ(Magnetic Resonance Imaging)装置と称する。）は、原子核の核磁気共鳴現象を利用して、撮影空間内に置かれた被検体の物理的性質を表す磁気共鳴画像を得る装置である。一般的に、ＭＲＩ装置には、撮影空間に均一な静磁場を発生させる静磁場発生手段と、被検体の生体組織の原子核に核磁気共鳴を生じさせるための高周波電磁波を照射する照射コイルと、核磁気共鳴信号を受信する受信コイルと、核磁気共鳴信号に位置情報を付与するために静磁場に重ねて線形な傾斜磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、を備えている。

　撮影時には、所望のパルスシーケンスに従い、均一な静磁場中に置かれた被検体にｘ，ｙ，ｚ軸方向に線形傾斜磁場が重ねられ、被検体の原子スピンがラーモア周波数と呼ばれる共鳴周波数で磁気的に励起される。この励起に伴い、核磁気共鳴信号が検出され、被検体の磁気共鳴画像（例えば、２次元断層像）が撮影される。

　このように、撮影時において、線形傾斜磁場を生成するために、静磁場中に配置された傾斜磁場コイルにパルス的な電流を流す。このとき、静磁場と傾斜磁場コイルを流れる電流とによって、傾斜磁場コイルにローレンツ力が作用し、傾斜磁場コイルが振動する。この傾斜磁場コイルの振動によって、傾斜磁場コイルの周囲の空気が振動して、騒音が発生する。また、傾斜磁場コイルの振動が支持部材を介して静磁場発生手段に伝搬し、静磁場発生手段が振動して、静磁場発生手段の周囲の空気が振動して、騒音が発生する。

　近年では、撮影画像の画質向上や撮影に要する時間の短縮化のために、静磁場強度を大きくしたり、傾斜磁場コイルに流す電流を大きくしたりしたＭＲＩ装置が知られている。このようなＭＲＩ装置では、傾斜磁場コイルに作用するローレンツ力が増大し、傾斜磁場コイルの振動が増大し、騒音が増大する。騒音は、被検体にとって精神的・肉体的負担となるため、騒音の増大は被検体にさらなる精神的・肉体的負担を強いることとなる。

　このように、ＭＲＩ装置の騒音は、傾斜磁場コイルや静磁場発生手段の振動が原因で放射される音である。また、一般的に、ＭＲＩ装置には、静磁場発生手段全体を覆う外装カバーが設置されている。この外装カバーは静磁場発生手段と接触しているため、静磁場発生手段の振動が外装カバーに伝搬し、外装カバーが振動して、外装カバーの周囲の空気が振動して、騒音が発生する。こうした静磁場発生手段の振動が原因で発生する騒音を低減する技術として、特許文献１および特許文献２が開示されている。

　特許文献１（特開２００９－２８２５９号公報）には、静磁場発生手段と、傾斜磁場発生手段と、被検体に高周波磁場を照射する高周波磁場照射手段と、被検体からの核磁気共鳴信号を受信する受信手段と、上記静磁場発生手段、傾斜磁場発生手段及び高周波磁場照射手段を覆う外装カバーを備えた磁気共鳴イメージング装置において、上記外装カバーは、上記静磁場発生手段、傾斜磁場発生手段及び高周波磁場照射手段に対して非接触とされていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置が開示されている（請求項１参照）。

　また、特許文献２（特開２００７－１３５９４８号公報）には、ほぼ均一な静磁場を発生する静磁場発生手段と、この静磁場発生手段による静磁場領域内に配置された傾斜磁場を生成する傾斜磁場コイルと、被検体に高周波信号を照射する照射コイルと、前記被検体からの核磁気共鳴信号を受信する受信コイルと、前記要素で構成されたスキャナガントリィと、このスキャナガントリィを覆う外装カバーとを備えた磁気共鳴イメージング装置において、前記外装カバーを前記静磁場発生手段から非接触に支持する非接触支持手段を備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置が開示されている（請求項１参照）。そして、前記非接触支持手段は、前記外装カバーと前記静磁場発生手段との間に補強部材を設けて成り、この補強部材で前記外装カバーを前記静磁場発生手段から非接触に支持することが開示されている（請求項２参照）。

特開２００９－２８２５９号公報特開２００７－１３５９４８号公報

　特許文献１に開示された磁気共鳴イメージング装置では、静磁場発生手段と外装カバーとを非接触とすることで、傾斜磁場コイルから静磁場発生手段へ伝搬する振動が外装カバーへ伝搬しないように構成されている。これにより、外装カバーの振動が生じる原因は、静磁場発生手段の振動により放射される騒音のみとなるため、外装カバーの振動が低減し、ＭＲＩ装置の騒音が低減する。

　この特許文献１に開示された技術は、円筒状の傾斜磁場コイルおよび静磁場発生手段を備えるトンネル型（ドーナツ型）などと呼ばれるＭＲＩ装置に有効である。トンネル型（ドーナツ型）ＭＲＩ装置では、外装カバーの形状は剛性が高い円筒状であり、静磁場発生手段と外装カバーとを非接触にする構造としても、被検体の荷重による外装カバーの撓みの問題は発生しにくい。

　しかし、円形状の傾斜磁場コイルおよび静磁場発生手段が上下に配置されるオープン型と呼ばれるＭＲＩ装置においては、特許文献１に開示された技術を適用することは困難である。オープン型ＭＲＩ装置では、外装カバーの形状は平板状であり、トンネル型（ドーナツ型）ＭＲＩ装置の外装カバーの形状である円筒状と比較して剛性が低く、静磁場発生手段と外装カバーとを非接触にする構造とすると、被検体の荷重による外装カバーの撓みの問題が発生する。外装カバーに撓みが生じると、被検体の姿勢や位置がずれ、ＭＲＩ装置のオペレータが意図する姿勢や位置での撮影ができないという問題が生じる。

　なお、オープン型ＭＲＩ装置において、特許文献１に開示された技術を適用し、さらに外装カバーの撓みを防止するため、外装カバーの剛性を高める方法が考えられる。外装カバーの剛性を高める方法としては、外装カバーの厚さを増加させる方法や外装カバーの材料を剛性が高い材料に変更する方法が考えられる。

　しかし、ＭＲＩ装置において、これらの方法を実現するのは容易ではない。前者の外装カバーの厚さを増加させる方法は、撮影空間を狭めることになり、被検体にとって閉塞感や圧迫感を与えてしまうという問題が生じる。撮影空間を狭めない場合は、静磁場発生手段を高さ方向に大きくせざるを得ず、こうするとＭＲＩ装置の高さ方向の大型化を招くこととなる。また、後者の外装カバーの材料を剛性が高い材料に変更する方法は、特に、被検体が置かれる撮影空間側の外装カバーはＭＲＩ装置特有の問題である磁気共鳴画像への悪影響を避けるために、非磁性かつ非導電性のガラスエポキシ等といった繊維強化樹脂を使用せざるを得ないため、材料の選択の余地は非常に少ない。

　このように、特許文献１に開示された技術では、オープン型ＭＲＩ装置における被検体の荷重による外装カバーの撓みの問題を解決することは困難である。

　特許文献２に開示された磁気共鳴イメージング装置では、オープン型ＭＲＩ装置において、静磁場発生手段と外装カバーの間に補強部材（非接触支持手段）を備え、この補強部材で静磁場発生手段を完全に覆い、静磁場発生手段と外装カバーが直接的に接触しないようにすることで、傾斜磁場コイルから静磁場発生手段へ伝搬する振動が外装カバーへ直接的に伝搬しないように構成されている。これにより、外装カバーに伝搬する振動が低減し、ＭＲＩ装置の騒音が低減する。

　また、特許文献２に開示された磁気共鳴イメージング装置では、外装カバーは補強部材によって全面を完全に支持されているため、被検体の荷重による外装カバーの撓みを防止できる。この点においては、特許文献１に開示された技術で課題となっていたオープン型ＭＲＩ装置における被検体の荷重による外装カバーの撓みの問題を解決している。

　しかし、特許文献２に開示された技術では、静磁場発生手段の表面全体は補強部材と完全に接触しており、また、補強部材の表面全面も外装カバーと完全に接触している。このため、静磁場発生手段と外装カバーは直接的ではないが、間接的には完全に接触している。即ち、補強部材は静磁場発生手段の表面全体の振動を受けるため、静磁場発生手段から補強部材に伝搬する振動を効果的に低減することができない。また、外装カバーは補強部材の表面全体の振動を受けるため、補強部材から外装カバーに伝搬する振動を効果的に低減できない。このため、静磁場発生手段から外装カバーに伝搬する振動を効果的に低減することができないという問題があった。

　特に、被検体が置かれる撮影空間付近に備えられる補強部材は、外装カバーの撓みを防止するためにある程度剛性が高く、かつ、ＭＲＩ装置特有の問題である磁気共鳴画像への悪影響を避けるために、前記のような繊維強化樹脂を使用せざるを得ない。この繊維強化樹脂のような材料は、一般に硬い材料であり振動を伝搬しやすいため、静磁場発生手段から外装カバーに伝搬する振動を効果的に低減することができないという問題があった。

　そこで、本発明は、外装カバーの撓みを防止し、騒音を低減できる磁気共鳴イメージング装置（ＭＲＩ装置）を提供することを課題とする。

　このような課題を解決するために、本発明に係る磁気共鳴イメージング装置は、撮影空間を挟んで上下方向に対向して配置され、該撮影空間に垂直方向の静磁場を発生させるための静磁場発生手段と、対向して配置された前記静磁場発生手段を連結する２本の連結柱と、傾斜磁場コイル支持部材を介して前記静磁場発生手段に支持され、前記静磁場に傾斜した磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、前記静磁場発生手段および前記連結柱を覆う外装カバーと、前記被検体を前記撮影空間に案内するための寝台と、を備え、前記外装カバーは、前記静磁場発生手段の撮影空間側との間に層を備え、前記静磁場発生手段の前記撮影空間側の表面上において、前記連結柱２本の中心を直線で結び、前記連結柱２本のうち前記寝台と対向する連結柱側の前記直線上の角度を０度とし、他方の連結柱側の前記直線上の角度を１８０度としたとき、前記表面上に沿って角度が５５度～７５度あるいは１１０度～１３０度もしくはその両方の範囲に、前記外装カバーを支持する外装カバー支持部材を有することを特徴とする。

　また、本発明に係る磁気共鳴イメージング装置は、撮影空間を挟んで上下方向に対向して配置され、該撮影空間に垂直方向の静磁場を発生させるための静磁場発生手段と、対向して配置された前記静磁場発生手段を連結する２本の連結柱と、傾斜磁場コイル支持部材を介して前記静磁場発生手段に支持され、前記静磁場に傾斜した磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、前記静磁場発生手段および前記連結柱を覆う外装カバーと、前記静磁場発生手段の上側に配置され、前記静磁場発生手段の超電導コイルを超電導状態に保つための冷却装置と、を備え、前記外装カバーは、前記静磁場発生手段の撮影空間側との間に層を備え、前記静磁場発生手段の前記撮影空間側の表面上において、前記連結柱２本の中心を直線で結び、前記連結柱２本のうち前記冷却装置が配置される側とは反対側の連結柱側の前記直線上の角度を０度とし、他方の連結柱側の前記直線上の角度を１８０度としたとき、前記表面上に沿って角度が５５度～７５度あるいは１１０度～１３０度もしくはその両方の範囲に、前記外装カバーを支持する外装カバー支持部材を有することを特徴とする。

　また、本発明に係る磁気共鳴イメージング装置は、撮影空間を挟んで上下方向に対向して配置され、該撮影空間に垂直方向の静磁場を発生させるための静磁場発生手段と、対向して配置された前記静磁場発生手段を連結する２本の連結柱と、傾斜磁場コイル支持部材を介して前記静磁場発生手段に支持され、前記静磁場に傾斜した磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、前記静磁場発生手段および前記連結柱を覆う外装カバーと、を備え、前記外装カバーは、前記静磁場発生手段の撮影空間側との間に層を備え、前記静磁場発生手段の前記撮影空間側の表面上において、３００Ｈｚ～５００Ｈｚの周波数範囲における平均化処理した振動振幅が谷となる範囲に、前記外装カバーを支持する外装カバー支持部材を有することを特徴とする。

　本発明によれば、外装カバーの撓みを防止し、騒音を低減できる磁気共鳴イメージング装置（ＭＲＩ装置）を提供することができる。

第１実施形態に係るＭＲＩ装置の斜視図である。第１実施形態に係るＭＲＩ装置のＡ－Ａ概略断面図である。第１実施形態に係るＭＲＩ装置のＢ－Ｂ概略断面図である。第１実施形態に係るＭＲＩ装置のＣ－Ｃ概略断面図である。振動の固有周波数の計算結果例のうち、（ａ）は固有周波数Ｆ１の解析結果であり、（ｂ）は固有周波数Ｆ２の解析結果であり、（ｃ）は固有周波数Ｆ３の解析結果であり、（ｄ）は固有周波数Ｆ４の解析結果である。３００Ｈｚ～５００Ｈｚの周波数範囲における開口面上の振動の固有周波数解析結果において、各周波数で振動振幅の最大値で正規化し、正規化した振動振幅に対して統計的な平均化処理を施した解析結果である。第２実施形態に係るＭＲＩ装置のＢ－Ｂ概略断面図である。第３実施形態に係るＭＲＩ装置のＢ－Ｂ概略断面図である。第４実施形態に係るＭＲＩ装置のＣ－Ｃ概略断面図である。第５実施形態に係るＭＲＩ装置のＣ－Ｃ概略断面図である。参考例に係るＭＲＩ装置のＢ－Ｂ概略断面図である。第１参考例に係るＭＲＩ装置のＣ－Ｃ概略断面図である。第２参考例に係るＭＲＩ装置のＣ－Ｃ概略断面図である。

　以下、本発明を実施するための形態（以下「実施形態」という）について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。

≪第１実施形態≫
＜ＭＲＩ装置＞
　第１実施形態に係るＭＲＩ装置１について、図１および図２を用いて説明する。図１は、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１の斜視図である。図２は、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１のＡ－Ａ概略断面図である。なお、図１および図２では、後述する外装カバー１０の図示を省略している。

　なお、以下の説明において、撮影空間１００（図２参照）の中心を原点とし、この撮影空間１００に対して、垂直方向（上下方向）をｚ軸、２本の連結柱６ａ，６ｂが配置される左右方向をｘ軸、このｘ軸に直交する前後方向をｙ軸とする。これに従うと、図２はｚｘ平面における断面図である。

　図１に示すように、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１としては、超電導磁石を適用した垂直磁場方式のオープン型ＭＲＩ装置を挙げることができる。オープン型ＭＲＩ装置とは、撮影空間１００（図２参照）のある特定の部分が開放された構造をもつＭＲＩ装置である。このオープン型ＭＲＩ装置の特徴は、一般的なドーナツ型（トンネル型）ＭＲＩ装置と比較して、被検体２００（後述する図４参照）にとって開放感が得られる点と、ＭＲＩ装置のオペレータ（図示せず）が被検体２００へアプローチしやすい点が挙げられる。

　図１に示すように、ＭＲＩ装置１は、スキャナガントリ２と、寝台８と、コンピュータ９と、を備えている。そして、図２に示すように、スキャナガントリ２は、静磁場発生手段３ａ，３ｂと、傾斜磁場コイル４ａ，４ｂと、照射コイル５ａ，５ｂと、連結柱６ａ，６ｂと、冷却装置７（図１参照）と、を備えている。また、図１および図２では、図示を省略するが、スキャナガントリ２は、外装カバー１０（後述する図４参照）で覆われている。

　図１および図２に示すように、ＭＲＩ装置１には、静磁場発生手段３ａと静磁場発生手段３ｂが撮影空間１００を挟んで上下方向に対向して配置されており、上下の静磁場発生手段３ａ，３ｂは２本の連結柱６ａ，６ｂで連結されている。図２および後述する図３に示すように、連結柱６ａと連結柱６ｂは、撮影空間１００を中心としてほぼ点対称に配置されている。なお、静磁場発生手段３ａ，３ｂや連結柱６ａ，６ｂを構成する部材には、主としてステンレス鋼などの非磁性の金属系材料を用いる。

　静磁場発生手段３ａ，３ｂは、超電導コイル（図示せず）と、超電導コイルを収納する冷却容器（図示せず）と、冷却容器を収納する真空容器（図示せず）と、を有している。超電導コイルは、円環状に巻かれており、撮影空間１００に均一な垂直（ｚ軸方向）静磁場を発生させる。超電導コイルは、円環状の冷却容器に収納される。この冷却容器には、液体ヘリウムなどの冷媒が貯蔵され、超電導コイルはこの冷媒に浸漬される。そして、超電導コイルは、冷媒により超電導特性を示す温度にまで冷却され、その冷却温度を保持する。冷却容器は、真空容器に収納され、外気と真空断熱される。また、真空容器から冷却容器への輻射による伝熱を抑制するために、真空容器と冷却容器との間には輻射シールドが配置されている。

　図２に示すように、静磁場発生手段３ａ，３ｂの撮影空間１００の側には、窪み部３ｃが設けられている。静磁場発生手段３ａ，３ｂの窪み部３ｃには、それぞれ、核磁気共鳴信号に位置情報を付与するために静磁場に重ねて線形な傾斜磁場を発生させる傾斜磁場コイル４ａ，４ｂと、被検体２００の生体組織の原子核に核磁気共鳴を生じさせるための高周波電磁波を照射する照射コイル５ａ，５ｂと、が配置されている。なお、照射コイル５ａ，５ｂは、それぞれ、傾斜磁場コイル４ａ，４ｂの近傍かつ撮影空間１００に近い側に配置されている。つまり、傾斜磁場コイル４ａおよび照射コイル５ａを内蔵した静磁場発生手段３ａと、傾斜磁場コイル４ｂおよび照射コイル５ｂを内蔵した静磁場発生手段３ｂとは、撮影空間１００を挟んで２本の連結柱６ａ，６ｂによって上下に対向して配置されている。なお、傾斜磁場コイル４ａ，４ｂは、傾斜磁場コイル支持部材４ｃを介して、静磁場発生手段３ａ，３ｂに支持されている。

　また、静磁場発生手段３ａ，３ｂ、照射コイル５ａ，５ｂ、および連結柱６ａ，６ｂは、外装カバー１０（後述する図４参照）で覆われている。なお、図１、図２（および後述する図３）では、外装カバー１０の図示を省略している。特に、後述する図４に示すように、外装カバー１０は、静磁場発生手段３ｂと照射コイル５ｂの外側を覆うように設けられている。

　また、図１および図２に示すように、ＭＲＩ装置１には、被検体２００を載せて撮影空間１００内に案内する寝台８が備えられている。寝台８は、被検体２００が撮影空間１００内に置かれたとき、被検体２００の開放感を最大化させるために、後述する図３に示すように、連結柱６ａの中心と連結柱６ｂの中心を結ぶ直線ｍと、寝台８の中心と撮影空間１００の中心とを結ぶ直線ｎと、が直交しないように設けられている。

　また、ＭＲＩ装置１は、静磁場発生手段３ａ，３ｂの超電導コイルを超電導状態に保つための冷却装置７を備えている。冷却装置７は、被検体２００の開放感を最大化させるために、静磁場発生手段３ａの上で被検体２００から見えにくい位置に配置されている。具体的には、図１に示すように、静磁場発生手段３ａの上で連結柱６ｂの側に設けられている。また、換言すれば、後述する図３に示す連結柱６ａの中心と連結柱６ｂの中心を結ぶ直線ｍと、寝台８の中心と撮影空間１００の中心とを結ぶ直線ｎとが、鋭角となる側の連結柱６ｂの上側に冷却装置７が設けられている。

　また、ＭＲＩ装置１は、静磁場発生手段３ａ，３ｂ、傾斜磁場コイル４ａ，４ｂ、照射コイル５ａ，５ｂなどに電流を供給する電源装置（図示せず）と、被検体２００の生体組織の原子核から発生した核磁気共鳴信号を受信する受信コイル（図示せず）と、その核磁気共鳴信号に基づき磁気共鳴画像を得る画像再構築装置（コンピュータ９）と、ＭＲＩ装置１全体を制御する制御装置（コンピュータ９）と、を備えている。

　次に、ＭＲＩ装置１による被検体２００の断層画像（磁気共鳴画像）の撮影の流れについて説明する。まず、静磁場発生手段３ａ，３ｂによって撮影空間１００内に均一な静磁場を発生させ、寝台８に載せた被検体２００を撮影空間１００内に置く。そして、所望のパルスシーケンスに従い、傾斜磁場コイル４ａ，４ｂに電流を流し、均一な静磁場中に置かれた被検体２００にｘ，ｙ，ｚ軸方向に線形傾斜磁場が重ねられ、被検体２００の原子スピンがラーモア周波数と呼ばれる共鳴周波数で磁気的に励起される。所望のパルスシーケンスに従い、傾斜磁場コイル４ａ，４ｂに電流を流し、被検体２００に対してｘ，ｙ，ｚ軸方向に線形傾斜磁場が重ねられる。

　また、照射コイル５ａ，５ｂから高周波信号を被検体２００に照射し、被検体２００の原子スピンがラーモア周波数と呼ばれる共鳴周波数で磁気的に励起させる。この励起に伴い、発生した核磁気共鳴信号を受信コイル（図示せず）で検出し、画像再構築装置であるコンピュータ９で信号処理により画像を再構築することで、任意断面における被検体２００の断層画像（磁気共鳴画像）を得ることができる。

＜外装カバーの支持構造＞
　次に、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１の外装カバー１０の支持構造について、図１１から図１３に示す参考例と対比しつつ、図３および図４を用いて説明する。

　まず、参考例に係るＭＲＩ装置の外装カバー１０の支持構造について、図１１から図１３を用いて説明する。図１１は、参考例に係るＭＲＩ装置のＢ－Ｂ概略断面図（ｘｙ平面における断面図）である。図１２は、第１参考例に係るＭＲＩ装置のＣ－Ｃ概略断面図（ｙｚ平面における断面図）である。図１３は、第２参考例に係るＭＲＩ装置のＣ－Ｃ概略断面図（ｙｚ平面における断面図）である。なお、図１１では、外装カバー１０の図示を省略している。

　図１１では、静磁場発生手段３ｂの撮影空間１００の側の表面（以降は、この表面を開口面３ｄと称する。）に、左下がりハッチングを付している。図１２および図１３に示すように、外装カバー１０は、照射コイル５ｂと開口面３ｄの外側を覆うように配置されている。

　ここで、前述のように、被検体２００の断層画像の撮影時には、線形傾斜磁場を生成するために、静磁場中に配置された傾斜磁場コイル４ａ，４ｂにパルス的な電流を流す。このとき、静磁場発生手段３ａ，３ｂの静磁場と傾斜磁場コイル４ａ，４ｂを流れる電流とによって、傾斜磁場コイル４ａ，４ｂにローレンツ力が作用し、傾斜磁場コイル４ａ，４ｂが振動する。傾斜磁場コイル４ａ，４ｂは傾斜磁場コイル支持部材４ｃを介して静磁場発生手段３ａ，３ｂに支持されているため、傾斜磁場コイル４ａ，４ｂの振動は静磁場発生手段３ａ，３ｂに伝搬して、静磁場発生手段３ａ，３ｂの開口面３ｄが振動する。

　第１参考例に係るＭＲＩ装置では、図１２に示すように、開口面３ｄと外装カバー１０とは全面で接触している。このため、開口面３ｄから外装カバー１０に振動が伝搬して、外装カバー１０が振動する。これにより、外装カバー１０の周囲の空気が振動して、騒音が発生するという課題がある。

　このような外装カバー１０の振動による騒音を低減するために、第２参考例に係るＭＲＩ装置では、図１３に示すように、開口面３ｄと外装カバー１０とは接触せず、開口面３ｄと外装カバー１０との間に層（空気層）１１を設けている。このような構成により、開口面３ｄの振動が外装カバー１０に伝搬することを抑制し、これによりＭＲＩ装置の騒音を低減する。

　しかし、前述のように、図１３に示す構造では、撮影空間１００内に置かれた被検体２００の荷重によって、外装カバー１０が撓み、その撓みによって被検体２００の姿勢や位置がずれ、ＭＲＩ装置のオペレータが意図する姿勢や位置での撮影ができないという課題があった。

　なお、前述のように、外装カバー１０の撓みを防止する方法として、外装カバー１０の厚さを増加させる方法や外装カバー１０の材料を剛性が高い材料に変更する方法を挙げたが、これらの方法を実現するのは容易ではない。

　次に、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１の外装カバー１０の支持構造について、図３から図４を用いて説明する。図３は、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１のＢ－Ｂ概略断面図（ｘｙ平面における断面図）である。図４は、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１のＣ－Ｃ概略断面図（ｙｚ平面における断面図）である。なお、図３では、外装カバー１０の図示を省略している。

　第１実施形態に係るＭＲＩ装置１では、開口面３ｄと外装カバー１０の間に層（空気層）１１を設け、外装カバー１０の撓みを防止するために、開口面３ｄと外装カバー１０の間に外装カバー１０の外装カバー支持部材１３を設けて、外装カバー１０の撓みを防止する。このような構成により、外装カバー１０の撓みを防止することができる。

　しかし、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１では、第２参考例と比較して、開口面３ｄの振動が外装カバー支持部材１３を介して外装カバー１０に伝搬する。ここで、開口面３ｄの振動が大きな位置に外装カバー支持部材１３を設けると、外装カバー１０に伝搬する振動も大きくなり、騒音も大きくなる。一方、開口面３ｄの振動が小さい位置に外装カバー支持部材１３を設けると、外装カバー１０に伝搬する振動も小さくなり、騒音も低減することができる。したがって、外装カバー支持部材１３を設ける位置は、開口面３ｄの振動が小さくなる位置（後述する角度範囲１２ａ，１２ｂ）とすることが好ましい。

　そこで、本発明では、開口面３ｄの振動が小さくなる位置を明らかにした。以下では、その方法について、図５および図６を用いて説明する。

　図５は、振動の固有周波数の計算結果例のうち、（ａ）は固有周波数Ｆ１の解析結果であり、（ｂ）は固有周波数Ｆ２の解析結果であり、（ｃ）は固有周波数Ｆ３の解析結果であり、（ｄ）は固有周波数Ｆ４の解析結果である。

　まず、図３に示した開口面３ｄ上において、連結柱６ａと連結柱６ｂの中心を結ぶ直線ｍ上で寝台８と対向する位置にある連結柱６ａの撮影空間１００側の面と照射コイル５ｂの円周上の連結柱６ａ側との中心にある開口面３ｄ上の点ａを０度とし、連結柱６ｂの撮影空間１００側の面と照射コイル５ｂの円周上の連結柱６ｂ側との中心にある開口面３ｄ上の点ｂを１８０度とし、点ａを始点とし点ｂに向かう角度を角度θと定義する。

　図５は、角度θをパラメータとしたときの開口面３ｄの振動の固有周波数を解析し、この解析より得られる振動の大小をプロットしたグラフである。ここで、振動の固有周波数とは、構造物（ここではＭＲＩ装置１）が振動する際に必ず励起され、共振して振動が大きくなる周波数である。

　また、図５（ａ）～（ｄ）は、ＭＲＩ装置１において騒音レベルが高い３００Ｈｚ～５００Ｈｚにおける振動の固有周波数解析結果のうち、異なる４つの周波数（Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４、周波数の大小関係は、Ｆ１＜Ｆ２＜Ｆ３＜Ｆ４）の解析結果を示している。ここで、横軸は、点ａからの角度θを示しており、０度が点ａの位置、１８０度が点ｂの位置であり、９０度は点ａと点ｂを結ぶ円とｙ軸との交点の位置である。また、縦軸は、各周波数における振動の固有周波数の振動振幅の最大値で正規化した振動振幅である。なお、縦軸が上になるほど振動振幅が大きいことを意味する。

　図５に示すように、開口面３ｄにおける点ａと点ｂを結ぶ半円上では、振動振幅が大きい位置（腹）と、振動振幅が小さい位置（節）と、が存在する。また、点ａから点ｂまで角度θが大きくなるに従って、腹と節が交互に繰り返されていることがわかる。また、Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４は、周波数の数値が小さいものから大きいものの順であるが、周波数が大きくなるに従い、点ａから点ｂを結ぶ円の間に含まれる腹と節の数が増加することがわかる。この振動の周波数が大きくなるに従って、振動振幅の腹と節が交互に繰り返される数が増加するのは、振動の固有周波数の特徴である。

　さらに、図５で示した４つのグラフの共通点として、角度θが０度（点ａ）付近と１８０度（点ｂ）付近はほぼ節になっており、振動振幅が小さいことがわかる。これは、連結柱６ａ，６ｂの近傍の位置であり、この付近は連結柱６ａ，６ｂという構造物によって開口面３ｄの振動が抑制されているためである。

　一方、角度θが０度付近以外かつ１８０度付近以外の位置では、振動振幅が腹になっている周波数もあれば、節になっている周波数もある。例えば、角度θが６０度や１２０度の位置では、Ｆ１とＦ３ではほぼ節、つまり振動振幅が小さいことがわかる。しかし、Ｆ２やＦ４ではほぼ腹、つまり振動振幅が大きいことがわかる。

　即ち、どの開口面３ｄ上の位置においても、振動振幅が大きくなる周波数と小さくなる周波数が存在する。換言すれば、開口面３ｄの振動が複数の周波数で振動する場合において、どの周波数でも振動が小さい開口面３ｄ上の位置は、点ａと点ｂの周辺以外は存在しない。

　このように、点ａと点ｂの周辺以外では、構造物が単独の周波数で振動するものであれば、振動が小さい位置を見出し、その位置に対して外装カバー支持部材１３を配置すればよい。しかし、一般的にＭＲＩ装置１を構成する構造の振動は、数多くの周波数を含んだ振動が発生する。そのため、外装カバー支持部材１３が配置できる位置として、どの周波数でも振動が小さい位置（節）は存在せず、それを満たす位置を決定することができないという課題があった。

　しかし、本発明では、対象とする周波数範囲を限定して、つまりＭＲＩ装置１の騒音でレベルが比較的高い周波数範囲に限定すれば、開口面３ｄで振動振幅の小さい位置を見出すことができることを明らかにした。

　図６は、図５を得るために実施した３００Ｈｚ～５００Ｈｚの周波数範囲における開口面３ｄ上の振動の固有周波数解析結果において、各周波数で振動振幅の最大値で正規化し、正規化した振動振幅に対して統計的な平均化処理を施した解析結果である。なお、図６の縦軸と横軸は、図５と同様であるため説明を省略する。

　図６に示すように、３００Ｈｚ～５００Ｈｚの周波数範囲における平均化処理した振動振幅は、点ａと点ｂの周辺を除いた角度において、点ｃおよび点ｄの位置で振動振幅が小さくなっている。

　即ち、図６に示すように、角度θが０度（点ａ）と１８０度（点ｂ）の周辺を除き、点aから角度θが５５度～７５度の角度範囲１２ａ、および、１１０度～１３０度の角度範囲１２ｂで振動振幅が小さいことがわかる。

　この角度範囲１２ａ，１２ｂでは、図５に示したように、振動振幅が大きくなる（腹となる）周波数も存在するが、図６に示したように、騒音のレベルが高い３００Ｈｚ～５００Ｈｚの周波数範囲では、平均的に振動振幅が小さいということがいえる。

　また、図５や図６は振動の固有周波数であるため、広い周波数帯域に渡って振動する加振力であれば、図６で示した振動が小さい角度範囲１２ａと角度範囲１２ｂでは、他の開口面３ｄの位置と比較して相対的に振動振幅は小さくなる。

　即ち、外装カバー１０の撓みを防止するために設置する外装カバー支持部材１３は、角度範囲１２ａと角度範囲１２ｂに備えることで、開口面３ｄ上の振動振幅が相対的に小さい部位で外装カバー１０を支持することができる。これにより、開口面３ｄから外装カバー１０に伝搬する振動を低減することができ、外装カバー１０の振動によって発生する騒音が低減するため、ＭＲＩ装置１の騒音を低減することができる。

　以上のように、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１では、図３に示すように、角度範囲１２ａおよび角度範囲１２ｂに、外装カバー１０の撓みを防止するための外装カバー支持部材１３を設置する。このように外装カバー支持部材１３を設置することにより、外装カバー１０と開口面３ｄの間に層１１を設けた際に生じる、被検体２００の荷重による外装カバー１０の撓みを防止することができるため、被検体２００の姿勢や位置がずれることがなく、オペレータが意図する姿勢や位置での撮影が可能となる。

　また、ＭＲＩ装置１の騒音でレベルの高い３００Ｈｚ～５００Ｈｚの周波数範囲において、点aからの角度θが５５度～７５度の角度範囲１２ａ、および１１０度～１３０度の角度範囲１２ｂでは、振動振幅が他の開口面３ｄの位置と比較して小さいため、開口面３ｄから外装カバー支持部材１４を経由して外装カバー１０に伝搬する振動を低減することができ、外装カバー１０の振動によって発生する騒音が低減するために、ＭＲＩ装置１の騒音を低減することができる。

　また、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１は、外装カバー１０の厚さを増加させて撓みを防止する方法と比較して、撮影空間１００を狭めることなく、あるいはＭＲＩ装置１の高さ方向の大型化を招くことなく、外装カバー１０の撓みを防止し、ＭＲＩ装置１の騒音を低減することができる。

　なお、図３では、各角度範囲１２ａ，１２ｂごとに１つの外装カバー支持部材１３を配置するものとして図示しているがこれに限られるものではない。外装カバー支持部材１３を配置する数は、外装カバー支持部材１３の設置範囲（角度範囲１２ａ，１２ｂ）であれば、複数配置してもよい。

　ちなみに、点ａと点ｂ、即ち、連結柱６ａ，６ｂの周辺は、どの周波数に置いても振動振幅が小さいが、この位置に外装カバー支持部材１３を配置して外装カバー１０を支持しても、この周辺には被検体２００が置かれることはなく、被検体２００の荷重を効果的に支えることができないため、外装カバー１０の撓みを防止する効果は小さい。

≪第２実施形態≫
　次に、第２実施形態に係るＭＲＩ装置について図７を用いて説明する。図７は、第２実施形態に係るＭＲＩ装置のＢ－Ｂ概略断面図（ｘｙ平面における概略断面図）である。なお、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１は外装カバー支持部材１３（図３参照）を備えるのに対し、第２実施形態に係るＭＲＩ装置は外装カバー支持部材１４（図７参照）を備える点で構成が異なっている。第２実施形態に係るＭＲＩ装置のその他の構成は、図１から図６に示す第１実施形態に係るＭＲＩ装置１と同様であり、説明を省略する。

　図７に示すように、第２実施形態の外装カバー支持部材１４は、第１実施形態で示した外装カバー支持位置範囲１２ａ，１２ｂにおいて、開口面３ｄの内円周付近（即ち、照射コイル５ｂの円周付近）から開口面３ｄの外円周付近に向かって直線的に配置されている。即ち、外装カバー支持部材１４は、外装カバー支持位置範囲１２ａ，１２ｂにおいて、開口面３ｄ（静磁場発生手段３ｂ）の径方向に向かって直線的に配置されている。

　このような構造により、外装カバー１０と開口面３ｄの間に層１１を設けた際に生じる、被検体２００の荷重による外装カバー１０の撓みを防止することができるため、被検体２００の姿勢や位置がずれることがなく、オペレータが意図する姿勢や位置での撮影が可能となる。また、ＭＲＩ装置の騒音でレベルの高い３００Ｈｚ～５００Ｈｚの周波数範囲において、点aからの角度θが５５度～７５度の範囲１２ａ、および１１０度～１３０度の範囲１２ｂでは、振動振幅が他の開口面３ｄの位置と比較して小さいため、開口面３ｄから外装カバー支持部材１４を経由して外装カバー１０に伝搬する振動を低減することができ、外装カバー１０の振動によって発生する騒音が低減するために、ＭＲＩ装置の騒音を低減することができる。

　なお、第２実施形態の外装カバー支持部材１４は、直線的に配置されているものとして説明したが、これに限られるものではない。例えば、Ｓ字のような曲線的な形状を持つ外装カバー支持部材を外装カバー支持位置範囲１２ａ，１２ｂに配置してもよい。

≪第３実施形態≫
　次に、第３実施形態に係るＭＲＩ装置について図８を用いて説明する。図８は、第３実施形態に係るＭＲＩ装置のＢ－Ｂ概略断面図（ｘｙ平面における概略断面図）である。なお、第１実施形態に係るＭＲＩ装置１は外装カバー支持部材１３（図３参照）を備えるのに対し、第３実施形態に係るＭＲＩ装置は外装カバー支持部材１５（図８参照）を備える点で構成が異なっている。第３実施形態に係るＭＲＩ装置のその他の構成は、図１から図６に示す第１実施形態に係るＭＲＩ装置１と同様であり、説明を省略する。

　図８に示すように、第３実施形態の外装カバー支持部材１５は、第１実施形態で示した外装カバー支持位置範囲１２ａ，１２ｂにおいて、開口面３ｄ（静磁場発生手段３ｂ）の周方向に向かって円弧状に配置されている。

　このような構造により、外装カバー１０と開口面３ｄの間に層１１を設けた際に生じる、被検体２００の荷重による外装カバー１０の撓みを防止することができるため、被検体２００の姿勢や位置がずれることがなく、オペレータが意図する姿勢や位置での撮影が可能となる。また、ＭＲＩ装置の騒音でレベルの高い３００Ｈｚ～５００Ｈｚの周波数範囲において、点aからの角度θが５５度～７５度の範囲１２ａ、および１１０度～１３０度の範囲１２ｂでは、振動振幅が他の開口面３ｄの位置と比較して小さいため、開口面３ｄから外装カバー支持部材１５を経由して外装カバー１０に伝搬する振動を低減することができ、外装カバー１０の振動によって発生する騒音が低減するために、ＭＲＩ装置の騒音を低減することができる。

　なお、第３実施形態の外装カバー支持部材１５は、開口面３ｄの周方向に向かって円弧状に配置されているものとして説明したが、これに限られるものではない。例えば、第２実施形態で示した開口面３ｄの径方向に向かって直線的に配置されている外装カバー支持部材１４（図７参照）と組み合わせて、十字のような形状を持つ外装カバー支持部材を外装カバー支持位置範囲１２ａ，１２ｂに配置してもよい。

　以上、第１実施形態から第３実施形態で示すように、外装カバー支持部材（１３～１５）の形状や数量は、被検体２００の荷重によって生じる外装カバー１０の撓みを防止するのに必要な形状や数量を適宜選択し、配置することができる。ただし、開口面３ｄの振動が外装カバー１０に極力伝搬しないようにするためには、外装カバー支持部材の数量は少ないことが望ましい。

≪第４実施形態≫
　次に、第４実施形態に係るＭＲＩ装置について図９を用いて説明する。図９は、第４実施形態に係るＭＲＩ装置のＣ－Ｃ概略断面図（ｙｚ平面における概略断面図）である。

　第４実施形態に係るＭＲＩ装置は、外装カバー１０と静磁場発生手段３ｂの開口面３ｄとの間の層１１に、グラスウールやウレタンフォームに代表される吸音材２０を備える点で第１実施形態に係るＭＲＩ装置１と異なっている。第４実施形態に係るＭＲＩ装置のその他の構成は、図１から図６に示す第１実施形態に係るＭＲＩ装置１と同様であり、説明を省略する。

　図９に示すように、外装カバー１０と静磁場発生手段３ｂの開口面３ｄとの間の層１１に、グラスウールやウレタンフォームに代表される吸音材２０を備えている。

　このように、層１１に吸音材２０を備えることで、静磁場発生手段３ｂが振動した際に放射される騒音が吸音材２０を伝搬する際、騒音の振動エネルギが吸音材２０による熱エネルギに変換されて消失し、また、外装カバー１０の遮音によってさらに減音される。即ち、吸音材２０を備えることで、外装カバー１０の遮音効果が増大し、外装カバー１０の外部に放射される騒音が低減するため、ＭＲＩ装置の騒音を低減することができる。

　なお、吸音材２０は、一般に発砲材料が適用され、柔らかい材料である。そのため、外装カバー１０の撓みを防止するための十分な機能を有していない。外装カバー１０の撓み防止は、第１実施形態で説明したように外装カバー支持部材１３がその機能を有する。即ち、特許文献２のように全面で支持するものとは異なる。

　なお、図９では、外装カバー支持部材１３により、外装カバー１０を支持するものとして説明したが、これに限られるものではなく、第２実施形態の外装カバー支持部材１４や、第３実施形態の外装カバー支持部材１５を用いてもよく、数量や形状は適宜変更してもよい。

　また、吸音材２０は、外装カバー１０と開口面３ｄの間の層１１以外に設けられている外装カバー１０と静磁場発生手段３ｂの間の層や、静磁場発生手段３ａと外装カバー１０との間の層に設置することもできる。

≪第５実施形態≫
　次に、第５実施形態に係るＭＲＩ装置について図１０を用いて説明する。図１０は、第５実施形態に係るＭＲＩ装置のＣ－Ｃ概略断面図（ｙｚ平面における概略断面図）である。

　第５実施形態に係るＭＲＩ装置は、外装カバー１０と静磁場発生手段３ｂの開口面３ｄとの間の層１１に、吸音材２０および防振材３０を備える点で第１実施形態に係るＭＲＩ装置１と異なっている。第５実施形態に係るＭＲＩ装置のその他の構成は、図１から図６に示す第１実施形態に係るＭＲＩ装置１と同様であり、説明を省略する。

　即ち、層１１のうち、静磁場発生手段３ｂの開口面３ｄの側に防振材３０が設けられており、外装カバー１０の側に吸音材２０が設けられている。なお、防振材３０としては、防振ゴムを用いることができる。このような構成により、静磁場発生手段３ｂが振動した際に放射される騒音を低減し、ＭＲＩ装置の騒音を低減することができる。

　なお、層１１に吸音材２０および防振材３０を備えるものとして説明したが、吸音材２０を省略してもよい。即ち、外装カバー１０と静磁場発生手段３ｂの開口面３ｄとの間の層１１に、防振材３０と空気層を備える構成であってもよい。

　なお、図１０では、外装カバー支持部材１３により、外装カバー１０を支持するものとして説明したが、これに限られるものではなく、第２実施形態の外装カバー支持部材１４や、第３実施形態の外装カバー支持部材１５を用いてもよく、数量や形状は適宜変更してもよい。

＜変形例＞
　なお、本実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の変更が可能である。

　本実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置は、図３（図７、図８）に示すように、点aからの角度θが５５度～７５度の範囲１２ａ、および１１０度～１３０度の範囲１２ｂに外装カバー支持部材１３（１４，１５）を配置するものとして説明したが、これに限られるものではない。一方の連結柱６ａ（または６ｂ）から他方の連結柱６ｂ（または６ａ）までの角度θを０度～１８０度で定義して、角度θが５５度～７０度の範囲、および１１０度から１２５度の範囲に外装カバー支持部材１３（１４，１５）を配置するものとしてもよい。

　また、本実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置は、図３に示すように、寝台８と対向する位置にある連結柱６ａの側を角度θが０度と定義するものとして説明したが、これに限られるものではない。２本の連結柱６ａ，６ｂのうち冷却装置７（図１参照）が配置される側とは反対側の連結柱６ａの側を角度θが０度と定義してもよい。

１　　　　　　　　ＭＲＩ装置
２　　　　　　　　スキャナガントリ
３ａ，３ｂ　　　　静磁場発生手段
３ｃ　　　　　　　窪み部
３ｄ　　　　　　　開口面
４ａ，４ｂ　　　　傾斜磁場コイル
４ｃ　　　　　　　傾斜磁場コイル支持部材
５ａ，５ｂ　　　　照射コイル
６ａ，６ｂ　　　　連結柱
７　　　　　　　　冷却装置
８　　　　　　　　寝台
９　　　　　　　　コンピュータ
１０　　　　　　　外装カバー
１１　　　　　　　層
１２ａ，１２ｂ　　角度範囲（外装カバー支持位置範囲）
１３，１４，１５　外装カバー支持部材
２０　　　　　　　吸音材
３０　　　　　　　防振材
１００　　　　　　撮影空間
２００　　　　　　被検体

Claims

　撮影空間を挟んで上下方向に対向して配置され、該撮影空間に垂直方向の静磁場を発生させるための静磁場発生手段と、
　対向して配置された前記静磁場発生手段を連結する２本の連結柱と、
　傾斜磁場コイル支持部材を介して前記静磁場発生手段に支持され、前記静磁場に傾斜した磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、
　前記静磁場発生手段および前記連結柱を覆う外装カバーと、
　前記被検体を前記撮影空間に案内するための寝台と、を備え、
　前記外装カバーは、
　前記静磁場発生手段の撮影空間側との間に層を備え、
　前記静磁場発生手段の前記撮影空間側の表面上において、
　前記連結柱２本の中心を直線で結び、前記連結柱２本のうち前記寝台と対向する連結柱側の前記直線上の角度を０度とし、他方の連結柱側の前記直線上の角度を１８０度としたとき、
　前記表面上に沿って角度が５５度～７５度あるいは１１０度～１３０度もしくはその両方の範囲に、前記外装カバーを支持する外装カバー支持部材を有する
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
　撮影空間を挟んで上下方向に対向して配置され、該撮影空間に垂直方向の静磁場を発生させるための静磁場発生手段と、
　対向して配置された前記静磁場発生手段を連結する２本の連結柱と、
　傾斜磁場コイル支持部材を介して前記静磁場発生手段に支持され、前記静磁場に傾斜した磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、
　前記静磁場発生手段および前記連結柱を覆う外装カバーと、
　前記静磁場発生手段の上側に配置され、前記静磁場発生手段の超電導コイルを超電導状態に保つための冷却装置と、を備え、
　前記外装カバーは、
　前記静磁場発生手段の撮影空間側との間に層を備え、
　前記静磁場発生手段の前記撮影空間側の表面上において、
　前記連結柱２本の中心を直線で結び、前記連結柱２本のうち前記冷却装置が配置される側とは反対側の連結柱側の前記直線上の角度を０度とし、他方の連結柱側の前記直線上の角度を１８０度としたとき、
　前記表面上に沿って角度が５５度～７５度あるいは１１０度～１３０度もしくはその両方の範囲に、前記外装カバーを支持する外装カバー支持部材を有する
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
　撮影空間を挟んで上下方向に対向して配置され、該撮影空間に垂直方向の静磁場を発生させるための静磁場発生手段と、
　対向して配置された前記静磁場発生手段を連結する２本の連結柱と、
　傾斜磁場コイル支持部材を介して前記静磁場発生手段に支持され、前記静磁場に傾斜した磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、
　前記静磁場発生手段および前記連結柱を覆う外装カバーと、を備え、
　前記外装カバーは、
　前記静磁場発生手段の撮影空間側との間に層を備え、
　前記静磁場発生手段の前記撮影空間側の表面上において、
　３００Ｈｚ～５００Ｈｚの周波数範囲における平均化処理した振動振幅が谷となる範囲に、前記外装カバーを支持する外装カバー支持部材を有する
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
　前記静磁場発生手段と前記外装カバーの間の層は、空気層で構成される
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
　前記静磁場発生手段と前記外装カバーの間の層は、吸音材で構成される
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
　前記静磁場発生手段と前記外装カバーの間の層は、
　前記静磁場発生手段の側の防振材と、
　前記外装カバーの側の吸音材と、で構成される
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
　前記静磁場発生手段と前記外装カバーの間の層は、
　前記静磁場発生手段の側の防振材と、
　前記外装カバーの側の空気層と、で構成される
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。