JP2001185352A

JP2001185352A - 有機ｅｌ表示装置の発光層の形成方法

Info

Publication number: JP2001185352A
Application number: JP37047999A
Authority: JP
Inventors: Akihiko Kono; 昭彦河野
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1999-12-27
Filing date: 1999-12-27
Publication date: 2001-07-06

Abstract

(57)【要約】【課題】有機発光層を能率よく形成すること。【解決手段】基板上に区画された複数の画素領域に有
機発光層を形成する方法であって、複数の貫通孔を有す
る平板状のマスクを基板の上方に所定距離を隔てて保持
し、マスクの基板と反対の面において貫通孔を各々含む
複数の所定領域に液状の有機発光材料を塗布し、その有
機発光材料を貫通孔を介してさらに滴下させて各画素領
域に塗布し、各画素領域に塗布された有機発光材料を固
体化処理して発光層を形成する工程からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、有機エレクトロ
ルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の有機発光層の形成方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から湿式による有機発光層の形成方
法では、スピンコート法、ディップ法が用いられるが、
これらの方法では、有機発光層のパターニングによるカ
ラー化は非常に困難である。また、従来技術のさまざま
な種類の印刷法によって、基板上に膜形成する場合、こ
れらの各種印刷法は１μｍ以上の厚膜を形成する技術で
あり、有機発光層に必要とされる１〜１００ｎｍ程度の
薄層を形成することは難しい。さらに、電着法を用いれ
ば、有機発光層のパターニングは可能となるが、電着法
では、有機発光材料の選択自由度が制限される。また、
他の従来の膜形成方法と比較して、電着法は、一般的に
製造コストが高くなる。これらを解決するひとつの方法
として、有機発光層をインクジェット法によって、パタ
ーニングする技術が提案されている（例えば、特開平１
０−１２３７７号公報参照）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高精細
な有機ＥＬ表示装置の発光層のパターニングを、インク
ジェット法によって短い加工時間で行なう場合、インク
ジェット機に複数のノズルを設け発光材料を同時に線状
または面状に塗布することが必要となる。この場合、多
数のノズルが、線状または面状に形成、配置されなけれ
ばならないが、有機ＥＬ表示装置の画素サイズが小さく
なれば、線状または面状にノズルを配列することが難し
く、マルチノズル化することが困難になる。したがっ
て、この方法では、高精細な有機発光層のパターニング
を短い加工時間で行なうことが難しい。この発明はこの
ような事情を考慮してなされたもので、マスクに有機発
光材料を一旦印刷し、印刷された有機発光材料をマスク
に設けられた微細な貫通孔を介して基板上の画素領域に
供給することにより、高精細な有機発光層のパターニン
グを能率的に行うことが可能な有機発光層の形成方法を
提供するものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】この発明は、基板上に区
画された複数の画素領域に有機発光層を形成する方法で
あって、複数の貫通孔を有する平板状のマスクを基板の
上方に所定距離を隔てて保持し、マスクの基板と反対の
面において貫通孔を各々含む複数の所定領域に液状の有
機発光材料を塗布し、その有機発光材料を貫通孔を介し
てさらに滴下させて各画素領域に塗布し、各画素領域に
塗布された有機発光材料を固体化処理して発光層を形成
する工程からなる有機ＥＬ表示装置の発光層形成方法を
提供するものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】この発明に係る有機ＬＥＤ表示装
置の１画素分の構成としては、図１に示すように、基板
２０上に設けられた陽極電極２１、有機発光層２６、陰
極電極２８、隔壁層２２から構成される。また、コント
ラストの観点から、基板２０の外側には、偏向板２７が
設けられていることが好ましく、また、信頼性の観点か
らは、陰極電極２８の上には、封止膜又は封止基板２９
を設けることが好ましい。

【０００６】また、有機発光層２６は、少なくとも１層
の有機発光層を有する構造で、有機発光層の単層構造、
あるいは、電荷輸送層と有機発光層の多層構造であって
もよい。ここで、電荷輸送層、有機発光層はそれぞれ１
層でもよいし、多層構造であってもよい。また、有機発
光層３は、少なくとも１層が、この発明の方法により形
成され、その他の層は真空蒸着法等のドライプロセスに
より形成することが可能である。基板１には、絶縁性基
板が用いられ、例えば、石英基板，ガラス基板，プラス
チック基板等が使用可能である。

【０００７】次に、陽極電極２６、陰極電極２８として
は、基板２０及び陽極電極２６が透明である場合は、有
機発光層２６からの発光が、基板２０側から放出される
ので、その発光効率を高める為、陰極電極２８が反射電
極であること、もしくは、陰極電極２８上に反射膜を有
することが好ましい。逆に、陰極電極２８を透明材料で
構成して、有機発光層２６からの発光を陰極電極２８側
から放出させることもできる。この場合には、陽極電極
２８が反射電極であること、基板２０が反射基板である
こと、もしくは、陽極電極２６と基板２０との間に反射
膜を有することが好ましい。

【０００８】ここで、透明電極には、ＣｕＩ、ＩＴＯ、
ＳｎＯ₂、ＺｎＯ、ＣｕＡｌＯ₂等が使用可能で、反射
電極には、アルミニウム、カルシウム等の金属、マグネ
シウム−銀、リチウム−アルミニウム等の合金、マグネ
シウム／銀等の金属同士の積層膜、フッ化リチウム／ア
ルミニウム等の絶縁体と金属との積層膜等が使用可能で
ある。

【０００９】隔壁材料としては、例えば、ポリ６フッ化
プロピレン、ポリ４フッ化エチレン、ポリ３フッ化エチ
レン、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン、ポリブタ
ジエン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エチル、ポリビ
ニルアルコール、ポリクロロプレン、ポリ塩化ビニル、
ポリアクリル酸メチル、ポリ塩化ビニリデン、６ナイロ
ン、６−６ナイロン、７−７ナイロン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリヘキサメチレンアジバミド、ガラス
等の有機材料や、サイロライト、サイロホービック（富
士シリシア化学社製）、などの無機材料や、これら有機
材料、無機材料をポジ型レジスト、ネガ型レジスト中に
分散したもの等が挙げられる。

【００１０】また、隔壁形成方法は、例えば、スピンコ
ート法により前記隔壁材料を塗布し、または、蒸着法で
前記隔壁材料を蒸着し、フォトリソグラフィー法により
所望の形状にエッチングする方法、印刷法により形成す
る方法、所望の隔壁の形状の溝の掘られた型を基板に密
着させて形成した空間に隔壁形成用の液状の原料を染み
込ませ、充填した後に固定化させる方法やマスク蒸着法
等が挙げられる。

【００１１】液状有機発光材料、つまり有機発光層形成
用塗液は、発光層形成用塗液と電荷輸送層形成用塗液に
分けることができる。発光層用形成用塗液としては、有
機ＥＬ用の公知の高分子発光材料、例えば、ポリ〔２−
デシルオキシ−１，４−フェニレン〕（ＤＯ−ＰＰ
Ｐ）、ポリ〔２，５−ビス〔２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエ
チルアンモニウム）エトキシ〕−１，４−フェニレン−
アルト−１，４−フェニレン〕ジブロマイド（ＰＰＰ−
ＮＥｔ₃ ⁺）、ポリ〔２−（２’−エチルヘキシルオキ
シ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン〕
（ＭＥＨ−ＰＰＶ）、ポリ〔５−メトキシ−（２−プロ
パノキシサルフォニド）−１，４−フェニレンビニレ
ン〕（ＭＰＳ−ＰＰＶ）、ポリ〔２，５−ビス（ヘキシ
ルオキシ）−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレ
ン）〕（ＣＮ−ＰＰＶ）等を、溶解あるいは分散させた
塗液、もしくは、有機ＬＥＤ用の公知の低分子発光材
料、例えばテトラフェニルブタジエン（ＴＰＢ）、クマ
リン、ナイルレッド、オキサジアゾール誘導体等と、公
知の高分子材料、例えばポリカーボネート（ＰＣ）、ポ
リメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリビニルカルバ
ゾール（ＰＶＣｚ）等を溶解もしくは分散さたせ塗液を
用いることができる。

【００１２】また、これらの塗液には、必要に応じてｐ
Ｈ調整用、粘度調整用充満促進用、レベリング用、表面
張力調整用等の添加剤、有機ＥＬ用及び有機光導電体用
の公知のホール輸送材料（例えば前記のＮ，Ｎ’−ビス
−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（フェニ
ル）−ベンジジン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレ
ン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン
（ＮＰＤ）等）、電子輸送材料（例えば、３−（４−ビ
フェニルイル−４−４−フェニレン−５−ｔ−ブチルフ
ェニル−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、トリス
（８−ヒドロキシキノリノナト）アルミニウム（Ａｌｑ
₃）等）等の電荷輸送材料、アクセプター、ドナー等の
ドーパント等を添加してもよい。

【００１３】電荷輸送層形成用塗液としては、有機ＥＬ
用、有機光導電体用の公知の高分子電荷輸送材料（例え
ば、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、３，４−ポリエチレン
ジオキシチオフェン（ＰＥＤＴ）、ポリ〔トリフェニル
アミン誘導体〕（Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）、ポリ〔オキサジ
アゾール誘導体〕（Ｐｏｌｙ−ＯＸＺ等）、前記ＰＶＣ
ｚを溶解もしくは分散させた塗液、もしくは、有機ＥＬ
用、有機光導電体用の公知の低分子電荷輸送材料（例え
ば、前記のＴＰＤ、ＮＰＤ、オキサジアゾール誘導体
等）と公知の高分子材料（例えば、前記のＰＣ、ＰＭＭ
Ａ、ＰＶＣｚ等）を溶解もしくは分散させた塗液を用い
ることができる。また、これらの液に、必要に応じてｐ
Ｈ調整用、粘度調整用、充満促進用、レベリング用、表
面張力調整用等の添加剤、アクセプター、ドナー等のド
ーパント等を添加してもよい。

【００１４】この発明の有機発光層形成方法において
は、隔壁を有する基板の上方に隔壁から所定距離を隔て
て平板状のマスクが保持される。所定距離は０．２〜
０．５ｍｍ程度であり、所定距離を設ける理由は、マス
クが隔壁や陽極電極と接触することを防止するためであ
り、この接触が生じると、各画素の有機ＥＬ素子が損傷
を受ける、または破壊するという不都合が生じる。

【００１５】使用するマスクは、複数枚の薄板を積層し
て形成することが好ましいが、これはマスクの剛性を向
上させ、印刷時に背面から圧力が印加されてもマスクと
隔壁との間隔を一定に保持し、マスクの隔壁への接触を
防止するためである。なお、マスク用の薄板の材料とし
ては、金属材料として、ニッケル、ステンレス、ニッケ
ル- コバルト合金、ニッケル合金、ステンレス合金など
が上げられ、非金属材料として、アクリル板、プラスチ
ック板、プラスチック・フィルムなどが上げられる。

【００１６】また、このマスクは所望の画素領域に対応
する位置に画素領域の面積より小さい断面積を有する貫
通孔を備える。ここで、所望の画素領域とは、この発明
に係る表示装置がフルーカラー表示用であれば、赤
（Ｒ），緑（Ｇ）又は青（Ｂ）用画素領域のいずれか一
種類の色に対応する複数の画素領域を指す。この場合、
マスクとしてはＲ，Ｇ，Ｂ画素用の３種類が用意され、
それぞれの画素に対応する位置に貫通孔を有する。

【００１７】貫通孔は、マスクの背面に塗布される液状
の有機発光材料を基板へ滴下させるため形成される。貫
通孔のサイズは、塗布される液状有機発光材料の量，粘
度，マスクに対する流動性，画素サイズなどによって決
定されるが、貫通孔の断面積は少なくとも画素面積以下
である。例えば、１００μｍ×３００μｍの画素面積に
対して貫通孔は１００〜１０００μｍの断面積を有する
ことが好ましい。貫通孔の断面は円形であることが加工
上好ましいが、多角形であってもよい。

【００１８】マスクの背面に液状の有機発光材料を塗布
する所定領域は上記貫通孔を含む、つまり、上記貫通孔
とその周縁に有機発光材料が塗布されるが、その塗布領
域の面積は１画素の面積にほぼ等しいことが好ましい。
また、マスクに対する液状有機発光材料の流動性を向上
させるために、マスクは有機発光材料と接触する部分が
有機発光材料の表面張力よりも小さい臨界表面張力を有
することが好ましい。

【００１９】ここで、臨界表面張力とは、固体の表面に
おける液体の「ヌレ」の度合いを規定する「ジスマン
（Zisman）の臨界表面張力」を意味する（Adv.Chem.Se
r.,43,21(1963) 参照）。すなわち、低エネルギー表面
をもつ固体の表面上に、種々の表面張力をもつ有機液体
や飽和炭化水素、水等を滴下し、それらの接触角θを測
定し、ｃｏｓθをそれぞれの液体の表面張力〔dyne/cm
〕に対してプロットし、得られた近似直線がｃｏｓθ
＝１（θ＝０°）の水平線と交わる点の表面張力の値γ
_C〔dyne/cm 〕が、この発明における臨界表面張力とな
る。なお、この発明における液状有機発光材料つまり有
機発光層形成用塗液の表面張力γ_Lとは、液体が単位面
積〔cm²〕の表面をつくるための仕事〔erg 〕として示
される表面張力の値〔dyne/cm 〕を意味する。

【００２０】従って、マスクは、具体的には、少なくと
も基板に対向する面と貫通孔とが、例えばフッ素樹脂で
コーティングされることが好ましい。フッ素樹脂の臨界
表面張力は十分小さくそれ以上の表面張力を有する通常
の液状有機発光材料に対してヌレ性が低く、従って、有
機発光材料が円滑に貫通孔を通過することができる。ま
た、マスク背面に有機発光材料を塗布する工程には、フ
レキソ印刷法，スクリーン印刷法，凸版印刷法，平板印
刷法およびグラビア印刷法の内のいずれか１つを用いる
ことができる。

【００２１】

【実施例】実施例として、この発明の方法を用いた有機
ＥＬ表示装置の製造手順を以下に説明する。有機ＥＬ表
示装置は、ＸＹマトリックスで、大きさ７５×７５ｍ
ｍ、厚み１．１ｍｍのガラス基板上に画面サイズおよそ
３６ｍｍ×２７ｍｍ、表示ドット数１２０（４０×ＲＧ
Ｂドット）×９０、単位３色画素ピッチ３００μｍ（１
００μｍ×ＲＧＢピッチ）×３００μｍ、各画素サイズ
８０μｍ×２７０μｍとする。図２は、実施例の有機Ｅ
Ｌ表示装置における単位画素の平面図である。同図にお
いて、単位画素は、赤（Ｒ），緑（Ｇ）および青（Ｂ）
画素領域２３，２４，２５から構成され、各画素領域２
３，２４，２５は隔壁２２により区画されている。

【００２２】次に、マスクの作製方法を説明する。材質
がＮｉ、板厚が０．１ｍｍのメタルマスクをフルアディ
ティブで形成し、同時に、発光層形成に必要な位置に開
口直径２５μｍの開口部（貫通孔）を形成する。この同
一のメタルマスク８枚について、開口部の位置合わせを
行ない、エポキシ樹脂で積層接着する。なお、フルアデ
ィティブとは、電鋳ということである。

【００２３】次に、メタルマスクの開口部の位置にＣＯ
₂のレーザーを照射して、開口部に埋まったエポキシ樹
脂を取り除く。このようにして、板厚がおよそ１．０ｍ
ｍのマスク３１を作製する。次に、このマスクをポリイ
ミドのワニスにディップし、硬化して、マスク両面にポ
リイミドの薄い膜を形成した後、印刷する際基板と対面
するマスク表面に対して、ＣＦ₄ガスを導入した雰囲気
中でプラズマ処理を行ない、マスク表面と開口部をフッ
素化（フッ素樹脂コーティングと同様の効果がある）す
る。

【００２４】図３は、実施例のマスク３１の概略斜視図
であり、マスク３１は開口部３２を備える。この方法に
よって、赤色発光層形成用と緑色発光層形成用の２枚の
マスク３１Ｒ，３１Ｇ（図４，図５）を作製する。

【００２５】次に、有機ＥＬ表示装置の製造プロセスを
説明する。まず、陽極電極２１を形成するために、透明
なガラス基板２０上にスパッタリングによりインジウム
錫酸化物（以下ＩＴＯと略す）を膜厚が１５０ｎｍとな
るように形成し、ＩＴＯをパターンピッチ１００μｍ、
パターン幅８５μｍでストライプ形状にパターニングし
て陽極電極２１を得る。

【００２６】基板２０上に、感光性ポリイミドを使用し
てフォトリソグラフィーで、高さ２０μｍのポリイミド
の隔壁層２２を、ＩＴＯストライプパターン間にパター
ンピッチ１００μｍ、パターン幅２０μｍで形成し、同
時に、陽極電極２１のストライプパターンと垂直方向に
パターンピッチ３００μｍ、パターン幅３０μｍで形成
する。

【００２７】各画素領域２３，２４，２５は８０μｍ×
２７０μｍのサイズを有し、ポリイミドの隔壁層２２で
囲まれている。基板２０のＩＴＯ表面をＵＶオゾン洗浄
した後、図４に示すように赤色発光層形成用のマスク３
１Ｒを隔壁２２と接触しないように、ＩＴＯ２１とマス
ク３１とのギャップＧをおよそ０．３ｍｍに調整し、マ
スクが反らないように外側へテンションをかけながら、
マスク３１Ｒの開口部３２Ｒと赤色画素領域２３を位置
合わせして、基板２０の上へセットする。

【００２８】次に、マスク３１Ｒの上へスクリーン印刷
用のスクリーン版４６Ｒとスキージ４７をセットする。
スクリーン板４６Ｒには、赤色発光層の形成部分に、つ
まり赤色画素領域２３に対応する位置に１００μｍ角の
印刷開口部４９Ｒが設けられている。

【００２９】そして、溶媒としてのキシレンに、０．３
ｗｔ％のポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）前駆体と、
赤色蛍光色素のローダミン１０１とを０．０２ｗｔ％
（ＰＰＶに対して）混合し、得られた混合体、つまり、
赤色発光材料４８Ｒをスキージ４７とスクリーン板４６
Ｒにより図４に示すようにマスク３１Ｒ上へスクリーン
印刷する。印刷された赤色発光材料５０Ｒは開口部３２
Ｒを介して滴下し、赤色画素領域２３に塗布される。

【００３０】赤色発光材料４８Ｒを画素領域２３に塗布
する工程において、マスク３１Ｒは、陽極電極２１及び
隔壁層２２に全く接触しない。また、このとき、マスク
３１Ｒの開口部３２の表面をフッ素化し、撥水撥油性に
しているため、赤色発光材料は、開口部３２Ｒを容易に
通過する。その後、窒素雰囲気中において１５０℃で硬
化して、膜厚５０ｎｍの赤色発光層５１（図５）を形成
する。

【００３１】次に、図５に示すように緑色発光層形成用
のマスク３１Ｇを隔壁２２と接触しないように、ＩＴＯ
２１とマスク３１ＧのギャップＧをおよそ０．３ｍｍに
調整し、マスク３１Ｇが反らないように外側へテンショ
ンをかけながら、マスク３１Ｇの開口部３２Ｇと緑色画
素領域２４を位置合わせして、基板２０上へセットす
る。

【００３２】次に、マスク３１Ｇの上へスクリーン印刷
用のスクリーン版４６Ｇとスキージ４７をセットする。
スクリーン版４６Ｇには、緑色発光層の形成部分に、つ
まり緑色画素領域２４に対応する位置に１００μｍ角の
印刷開口部４９Ｇが設けられている。そして、緑色発光
材料４８Ｇとして、溶媒キシレンに、０．３ｗｔ％のポ
リフェニレンビニレン（ＰＰＶ）前駆体混合したもの
を、マスク３１Ｇ上へスクリーン印刷する。

【００３３】この緑色発光材料４８Ｇを画素領域２４に
塗布する工程において、マクス３１Ｇは、陽極電極２１
及び赤色発光層５１及びポリイミドの隔壁層２２に全く
接触しない。また、このとき、マスク３１Ｇの開口部３
２Ｇの表面をフッ素化し、撥水撥油性にしているため、
高分子材料は、マスク３１Ｇの開口部３２Ｇを容易に通
過する。印刷された緑色発光材料５０Ｇが開口部３２Ｇ
を介して滴下し、画素領域２４に塗布されると、窒素雰
囲気中において１５０℃で硬化して、膜厚５０ｎｍの緑
色発光層を形成する。

【００３４】次に、青色発光層及び電子輸送層として、
溶媒キシレンに、０．５ｗｔ％のポリジオクチルフルオ
レンを混合し基板２０上にスピンコートし、窒素雰囲気
中において１５０℃で硬化して、膜厚５０ｎｍの電子輸
送層を画素２３，２４に、膜厚５０ｎｍの青色発光層を
画素２５に形成する。

【００３５】次に、抵抗加熱真空蒸着装置のチャンバー
内に、三色の有機発光層が形成された上記基板をセット
する。陰極電極２８（図１）を形成するために、Ｍｏボ
ートに陰極材料の１層目の材料Ｃａを載せ、別のＭｏボ
ートに陰極材料の２層目の材料ＡＬを載せた後、真空引
きする。なお、Ｍｏボートとは、モリブデン・ボートで
ある。真空蒸着は、１０^-6Ｔｏｒｒ程度の真空度状態で
行う。陰極材料の１層目の材料Ｃａを加熱し、膜厚１０
０ｎｍ程度を蒸着する。次に、陰極材料の２層目の材料
ＡＬを加熱し、膜厚２００ｎｍ程度を蒸着する。陰極層
は、真空チャンバー内でメタルマスクを移動させ、１層
目と２層目の陰極層をそれぞれ２回蒸着して、ピッチ３
００μｍ、幅２７０μｍで形成する。この有機ＥＬ表示
装置のＲＧＢの素子構造は、赤色素子がＩＴＯ／ＰＰＶ
＋ローダミン１０１（発光層）／ポリジオクチルフルオ
レン／Ｃａ／ＡＬであり、緑色素子がＩＴＯ／ＰＰＶ
（発光層）／ポリジオキチルフルオレン／Ｃａ／ＡＬで
あり、青色素子がＩＴＯ／ポリジオキチルフルオレン
（発光層）／Ｃａ／ＡＬである。このようにして、各画
素が、そのＲＧＢの発光色を忠実に発光する有機ＥＬ表
示装置を作製することができる。

【００３６】

【発明の効果】この発明において、液状の有機発光材料
を基板上に塗布する際、微小貫通孔を有するマスクが、
基板と塗布手段の間に設置され、マスクが、基板の電極
や隔壁に接触しないように設定されるので、有機ＥＬ表
示装置素子の有機発光層に必要な１〜１００ｎｍの薄膜
を精度よく形成することができる。さらに、マスクの貫
通孔断面積と塗布条件を調整すれば、有機発光層の膜厚
を正確にコントロールすることができる。複数の貫通孔
がマトリックス状に形成されたマスクを用いれば、ＲＧ
Ｂの各発光層をそれぞれ一度に容易パターニングするこ
とができ、発光層の形成時間を短くすることができる。
また、ＲＧＢの各発光層のパターニングを連続で行なう
ことも可能となり、プロセス工程数と加工時間を短縮す
ることができる。さらに、マスクの貫通孔と基板上の画
素との位置合わせによって、所望の画素に対して確実に
液状の有機発光材料を塗布することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る有機ＥＬ表示装置の要部断面図
である。

【図２】この発明の実施例の有機ＥＬ表示装置における
単位画素の平面図である。

【図３】この発明の実施例における、マスクの概略斜視
図である。

【図４】この発明の実施例において、赤色発光材料がマ
スクに設けられた貫通孔を通過して、基板上の赤色画素
領域に対して塗布される様子を示す概略断面図である。

【図５】この発明の実施例において、緑色発光材料がマ
スクに設けられた貫通孔を通過して、基板上の緑色画素
領域に対して塗布される様子を示す概略断面図である。

【符号の説明】

２０基板２１陽極電極２２隔壁層２３赤色画素領域２４緑色画素領域２５青色画素領域２６有機発光層２７偏光板２８陰極電極２９封止膜３１Ｒ赤色発光層形成用のマスク３１Ｇ緑色発光層形成用のマスク４６Ｒ赤色発光層形成用のスクリーン版４６Ｇ緑色発光層形成用のスクリーン版４７スキージ４８Ｒ赤色有機発光材料４８Ｇ緑色有機発光材料４９Ｒ赤色用スクリーンの印刷開口部４９Ｇ緑色用スクリーンの印刷開口部５０Ｒマスク上に印刷された赤色発光材料５０Ｇマスク上に印刷された緑色発光材料５１赤色発光層Ｇギャップ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H114 AB11 AB15 AB17 BA01 DA04 DA21 DA41 DA57 GA01 GA11 3K007 AB04 AB18 BA06 CA01 CA02 CA05 CB01 CC01 DA00 DB03 EB00 FA00 FA01 FA03 4D075 AC45 AD16 CA48 DA06 DB14 DC22 EA05 EC11

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に区画された複数の画素領域に有
機発光層を形成する方法であって、複数の貫通孔を有す
る平板状のマスクを基板の上方に所定距離を隔てて保持
し、マスクの基板と反対の面において貫通孔を各々含む
複数の所定領域に液状の有機発光材料を塗布し、その有
機発光材料を貫通孔を介してさらに滴下させて各画素領
域に塗布し、各画素領域に塗布された有機発光材料を固
体化処理して発光層を形成する工程からなる有機ＥＬ表
示装置の発光層形成方法。
【請求項２】マスクは、複数枚の金属板を積層して形
成される請求項１記載の有機ＥＬ表示装置の発光層の形
成方法。
【請求項３】マスクは、少なくとも有機発光材料と接
触する部分が有機発光材料の表面張力よりも小さい臨界
表面張力を有する請求項１記載の有機ＥＬ表示装置の発
光層の形成方法。
【請求項４】マスクは、少なくとも基板に対向する面
と貫通孔とがフッ素樹脂でコーティングされた請求項１
記載の有機ＥＬ表示装置の発光層の形成方法。
【請求項５】マスクに有機発光材料を塗布する工程
が、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、凸版印刷法、
平板印刷法およびグラビア印刷法の内のいずれか１つの
印刷法によって行われる有機ＥＬ表示装置の発光層の形
成方法。