JP2003243163A - 有機ｌｅｄディスプレイとその製造方法 - Google Patents
有機ｌｅｄディスプレイとその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 隣接する２つの隔壁間に精度よく有機ＬＥＤ
層を印刷すること。 【解決手段】 基板上に有機ＬＥＤ層とそれを挟持する
１対の電極と、前記有機ＬＥＤ層を画素ごとに区画する
隔壁とを備えた有機ＬＥＤディスプレイの製造方法にお
いて、基板上に等間隔に立設する隔壁を形成し、有機Ｌ
ＥＤ層中の少なくとも１層を、有機材料と溶媒を含有す
る有機ＬＥＤ層形成用塗液を用いて凸版印刷法により隔
壁間に形成する工程を備え、凸版印刷法で用いる転写基
板の凸部の幅が画素間に形成された隔壁の間隔より小さ
いこと。
層を印刷すること。 【解決手段】 基板上に有機ＬＥＤ層とそれを挟持する
１対の電極と、前記有機ＬＥＤ層を画素ごとに区画する
隔壁とを備えた有機ＬＥＤディスプレイの製造方法にお
いて、基板上に等間隔に立設する隔壁を形成し、有機Ｌ
ＥＤ層中の少なくとも１層を、有機材料と溶媒を含有す
る有機ＬＥＤ層形成用塗液を用いて凸版印刷法により隔
壁間に形成する工程を備え、凸版印刷法で用いる転写基
板の凸部の幅が画素間に形成された隔壁の間隔より小さ
いこと。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＬＥＤディス
プレイとその製造方法に関するものである。
プレイとその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】近年、高度情報化に伴い、薄型、低消費電
力、軽量の表示素子への要望が高まる中、有機ＬＥＤデ
ィスプレイが注目を集めている。特に、近年の高分子系
材料を用いた素子の発光効率の向上は著しく、特に高分
子系材料から構成される発光層のパターニング方法が注
目を集めている。
力、軽量の表示素子への要望が高まる中、有機ＬＥＤデ
ィスプレイが注目を集めている。特に、近年の高分子系
材料を用いた素子の発光効率の向上は著しく、特に高分
子系材料から構成される発光層のパターニング方法が注
目を集めている。
【０００３】具体的方法としては、電着法による方法
（特開平９−７７６８号公報）やインクジェット法によ
る方法（特開平１０−１２３７７号公報）、印刷法（特
開平３−２６９９９５号公報、特開平１０−７７４６７
号公報、特開平１１−２７３８５９号公報、特開２００
１−１５５８５８号公報、特開２００１−１５５８６１
号公報）、転写法（特開平１０−２０８８８１号公報、
特開１１−２３７５０４号公報、特開平１１−２６０５
４９号公報）が知られている。
（特開平９−７７６８号公報）やインクジェット法によ
る方法（特開平１０−１２３７７号公報）、印刷法（特
開平３−２６９９９５号公報、特開平１０−７７４６７
号公報、特開平１１−２７３８５９号公報、特開２００
１−１５５８５８号公報、特開２００１−１５５８６１
号公報）、転写法（特開平１０−２０８８８１号公報、
特開１１−２３７５０４号公報、特開平１１−２６０５
４９号公報）が知られている。
【０００４】しかし、電着法による方法では、良好な膜
質の膜が得られないという問題があり、インクジェット
法では、膜の表面形状が良好な膜が得られないという問
題がある。また、転写法では、装置が複雑になるという
問題がある。一方、印刷法では、良好な膜質、膜の表面
形状が良好な膜が簡単な方法で得られるという利点があ
るとされている。
質の膜が得られないという問題があり、インクジェット
法では、膜の表面形状が良好な膜が得られないという問
題がある。また、転写法では、装置が複雑になるという
問題がある。一方、印刷法では、良好な膜質、膜の表面
形状が良好な膜が簡単な方法で得られるという利点があ
るとされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、実際の印刷法
においては、所望の画素以外の画素にも液が付着してし
まい、発光材料が混じり合い、色純度、発光効率、寿命
が低下すると言った問題がある。
においては、所望の画素以外の画素にも液が付着してし
まい、発光材料が混じり合い、色純度、発光効率、寿命
が低下すると言った問題がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
事情を考慮してなされたものであり、基板上に有機ＬＥ
Ｄ層とそれを挟持する１対の電極と、前記有機ＬＥＤ層
を画素ごとに区画する隔壁とを備えた有機ＬＥＤディス
プレイの製造方法において、基板上に等間隔に立設する
隔壁を形成し、有機ＬＥＤ層中の少なくとも１層を、有
機材料と溶媒を含有する有機ＬＥＤ層形成用塗液を用い
て凸版印刷法により隔壁間に形成する工程を備え、凸版
印刷法で用いる転写基板の凸部の幅が画素間に形成され
た隔壁の間隔より小さいことを特徴とする有機ＬＥＤデ
ィスプレイの製造方法を提供するものである。これによ
り、凸版印刷法で用いる転写基板の凸部の幅が画素間に
形成された隔壁が間隔より小さいことで、転写基板の凸
部に付着した有機ＬＥＤ層形成用塗液が、電極にだけ付
着し、直接隔壁に接することが無いので、有機ＬＥＤ層
形成用塗液が所望の画素以外の部分に付着するのを防止
することが可能となる。
事情を考慮してなされたものであり、基板上に有機ＬＥ
Ｄ層とそれを挟持する１対の電極と、前記有機ＬＥＤ層
を画素ごとに区画する隔壁とを備えた有機ＬＥＤディス
プレイの製造方法において、基板上に等間隔に立設する
隔壁を形成し、有機ＬＥＤ層中の少なくとも１層を、有
機材料と溶媒を含有する有機ＬＥＤ層形成用塗液を用い
て凸版印刷法により隔壁間に形成する工程を備え、凸版
印刷法で用いる転写基板の凸部の幅が画素間に形成され
た隔壁の間隔より小さいことを特徴とする有機ＬＥＤデ
ィスプレイの製造方法を提供するものである。これによ
り、凸版印刷法で用いる転写基板の凸部の幅が画素間に
形成された隔壁が間隔より小さいことで、転写基板の凸
部に付着した有機ＬＥＤ層形成用塗液が、電極にだけ付
着し、直接隔壁に接することが無いので、有機ＬＥＤ層
形成用塗液が所望の画素以外の部分に付着するのを防止
することが可能となる。
【０００７】隔壁を構成する材料の表面の臨界表面張力
が、前記有機ＬＥＤ層形成用塗液よりも小さいことが好
ましい。これにより、有機ＬＥＤ層形成用塗液が、基板
に付着した後、ウエットの状態を保ち続けても、隔壁を
越えて所望の画素以外の画素に付着するのを防止するこ
とが可能となる。隔壁の構成材料として、臨界表面張力
が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の材料を用いると、有機ＬＥ
Ｄ形成用塗液は、画素内に収まり、隣の画素を汚染する
ことがなく、そのため、発光材料が混じり合ってしまう
ことによる色純度、発光効率、寿命の低下を防止するこ
とができ、低消費電力で、極めて鮮やかなカラー表示の
有機ＬＥＤディスプレイを提供することが可能となる。
が、前記有機ＬＥＤ層形成用塗液よりも小さいことが好
ましい。これにより、有機ＬＥＤ層形成用塗液が、基板
に付着した後、ウエットの状態を保ち続けても、隔壁を
越えて所望の画素以外の画素に付着するのを防止するこ
とが可能となる。隔壁の構成材料として、臨界表面張力
が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の材料を用いると、有機ＬＥ
Ｄ形成用塗液は、画素内に収まり、隣の画素を汚染する
ことがなく、そのため、発光材料が混じり合ってしまう
ことによる色純度、発光効率、寿命の低下を防止するこ
とができ、低消費電力で、極めて鮮やかなカラー表示の
有機ＬＥＤディスプレイを提供することが可能となる。
【０００８】溶媒として、蒸気圧が２０℃の温度下で５
００Ｐａ 以下である溶媒を用いることにより、凸版印
刷法により成膜した直後は、有機ＬＥＤ層形成用塗液が
基板上でも溶液の状態を保ち続けることができ、隔壁の
隅まで隙間無く有機ＬＥＤ層が形成され、有機ＬＥＤ層
が成膜されていないために生じる電極間の短絡を防止す
ることが可能となる。
００Ｐａ 以下である溶媒を用いることにより、凸版印
刷法により成膜した直後は、有機ＬＥＤ層形成用塗液が
基板上でも溶液の状態を保ち続けることができ、隔壁の
隅まで隙間無く有機ＬＥＤ層が形成され、有機ＬＥＤ層
が成膜されていないために生じる電極間の短絡を防止す
ることが可能となる。
【０００９】隔壁は、２層以上の積層構造を有し、最上
部の層は、表面の臨界表面張力が有機ＬＥＤ層形成用塗
液の表面張力よりも小さいことが好ましい。これによ
り、有機ＬＥＤ層形成用塗液が、基板に付着した後、ウ
エットの状態を保ち続けても、隔壁の最上部を越えて所
望の画素以外の画素に付着するのを防止することが可能
となる。隔壁は、２層以上の積層構造を有し、最上部の
層は臨界表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の材料を用
いて形成されることが好ましい。これにより、有機ＬＥ
Ｄ形成用塗液は、画素内に収まり、隣の画素を汚染する
ことがなく、そのため、発光材料が混じり合ってしまう
ことによる色純度、発光効率、寿命の低下を防止するこ
とができ、低消費電力で、極めて鮮やかなカラー表示の
有機ＬＥＤディスプレイを提供することが可能となる。
隔壁は、立設方向にテーパー状であってもよい。また、
この発明は、上記製造方法により製造された有機ＬＥＤ
ディスプレイを提供するものである。
部の層は、表面の臨界表面張力が有機ＬＥＤ層形成用塗
液の表面張力よりも小さいことが好ましい。これによ
り、有機ＬＥＤ層形成用塗液が、基板に付着した後、ウ
エットの状態を保ち続けても、隔壁の最上部を越えて所
望の画素以外の画素に付着するのを防止することが可能
となる。隔壁は、２層以上の積層構造を有し、最上部の
層は臨界表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の材料を用
いて形成されることが好ましい。これにより、有機ＬＥ
Ｄ形成用塗液は、画素内に収まり、隣の画素を汚染する
ことがなく、そのため、発光材料が混じり合ってしまう
ことによる色純度、発光効率、寿命の低下を防止するこ
とができ、低消費電力で、極めて鮮やかなカラー表示の
有機ＬＥＤディスプレイを提供することが可能となる。
隔壁は、立設方向にテーパー状であってもよい。また、
この発明は、上記製造方法により製造された有機ＬＥＤ
ディスプレイを提供するものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について図面を参照して説明する。有機ＬＥＤ素子とし
ては、図１に示すように、少なくとも基板１上に第１電
極２、有機ＬＥＤ層３と第２電極４から構成される。ま
た、コントラストの観点から、光を取り出す側に、つま
り、第１電極２から光を取り出す場合には、基板１の外
側に、偏光板７を、第２電極４側から光を取り出す場合
は、第２電極４上に偏光板７が設けられていることが好
ましく、また、信頼性の観点からは、有機ＬＥＤ素子の
第２電極４の上には、封止膜又は封止基板６を設けるこ
とが好ましい。
について図面を参照して説明する。有機ＬＥＤ素子とし
ては、図１に示すように、少なくとも基板１上に第１電
極２、有機ＬＥＤ層３と第２電極４から構成される。ま
た、コントラストの観点から、光を取り出す側に、つま
り、第１電極２から光を取り出す場合には、基板１の外
側に、偏光板７を、第２電極４側から光を取り出す場合
は、第２電極４上に偏光板７が設けられていることが好
ましく、また、信頼性の観点からは、有機ＬＥＤ素子の
第２電極４の上には、封止膜又は封止基板６を設けるこ
とが好ましい。
【００１１】基板１としては、石英基板、ガラス基板等
の無機材料基板、ポリエチレンテレフタレート基板、ポ
リエーテルサルフォン基板、ポリイミド基板等の樹脂基
板が使用可能である。ここで、基板１の上には有機ＬＥ
Ｄ素子を駆動する目的で、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
が形成されていても良い。また、ＴＦＴの特性のバラツ
キを抑える目的で、基板１の上に設けられるＴＦＴの数
は、１画素当り複数個、特に、３〜５個であってもよ
い。
の無機材料基板、ポリエチレンテレフタレート基板、ポ
リエーテルサルフォン基板、ポリイミド基板等の樹脂基
板が使用可能である。ここで、基板１の上には有機ＬＥ
Ｄ素子を駆動する目的で、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
が形成されていても良い。また、ＴＦＴの特性のバラツ
キを抑える目的で、基板１の上に設けられるＴＦＴの数
は、１画素当り複数個、特に、３〜５個であってもよ
い。
【００１２】有機ＬＥＤ層３は、少なくとも１層の有機
発光層を有する構造で、有機発光層の単層構造、あるい
は、電荷輸送層と有機発光層の多層構造であってもよ
い。ここで、電荷輸送層、有機発光層はそれぞれ多層構
造であっても良い。また、必要に応じて発光層と電極の
間にバッファー層を設けても良い。また、この発明で
は、有機ＬＥＤ層３として、少なくとも１層が、有機Ｌ
ＥＤ層形成用塗液を用いて凸版印刷法により形成される
が、他の層は本発明の凸版印刷法により作製してもよい
し、また、従来の方法（例えば、真空蒸着法等のドライ
プロセスや、ディップコート法、スピンコート法、イン
クジェット法等のウエットプロセス）により作製しても
よい。
発光層を有する構造で、有機発光層の単層構造、あるい
は、電荷輸送層と有機発光層の多層構造であってもよ
い。ここで、電荷輸送層、有機発光層はそれぞれ多層構
造であっても良い。また、必要に応じて発光層と電極の
間にバッファー層を設けても良い。また、この発明で
は、有機ＬＥＤ層３として、少なくとも１層が、有機Ｌ
ＥＤ層形成用塗液を用いて凸版印刷法により形成される
が、他の層は本発明の凸版印刷法により作製してもよい
し、また、従来の方法（例えば、真空蒸着法等のドライ
プロセスや、ディップコート法、スピンコート法、イン
クジェット法等のウエットプロセス）により作製しても
よい。
【００１３】また、ウエットプロセスで多層積層膜から
なる有機ＬＥＤディスプレイを作製する場合には、接す
る膜間での材料の混同を防ぐ為、後に成膜する層に使用
する溶媒は先に形成してある層を溶解させないものが好
ましく、更に、成膜する層間で乾燥工程を設けることが
好ましい。
なる有機ＬＥＤディスプレイを作製する場合には、接す
る膜間での材料の混同を防ぐ為、後に成膜する層に使用
する溶媒は先に形成してある層を溶解させないものが好
ましく、更に、成膜する層間で乾燥工程を設けることが
好ましい。
【００１４】次に、有機ＬＥＤ層３を挟持する第１電極
２と第２電極４としては、有機ＬＥＤ素子において、基
板１、及び、第１電極２が透明、または、半透明である
場合は、有機ＬＥＤ層３からの発光は、基板１側から放
出されるので、発光効率を高める為、第２電極４が反射
電極であること、もしくは、第２電極４上に反射膜を有
することが好ましい。しかし、コントラストを向上させ
る目的で、第２電極４として黒色電極等の低反射電極を
用いることも可能である。
２と第２電極４としては、有機ＬＥＤ素子において、基
板１、及び、第１電極２が透明、または、半透明である
場合は、有機ＬＥＤ層３からの発光は、基板１側から放
出されるので、発光効率を高める為、第２電極４が反射
電極であること、もしくは、第２電極４上に反射膜を有
することが好ましい。しかし、コントラストを向上させ
る目的で、第２電極４として黒色電極等の低反射電極を
用いることも可能である。
【００１５】また、逆に、第２電極４を透明材料、また
は、半透明材料で構成して、有機ＬＥＤ層３からの発光
を第２電極４側から放出させることもできる。この場合
には、発光効率を高める目的で、第１電極２が反射電極
であること、もしくは、第１電極２（透明材料、また
は、半透明材料の電極）と基板１との間に反射膜を有す
ることが好ましい。また、同様にコントラストを向上さ
せる目的で、第１電極２（透明材料、または、半透明材
料の電極）として黒色電極等の低反射電極を用いること
も可能である。
は、半透明材料で構成して、有機ＬＥＤ層３からの発光
を第２電極４側から放出させることもできる。この場合
には、発光効率を高める目的で、第１電極２が反射電極
であること、もしくは、第１電極２（透明材料、また
は、半透明材料の電極）と基板１との間に反射膜を有す
ることが好ましい。また、同様にコントラストを向上さ
せる目的で、第１電極２（透明材料、または、半透明材
料の電極）として黒色電極等の低反射電極を用いること
も可能である。
【００１６】ここで、透明、もしくは、半透明電極とし
ては、ＣｕＩ、ＩＴＯ、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等の透明電
極、従来の金属の薄膜等を用いた半透明電極が使用可能
で、反射電極としては、アルミニウム、カルシウム等の
金属、マクネシウム‐銀、リチウム‐アルミニウム等の
合金、カルシウム／銀、マグネシウム／銀等の金属同士
の積層膜、フッ化リチウム／アルミニウム等の絶縁体と
金属との積層膜等が使用可能である。黒色電極として
は、ＬｉＦ／Ａｌ／ＡｌＳｉＯ／Ａｌ、Ｃａ／Ａｌ／Ｃ
ｒＳｉＯ／Ａｌ等の積層膜が挙げられる。また、これら
の材料を基板１上もしくは有機ＬＥＤ層３上にスパッ
タ、ＥＢ蒸着法、抵抗加熱蒸着法等のドライプロセスで
成膜することが可能である。また、上記材料を結着樹脂
中に分散して印刷法、インクジェット法等のウエットプ
ロセスで成膜することも可能である。
ては、ＣｕＩ、ＩＴＯ、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等の透明電
極、従来の金属の薄膜等を用いた半透明電極が使用可能
で、反射電極としては、アルミニウム、カルシウム等の
金属、マクネシウム‐銀、リチウム‐アルミニウム等の
合金、カルシウム／銀、マグネシウム／銀等の金属同士
の積層膜、フッ化リチウム／アルミニウム等の絶縁体と
金属との積層膜等が使用可能である。黒色電極として
は、ＬｉＦ／Ａｌ／ＡｌＳｉＯ／Ａｌ、Ｃａ／Ａｌ／Ｃ
ｒＳｉＯ／Ａｌ等の積層膜が挙げられる。また、これら
の材料を基板１上もしくは有機ＬＥＤ層３上にスパッ
タ、ＥＢ蒸着法、抵抗加熱蒸着法等のドライプロセスで
成膜することが可能である。また、上記材料を結着樹脂
中に分散して印刷法、インクジェット法等のウエットプ
ロセスで成膜することも可能である。
【００１７】次に、複数の有機ＬＥＤ素子から構成され
る有機ＬＥＤディスプレイについて説明する。まず、有
機ＬＥＤディスプレイの各発光画素の配置について説明
する。本発明の有機ＬＥＤディスプレイは、図２に示す
ように、ディスプレイの各部分が異なる発光色を持つエ
リア、つまり赤色発光画素８、緑色発光画素９、青色発
光画素１０から構成されていても良いし、図３に示すよ
うに、有機ＬＥＤ層３が、マトリックス状に配置され構
造をもっており、そのマトリックス状に配置された有機
ＬＥＤ層３が赤色（Ｒ）発光画素８、緑色（Ｇ）発光画
素９、青色（Ｂ）発光画素１０から構成されていてもよ
い。
る有機ＬＥＤディスプレイについて説明する。まず、有
機ＬＥＤディスプレイの各発光画素の配置について説明
する。本発明の有機ＬＥＤディスプレイは、図２に示す
ように、ディスプレイの各部分が異なる発光色を持つエ
リア、つまり赤色発光画素８、緑色発光画素９、青色発
光画素１０から構成されていても良いし、図３に示すよ
うに、有機ＬＥＤ層３が、マトリックス状に配置され構
造をもっており、そのマトリックス状に配置された有機
ＬＥＤ層３が赤色（Ｒ）発光画素８、緑色（Ｇ）発光画
素９、青色（Ｂ）発光画素１０から構成されていてもよ
い。
【００１８】また、このストライプ配列の代わりに、図
４、図５に示すような配列でもよい。また、図６に示さ
れるように赤色（Ｒ）発光画素８、緑色（Ｇ）発光画素
９、青色（Ｂ）発光画素１０の割合は、必ずしも、１：
１：１の比で無くともよい。また、各画素の発光面積は
同一であってもよいが、異なっていてもよい。
４、図５に示すような配列でもよい。また、図６に示さ
れるように赤色（Ｒ）発光画素８、緑色（Ｇ）発光画素
９、青色（Ｂ）発光画素１０の割合は、必ずしも、１：
１：１の比で無くともよい。また、各画素の発光面積は
同一であってもよいが、異なっていてもよい。
【００１９】ここで、各画素間には、異なる発光色を持
つ発光画素間には発光層の混ざりを防止するため、有機
ＬＥＤ層３を形成するための用塗液の表面張力よりも小
さい臨界表面張力を持つ材料から構成される隔壁５を設
ける必要がある（図７、図８、図９、図１０参照）。更
に、一般の有機ＬＥＤ形成用塗液は、表面張力が３０ｄ
ｙｎｅ／ｃｍ以下であるので、隔壁５の構成材料とし
て、臨界表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の材料を用
いることも可能である。
つ発光画素間には発光層の混ざりを防止するため、有機
ＬＥＤ層３を形成するための用塗液の表面張力よりも小
さい臨界表面張力を持つ材料から構成される隔壁５を設
ける必要がある（図７、図８、図９、図１０参照）。更
に、一般の有機ＬＥＤ形成用塗液は、表面張力が３０ｄ
ｙｎｅ／ｃｍ以下であるので、隔壁５の構成材料とし
て、臨界表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の材料を用
いることも可能である。
【００２０】ここで、臨界表面張力γｃが３０ｄｙｎｅ
／ｃｍ以下の隔壁５の材料としては、例えば、ポリ６フ
ッ化プロピレン（γｃ＝１６ｄｙｎｅ／ｃｍ）、ポリ４
フッ化エチレン（γｃ＝１８ｄｙｎｅ／ｃｍ）等の有機
材料や、サイロライト、サイロホービック（富士シリシ
ア化学社製）などの無機材料や、これら有機材料、無機
材料をポジ型レジスト、ネガ型レジスト中に分散したも
の等が挙げられる。また、これらの材料を用いて隔壁５
を形成した後、プラズマ処理、ＵＶ処理、ガス処理を行
うことにより、臨界表面張力の値を制御してもよい。
／ｃｍ以下の隔壁５の材料としては、例えば、ポリ６フ
ッ化プロピレン（γｃ＝１６ｄｙｎｅ／ｃｍ）、ポリ４
フッ化エチレン（γｃ＝１８ｄｙｎｅ／ｃｍ）等の有機
材料や、サイロライト、サイロホービック（富士シリシ
ア化学社製）などの無機材料や、これら有機材料、無機
材料をポジ型レジスト、ネガ型レジスト中に分散したも
の等が挙げられる。また、これらの材料を用いて隔壁５
を形成した後、プラズマ処理、ＵＶ処理、ガス処理を行
うことにより、臨界表面張力の値を制御してもよい。
【００２１】隔壁５としては、単層構造であってもよい
し、多層構造であってもよい。また、多層構造の場合、
各層の隔壁の臨界表面張力が異なっていてもよい。多層
構成の隔壁の最上部の層の臨界表面張力を有機ＬＥＤ層
形成用塗液の表面張力より小さくすることにより、下地
の隔壁５としては、有機ＬＥＤ層形成用塗液の表面張力
より大きな臨界表面張力を持つ材料を用いることが可能
となる。また、隔壁５の材質としては、有機ＬＥＤ層３
に対して、不溶もしくは難溶であることが好ましい。ま
た、より好ましくは、ディスプレイとしての表示品位を
向上する目的で、ブラックマトリックス用の材料を用い
ることが好ましい。
し、多層構造であってもよい。また、多層構造の場合、
各層の隔壁の臨界表面張力が異なっていてもよい。多層
構成の隔壁の最上部の層の臨界表面張力を有機ＬＥＤ層
形成用塗液の表面張力より小さくすることにより、下地
の隔壁５としては、有機ＬＥＤ層形成用塗液の表面張力
より大きな臨界表面張力を持つ材料を用いることが可能
となる。また、隔壁５の材質としては、有機ＬＥＤ層３
に対して、不溶もしくは難溶であることが好ましい。ま
た、より好ましくは、ディスプレイとしての表示品位を
向上する目的で、ブラックマトリックス用の材料を用い
ることが好ましい。
【００２２】ここで、隔壁５の断面形状としては、テー
パー状であり、基板１側の辺が対辺よりも長い台形（図
１１）、隔壁５の断面が三角形（図１２）、もしくは、
円形の一部（図１３）であることが好ましい。この断面
形状は、公知の光感光性樹脂を用い、フォトリソグラフ
ィー法により隔壁５を形成する際に、感光性樹脂を露光
する際の露光条件、エッチング条件、ベーク条件を制御
することで形成することが可能である。
パー状であり、基板１側の辺が対辺よりも長い台形（図
１１）、隔壁５の断面が三角形（図１２）、もしくは、
円形の一部（図１３）であることが好ましい。この断面
形状は、公知の光感光性樹脂を用い、フォトリソグラフ
ィー法により隔壁５を形成する際に、感光性樹脂を露光
する際の露光条件、エッチング条件、ベーク条件を制御
することで形成することが可能である。
【００２３】次に、各画素に対応した第１電極２間と第
２電極４間の接続方法について説明する。図１４に示す
ように少なくとも第１電極２若しくは第２電極４がそれ
ぞれの画素に独立の電極にしてもよいし、図１５に示す
ように、有機ＬＥＤ層３に対応した第１電極２と第２電
極４が共通の基板１上で互いに直交するストライプ状の
電極に成るように構成されてもよい。また、図１６に示
すように、第１電極２もしくは第２電極４が薄膜トラン
ジスタ（ＴＦＴ）１１を介して共通の電極つまりソース
バスライン１２と、ゲートバスライン１３に接続してい
てもよい。ここで、１画素に対応する薄膜トランジスタ
は、１つでもよいし、複数個でもよい。
２電極４間の接続方法について説明する。図１４に示す
ように少なくとも第１電極２若しくは第２電極４がそれ
ぞれの画素に独立の電極にしてもよいし、図１５に示す
ように、有機ＬＥＤ層３に対応した第１電極２と第２電
極４が共通の基板１上で互いに直交するストライプ状の
電極に成るように構成されてもよい。また、図１６に示
すように、第１電極２もしくは第２電極４が薄膜トラン
ジスタ（ＴＦＴ）１１を介して共通の電極つまりソース
バスライン１２と、ゲートバスライン１３に接続してい
てもよい。ここで、１画素に対応する薄膜トランジスタ
は、１つでもよいし、複数個でもよい。
【００２４】次に、本発明による凸版印刷法で用いる有
機ＬＥＤ層形成用塗液について説明する。本発明による
有機ＬＥＤ層形成用塗液としては、発光層形成用塗液と
電荷輸送層形成用塗液に大別できる。ここで、発光層形
成用塗液としては、有機ＬＥＤ用の発光材料（低分子発
光材料、高分子発光材料、又は、高分子発光材料の前駆
体）と高分子材料とを、少なくとも凸版印刷法で膜を形
成する工程時での温度における蒸気圧が５００Ｐａ 以
下である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶解もしく
は分散させた塗液を用いることができる。
機ＬＥＤ層形成用塗液について説明する。本発明による
有機ＬＥＤ層形成用塗液としては、発光層形成用塗液と
電荷輸送層形成用塗液に大別できる。ここで、発光層形
成用塗液としては、有機ＬＥＤ用の発光材料（低分子発
光材料、高分子発光材料、又は、高分子発光材料の前駆
体）と高分子材料とを、少なくとも凸版印刷法で膜を形
成する工程時での温度における蒸気圧が５００Ｐａ 以
下である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶解もしく
は分散させた塗液を用いることができる。
【００２５】ここで、前記低分子発光材料としては、例
えば、トリフェニルブタジエン、クマリン、ナイルレッ
ド、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。
えば、トリフェニルブタジエン、クマリン、ナイルレッ
ド、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。
【００２６】前記高分子発光材料としては、例えば、ポ
リ（２−デシルオキシ−１，４−フェニレン）（ＤＯ−
ＰＰＰ）、ポリ［２，５−ビス［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リエチルアンモニウム）エトキシ］−１，４−フェニレ
ン−アルト−１，４−フェニレン］ジブロマイド（ＰＰ
Ｐ−ＮＥｔ3 +）、ポリ［２−（２‘−エチルヘキシルオ
キシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］
（ＭＥＨ−ＰＰＶ）、ポリ（５−メトキシ−（２−プロ
パノキシサルフォニド）−１，４−フェニレンビニレ
ン）（ＭＰＳ−ＰＰＶ）、ポリ［２，５−ビス（ヘキシ
ルオキシ−１，４−フェニレン）−（１−シアノビニレ
ン）］（ＣＮ−ＰＰＶ）、ポリ［２−（２’−エチルヘ
キシルオキシ）−５−メトキシー１，４−フェニレン−
（１−シアノビニレン）］（ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ）及
び、ポリ（ジオクチルフルオレン）（ＰＤＦ）等が挙げ
られる。
リ（２−デシルオキシ−１，４−フェニレン）（ＤＯ−
ＰＰＰ）、ポリ［２，５−ビス［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リエチルアンモニウム）エトキシ］−１，４−フェニレ
ン−アルト−１，４−フェニレン］ジブロマイド（ＰＰ
Ｐ−ＮＥｔ3 +）、ポリ［２−（２‘−エチルヘキシルオ
キシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］
（ＭＥＨ−ＰＰＶ）、ポリ（５−メトキシ−（２−プロ
パノキシサルフォニド）−１，４−フェニレンビニレ
ン）（ＭＰＳ−ＰＰＶ）、ポリ［２，５−ビス（ヘキシ
ルオキシ−１，４−フェニレン）−（１−シアノビニレ
ン）］（ＣＮ−ＰＰＶ）、ポリ［２−（２’−エチルヘ
キシルオキシ）−５−メトキシー１，４−フェニレン−
（１−シアノビニレン）］（ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ）及
び、ポリ（ジオクチルフルオレン）（ＰＤＦ）等が挙げ
られる。
【００２７】前記高分子発光材料の前駆体としては、例
えば、ポリ（ｐ−フェニレン）前駆体（Ｐｒｅ−ＰＰ
Ｐ）、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）前駆体（Ｐｒｅ
−ＰＰＶ）、ポリ（ｐ−ナフタレンビニレン）前駆体
（Ｐｒｅ−ＰＮＶ）等が挙げられる。
えば、ポリ（ｐ−フェニレン）前駆体（Ｐｒｅ−ＰＰ
Ｐ）、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）前駆体（Ｐｒｅ
−ＰＰＶ）、ポリ（ｐ−ナフタレンビニレン）前駆体
（Ｐｒｅ−ＰＮＶ）等が挙げられる。
【００２８】前記高分子材料としては、例えば、ポリカ
ーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭ
ＭＡ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）等が挙げられ
る。
ーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭ
ＭＡ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）等が挙げられ
る。
【００２９】また、前記溶媒としては、例えば、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、トリエチレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモエチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモ
エチルエーテル、グリセリン、ホルムアミド、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、シクロヘキサノン、１−プロパノ
ール、オクタン、ノナン、デカン、キシレン、ジエチル
ベンゼン、ニトロトルエン、トリメチルベンゼン、テト
ラメチルベンゼン等が挙げられる。これにより、溶剤の
急速な乾燥を防止することができ、均一な膜を形成する
ことが可能となる。
ングリコール、プロピレングリコール、トリエチレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモエチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモ
エチルエーテル、グリセリン、ホルムアミド、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、シクロヘキサノン、１−プロパノ
ール、オクタン、ノナン、デカン、キシレン、ジエチル
ベンゼン、ニトロトルエン、トリメチルベンゼン、テト
ラメチルベンゼン等が挙げられる。これにより、溶剤の
急速な乾燥を防止することができ、均一な膜を形成する
ことが可能となる。
【００３０】また、これらの液に、必要に応じて粘度調
整用の添加剤、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用の公知の
ホール輸送材料（例えば、Ｎ，Ｎ−ビス−（３−メチル
フェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（フェニル）−ベンジジ
ン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）
−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＤ）等）
や、電子輸送材料（例えば、３−（４−ビフェニルイ
ル）−４−フェニレン−５−ｔ−ブチルフェニル−１，
２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、トリス（８−ヒドロ
キシナト）アルミニウム（Ａｌｑ3）等）のような電荷
輸送材料、あるいは、アクセプター、ドナー等のドーパ
ント等を添加してもよい。
整用の添加剤、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用の公知の
ホール輸送材料（例えば、Ｎ，Ｎ−ビス−（３−メチル
フェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（フェニル）−ベンジジ
ン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）
−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＤ）等）
や、電子輸送材料（例えば、３−（４−ビフェニルイ
ル）−４−フェニレン−５−ｔ−ブチルフェニル−１，
２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、トリス（８−ヒドロ
キシナト）アルミニウム（Ａｌｑ3）等）のような電荷
輸送材料、あるいは、アクセプター、ドナー等のドーパ
ント等を添加してもよい。
【００３１】電荷輸送層形成用塗液としては、有機ＬＥ
Ｄ用、有機光導電体用の公知の低分子電荷輸送材料（例
えば、ＴＰＤ、ＮＰＤ、オキサジアゾール誘導体等）、
もしくは、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用の公知の高分
子電荷輸送材料（例えば、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、
３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯ
Ｔ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）、ポリ（トリフェ
ニルアミン誘導体）（Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）、ポリ（オキ
サジアゾール誘導体）（Ｐｏｌｙ−ＯＸＺ）等。）、も
しくは、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用の高分子電荷輸
送材料の前駆体（例えば、Ｐｒｅ−ＰＰＶ、Ｐｒｅ−Ｐ
ＮＶ等。）、もしくは、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用
の低分子電荷輸送材料（例えば、ＴＰＤ、ＮＰＤ、オキ
サジアゾール誘導体等。）と公知の高分子材料（例え
ば、ＰＣ、ＰＭＭＡ、ＰＶＣｚ等。）を、少なくとも凸
版印刷法で膜を形成する工程時での温度における蒸気圧
が５００Ｐａ 以下である溶媒を少なくとも１種類含む
溶媒に溶解もしくは分散させた塗液を用いることができ
る。また、これらの液に、必要に応じて、粘度調整用、
アクセプター、ドナー等のドーパント等を添加してもよ
い。
Ｄ用、有機光導電体用の公知の低分子電荷輸送材料（例
えば、ＴＰＤ、ＮＰＤ、オキサジアゾール誘導体等）、
もしくは、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用の公知の高分
子電荷輸送材料（例えば、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、
３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯ
Ｔ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）、ポリ（トリフェ
ニルアミン誘導体）（Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）、ポリ（オキ
サジアゾール誘導体）（Ｐｏｌｙ−ＯＸＺ）等。）、も
しくは、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用の高分子電荷輸
送材料の前駆体（例えば、Ｐｒｅ−ＰＰＶ、Ｐｒｅ−Ｐ
ＮＶ等。）、もしくは、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用
の低分子電荷輸送材料（例えば、ＴＰＤ、ＮＰＤ、オキ
サジアゾール誘導体等。）と公知の高分子材料（例え
ば、ＰＣ、ＰＭＭＡ、ＰＶＣｚ等。）を、少なくとも凸
版印刷法で膜を形成する工程時での温度における蒸気圧
が５００Ｐａ 以下である溶媒を少なくとも１種類含む
溶媒に溶解もしくは分散させた塗液を用いることができ
る。また、これらの液に、必要に応じて、粘度調整用、
アクセプター、ドナー等のドーパント等を添加してもよ
い。
【００３２】また、凸版印刷法で膜を形成する工程での
温度における蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶剤として
は、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリ
エチレングリコールモエチルエーテル、グリセリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、シクロヘキサノン、１−プロパノール、オクタ
ン、ノナン、デカン、キシレン、ジエチルベンゼン、ト
リメチルベンゼン、ニトロベンゼン等が挙げられる。
温度における蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶剤として
は、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリ
エチレングリコールモエチルエーテル、グリセリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、シクロヘキサノン、１−プロパノール、オクタ
ン、ノナン、デカン、キシレン、ジエチルベンゼン、ト
リメチルベンゼン、ニトロベンゼン等が挙げられる。
【００３３】また、従来の方法で使用できる有機発光材
料としては、有機ＬＥＤ用の発光材料が使用可能であ
り、有機発光層は前記した有機発光材料のみから構成さ
れてもよいし、添加剤等を含有してもよい。
料としては、有機ＬＥＤ用の発光材料が使用可能であ
り、有機発光層は前記した有機発光材料のみから構成さ
れてもよいし、添加剤等を含有してもよい。
【００３４】また、従来の方法で使用できる電荷輸送材
料としては、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用の公知の材
料が使用可能であり、電荷輸送層は、前記した電荷輸送
材料のみから構成されてもよいし、添加剤等を含有して
もよい。
料としては、有機ＬＥＤ用、有機光導電体用の公知の材
料が使用可能であり、電荷輸送層は、前記した電荷輸送
材料のみから構成されてもよいし、添加剤等を含有して
もよい。
【００３５】次に、本発明の有機ＬＥＤ層の成膜方法で
ある凸版印刷法による成膜法について説明する。本発明
の有機層の凸版印刷法による形成は、凸版印刷法により
発光層形成用塗液を成膜することで、第１電極上もしく
は電荷輸送層上に形成する。また、本発明の電荷輸送層
の形成は、凸版印刷法により電荷輸送層形成用塗液を成
膜することで、第１電極上、電荷輸送層上もしくは発光
層上に形成する。
ある凸版印刷法による成膜法について説明する。本発明
の有機層の凸版印刷法による形成は、凸版印刷法により
発光層形成用塗液を成膜することで、第１電極上もしく
は電荷輸送層上に形成する。また、本発明の電荷輸送層
の形成は、凸版印刷法により電荷輸送層形成用塗液を成
膜することで、第１電極上、電荷輸送層上もしくは発光
層上に形成する。
【００３６】また、本発明の凸版印刷法を用いて有機Ｌ
ＥＤ層を成膜することにより、１０００Å以下の薄膜を
均一に成膜することが可能である。例えば、図１１〜図
１３に示すように、基板１の上に第１電極２を形成し、
その上に台形状（図１１）又は三角形状（図１２）又は
円弧状（図１３）の隔壁５を形成する。そして、凸版印
刷用凸版、つまり転写用基板１６の凸部２２に塗布した
塗液を、隣接する２つの隔壁５の間に転写（凸版印刷）
する。
ＥＤ層を成膜することにより、１０００Å以下の薄膜を
均一に成膜することが可能である。例えば、図１１〜図
１３に示すように、基板１の上に第１電極２を形成し、
その上に台形状（図１１）又は三角形状（図１２）又は
円弧状（図１３）の隔壁５を形成する。そして、凸版印
刷用凸版、つまり転写用基板１６の凸部２２に塗布した
塗液を、隣接する２つの隔壁５の間に転写（凸版印刷）
する。
【００３７】この場合、図２０に示すように転写用基板
１６上に形成された凸部２２の幅Ｗ２が、図１１〜図１
３に示すように、画素を区画する２つの隔壁５の頂部の
間隔Ｗ１より小さくすることにより、画素間での発光層
の混じり合いを効果的に防止することが可能となる。
１６上に形成された凸部２２の幅Ｗ２が、図１１〜図１
３に示すように、画素を区画する２つの隔壁５の頂部の
間隔Ｗ１より小さくすることにより、画素間での発光層
の混じり合いを効果的に防止することが可能となる。
【００３８】また、凸版印刷機の構造としては、図１７
に示すように転写ロール部１７に固定されている転写基
板１６に直接塗液を塗布し、ステージ１９に設置された
基板１へ転写してもよい。また、基板１に形成される膜
の膜厚の均一性の観点からは、図１８に示すように塗液
をまず塗液を一時保持するロール部２０に塗布し、その
ロール部２０を転写ロール部１７に固定されている転写
基板１６に転写し、その後、基板１に転写するほうがよ
い。更に、図１９に示すように塗液をまず塗液を一時保
持するロール部２０に塗布し、ロール部２０を転写ロー
ル部１７に固定されている転写基板１６に転写し、更に
その後、塗液をもう一度補助ロール部２１に転写し、そ
の後、基板１に転写することも可能である。なお、図１
７〜図１９においては、塗液１８は塗液吐出口１４から
吐出され、ブレード１５により、対象物に塗布される。
に示すように転写ロール部１７に固定されている転写基
板１６に直接塗液を塗布し、ステージ１９に設置された
基板１へ転写してもよい。また、基板１に形成される膜
の膜厚の均一性の観点からは、図１８に示すように塗液
をまず塗液を一時保持するロール部２０に塗布し、その
ロール部２０を転写ロール部１７に固定されている転写
基板１６に転写し、その後、基板１に転写するほうがよ
い。更に、図１９に示すように塗液をまず塗液を一時保
持するロール部２０に塗布し、ロール部２０を転写ロー
ル部１７に固定されている転写基板１６に転写し、更に
その後、塗液をもう一度補助ロール部２１に転写し、そ
の後、基板１に転写することも可能である。なお、図１
７〜図１９においては、塗液１８は塗液吐出口１４から
吐出され、ブレード１５により、対象物に塗布される。
【００３９】次に、ロール部１７に固定する転写基板１
６について説明する。転写基板１６の材質としては、基
板１６として樹脂基板を用いる場合には、金属材料でも
樹脂材料でもよい。しかし、基板１６として無機材料基
板を用いる場合には、基板１６へのダメージを考えると
樹脂材料がよく、例えば、金属材料としては、銅版等が
有り、樹脂材料としては、ＡＰＲ（旭化成製）、富士ト
レリーフ（富士フィルム製）が挙げられる。また、転写
基板１６のパターンとしては、単純に凹凸のパターンが
形成されていてもよいし、塗液に対して濡れ性のよい部
分と悪い部分でパターンを形成してもよい。
６について説明する。転写基板１６の材質としては、基
板１６として樹脂基板を用いる場合には、金属材料でも
樹脂材料でもよい。しかし、基板１６として無機材料基
板を用いる場合には、基板１６へのダメージを考えると
樹脂材料がよく、例えば、金属材料としては、銅版等が
有り、樹脂材料としては、ＡＰＲ（旭化成製）、富士ト
レリーフ（富士フィルム製）が挙げられる。また、転写
基板１６のパターンとしては、単純に凹凸のパターンが
形成されていてもよいし、塗液に対して濡れ性のよい部
分と悪い部分でパターンを形成してもよい。
【００４０】［実施例］本発明を実施例により更に具体
的に説明するが、これらの実施例により本発明が限定さ
れるものではない。 [実施例] １３０ｎｍの膜厚を持つＩＴＯ付きガラス基
板を、フォトリソグラフィ法により第１電極として１３
０μｍピッチで１００μｍ幅のＩＴＯ透明ストライプ電
極を作製する。
的に説明するが、これらの実施例により本発明が限定さ
れるものではない。 [実施例] １３０ｎｍの膜厚を持つＩＴＯ付きガラス基
板を、フォトリソグラフィ法により第１電極として１３
０μｍピッチで１００μｍ幅のＩＴＯ透明ストライプ電
極を作製する。
【００４１】次に、このＩＴＯ付きガラス基板を、例え
ばイソプロピルアルコール、アセトン、純水を用いた従
来のウエットプロセスのよる洗浄法とＵＶオゾン処理、
プラズマ処理等の従来のドライプロセスにより洗浄す
る。次に、この基板上に隔壁材料として臨界表面張力１
５ｄｙｎｅ／ｃｍのパーフロロオクチルエチルメタクリ
レートを用いて成膜する。
ばイソプロピルアルコール、アセトン、純水を用いた従
来のウエットプロセスのよる洗浄法とＵＶオゾン処理、
プラズマ処理等の従来のドライプロセスにより洗浄す
る。次に、この基板上に隔壁材料として臨界表面張力１
５ｄｙｎｅ／ｃｍのパーフロロオクチルエチルメタクリ
レートを用いて成膜する。
【００４２】次に、レジスト材料としてＴＳＭＲ−Ｖ９
０（東京応化製）を用い、スピンコート法により回転数
３０００ｒｐｍ、時間５０秒で膜厚１．０μｍのレジス
ト膜を形成する。次に、プリベークを９０℃の温度で９
０秒間を行い、次に、１１０μｍの間隔（１５０μｍピ
ッチ）で４０μｍ幅のフォトマスクを用いて露光し、１
１０℃、９０秒間ベークを行い、ＮＭＤ−Ｗ（東京応化
製）を用いて現像を行い、純水で洗浄し、ＩＴＯ間にＩ
ＴＯと並行に上辺が２０μｍ幅で底辺が４０μｍ幅の台
形の隔壁を作製する。ここで、隣り合う２つの隔壁の頂
部の間隔Ｗ１は１３０μｍとなる。
０（東京応化製）を用い、スピンコート法により回転数
３０００ｒｐｍ、時間５０秒で膜厚１．０μｍのレジス
ト膜を形成する。次に、プリベークを９０℃の温度で９
０秒間を行い、次に、１１０μｍの間隔（１５０μｍピ
ッチ）で４０μｍ幅のフォトマスクを用いて露光し、１
１０℃、９０秒間ベークを行い、ＮＭＤ−Ｗ（東京応化
製）を用いて現像を行い、純水で洗浄し、ＩＴＯ間にＩ
ＴＯと並行に上辺が２０μｍ幅で底辺が４０μｍ幅の台
形の隔壁を作製する。ここで、隣り合う２つの隔壁の頂
部の間隔Ｗ１は１３０μｍとなる。
【００４３】次に、表面張力が４５ｄｙｎｅ／ｃｍのＰ
ＥＤＯＴ水溶液をスピンコート法を用いて、膜厚５０ｎ
ｍの正孔輸送層を形成する。次に、市販の凸版印刷機を
改造したものを用い、ＰＤＦをｏ−キシレンとニトロベ
ンゼンの５：５混合溶媒に溶かして青色発光層形成用塗
液（表面張力が２６ｄｙｎｅ／ｃｍ）とする。Ｐｒｅ−
ＰＰＶをメタノールとエチレングリコールの５：５混合
溶媒に溶かして緑色発光層形成用塗液（表面張力が３２
ｄｙｎｅ／ｃｍ）とする。ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶをｏ−
キシレンとニトロベンゼンの５：５混合溶媒に溶かして
赤色発光層形成用塗液（表面張力が３６ｄｙｎｅ／ｃ
ｍ）とする。
ＥＤＯＴ水溶液をスピンコート法を用いて、膜厚５０ｎ
ｍの正孔輸送層を形成する。次に、市販の凸版印刷機を
改造したものを用い、ＰＤＦをｏ−キシレンとニトロベ
ンゼンの５：５混合溶媒に溶かして青色発光層形成用塗
液（表面張力が２６ｄｙｎｅ／ｃｍ）とする。Ｐｒｅ−
ＰＰＶをメタノールとエチレングリコールの５：５混合
溶媒に溶かして緑色発光層形成用塗液（表面張力が３２
ｄｙｎｅ／ｃｍ）とする。ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶをｏ−
キシレンとニトロベンゼンの５：５混合溶媒に溶かして
赤色発光層形成用塗液（表面張力が３６ｄｙｎｅ／ｃ
ｍ）とする。
【００４４】そして、転写基板として図２０に示すよう
なパターンを有し、凸部２２の幅Ｗ２が１００μｍのＡ
ＰＲ樹脂転写基板を用いて、各発光層形成用塗液に関し
てそれぞれ転写を繰り返すことで青色、緑色、赤色の各
１００ｎｍの膜厚の発光層を形成した。ただし、ここで
先ずはじめに緑色発光層形成用塗液を用いて緑色発光層
を形成した後、Ａｒ雰囲気下で１５０℃の温度で６時
間、加熱処理を行うことで、前駆体をポリフェニレンビ
ニレンに変換した。次に、青色発光層、赤色発光層を形
成した後、１×１０-3Ｔｏｒｒの減圧下で１００℃の温
度で１時間加熱乾燥を行った。
なパターンを有し、凸部２２の幅Ｗ２が１００μｍのＡ
ＰＲ樹脂転写基板を用いて、各発光層形成用塗液に関し
てそれぞれ転写を繰り返すことで青色、緑色、赤色の各
１００ｎｍの膜厚の発光層を形成した。ただし、ここで
先ずはじめに緑色発光層形成用塗液を用いて緑色発光層
を形成した後、Ａｒ雰囲気下で１５０℃の温度で６時
間、加熱処理を行うことで、前駆体をポリフェニレンビ
ニレンに変換した。次に、青色発光層、赤色発光層を形
成した後、１×１０-3Ｔｏｒｒの減圧下で１００℃の温
度で１時間加熱乾燥を行った。
【００４５】次に、この基板に先ほどのＩＴＯとは直交
する向きに２００μｍ×１００ｍｍ幅の穴の空いたシャ
ドウマスクを固定し、真空蒸着装置にいれ、１×１０-6
Ｔｏｒｒの真空下でＣａを５０ｎｍ、Ａｇを２００ｎｍ
真空蒸着し、第２電極とした。最後に、ＵＶ硬化性樹脂
を用いて封止をした。
する向きに２００μｍ×１００ｍｍ幅の穴の空いたシャ
ドウマスクを固定し、真空蒸着装置にいれ、１×１０-6
Ｔｏｒｒの真空下でＣａを５０ｎｍ、Ａｇを２００ｎｍ
真空蒸着し、第２電極とした。最後に、ＵＶ硬化性樹脂
を用いて封止をした。
【００４６】次に、この有機ＬＥＤ素子においては電圧
を印加すると、発光層の混じり合い無く色純度の良い．
発光が観測された。
を印加すると、発光層の混じり合い無く色純度の良い．
発光が観測された。
【００４７】[比較例] 上記工程において、印刷時に使
用する転写基板の凸部の幅Ｗ２を１３０μｍとして製作
した有機ＬＥＤ素子は、電圧を印加すると、発光層の混
じり合いに伴なう発光が観測された。
用する転写基板の凸部の幅Ｗ２を１３０μｍとして製作
した有機ＬＥＤ素子は、電圧を印加すると、発光層の混
じり合いに伴なう発光が観測された。
【００４８】
【発明の効果】この発明によれば、隔壁間に有機ＬＥＤ
層形成用塗液を用いて凸版印刷法により隔壁間に有機Ｌ
ＥＤ層中の少なくとも１層を形成し、その際に用いる転
写基板の凸部の幅を隔壁間隔よりも小さくしたので、隣
接する画素間で、発光材料が混じり合うことが防止さ
れ、有機ＬＥＤディスプレイの色純度、発光効率および
寿命を向上させることができる。
層形成用塗液を用いて凸版印刷法により隔壁間に有機Ｌ
ＥＤ層中の少なくとも１層を形成し、その際に用いる転
写基板の凸部の幅を隔壁間隔よりも小さくしたので、隣
接する画素間で、発光材料が混じり合うことが防止さ
れ、有機ＬＥＤディスプレイの色純度、発光効率および
寿命を向上させることができる。
【図１】本発明による有機ＬＥＤディスプレイの部分断
面図である。
面図である。
【図２】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの発光層の配
置を示す部分平面図である。
置を示す部分平面図である。
【図３】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの発光層の配
置を示す部分平面図である。
置を示す部分平面図である。
【図４】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの発光層の配
置を示す部分平面図である。
置を示す部分平面図である。
【図５】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの発光層の配
置を示す部分平面図である。
置を示す部分平面図である。
【図６】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの発光層の配
置を示す部分平面図である。
置を示す部分平面図である。
【図７】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの隔壁の配置
を示す部分平面図である。
を示す部分平面図である。
【図８】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの隔壁の配置
を示す部分平面図である。
を示す部分平面図である。
【図９】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの隔壁の配置
を示す部分平面図である。
を示す部分平面図である。
【図１０】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの隔壁の配
置を示す部分平面図である。
置を示す部分平面図である。
【図１１】本発明の有機ＬＥＤディスプレイ製造方法を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図１２】本発明の有機ＬＥＤディスプレイ製造方法を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図１３】本発明の有機ＬＥＤディスプレイ製造方法を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図１４】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの電極の配
置を示す部分平面図である。
置を示す部分平面図である。
【図１５】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの電極の配
置を示す部分平面図である。
置を示す部分平面図である。
【図１６】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの電極の配
置を示す部分平面図である。
置を示す部分平面図である。
【図１７】本発明に係る印刷装置の構成説明図である。
【図１８】本発明に係る印刷装置の構成説明図である。
【図１９】本発明に係る印刷装置の構成説明図である。
【図２０】本発明の転写基板を示す斜視図である。
１．基板
２．第１電極
３．有機ＬＥＤ層
４．第２電極
５．隔壁
６．封止基板
７．偏光板
８．赤色発光画素
９．緑色発光画素
１０．青色発光画素
１１．薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
１２．ソースバスライン
１３．ゲートバスライン
１４．塗液吐出口
１５．ブレード
１６．転写基板
１７．転写用ロール部
１８．塗液
１９．ステージ
２０．塗液を一時保持するロール部
２１．補助ロール部
２２．転写基板の凸部
Claims (8)
- 【請求項１】 基板上に有機ＬＥＤ層とそれを挟持する
１対の電極と、前記有機ＬＥＤ層を画素ごとに区画する
隔壁とを備えた有機ＬＥＤディスプレイの製造方法にお
いて、基板上に等間隔に立設する隔壁を形成し、有機Ｌ
ＥＤ層中の少なくとも１層を、有機材料と溶媒を含有す
る有機ＬＥＤ層形成用塗液を用いて凸版印刷法により隔
壁間に形成する工程を備え、凸版印刷法で用いる転写基
板の凸部の幅が画素間に形成された隔壁の間隔より小さ
いことを特徴とする有機ＬＥＤディスプレイの製造方
法。 - 【請求項２】 溶媒は、蒸気圧が２０℃の温度下で５０
０Ｐａ 以下であることを特徴とする請求項１記載の有
機ＬＥＤディスプレイの製造方法。 - 【請求項３】 隔壁は、表面の臨界表面張力が有機ＬＥ
Ｄ層形成用塗液の表面張力よりも小さいことを特徴とす
る請求項２記載の有機ＬＥＤディスプレイの製造方法。 - 【請求項４】 隔壁は、臨界表面張力が３０ｄｙｎｅ／
ｃｍ以下の材料を用いて形成されることを特徴とする請
求項３記載の有機ＬＥＤディスプレイの製造方法。 - 【請求項５】 隔壁は、２層以上の積層構造を有し、最
上部の層は、表面の臨界表面張力が有機ＬＥＤ層形成用
塗液の表面張力よりも小さいことを特徴とする請求項２
記載の有機ＬＥＤディスプレイの製造方法。 - 【請求項６】 隔壁は、２層以上の積層構造を有し、最
上部の層は臨界表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の材
料を用いて形成されることを特徴とする請求項２記載の
有機ＬＥＤディスプレイの製造方法。 - 【請求項７】 隔壁が、立設方向にテーパー状であるこ
とを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の有
機ＬＥＤディスプレイの製造方法。 - 【請求項８】 請求項１〜７のいずれか１つに記載の有
機ＬＥＤディスプレイの製造方法により製造された有機
ＬＥＤディスプレイ。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2002036941A JP2003243163A (ja) | 2002-02-14 | 2002-02-14 | 有機ｌｅｄディスプレイとその製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003243163A true JP2003243163A (ja) | 2003-08-29 |
Family
ID=27778678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002036941A Pending JP2003243163A (ja) | 2002-02-14 | 2002-02-14 | 有機ｌｅｄディスプレイとその製造方法 |
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- 2002-02-14 JP JP2002036941A patent/JP2003243163A/ja active Pending
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