JP4721114B2 - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 - Google Patents
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 Download PDFInfo
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また本発明の別の目的は、前記製造方法によって製造された、発光ムラ等のない優れた表示特性を有する有機EL素子を提供することにある。
このとき、室温での蒸気圧が500Pa以下の溶媒の塗液中の濃度は、塗液中0.1質量%以上50質量%以下であることが好ましい。室温での蒸気圧が500Pa以下の溶媒の塗液中の濃度が0.1質量%未満の場合、本発明の効果を十分に得ることができなくなってしまう。一方、50質量%を超えるような場合には、エレクトロスプレー膜形成後の乾燥処理において、膜中から該溶媒を除去することが困難となり、残留溶媒による寿命劣化や表示特性劣化を引き起こされる。なお、さらに好ましくは、室温での蒸気圧が500Pa以下の溶媒の塗液中の濃度は、塗液中0.5質量%以上30質量%以下であることが好ましい。
このとき、室温での蒸気圧が500Pa以下の溶媒の塗液中の濃度は、塗液中0.1質量%以上50質量%以下であることが好ましい。室温での蒸気圧が500Pa以下の溶媒の塗液中の濃度が0.1質量%未満の場合、本発明の効果を十分に得ることができなくなってしまう。一方、50質量%を超えるような場合には、エレクトロスプレー膜形成後の乾燥処理において、膜中から該溶媒を除去することが困難となり、残留溶媒による寿命劣化や表示特性劣化を引き起こされる。なお、さらに好ましくは、室温での蒸気圧が500Pa以下の溶媒の塗液中の濃度は、塗液中0.5質量%以上30質量%以下であることが好ましい。
(実施例)
体格1.8インチサイズのガラス基板の上にスパッタ法を用いてITO(インジウム-錫酸化物)薄膜を形成し、フォトリソ法と酸溶液によるエッチングでITO膜をパターニングして、画素電極を形成した。画素電極のラインパターンは、線幅1000μm、スペース500mでラインが約30mm角の中に20ライン形成されるパターンとした。
有機発光層の作製方法についてエレクトロスプレーデポジション法を用いて行った以外は実施例1と同様とした。このとき有機発光インキとしてはポリフェニレンビニレン誘導体を濃度1%になる様に調液を行った。このときの溶媒組成としては、トルエン50重量部、ニトロベンゼン 35重量部、N−メチル−2−ピロリドン 15重量部とした。エレクトロスプレーデポジション法により形成した電荷輸送層上、つまりITO上にパターン形成し、真空オーブンにて100℃2時間の乾燥を行い、膜厚80nmの有機発光層を得た。
実施例1の電荷輸送層形成の際のインキ組成を電荷輸送インキとしてバイトロンAI−4083 60重量部、イソプロピルアルコール 40重量部とした以外は同様に行った。
実施例1の電荷輸送層形成をスピンコート形成により行った以外は同様に行った。
実施例1の手順のうち、200℃30分大気中での乾燥工程を省略した以外は同様に行った。
Claims (6)
- 少なくとも電極としての機能を併せ持つスプレーキャピラリーと、電極として使用できる導電性基板と、前記スプレーキャピラリーと導電性基板との間に電圧を印加することが可能な高圧電源部とを用いたエレクトロスプレーデポジション法により、導電性パターンが形成された前記導電性基板上に前記導電性パターンを電極として塗液を付着させ、前記導電性パターン上に所望の機能を有するパターンを形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、前記塗液が、室温での蒸気圧500Pa以下の溶媒を少なくとも含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記塗液が、少なくとも電荷輸送性材料を含む電荷輸送性塗液であり、前記導電性パターン上に電荷輸送層を形成することを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記電荷輸送性塗液を前記導電性パターン上に付着させた後、乾燥処理して電荷輸送層を形成することを特徴とする請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記塗液が、少なくとも有機発光性材料を含む有機発光性塗液であり、少なくとも前記導電性パターン上に有機発光層を形成することを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記塗液として、少なくとも電荷輸送性材料を含む電荷輸送性塗液と、少なくとも有機発光性材料からなる有機発光性塗液とを用い、前記電荷輸送性塗液によって前記導電性パターン上に電荷輸送層を形成した後、前記電荷輸送層上に、前記有機発光性塗液によって有機発光層を形成することを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記電荷輸送性塗液が、室温での蒸気圧500Pa以下の溶媒として、グリセリンを必須成分として含み、かつ前記有機発光性塗液が、室温での蒸気圧500Pa以下の溶媒として、ニトロベンゼンおよびN−メチル−2−ピロリドンを必須成分として含むことを特徴とする請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH097768A (ja) * | 1995-06-15 | 1997-01-10 | Nippon Paint Co Ltd | 電界発光素子その製造法およびそれを用いた表示装置 |
JP2001155858A (ja) * | 1999-11-24 | 2001-06-08 | Sharp Corp | 有機el素子の製造方法 |
JP2002222691A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-08-09 | Tdk Corp | 発光素子 |
JP2003243163A (ja) * | 2002-02-14 | 2003-08-29 | Sharp Corp | 有機ledディスプレイとその製造方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH097768A (ja) * | 1995-06-15 | 1997-01-10 | Nippon Paint Co Ltd | 電界発光素子その製造法およびそれを用いた表示装置 |
JP2001155858A (ja) * | 1999-11-24 | 2001-06-08 | Sharp Corp | 有機el素子の製造方法 |
JP2002222691A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-08-09 | Tdk Corp | 発光素子 |
JP2003243163A (ja) * | 2002-02-14 | 2003-08-29 | Sharp Corp | 有機ledディスプレイとその製造方法 |
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