JP4724749B2 - 表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は、アクティブマトリクス型の表示装置に関し、特に、アクティブマトリクス基板の一辺に駆動回路(ドライバ)が搭載された表示装置に関する。
従来、基板上に走査線および信号線をマトリクス状に形成し、これらの信号線の交点にTFT(Thin Film Transistor)等の駆動素子を形成したアクティブマトリクス基板が、液晶表示装置等に広く用いられている。当初、アクティブマトリクス基板においては、図17に示すように、互いに平行に配置された走査線Gの一端に、走査線駆動回路91が設けられ、前記走査線Gに直交しかつ互いに平行に配置された信号線Sの一端に、信号線駆動回路92が設けられることが一般的であった。つまり、図17に示す従来のアクティブマトリクス基板90では、画素領域93の周辺領域94において、隣り合う二辺に、走査線駆動回路91と信号線駆動回路92とがそれぞれ設けられていた。
一方、近年の半導体製造技術の進歩に伴い、駆動回路の高集積化が進んでいる。また、表示装置においては、表示領域の大きさを確保しつつ、表示装置の筐体外形をできる限り小さくすることが望まれ、いわゆる挟額縁化が、一つの重要な解決課題とされている。このような背景から、アクティブマトリクス基板の周辺領域の一辺のみに走査線駆動回路と信号線駆動回路の両方を搭載する試みもなされている(例えば特開2003−241217号公報参照)。
具体的には、図18に示すように、アクティブマトリクス基板95の一辺のみに、走査線駆動回路と信号線駆動回路を一体化した駆動回路98が搭載された構成が、特開2003−241217号公報(同文献の図4参照)に開示されている。
なお、同文献の図3等には、アクティブマトリクス基板95の一辺に走査線駆動回路が配置され、この走査線駆動回路の両側に信号線駆動回路が配置された構成も開示されている。図18に示した従来のアクティブマトリクス基板は、互いに平行に配列された複数の信号線Sのそれぞれを、画素領域96の両側に交互に引き出して駆動回路98に接続することにより、信号線Sの延設方向の両側における額縁領域97の幅を均等にしている。
図18に示したような従来の構成は、特に、携帯電話、デジタルカメラ、またはPDA(Personal Digital Asistant)等の小型電子機器用の表示装置に好適に採用されている。
しかしながら、近年の表示装置の高解像度化に伴い、額縁領域に配線される信号線の本数は増加の一途をたどっている。特に、信号線本数が多い高精細パネルにおいては、信号線の幅や信号線の間隔を小さくする必要があり、配線リークや断線による歩留まり低下を余儀なくされる。このため、高精細パネルでは、歩留まり向上を図ろうとすると、アクティブマトリクス基板の配線レイアウトの制限により額縁幅が縮小できない、という問題を有している。
また、アクティブマトリクス基板に対向する対向基板には、表面全体に共通電極(コモン電極)が形成されている。この共通電極には、アクティブマトリクス基板またはアクティブマトリクス基板に接続されたFPC(Flexible Printed Circuit)等に設けられた駆動回路(図18には図示せず)から、コモン配線101を介して、所定の電圧(共通電圧Vcom)が印加される。この場合、コモン配線101と対向基板の共通電極とを電気的に接続するためのコンタクト(「コモン転移」と称される)102が、アクティブマトリクス基板95上に設けられる。コモン転移102は、カーボンペーストや金等の導電性材料で形成され、500μm2〜1mm2程度の断面積を有する。図18に示すように画素領域96の周辺領域の一辺に駆動回路98が配置されている場合、駆動回路98の周辺は、駆動回路98からの引き出し配線が密集しているので、コモン転移を配置することができない。従って、図18に示すように、アクティブマトリクス基板95の額縁領域97において引き出し配線が設けられていない領域に、コモン転移102が配置される。そして、駆動回路側からコモン転移102に至るまで、画素領域96の周辺に沿ってコモン配線101を引き廻す必要がある。
なお、共通電極の信号遅延によるムラやクロストーク等の表示不良が発生しないように、コモン配線101は低抵抗でなければならない。このため、コモン配線101には、十分な配線幅が必要である。従って、図18に示したような従来のアクティブマトリクス基板では、画素領域96の周辺において、信号線Sを引き廻す領域のみならず、十分な幅のコモン配線101を引き廻す領域を確保しなければならないので、額縁領域の面積を小さくすることができない、という課題があった。
本発明は、上記の問題を鑑み、アクティブマトリクス基板の一辺に駆動回路を配置し、かつアクティブマトリクス基板のコモン転移を介して対向基板側へ共通電圧Vcomを供給する表示装置において、歩留まりを低下させることなく、額縁領域の面積を縮小することを目的としている。
上記の目的を達成するために、本発明にかかる第1の表示装置は、アクティブマトリクス基板と対向基板とを備えた表示装置において、前記アクティブマトリクス基板が、マトリクス状に配置された走査線および信号線と、前記信号線によって供給されるデータ信号に応じた表示を行う有効画素を含む実画素領域と、前記実画素領域よりもパネル端側に位置するダミー画素領域とを含む画素領域を有し、前記表示装置が、前記アクティブマトリクス基板の一辺において前記画素領域外に配置され、前記走査線および信号線へ、走査信号およびデータ信号をそれぞれ供給するバスライン駆動回路と、前記対向基板の共通電極へ供給するコモン信号を生成するコモン駆動回路とを備え、前記アクティブマトリクス基板が、前記画素領域に配置された補助容量と、前記画素領域に配置され、前記補助容量に電気的に接続された補助容量配線と、前記アクティブマトリクス基板において前記バスライン駆動回路が配置された一辺に対向する辺に設けられ、前記コモン信号を前記対向基板の共通電極へ供給するためのコモン転移と、前記コモン信号を前記コモン転移へ供給するためのコモン配線とを備え、前記コモン配線の少なくとも一部が、前記画素領域における前記ダミー画素領域に配置されており、前記ダミー画素領域に配置された前記コモン配線の部分の幅は、前記補助容量配線の幅よりも大きいことを特徴とする。
上記の構成によれば、コモン配線の少なくとも一部を画素領域におけるダミー画素領域に配置したことにより、コモン配線の全体を画素領域外に配置した従来の構成に比較して、画素領域外に配置されるコモン配線の幅を細くでき、あるいは画素領域外のコモン配線を無くすことができる。これにより、額縁領域の幅を従来の構成よりも小さくすることができるので、歩留まりを低下させることなく、額縁領域の面積が縮小された表示装置を提供できる。
前記第1の表示装置において、前記ダミー画素領域に配置されているコモン配線が、前記画素領域内の補助容量配線に電気的に接続されていることが好ましい。
前記第1の表示装置において、前記ダミー画素領域に配置されているコモン配線が、前記画素領域内の補助容量配線に対して電気的に独立していることが好ましい。
前記第1の表示装置において、前記ダミー画素領域に、前記画素領域内の補助容量配線に並列なダミー補助容量配線がさらに配置されたことが好ましい。
前記第1の表示装置において、前記ダミー補助容量配線において、前記信号線との交叉部分の幅が、当該ダミー補助容量配の主たる配線幅よりも小さいことが好ましい。
前記第1の表示装置において、前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記ダミー補助容量配線に交叉しないよう配置されたことが好ましい。
前記第1の表示装置において、前記実画素領域の画素電極が、当該画素電極を駆動する走査線に隣接する走査線との間で補助容量を形成することが好ましい。
前記第1の表示装置において、前記ダミー画素領域のコモン配線において、前記信号線との交叉部分の幅が、当該コモン配線の主たる配線幅よりも小さいことが好ましい。
前記第1の表示装置において、前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記ダミー画素領域のコモン配線に交叉しないよう配置されたことが好ましい。
前記第1の表示装置において、前記ダミー画素領域を視覚的に遮蔽する遮蔽部材をさらに備えたことが好ましい。
前記第1の表示装置において、前記アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶を備えたことが好ましい。
上記の目的を達成するために、本発明にかかる第2の表示装置は、アクティブマトリクス基板と対向基板との間に表示媒体を備えた表示装置において、前記アクティブマトリクス基板が、マトリクス状に配置された走査線および信号線と、前記信号線によって供給されるデータ信号に応じた表示を行う有効画素を含む実画素領域と、前記実画素領域よりもパネル端側に位置し前記表示媒体中の不純物を電気的に捕獲するためのトラップ配線が形成された不純物捕獲領域とを含む画素領域を有し、前記表示装置が、前記アクティブマトリクス基板の一辺において前記画素領域外に配置され、前記走査線および信号線へ、走査信号およびデータ信号をそれぞれ供給するバスライン駆動回路と、前記対向基板の共通電極へ供給するコモン信号を生成するコモン駆動回路とを備え、前記アクティブマトリクス基板が、前記画素領域に配置された補助容量と、前記画素領域に配置され、前記補助容量に電気的に接続された補助容量配線と、前記アクティブマトリクス基板において前記バスライン駆動回路が配置された一辺に対向する辺に設けられ、前記コモン信号を前記対向基板の共通電極へ供給するためのコモン転移と、前記コモン信号を前記コモン転移へ供給するためのコモン配線とを備え、前記コモン配線の少なくとも一部が、前記画素領域における前記不純物捕獲領域に配置されており、前記不純物捕獲領域に配置された前記コモン配線の部分の幅は、前記補助容量配線の幅よりも大きいことを特徴とする。
上記の構成によれば、コモン配線の少なくとも一部を画素領域における不純物捕獲領域に配置したことにより、コモン配線の全体を画素領域外に配置した従来の構成に比較して、画素領域外に配置されるコモン配線の幅を細くでき、あるいは画素領域外のコモン配線を無くすことができる。これにより、額縁領域の幅を従来の構成よりも小さくすることができるので、歩留まりを低下させることなく、額縁領域の面積が縮小された表示装置を提供できる。
前記第2の表示装置において、前記不純物捕獲領域のコモン配線において、前記信号線との交叉部分の幅が、当該コモン配線の主たる配線幅よりも小さいことが好ましい。
前記第2の表示装置において、前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記不純物捕獲領域のコモン配線に交叉しないよう配置されたことが好ましい。
前記第1または第2の表示装置において、前記表示媒体が液晶であることが好ましい。
以上のとおり、本発明によれば、アクティブマトリクス基板の一辺に駆動回路を配置し、かつアクティブマトリクス基板のコモン転移を介して対向基板側へ共通電圧Vcomを供給する表示装置において、歩留まりを低下させることなく、額縁領域の面積を縮小することができる。
図1は、本発明の一実施形態にかかるアクティブマトリクス基板10の概略構成を示す平面図である。 図2は、図1におけるA部付近を拡大して示す平面図である。 図3は、ダミー絵素領域およびその近傍の実絵素領域の等価回路図である。 図4は、本実施形態にかかる液晶表示装置の断面構造を示す図であり、(a)は平面図における断面の位置を示す図、(b)は(a)に示すA−A’断面における液晶表示装置の構成を示す断面図、(c)は(a)に示すB−B’断面における液晶表示装置の構成を示す断面図である。 図5は、本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板10の効果を説明する図である。 図6は、本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板20の概略構成を示す平面図である。 図7は、図6におけるA部付近を拡大して示す平面図である。 図8は、本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板30の概略構成を示す平面図である。 図9は、図8におけるA部付近を拡大して示す平面図である。 図10は、本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板40の概略構成を示す平面図である。 図11は、図10におけるA部付近を拡大して示す平面図である。 図12は、ダミー絵素領域およびその近傍の実絵素領域の等価回路図である。 図13は、本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板50の概略構成を示す平面図である。 図14は、図13におけるA部付近を拡大して示す平面図である。 図15は、本実施形態にかかる液晶表示装置の断面構造を示す図であり、(a)は平面図における断面の位置を示す図、(b)は(a)に示すA−A’断面における液晶表示装置の構成を示す断面図、(c)は(a)に示すB−B’断面における液晶表示装置の構成を示す断面図である。 図16は、本発明の実施形態の変形例にかかるアクティブマトリクス基板の構成を示す平面図である。 図17は、従来の表示装置が備えるアクティブマトリクス基板の構成例を示す平面図である。 図18は、従来の表示装置が備えるアクティブマトリクス基板の構成例を示す平面図である。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。ただし、以下で参照する各図は、説明の便宜上、本発明の一実施形態の表示装置における各部の構成部材のうち、本発明を説明するための主要な構成部材を示し、他の構成部材については簡略化または省略して示したものである。従って、本発明にかかる表示装置は、本明細書が参照する各図に示されていない任意の構成部材を備え得る。また、各図中の部材の寸法は、実際の構成部材の寸法および各部材の寸法比率等を必ずしも忠実に表したものではない。さらに、下記の実施形態では、液晶表示装置として本発明の表示装置を実施する態様を例示するが、本発明は液晶表示装置に限定されない。
[第1の実施形態]
図1は、本発明の一実施形態にかかるアクティブマトリクス基板10の概略構成を示す平面図である。図2は、図1におけるA部付近を拡大して示す平面図である。本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板10は、液晶表示装置等の表示装置に用いられる。アクティブマトリクス基板10は、ガラス等を材料とする透光性基板11上に、n本の走査線Gとm本の信号線Sとが直交するように配置され、走査線Gと信号線Sとの交点のそれぞれにTFTおよび画素電極(いずれも図示せず)を備えた画素領域12を有する。なお、図1および図2並びに本明細書において参照する他の図においては、走査線Gおよび信号線Sの本数を省略して図示している。なお、駆動素子はTFTに限定されない。アクティブマトリクス基板10において、矩形の画素領域12を額縁状に囲み、かつ対向基板との重なりを有する領域を、額縁領域13と称する。アクティブマトリクス基板10の一辺に、走査線Gを駆動する走査線駆動回路と信号線Sを駆動する信号線駆動回路とを1チップに集積したバスライン駆動回路16が、COG(Chip On Glass)方式等により実装されている。もしくは、アクティブマトリクス基板10上に直接、バスライン駆動回路が形成されている。
額縁領域13において、バスライン駆動回路16が配置された側の辺に対向する辺の両端部近傍に、コモン転移15a,15bが設けられている。コモン転移15a,15bは、カーボンペーストや金等の導電性材料で形成され、一般的には、500μm2〜1mm2程度の断面積を有する。なお、コモン転移の数は2個に限定されない。
m本の信号線Sにおいて、バスライン駆動回路16に最も遠い位置にある信号線をS1とし、バスライン駆動回路16に最も近い位置にある信号線をSmとする。信号線Sのうち約半数が、画素領域12から引き出された後、額縁領域13における一辺を通ってバスライン駆動回路16に接続され、残りの信号線Sは、画素領域12から前記約半数の信号線Sとは反対方向に引き出された後、額縁領域13を通ってバスライン駆動回路16に接続されている。すなわち、図2の例では、m本の信号線Sのうち、S2,S4,S6,・・・が、額縁領域13において図2における上側の辺を通ってバスライン駆動回路16に接続され、S1,S3,S5,・・・が、額縁領域13において図2における下側の辺を通ってバスライン駆動回路16に接続されている。このように、信号線Sを、その約半数ずつ、額縁領域13において互いに対向する二辺に振り分けて配線することにより、額縁領域13の前記二辺の幅を均等にすることができる。ただし、図2の例では、m本の信号線S1,S2,S3,S4,・・・が額縁領域13において互いに対向する二辺へ交互に引き出される構成としたが、これに限らず、例えば、信号線S1〜Sm/2を、額縁領域13の一辺へ引き出し、信号線S(m/2)+1〜Smをその反対側へ引き出した構成としても良い。なお、信号線Sが額縁領域13において互いに対向する二辺に約半数ずつ振り分けて配線されていることは、本発明にとって必須ではない。
走査線Gは、TFTのゲートをONにするための走査信号が所定のタイミングで印加されるn本の走査線G1〜Gnの他に、ダミー走査線Gd1,Gd2,Gd3も含む。なお、図1では、走査線G1の外側に2本のダミー走査線Gd1,Gd2が設けられ、走査線Gnの外側に1本のダミー走査線Gd3が設けられた構成を例示するが、ダミー走査線の数はこの例に限定されない。ダミー走査線Gd1,Gd2,Gd3には、表示領域の走査信号と同様の信号、あるいは、走査信号としては機能しない信号、すなわちTFTのゲートをONにするHigh電位には至らない電位の信号が、バスライン駆動回路16より印加される。あるいは、ダミー走査線Gd1,Gd2,Gd3に、走査信号のLow電位と同じ電位を常に印加するようにしても良い。
図2は、図1におけるA部付近を拡大して示す平面図である。図2に示すように、ダミー走査線Gd1とダミー走査線Gd2との間の領域にも、実絵素領域の画素電極17およびTFT18と同様に、画素電極17dおよびTFT18dが設けられている。TFT18dのゲート電極は、ダミー走査線Gd2に接続されている。TFT18dのドレイン電極は、画素電極17dに接続されている(後述の図3も参照)。上述のとおり、ダミー走査線Gd1,Gd2,Gd3には、走査信号としては機能しない信号が供給されるので、ダミー走査線Gd1にTFT18dを介して接続されている画素電極17dは、表示に寄与しない絵素(ダミー絵素)を構成する。このように、表示に寄与しないダミー絵素が形成されている領域を「ダミー絵素領域」と称する。これに対して、表示に寄与する絵素(有効画素)が形成されている領域(ダミー走査線Gd2と走査線Gnとの間の領域)を「実絵素領域」と称する。
なお、本実施形態では、例えばRGB三色等のカラーフィルタを用いてカラー表示を行う液晶表示装置を例示しており、「絵素」とは、一色のカラーフィルタに対応する一画素を意味する。「ダミー画素領域」と「ダミー絵素領域」、「実画素領域」と「実絵素領域」は、それぞれ同義である。ダミー絵素領域は、上述のとおり表示に寄与しないため、対向基板に設けられたブラックマトリクスや、アクティブマトリクス基板または対向基板の表面に張り付けられた遮光板で隠されていることが好ましい。
図3は、ダミー絵素領域およびその近傍の実絵素領域の等価回路図である。この構成によれば、実絵素領域の外側にダミー走査線Gd1,Gd2を設けたことにより、実絵素領域の最上段の走査線G1で駆動される絵素と、2段目以降の走査線G2,G3,・・・で駆動される絵素とにおいて、画素電極とゲートバスライン間の寄生容量Cgdの大きさが均等となり、画素領域端部における輝線が防止される。また、走査線Gnの外側にダミー走査線Gd3を設けたことにより、走査信号によって移動した表示媒体中の不純物を非表示領域にとどめるという効果がある。
画素領域12を囲むように、額縁領域13の四辺にわたって、コモン配線14a,14b,14c,14dが形成されている。コモン配線14a,14b,14c,14dの材料としては、例えば、アルミニウム、モリブデン、またはタンタル、あるいはこれらの合金等が用いられる。コモン配線14a,14bは、走査線Gと平行に、額縁領域13において互いに対向する二辺に形成されている。コモン配線14c,14dは、信号線Sと平行に、額縁領域13において互いに対向する二辺に形成されている。コモン配線14aとコモン配線14cとの接続箇所に電気的に接続するように、前述のコモン転移15aが設けられている。また、コモン配線14bとコモン配線14cとの接続箇所に電気的に接続するように、前述のコモン転移15bが設けられている。なお、コモン配線14a,14b,14cと、コモン配線14dとは、アクティブマトリクス基板10において互いに異なる層に形成されている。このため、図2に示すように、例えばコモン配線14aとコモン配線14dとは、これらの配線間の絶縁膜に形成されたコンタクトホール19を介して電気的に接続されている。
また、図3に示したように、本実施形態のアクティブマトリクス基板10は、液晶容量CLCと並列に補助容量CCSが形成されている。このため、アクティブマトリクス基板10は、図2に示すように、実絵素領域の各絵素内に、画素電極18との間で容量(補助容量CCS)を形成する補助容量配線CS1,CS2,・・・を有している。図2の例では、補助容量配線CS1,CS2,・・・は、コモン配線14a,14bと平行な幹線CS1Mと、この幹線CS1Mに直交する支線CS1Bとから構成される。ただし、補助容量配線CS1,CS2,・・・の形状は、図2に示した例には限定されない。
補助容量配線CS1,CS2,・・・の幹線CS1Mの一端は、図2に示すように、コンタクトホール19を介してコモン配線14dに電気的に接続されている。また、図2では図示を省略したが、補助容量配線CS1,CS2,・・・の幹線CS1Mの他端は、同様にコンタクトホールを介してコモン配線14cに電気的に接続されている。この構成により、補助容量配線CS1,CS2,・・・は、コモン配線14c,14dと同電位に保持される。
また、本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板10では、図1に示すように、額縁領域13に形成されたコモン配線14a〜14d以外に、画素領域12内にもコモン配線14e,14fが形成されている。図2に示すように、コモン配線14eは、コモン配線14aと平行であり、ダミー走査線Gd1とダミー走査線Gd2との間のダミー絵素領域内に形成されている。また、コモン配線14fは、コモン配線14aと平行であり、ダミー走査線Gd3と走査線Gnとの間のダミー絵素領域内に形成されている。コモン配線14eの両端は、コモン配線14cおよびコモン配線14dのそれぞれに電気的に接続されている。コモン配線14fの両端も、コモン配線14cおよびコモン配線14dのそれぞれに電気的に接続されている。なお、コモン配線14e,14fは、コモン配線14a,14b,14cと同じ層であって、コモン配線14dとは異なる層に形成されている。従って、図2に示すように、コモン配線14eと、コモン配線14dとは、これらの配線の絶縁膜に形成されているコンタクトホール19を介して電気的に接続される。また、図2では図示を省略したが、コモン配線14fと、コモン配線14dとの電気的接続も同様である。
図4は、本実施形態にかかる液晶表示装置の断面構造を示す図であり、(a)は平面図における断面の位置を示す図、(b)は(a)に示すA−A’断面における液晶表示装置の構成を示す断面図、(c)は(a)に示すB−B’断面における液晶表示装置の構成を示す断面図である。図4(b)および図4(c)では、配向膜の図示は省略されている。なお、図4(a)〜(c)は、コモン配線14eの断面構造を示すが、コモン配線14fの断面構造も同様である。
図4(b)に示すように、本実施形態の液晶表示装置は、アクティブマトリクス基板10と対向基板60との間に液晶62を挟持している。図4(b)に示すように、アクティブマトリクス基板10において、透光性基板11の表面には、コモン配線14e、第1絶縁膜63、信号線S、第2絶縁膜64、および配向膜(図示せず)が、この順に形成されている。また、対向基板60において、透光性基板61の表面には、ブラックマトリクス66、カラーフィルタ65、共通電極66、および配向膜(図示せず)が形成されている。
コモン配線14e,14fの幅は、ダミー絵素領域に収まる範囲であれば任意であるが、できるだけ大きくすることが好ましい。ダミー絵素領域のコモン配線14e,14fの幅を大きくするほど、額縁領域13のコモン配線14a,14bの幅を小さく形成することができ、ひいては額縁領域13の幅を縮小できるからである。コモン配線14a,14bにおける入力端14g,14hへそれぞれ供給される共通電圧Vcomは、コモン配線14a,14bを介してコモン転移15a,15bへそれぞれ伝達されると共に、コモン配線14dの一部とコモン配線14e,14fとコモン配線14cの一部とを介して、コモン転移15a,15bへそれぞれ伝達される。つまり、コモン配線14e,14fは、コモン配線14d,14cの一部と共に、共通電圧Vcomの供給端子となるコモン配線14a,14bの入力端14g,14hと、コモン転移15a,15bとの間を並列に接続する線である。よって、コモン配線14e,14fの線幅を大きくしてその配線抵抗が小さくなるほど、額縁領域13のコモン配線14a,14bの幅を小さくすることができる。なお、ダミー絵素領域の幅が十分にあり、コモン配線14e,14fの線幅を十分に大きくできる場合は、額縁領域13のコモン配線を完全になくすことも可能である。
図5は、本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板10の効果を説明する図であり、図18に示したように額縁領域のみにコモン配線を配置した従来の構成を(a)に、図1および図2に示した本実施形態にかかる構成を(b)に、額縁領域の幅を対比可能なスケールでそれぞれ示した平面図である。図5の(a)と(b)とを比較することから明らかなように、本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板10によれば、画素領域12内のダミー絵素領域にもコモン配線14e,14fを設けたことにより、従来の構成における額縁領域97の幅よりも、額縁領域13の幅を縮小することができる。
[第2の実施形態]
図6は、本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板20の概略構成を示す平面図である。図7は、図6におけるA部付近を拡大して示す平面図である。なお、第1の実施形態において説明した構成と同様の構成については、第1の実施形態と同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
図6および図7に示すように、本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板20は、額縁領域13において信号線Sに平行にコモン配線14a,14bが設けられており、画素領域12のダミー絵素領域にコモン配線14e,14fが設けられている点において、第1の実施形態と同様であり、額縁領域13の幅を小さくできるという効果を奏する。
しかし、額縁領域13において、コモン配線14c1,14d1がコモン配線14aとコモン配線14eとを接続して電気的に閉ループを形成しており、コモン配線14c2,14d2がコモン配線14bとコモン配線14fとを接続して電気的に閉ループを形成している点で、第1の実施形態と異なる。
また、図7に示すように、補助容量配線CS1,CS2,・・・の一端に対して、コモン配線とは独立している(電気的に接続されていない)補助容量配線21aを介して電圧が供給される点においても、第1の実施形態と異なる。従って、補助容量配線CSに対して、共通電圧Vcomとは異なる電圧を供給できる。なお、図6に示すように、補助容量配線CS1,CS2,・・・の他端には、補助容量配線21aと同様に、補助容量配線CS1,CS2,・・・同士を電気的に接続する補助容量配線21bが形成されている。なお、図6においては、補助容量配線21a,21bと補助容量配線CS1,CS2,・・・との接続の図示を省略している。
この第2の実施形態によれば、第1の実施形態に比べて以下の利点がある。すなわち、ノーマリーホワイト方式の液晶表示装置として第2の実施形態にかかる表示装置を実施する場合、補助容量配線CSに対して、共通電圧Vcomとは異なる電圧を供給することにより、画素内で補助容量配線と画素電極が短絡する不良があった場合でも、致命的な欠陥(輝点)を回避することができる。
[第3の実施形態]
図8は、本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板30の概略構成を示す平面図である。図9は、図8におけるA部付近を拡大して示す平面図である。なお、前述の各実施形態において説明した構成と同様の構成については、それらの実施形態と同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
図8および図9に示すように、本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板30は、額縁領域13において信号線Sに平行にコモン配線14a,14bが設けられており、画素領域12のダミー絵素領域にコモン配線14e,14fが設けられている点において、第1および第2の実施形態と同様であり、額縁領域13の幅を小さくできるという効果を奏する。
また、額縁領域13において、コモン配線14c1,14d1がコモン配線14aとコモン配線14eとを接続して電気的に閉ループを形成しており、コモン配線14c2,14d2がコモン配線14bとコモン配線14fとを接続して電気的に閉ループを形成している点では、第1の実施形態とは異なるが、第2の実施形態と同じである。
本実施形態では、画素領域12において、ダミー絵素領域にコモン配線14e,14fと共に、補助容量配線CSdが配置されている点において、第2の実施形態と異なっている。このように、ダミー絵素領域に補助容量配線CSdを配置したことにより、補助容量配線全体の抵抗を低くすることができ、補助容量配線CS1,CS2,・・・に印加される電圧の低下を防止できる。
なお、本実施形態において、ダミー絵素領域の画素電極17dおよびTFT18dは必須ではない。すなわち、ダミー絵素領域には画素電極が形成されていなくても良い。また、ダミー絵素領域にはTFTを有さず、ダミー絵素領域の画素電極17dが補助容量配線CSdおよびコモン配線14e,14fの少なくとも一方と接続された構成としても良い。
[第4の実施形態]
図10は、本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板40の概略構成を示す平面図である。図11は、図10におけるA部付近を拡大して示す平面図である。なお、前述の各実施形態において説明した構成と同様の構成については、それらの実施形態と同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
図10および図11に示すように、本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板40は、額縁領域13において信号線Sに平行にコモン配線14a,14bが設けられており、画素領域12のダミー絵素領域にコモン配線14e,14fが設けられている点において、第1および第2の実施形態と同様であり、額縁領域13の幅を小さくできるという効果を奏する。
また、額縁領域13において、コモン配線14c1,14d1がコモン配線14aとコモン配線14eとを接続して電気的に閉ループを形成しており、コモン配線14c2,14d2がコモン配線14bとコモン配線14fとを接続して電気的に閉ループを形成している点では、第1の実施形態とは異なるが、第2の実施形態と同じである。
図12は、ダミー絵素領域およびその近傍の実絵素領域の等価回路図である。図12に示すように、本実施形態にかかる液晶表示装置は、隣接する画素の走査線を利用して補助容量CCSを形成している。このため、本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板40は、第1および第2の実施形態のような補助容量配線を備えていない。
図10に示すように、アクティブマトリクス基板40では、実絵素領域およびダミー絵素領域の両方において、画素電極17または画素電極17dのそれぞれが、当該画素の1段上の走査線との間で補助容量CCSを形成している。例えば、走査線G1に接続されている絵素の画素電極17は、走査線G1よりも1段上にあるダミー走査線Gd2との間で補助容量CCSを形成する。
[第5の実施形態]
図13は、本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板50の概略構成を示す平面図である。図14は、図13におけるA部付近を拡大して示す平面図である。なお、前述の各実施形態において説明した構成と同様の構成については、それらの実施形態と同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
本実施形態にかかるアクティブマトリクス基板50は、第1〜第4の実施形態とは異なり、ダミー絵素領域を有していない。その代わりに、アクティブマトリクス基板50は、図13および図14に示すように、走査線G1よりも外側(額縁領域側)と、走査線Gnよりも外側(額縁領域側)に、液晶中のイオン性不純物を捕獲するためのトラップ配線51a,51bを備えている。
液晶表示装置の製造工程において、配向膜に対してラビング処理を行う場合、摩擦によって基板から削り取られた配向膜が、異物として配向膜表面に付着し、時間経過と共にイオン性不純物となって液晶中に拡散していくことがある。トラップ配線51a,51bは、所定の電圧(例えば−5V)が印加されることにより、イオン性不純物を捕獲する機能を持つ。これにより、イオン性不純物が実絵素領域に拡散することによる表示ムラを防止できる。トラップ配線51a,51bは、画素電極と同じ透明電極材料(ITOまたはIZO)や、走査線Gまたは信号線Sと同じ配線材料(例えばAlまたはMo)等で形成される。
アクティブマトリクス基板50では、このトラップ配線51a,51bの下層に、コモン配線14e,14fが配置されている。図15は、本実施形態にかかる液晶表示装置の断面構造を示す図であり、(a)は平面図における断面の位置を示す図、(b)は(a)に示すA−A’断面における液晶表示装置の構成を示す断面図、(c)は(a)に示すB−B’断面における液晶表示装置の構成を示す断面図である。図15(b)および図15(c)では、配向膜の図示は省略されている。なお、図15(a)〜(c)は、トラップ配線51aの断面構造を示すが、トラップ配線51bの構造も同様である。
図15(b)および図15(c)に示すように、本実施形態にかかる液晶表示装置は、アクティブマトリクス基板50と対向基板60との間に、液晶62を挟持している。図15(b)に示すように、アクティブマトリクス基板50において、透光性基板11の表面には、コモン配線14e、第1絶縁膜63、信号線S、第2絶縁膜64、トラップ配線51a、および配向膜(図示せず)が、この順に形成されている。また、対向基板60において、透光性基板61の表面には、ブラックマトリクス66、カラーフィルタ65、共通電極66、および配向膜(図示せず)が形成されている。なお、対向基板60のブラックマトリクス66は、トラップ配線51aを隠すように配置されている。
また、図15(c)に示すように、コモン配線14eは、アクティブマトリクス基板50の透光性基板11の表面に形成され、その上層に、第1絶縁膜63、第2絶縁膜64、トラップ配線51aが形成されている。図15では、コモン配線14eの幅が、トラップ配線51aの幅よりも大きい構成を示しているが、コモン配線14e,14fの幅がトラップ配線51a,51bの幅よりも小さくても良い。ただし、第1の実施形態で説明したように、コモン配線14e,14fの幅を大きくするほど、コモン配線14a,14bの幅を小さくすることができ、額縁領域13の縮小が図れる。
以上、第1〜第5の実施形態を説明したが、これらの実施形態の一変形例をここで説明する。図16は、本発明の実施形態の一変形例として、第1の実施形態の変形例にかかるアクティブマトリクス基板70の構成を示す平面図である。図16において丸記号で囲んで示した領域P1に表れているように、アクティブマトリクス基板70において、画素領域12のダミー絵素領域に設けられたコモン配線14eは、信号線Sと交差する部分の幅が、主たる配線幅Wよりも細く形成されていることが好ましい。なお、コモン配線14fも同様に、信号線Sと交差する部分の幅W’が、主たる配線幅Wよりも細く形成されていることが好ましい。これにより、信号線Sの負荷を低減し画素電極に適切な電圧を供給することができる。また、絶縁膜のピンホールなどに起因する、信号線Sとコモン配線14eとの短絡の確率が減少するという効果もある。なお、図16では、第1の実施形態の変形例を示したが、第2〜第5の実施形態にかかるアクティブマトリクス基板においても、上記と同様に、画素領域12内に設けられたコモン配線14eにおいて、信号線Sと交差する部分の幅を、主たる配線幅Wよりも細く形成する構成とすれば、上記と同様の効果が得られる。また、第3の実施形態の場合、ダミー絵素領域に設けられた補助容量配線CSdにおいて、信号線Sと交差する部分の幅を主たる配線幅Wよりも細く形成することによっても、同様の効果が得られる。
また、図16において丸記号で囲んで示した領域P2に表れているように、アクティブマトリクス基板70において、信号線Sにおける信号入力側と反対側の末端部が、画素領域12のダミー絵素領域に設けられたコモン配線14eと交叉しないようにすることが好ましい。これにより、信号線Sの負荷を低減し画素電極に適切な電圧を供給することができ、また絶縁膜のピンホールなどに起因する信号線Sとコモン配線14eの短絡が無くなるという利点がある。なお、コモン配線14fも同様に、信号線Sにおける信号入力側と反対側の末端部と交叉しないようにすることが好ましい。なお、図16では、第1の実施形態の変形例を示したが、第2〜第5の実施形態にかかるアクティブマトリクス基板においても、上記と同様に、信号線Sにおける信号入力側と反対側の末端部が、画素領域12のダミー絵素領域に設けられたコモン配線14eと交叉しない構成とすれば、上記と同様の効果が得られる。また、第3の実施形態の場合、ダミー絵素領域に設けられた補助容量配線CSdに対しても、信号線Sにおける信号入力側と反対側の末端部が交叉しないようにすることが好ましい。
また、上述の各実施形態は、本発明の一具体例に過ぎず、発明の範囲内で上記の実施形態を変更することが可能である。例えば、図2等では、走査線がアクティブマトリクス基板の長辺に平行な構成を例示したが、走査線がアクティブマトリクス基板の短辺に平行な構成であっても良い。
また、図2等には、絵素がデルタ配列である例を示したが、絵素がストライプ配列された構成であっても良い。
ダミー走査線の数は、上述の例の3本に限定されず、これよりも多くても良い。これにより、ダミー絵素領域が複数行形成される場合は、いずれか1つの行のダミー絵素領域のみにコモン配線および補助容量配線(第3の実施形態の場合)を配置しても良いし、複数行のダミー絵素領域にコモン配線および補助容量配線(第3の実施形態の場合)を配置しても良い。
また、本発明を液晶表示装置として実施する場合、液晶の表示モードやバックライトの有無等については、何ら限定がない。例えば、透過型、反射型、または半透過型等の、任意のモードの液晶表示装置に本発明を適用できる。
本発明は、額縁領域の一辺にバスライン駆動回路を配置し、かつコモン転移を介して対向基板側へ共通電圧Vcomを供給するアクティブマトリクス基板およびこれを用いた表示装置として、産業上利用可能である。

Claims (16)

  1. アクティブマトリクス基板と対向基板とを備えた表示装置において、
    前記アクティブマトリクス基板が、
    マトリクス状に配置された走査線および信号線と、
    前記信号線によって供給されるデータ信号に応じた表示を行う有効画素を含む実画素領域と、前記実画素領域よりもパネル端側に位置するダミー画素領域とを含む画素領域を有し、
    前記表示装置が、
    前記アクティブマトリクス基板の一辺において前記画素領域外に配置され、前記走査線および信号線へ、走査信号およびデータ信号をそれぞれ供給するバスライン駆動回路と、
    前記対向基板の共通電極へ供給するコモン信号を生成するコモン駆動回路とを備え、
    前記アクティブマトリクス基板が、
    前記画素領域に配置された補助容量と、
    前記画素領域に配置され、前記補助容量に電気的に接続された補助容量配線と、
    前記アクティブマトリクス基板において前記バスライン駆動回路が配置された一辺に対向する辺に設けられ、前記コモン信号を前記対向基板の共通電極へ供給するためのコモン転移と、
    前記コモン信号を前記コモン転移へ供給するためのコモン配線とを備え、
    前記コモン配線の少なくとも一部が、前記画素領域における前記ダミー画素領域に配置されており、
    前記ダミー画素領域に配置された前記コモン配線の部分の幅は、前記補助容量配線の幅よりも大きいことを特徴とする表示装置。
  2. 前記ダミー画素領域に配置されているコモン配線が、前記画素領域内の補助容量配線に電気的に接続されている、請求項1に記載の表示装置。
  3. 前記ダミー画素領域に配置されているコモン配線が、前記画素領域内の補助容量配線に対して電気的に独立している、請求項1に記載の表示装置。
  4. 前記ダミー画素領域に、前記画素領域内の補助容量配線に並列なダミー補助容量配線がさらに配置された、請求項1に記載の表示装置。
  5. 前記ダミー補助容量配線において、前記信号線との交叉部分の幅が、当該ダミー補助容量配線の主たる配線幅よりも小さい、請求項4に記載の表示装置。
  6. 前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記ダミー補助容量配線に交叉しないよう配置された、請求項4に記載の表示装置。
  7. 前記ダミー画素領域のコモン配線において、前記信号線との交叉部分の幅が、当該コモン配線の主たる配線幅よりも小さい、請求項1〜のいずれか一項に記載の表示装置。
  8. 前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記ダミー画素領域のコモン配線に交叉しないよう配置された、請求項1〜のいずれか一項に記載の表示装置。
  9. 前記ダミー画素領域を視覚的に遮蔽する遮蔽部材をさらに備えた、請求項1〜のいずれか一項に記載の表示装置。
  10. 前記アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶を備えた、請求項1〜のいずれか一項に記載の表示装置。
  11. アクティブマトリクス基板と対向基板との間に表示媒体を備えた表示装置において、
    前記アクティブマトリクス基板が、
    マトリクス状に配置された走査線および信号線と、
    前記信号線によって供給されるデータ信号に応じた表示を行う有効画素を含む実画素領域と、前記実画素領域よりもパネル端側に位置し前記表示媒体中の不純物を電気的に捕獲するためのトラップ配線が形成された不純物捕獲領域とを含む画素領域を有し、
    前記表示装置が、
    前記アクティブマトリクス基板の一辺において前記画素領域外に配置され、前記走査線および信号線へ、走査信号およびデータ信号をそれぞれ供給するバスライン駆動回路と、
    前記対向基板の共通電極へ供給するコモン信号を生成するコモン駆動回路とを備え、
    前記アクティブマトリクス基板が、
    前記画素領域に配置された補助容量と、
    前記画素領域に配置され、前記補助容量に電気的に接続された補助容量配線と、
    前記アクティブマトリクス基板において前記バスライン駆動回路が配置された一辺に対向する辺に設けられ、前記コモン信号を前記対向基板の共通電極へ供給するためのコモン転移と、
    前記コモン信号を前記コモン転移へ供給するためのコモン配線とを備え、
    前記コモン配線の少なくとも一部が、前記画素領域における前記不純物捕獲領域に配置されており、
    前記不純物捕獲領域に配置された前記コモン配線の部分の幅は、前記補助容量配線の幅よりも大きいことを特徴とする表示装置。
  12. 前記不純物捕獲領域のコモン配線において、前記信号線との交叉部分の幅が、当該コモン配線の主たる配線幅よりも小さい、請求項11に記載の表示装置。
  13. 前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記不純物捕獲領域のコモン配線に交叉しないよう配置された、請求項11または12に記載の表示装置。
  14. 前記表示媒体が液晶である、請求項1113のいずれか一項に記載の表示装置。
  15. 前記コモン配線のうち前記走査線と平行な部分は、全て前記ダミー画素領域に配置されている請求項1に記載の表示装置。
  16. 前記コモン配線のうち前記走査線と平行であり且つ前記ダミー画素領域に配置された部分の幅は、前記コモン配線のうち前記走査線と平行であり且つ前記ダミー画素領域外に配置された部分の幅よりも大きい請求項1に記載の表示装置。
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