JP2001351787A - 有機ｌｅｄ素子とその製造方法および有機ｌｅｄディスプレイ - Google Patents
有機ｌｅｄ素子とその製造方法および有機ｌｅｄディスプレイInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電極どうしの短絡がなく、安価で表示品位の
優れたフルカラー表示可能な有機ＬＥＤ素子および有機
ＬＥＤディスプレイを提供することを課題とする。 【解決手段】 基板上に第１電極、有機ＬＥＤ媒体およ
び第２電極が順次形成され、基板上または第１電極上に
テーパー状の隔壁が形成された有機ＬＥＤ素子であっ
て、隔壁が基板または第１電極の近傍に裾部を有し、裾
部の表面が凹面であることを特徴とする有機ＬＥＤ素子
およびその製造方法により、上記の課題を解決する。
優れたフルカラー表示可能な有機ＬＥＤ素子および有機
ＬＥＤディスプレイを提供することを課題とする。 【解決手段】 基板上に第１電極、有機ＬＥＤ媒体およ
び第２電極が順次形成され、基板上または第１電極上に
テーパー状の隔壁が形成された有機ＬＥＤ素子であっ
て、隔壁が基板または第１電極の近傍に裾部を有し、裾
部の表面が凹面であることを特徴とする有機ＬＥＤ素子
およびその製造方法により、上記の課題を解決する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＬＥＤ素子と
その製造方法および有機ＬＥＤディスプレイに関する。
さらに詳しくは、本発明は、電極どうしの短絡がなく、
安価で表示品位の優れたフルカラー表示可能な有機ＬＥ
Ｄ素子（画素）とその製造方法、および前記の有機ＬＥ
Ｄ素子を複数配置した有機ＬＥＤディスプレイに関す
る。
その製造方法および有機ＬＥＤディスプレイに関する。
さらに詳しくは、本発明は、電極どうしの短絡がなく、
安価で表示品位の優れたフルカラー表示可能な有機ＬＥ
Ｄ素子（画素）とその製造方法、および前記の有機ＬＥ
Ｄ素子を複数配置した有機ＬＥＤディスプレイに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、高度情報化に伴い、薄型、低消費
電力、軽量の表示素子への要望が高まる中、複数配列の
有機ＬＥＤ素子によって構成される有機ＬＥＤディスプ
レイが注目を集めている。特に、近年の高分子系材料を
用いた有機ＬＥＤ素子の発光効率の向上は著しく、特に
高分子系材料から構成される発光層のパターニング方法
が注目を集めている。
電力、軽量の表示素子への要望が高まる中、複数配列の
有機ＬＥＤ素子によって構成される有機ＬＥＤディスプ
レイが注目を集めている。特に、近年の高分子系材料を
用いた有機ＬＥＤ素子の発光効率の向上は著しく、特に
高分子系材料から構成される発光層のパターニング方法
が注目を集めている。
【０００３】パターニング方法としては、例えば、電着
法（特開平９−７７６８号）、インクジェット法（特開
平１０−１２３７７号）、印刷法（特開平３−２６９９
９５号、特開平１０−７７４６７号および特開平１１−
２７３８５９号）、転写法（特開平１１−２６０５４９
号）が挙げられる。
法（特開平９−７７６８号）、インクジェット法（特開
平１０−１２３７７号）、印刷法（特開平３−２６９９
９５号、特開平１０−７７４６７号および特開平１１−
２７３８５９号）、転写法（特開平１１−２６０５４９
号）が挙げられる。
【０００４】電着法では、良好な膜質の膜が得られない
という問題があり、インクジェット法では、良好な表面
形状の膜が得られないという問題がある。しかし、上記
の方法では、発光層の塗り分けによる多色発光素子を作
製する場合には、各発光色の画素間に発光層の混じり合
いを防止する目的で、透明電極のエッジで起こる電界集
中による素子の劣化を防止する目的で、また、コントラ
ストの向上の目的で隔壁を設けることが好ましい。
という問題があり、インクジェット法では、良好な表面
形状の膜が得られないという問題がある。しかし、上記
の方法では、発光層の塗り分けによる多色発光素子を作
製する場合には、各発光色の画素間に発光層の混じり合
いを防止する目的で、透明電極のエッジで起こる電界集
中による素子の劣化を防止する目的で、また、コントラ
ストの向上の目的で隔壁を設けることが好ましい。
【０００５】しかしながら、従来の印刷法で作製したデ
ィスプレイでは、電極どうしの短絡によって有機ＬＥＤ
素子が発光しないという問題があった。図１１は、従来
の隔壁を設けた有機ＬＥＤディスプレイの概略部分斜視
図とその部分拡大断面図であり、基板１上に第１電極２
が形成され、隔壁５が特定の幅とピッチで形成されてい
る。この基板上に有機ＬＥＤ媒体形成用塗液を用いた印
刷法で有機ＬＥＤ媒体３を形成し、次いで第２電極４を
形成すると、隔壁の近傍に前記の塗液が印刷されずに有
機ＬＥＤ媒体の膜が形成されない部分、すなわち第１電
極と第２電極が接する部分２２が形成される（図１
２）。このような有機ＬＥＤ素子に電圧を印加した場合
には、電極どうしの短絡によって有機ＬＥＤ素子が発光
しない。
ィスプレイでは、電極どうしの短絡によって有機ＬＥＤ
素子が発光しないという問題があった。図１１は、従来
の隔壁を設けた有機ＬＥＤディスプレイの概略部分斜視
図とその部分拡大断面図であり、基板１上に第１電極２
が形成され、隔壁５が特定の幅とピッチで形成されてい
る。この基板上に有機ＬＥＤ媒体形成用塗液を用いた印
刷法で有機ＬＥＤ媒体３を形成し、次いで第２電極４を
形成すると、隔壁の近傍に前記の塗液が印刷されずに有
機ＬＥＤ媒体の膜が形成されない部分、すなわち第１電
極と第２電極が接する部分２２が形成される（図１
２）。このような有機ＬＥＤ素子に電圧を印加した場合
には、電極どうしの短絡によって有機ＬＥＤ素子が発光
しない。
【０００６】そこで、電極どうしの短絡を防止するため
に、有機ＬＥＤ媒体の膜が形成されない部分を避けて第
２電極を形成することが考えられるが、この方法では、
各画素に占める発光部分の面積（開口率）が小さくなる
という新たな問題が生じる。また、上記の方法では、例
えば、第２電極はマスク蒸着によりパターン化して形成
されるが、その際の基板とマスクの位置合わせ精度が非
常に厳密になり、工程上困難を極める。
に、有機ＬＥＤ媒体の膜が形成されない部分を避けて第
２電極を形成することが考えられるが、この方法では、
各画素に占める発光部分の面積（開口率）が小さくなる
という新たな問題が生じる。また、上記の方法では、例
えば、第２電極はマスク蒸着によりパターン化して形成
されるが、その際の基板とマスクの位置合わせ精度が非
常に厳密になり、工程上困難を極める。
【０００７】また、同様に、従来の転写法で作成したデ
ィスプレイでも、電極どうしの短絡によって有機ＬＥＤ
素子が発光しないと言う問題があった。図１１は、従来
の隔壁を設けた有機ＬＥＤディスプレイの概略部分斜視
図とその部分拡大断面図であり、基板１上に第１電極２
が形成され、隔壁５が特定の幅とピッチで形成されてい
る。この基板上に転写法で有機ＬＥＤ媒体３を形成し、
次いで第２電極４を形成すると、隔壁の近傍に前記有機
ＬＥＤ媒体が転写されずに有機ＬＥＤ媒体の膜が形成さ
れない部分、すなわち第１電極と第２電極が接する部分
２２が形成される（図１２）。このような有機ＬＥＤ素
子に電圧を印加した場合には、電極どうしの短絡によっ
て有機ＬＥＤ素子が発光しない。
ィスプレイでも、電極どうしの短絡によって有機ＬＥＤ
素子が発光しないと言う問題があった。図１１は、従来
の隔壁を設けた有機ＬＥＤディスプレイの概略部分斜視
図とその部分拡大断面図であり、基板１上に第１電極２
が形成され、隔壁５が特定の幅とピッチで形成されてい
る。この基板上に転写法で有機ＬＥＤ媒体３を形成し、
次いで第２電極４を形成すると、隔壁の近傍に前記有機
ＬＥＤ媒体が転写されずに有機ＬＥＤ媒体の膜が形成さ
れない部分、すなわち第１電極と第２電極が接する部分
２２が形成される（図１２）。このような有機ＬＥＤ素
子に電圧を印加した場合には、電極どうしの短絡によっ
て有機ＬＥＤ素子が発光しない。
【０００８】そこで、電極どうしの短絡を防止するため
に、有機ＬＥＤ媒体の膜が形成されない部分を避けて第
２電極を形成することが考えられるが、この方法では、
各画素に占める発光部分の面積（開口率）が小さくなる
という新たな問題が生じる。また、上記の方法では、例
えば、第２電極はマスク蒸着によりパターニング化して
形成されるが、その際の基板とマスクの位置合せ精度が
非常に厳密になり、工程上困難を極める。
に、有機ＬＥＤ媒体の膜が形成されない部分を避けて第
２電極を形成することが考えられるが、この方法では、
各画素に占める発光部分の面積（開口率）が小さくなる
という新たな問題が生じる。また、上記の方法では、例
えば、第２電極はマスク蒸着によりパターニング化して
形成されるが、その際の基板とマスクの位置合せ精度が
非常に厳密になり、工程上困難を極める。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、電極どうし
の短絡がなく、安価で表示品位の優れたフルカラー表示
可能な有機ＬＥＤ素子および有機ＬＥＤディスプレイを
提供することを課題とする。
の短絡がなく、安価で表示品位の優れたフルカラー表示
可能な有機ＬＥＤ素子および有機ＬＥＤディスプレイを
提供することを課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者はかかる観点か
ら鋭意研究を行った結果、フルカラー表示可能な有機Ｌ
ＥＤディスプレイにおいて、隔壁と基板または第１電極
とが接する部分の隔壁の断面が特定の形状を有する隔壁
を設けることにより、電極どうしの短絡の問題が解消で
きることを見出し、本発明を完成するに到った。
ら鋭意研究を行った結果、フルカラー表示可能な有機Ｌ
ＥＤディスプレイにおいて、隔壁と基板または第１電極
とが接する部分の隔壁の断面が特定の形状を有する隔壁
を設けることにより、電極どうしの短絡の問題が解消で
きることを見出し、本発明を完成するに到った。
【００１１】かくして、本発明によれば、基板上に第１
電極、有機ＬＥＤ媒体および第２電極が順次形成され、
基板上または第１電極上にテーパー状の隔壁が形成され
た有機ＬＥＤ素子であって、隔壁が基板または第１電極
の近傍に裾部を有し、裾部の表面が凹面であることを特
徴とする有機ＬＥＤディスプレイが提供される。
電極、有機ＬＥＤ媒体および第２電極が順次形成され、
基板上または第１電極上にテーパー状の隔壁が形成され
た有機ＬＥＤ素子であって、隔壁が基板または第１電極
の近傍に裾部を有し、裾部の表面が凹面であることを特
徴とする有機ＬＥＤディスプレイが提供される。
【００１２】また、本発明によれば、上記の有機ＬＥＤ
素子の製造方法であって、基板上または第１電極上に隔
壁材料層を形成し、フォトリソグラフィ法によりレジス
トマスクを形成し、次いでドライエッチング法またはウ
エットエッチング法により隔壁材料層を腐刻して隔壁を
形成することを特徴とする有機ＬＥＤ素子の製造方法が
提供される。
素子の製造方法であって、基板上または第１電極上に隔
壁材料層を形成し、フォトリソグラフィ法によりレジス
トマスクを形成し、次いでドライエッチング法またはウ
エットエッチング法により隔壁材料層を腐刻して隔壁を
形成することを特徴とする有機ＬＥＤ素子の製造方法が
提供される。
【００１３】さらに、本発明によれば、上記の有機ＬＥ
Ｄ素子が複数配置された有機ＬＥＤディスプレイが提供
される。
Ｄ素子が複数配置された有機ＬＥＤディスプレイが提供
される。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の好適な実施の形態につい
て図面を参照して以下に説明する。有機ＬＥＤ素子（画
素）は、図５に示されるように、通常、基板１、第１電
極２、有機ＬＥＤ媒体３および第２電極４から構成され
る。本発明の有機ＬＥＤディスプレイは、このような画
素が複数配置されて構成され、各画素間に隔壁５を有す
る。また、ディスプレイの表示品位、例えば、コントラ
ストの観点からは、基板１の外側には偏向板７が設けら
れているのが好ましく、さらにディスプレイの信頼性の
観点からは、第２電極４上には、封止膜または封止基板
６が設けられているのが好ましい。
て図面を参照して以下に説明する。有機ＬＥＤ素子（画
素）は、図５に示されるように、通常、基板１、第１電
極２、有機ＬＥＤ媒体３および第２電極４から構成され
る。本発明の有機ＬＥＤディスプレイは、このような画
素が複数配置されて構成され、各画素間に隔壁５を有す
る。また、ディスプレイの表示品位、例えば、コントラ
ストの観点からは、基板１の外側には偏向板７が設けら
れているのが好ましく、さらにディスプレイの信頼性の
観点からは、第２電極４上には、封止膜または封止基板
６が設けられているのが好ましい。
【００１５】基板としては、石英基板、ガラス基板、セ
ラミック基板などの無機材料基板、およびポリエチレン
テレフタレート基板、ポリエーテルサルフォン基板、ポ
リイミド基板などの樹脂基板などいずれも用いることが
でき、特にこれらに限定されない。
ラミック基板などの無機材料基板、およびポリエチレン
テレフタレート基板、ポリエーテルサルフォン基板、ポ
リイミド基板などの樹脂基板などいずれも用いることが
でき、特にこれらに限定されない。
【００１６】有機ＬＥＤ媒体は、発光層もしくは発光層
と電荷輸送層（電子輸送層および正孔輸送層）からな
り、発光層および電荷輸送層はそれぞれ単層構造および
多層構造のいずれであってもよい。
と電荷輸送層（電子輸送層および正孔輸送層）からな
り、発光層および電荷輸送層はそれぞれ単層構造および
多層構造のいずれであってもよい。
【００１７】印刷法で用いることができる発光層は、有
機ＬＥＤ用の公知の発光材料と、任意に公知の高分子材
料および添加剤とを溶媒に溶解もしくは分散させた発光
層形成用塗液により形成される。以下にそれぞれの材料
を例示するが、これらは本発明を限定するものではな
い。
機ＬＥＤ用の公知の発光材料と、任意に公知の高分子材
料および添加剤とを溶媒に溶解もしくは分散させた発光
層形成用塗液により形成される。以下にそれぞれの材料
を例示するが、これらは本発明を限定するものではな
い。
【００１８】公知の低分子発光材料としては、例えば、
トリフェニルブタジエン、クマリン、ナイルレッド、オ
キサジアゾール誘導体などが挙げられる。公知の高分子
発光材料としては、例えば、ポリ（２−デシルオキシ−
１，４−フェニレン）［ＤＯ−ＰＰＰ］、ポリ［２，５
−ビス｛２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニウム）
エトキシ｝−１，４−フェニレン−アルト−１，４−フ
ェニレン］ジブロマイド［ＰＰＰ−ＮＥｔ3 +］、ポリ
［２−（２’−エチルヘキシルオキシ）−５−メトキシ
−１，４−フェニレンビニレン］［ＭＥＨ−ＰＰＶ］、
ポリ［５−メトキシ（２−プロパノキシサルフォニド）
−１，４−フェニルビニレン］［ＭＰＳ−ＰＰＶ］、ポ
リ［２，５−ビス（ヘキシルオキシ−１，４−フェニレ
ン）−（１−シアノビニレン）］［ＣＮ−ＰＰＶ］、ポ
リ［２−（２’−エチルヘキシルオキシ）−５−メトキ
シ−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）］
［ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ］、ポリ（ジオクチルフルオレ
ン）（ＰＤＦ）などが挙げられる。
トリフェニルブタジエン、クマリン、ナイルレッド、オ
キサジアゾール誘導体などが挙げられる。公知の高分子
発光材料としては、例えば、ポリ（２−デシルオキシ−
１，４−フェニレン）［ＤＯ−ＰＰＰ］、ポリ［２，５
−ビス｛２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニウム）
エトキシ｝−１，４−フェニレン−アルト−１，４−フ
ェニレン］ジブロマイド［ＰＰＰ−ＮＥｔ3 +］、ポリ
［２−（２’−エチルヘキシルオキシ）−５−メトキシ
−１，４−フェニレンビニレン］［ＭＥＨ−ＰＰＶ］、
ポリ［５−メトキシ（２−プロパノキシサルフォニド）
−１，４−フェニルビニレン］［ＭＰＳ−ＰＰＶ］、ポ
リ［２，５−ビス（ヘキシルオキシ−１，４−フェニレ
ン）−（１−シアノビニレン）］［ＣＮ−ＰＰＶ］、ポ
リ［２−（２’−エチルヘキシルオキシ）−５−メトキ
シ−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）］
［ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ］、ポリ（ジオクチルフルオレ
ン）（ＰＤＦ）などが挙げられる。
【００１９】また、公知の高分子発光材料の前駆体を用
いることもでき、例えば、ポリ（ｐ−フェニレン）前駆
体［Ｐｒｅ−ＰＰＰ］、ポリ（ｐ−フェニレンビニレ
ン）前駆体［Ｐｒｅ−ＰＰＶ］、ポリ（ｐ−ナフタレン
ビニレン）前駆体［Ｐｒｅ−ＰＮＶ］などが挙げられ
る。公知の高分子材料としては、例えば、ポリカーボネ
ート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭ
Ａ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）などが挙げられ
る。
いることもでき、例えば、ポリ（ｐ−フェニレン）前駆
体［Ｐｒｅ−ＰＰＰ］、ポリ（ｐ−フェニレンビニレ
ン）前駆体［Ｐｒｅ−ＰＰＶ］、ポリ（ｐ−ナフタレン
ビニレン）前駆体［Ｐｒｅ−ＰＮＶ］などが挙げられ
る。公知の高分子材料としては、例えば、ポリカーボネ
ート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭ
Ａ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）などが挙げられ
る。
【００２０】溶媒としては、印刷法で膜を形成するとき
の温度における蒸気圧が５００Ｐａ以下のものを少なく
とも１種類含む溶媒が好ましい。また、有機ＬＥＤ媒体
を多層積層膜とする場合には、各層を形成するときに用
いる塗液の溶媒は、各層の混同を防止するために、先に
形成した膜が溶解しないものを用いるのが好ましい。
の温度における蒸気圧が５００Ｐａ以下のものを少なく
とも１種類含む溶媒が好ましい。また、有機ＬＥＤ媒体
を多層積層膜とする場合には、各層を形成するときに用
いる塗液の溶媒は、各層の混同を防止するために、先に
形成した膜が溶解しないものを用いるのが好ましい。
【００２１】溶媒の具体例としては、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリエチレングリコールモエチルエ
ーテル、グリセリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキサノン、１−
プロパノール、オクタン、ノナン、デカン、キシレン、
ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、ニトロベンゼ
ンなどが挙げられる。
ル、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリエチレングリコールモエチルエ
ーテル、グリセリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキサノン、１−
プロパノール、オクタン、ノナン、デカン、キシレン、
ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、ニトロベンゼ
ンなどが挙げられる。
【００２２】また、添加剤としては、粘度調整用の添加
剤；Ｎ，Ｎ−ビス−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’
−ビス−（フェニル）−ベンジジン［ＴＰＤ］、Ｎ，
Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェ
ニル−ベンジジン［ＮＰＤ］などの有機ＬＥＤ用または
有機光導電体用の公知の正孔輸送材料；３−（４−ビフ
ェニルイル）−４−フェニレン−５−ｔ−ブチルフェニ
ル−１，２，４−トリアゾール［ＴＡＺ］、トリス（８
−ヒドロキシナト）アルミニウム「Ａｌｑ3」などの電
子輸送材料；アクセプター、ドナーなどのドーパントな
どが挙げられる。
剤；Ｎ，Ｎ−ビス−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’
−ビス−（フェニル）−ベンジジン［ＴＰＤ］、Ｎ，
Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェ
ニル−ベンジジン［ＮＰＤ］などの有機ＬＥＤ用または
有機光導電体用の公知の正孔輸送材料；３−（４−ビフ
ェニルイル）−４−フェニレン−５−ｔ−ブチルフェニ
ル−１，２，４−トリアゾール［ＴＡＺ］、トリス（８
−ヒドロキシナト）アルミニウム「Ａｌｑ3」などの電
子輸送材料；アクセプター、ドナーなどのドーパントな
どが挙げられる。
【００２３】印刷法で用いることができる電荷輸送層
は、有機ＬＥＤ用または有機光導電体用の公知の電荷輸
送材料と、任意に公知の高分子材料および添加剤とを溶
媒に溶解もしくは分散させた電荷輸送層形成用塗液によ
り形成される。以下にそれぞれの材料を例示するが、こ
れらは本発明を限定するものではない。
は、有機ＬＥＤ用または有機光導電体用の公知の電荷輸
送材料と、任意に公知の高分子材料および添加剤とを溶
媒に溶解もしくは分散させた電荷輸送層形成用塗液によ
り形成される。以下にそれぞれの材料を例示するが、こ
れらは本発明を限定するものではない。
【００２４】公知の低分子電荷輸送材料としては、例え
ば、ＴＰＤ、ＮＰＤ、オキサジアゾール誘導体などが挙
げられる。公知の高分子電荷輸送材料としては、例え
ば、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、３，４−ポリエチレン
ジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォネート（Ｐ
ＥＤＴ／ＰＳＳ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣ
ｚ）、ポリ（トリフェニルアミン誘導体）（Ｐｏｌｙ−
ＴＰＤ）、ポリ（オキサジアゾール誘導体）（Ｐｏｌｙ
−ＯＸＺ）などが挙げられる。また、公知の高分子電荷
輸送材料の前駆体を用いることもでき、例えば、Ｐｒｅ
−ＰＰＶ、Ｐｒｅ−ＰＮＶなどが挙げられる。
ば、ＴＰＤ、ＮＰＤ、オキサジアゾール誘導体などが挙
げられる。公知の高分子電荷輸送材料としては、例え
ば、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、３，４−ポリエチレン
ジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォネート（Ｐ
ＥＤＴ／ＰＳＳ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣ
ｚ）、ポリ（トリフェニルアミン誘導体）（Ｐｏｌｙ−
ＴＰＤ）、ポリ（オキサジアゾール誘導体）（Ｐｏｌｙ
−ＯＸＺ）などが挙げられる。また、公知の高分子電荷
輸送材料の前駆体を用いることもでき、例えば、Ｐｒｅ
−ＰＰＶ、Ｐｒｅ−ＰＮＶなどが挙げられる。
【００２５】公知の高分子材料としては、例えば、Ｐ
Ｃ、ＰＭＭＡ、ＰＶＣｚなどが挙げられる。また、添加
剤および溶媒としては、発光層形成用塗液における例示
のものが挙げられる。
Ｃ、ＰＭＭＡ、ＰＶＣｚなどが挙げられる。また、添加
剤および溶媒としては、発光層形成用塗液における例示
のものが挙げられる。
【００２６】次に、転写法で用いることができる有機発
光材料としては、有機ＬＥＤ用の発光材料が使用可能で
あり、有機発光層は前記した有機発光材料のみから構成
されてもよいし、添加剤などを含有してもよい。また、
転写法で用いることができる電荷輸送材料としては、有
機ＬＥＤ用、有機光導電体用の公知の材料が使用可能で
あり、電荷輸送層は、前記した電荷輸送材料のみから構
成されてもよいし、添加剤などを含有してもよい。しか
し、本発明は特にこれらに限定されるものではない。
光材料としては、有機ＬＥＤ用の発光材料が使用可能で
あり、有機発光層は前記した有機発光材料のみから構成
されてもよいし、添加剤などを含有してもよい。また、
転写法で用いることができる電荷輸送材料としては、有
機ＬＥＤ用、有機光導電体用の公知の材料が使用可能で
あり、電荷輸送層は、前記した電荷輸送材料のみから構
成されてもよいし、添加剤などを含有してもよい。しか
し、本発明は特にこれらに限定されるものではない。
【００２７】また、従来の方法で使用できる有機発光材
料としては、有機ＬＥＤ用の発光材料が使用可能であ
り、有機発光層は前記した有機発光材料のみから構成さ
れてもよいし、添加剤などを含有してもよい。また、従
来の方法で使用できる電荷輸送材料としては、有機ＬＥ
Ｄ用、有機光導電体用の公知の材料が使用可能であり、
電荷輸送層は、前記した電荷輸送材料のみから構成され
てもよいし、添加剤などを含有してもよい。しかし、本
発明は特にこれらに限定されるものではない。
料としては、有機ＬＥＤ用の発光材料が使用可能であ
り、有機発光層は前記した有機発光材料のみから構成さ
れてもよいし、添加剤などを含有してもよい。また、従
来の方法で使用できる電荷輸送材料としては、有機ＬＥ
Ｄ用、有機光導電体用の公知の材料が使用可能であり、
電荷輸送層は、前記した電荷輸送材料のみから構成され
てもよいし、添加剤などを含有してもよい。しかし、本
発明は特にこれらに限定されるものではない。
【００２８】有機ＬＥＤ媒体３を挟持する第１電極２と
第２電極３の材質は、有機ＬＥＤディスプレイの構成に
より選定される。すなわち、有機ＬＥＤディスプレイに
おいて、基板１が透明基板で、かつ第１電極が透明電極
である場合には、有機ＬＥＤ媒体３からの発光が基板１
側から放出されるので、発光効率を高めるために、第２
電極３を反射電極とするか、もしくは第２電極３の有機
ＬＥＤ媒体と隣接しない面に反射膜（図示しない）を設
けるのが好ましい。逆に、第２電極３が透明電極である
場合には、有機ＬＥＤ媒体３からの発光が第２電極３側
から放出されるので、第１電極２を反射電極とするか、
もしくは第１電極２と基板１との間に反射膜（図示しな
い）を設けるのが好ましい。
第２電極３の材質は、有機ＬＥＤディスプレイの構成に
より選定される。すなわち、有機ＬＥＤディスプレイに
おいて、基板１が透明基板で、かつ第１電極が透明電極
である場合には、有機ＬＥＤ媒体３からの発光が基板１
側から放出されるので、発光効率を高めるために、第２
電極３を反射電極とするか、もしくは第２電極３の有機
ＬＥＤ媒体と隣接しない面に反射膜（図示しない）を設
けるのが好ましい。逆に、第２電極３が透明電極である
場合には、有機ＬＥＤ媒体３からの発光が第２電極３側
から放出されるので、第１電極２を反射電極とするか、
もしくは第１電極２と基板１との間に反射膜（図示しな
い）を設けるのが好ましい。
【００２９】透明電極の材質としては、例えば、Ｃｕ
Ｉ、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）、ＳｎＯ2、ＺｎＯ
およびＣｕＡｌＯ2などが挙げられ、反射電極の材質と
しては、例えば、アルミニウムおよびカルシウムなどの
金属、マグネシウム−銀およびリチウム−アルミニウム
などの合金、マグネシウム／銀、マグネシウム／銀のよ
うな金属同士の積層膜、ならびにフッ化リチウム／アル
ミニウムのような絶縁体と金属との積層膜などが挙げら
れるが、特にこれらに限定されない。
Ｉ、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）、ＳｎＯ2、ＺｎＯ
およびＣｕＡｌＯ2などが挙げられ、反射電極の材質と
しては、例えば、アルミニウムおよびカルシウムなどの
金属、マグネシウム−銀およびリチウム−アルミニウム
などの合金、マグネシウム／銀、マグネシウム／銀のよ
うな金属同士の積層膜、ならびにフッ化リチウム／アル
ミニウムのような絶縁体と金属との積層膜などが挙げら
れるが、特にこれらに限定されない。
【００３０】次に、有機ＬＥＤ素子（画素）の配置につ
いて説明する。本発明の有機ＬＥＤディスプレイは、複
数の画素が隔壁５を介してマトリックス状に配置されて
おり、これらの画素に複数の発光色をもたせることによ
り、フルカラー表示が可能となる。複数の発光色として
は、赤色、緑色および青色の組合せが好ましい。
いて説明する。本発明の有機ＬＥＤディスプレイは、複
数の画素が隔壁５を介してマトリックス状に配置されて
おり、これらの画素に複数の発光色をもたせることによ
り、フルカラー表示が可能となる。複数の発光色として
は、赤色、緑色および青色の組合せが好ましい。
【００３１】有機ＬＥＤディスプレイは、例えば、図６
（ａ）に示されるようにディスプレイの各部分が異なる
発光色をもつエリアから構成されていてもよい。また、
画素の配置は、図６（ｂ）に示されるような赤色（Ｒ）
発光画素８、緑色（Ｇ）発光画素９および青色（Ｂ）発
光画素１０がマトリックス状に配置されたストライプ配
列が挙げられる。さらに、画素の配置は、図６（ｃ）、
６（ｄ）および６（ｅ）にそれぞれ示されるようなモザ
イク配列、デルタ配列およびスクウェア配列であっても
よい。Ｒ発光画素８、Ｇ発光画素９およびＢ発光画素１
０それぞれの占有面積の割合は、図６（ｅ）に示される
ように、必ずしも１：１：１である必要はなく、各画素
の占有面積は、同一であっても、各画素によって異なっ
ていてもよい。
（ａ）に示されるようにディスプレイの各部分が異なる
発光色をもつエリアから構成されていてもよい。また、
画素の配置は、図６（ｂ）に示されるような赤色（Ｒ）
発光画素８、緑色（Ｇ）発光画素９および青色（Ｂ）発
光画素１０がマトリックス状に配置されたストライプ配
列が挙げられる。さらに、画素の配置は、図６（ｃ）、
６（ｄ）および６（ｅ）にそれぞれ示されるようなモザ
イク配列、デルタ配列およびスクウェア配列であっても
よい。Ｒ発光画素８、Ｇ発光画素９およびＢ発光画素１
０それぞれの占有面積の割合は、図６（ｅ）に示される
ように、必ずしも１：１：１である必要はなく、各画素
の占有面積は、同一であっても、各画素によって異なっ
ていてもよい。
【００３２】異なる発光色をもつ画素間には、発光層の
混ざりを防止するために隔壁が設けられる。図７（ａ）
〜（ｄ）は、隔壁の配置の例を示す概略部分平面図であ
る。図中、１は基板、３は有機ＬＥＤ媒体、５は隔壁を
示す。隔壁は、単層構造でも多層構造でもよく、各画素
間に配置されていてもよく、異なる発光色間に配置され
ていてもよい。隔壁の材質は、発光材料、電荷輸送材料
や高分子材料を溶解もしくは分散した溶媒、すなわち発
光層形成用塗液または電荷輸送層形成用塗液の溶媒に不
溶もしくは難溶であるものが好ましい。ディスプレイと
しての表示品位を向上させる意味で、ブラックマトリッ
クス用の材料（例えば、クロムおよび樹脂ブラックな
ど）を用いるのが特に好ましい。
混ざりを防止するために隔壁が設けられる。図７（ａ）
〜（ｄ）は、隔壁の配置の例を示す概略部分平面図であ
る。図中、１は基板、３は有機ＬＥＤ媒体、５は隔壁を
示す。隔壁は、単層構造でも多層構造でもよく、各画素
間に配置されていてもよく、異なる発光色間に配置され
ていてもよい。隔壁の材質は、発光材料、電荷輸送材料
や高分子材料を溶解もしくは分散した溶媒、すなわち発
光層形成用塗液または電荷輸送層形成用塗液の溶媒に不
溶もしくは難溶であるものが好ましい。ディスプレイと
しての表示品位を向上させる意味で、ブラックマトリッ
クス用の材料（例えば、クロムおよび樹脂ブラックな
ど）を用いるのが特に好ましい。
【００３３】次に、各画素に対応した第１電極間と第２
電極間の接続方法について説明する。本発明の有機ＬＥ
Ｄディスプレイは、例えば、図８（ａ）に示されるよう
に第１電極２もしくは第２電極４がそれぞれの画素に独
立の電極としてもよい。また、図８（ｂ）に示されるよ
うに有機ＬＥＤ媒体を挟持する第１電極２と第２電極４
が共通の基板１上で互いに直交するストライプ状の電極
になるように構成されているか、あるいは図８（ｃ）に
示されるように第１電極２もしくは第２電極４が薄膜ト
ランジスタ（ＴＦＴ）１１を介して共通の電極に接続さ
れていてもよい。図中、１２はソースバスライン、１３
はゲートバスラインをそれぞれ示す。
電極間の接続方法について説明する。本発明の有機ＬＥ
Ｄディスプレイは、例えば、図８（ａ）に示されるよう
に第１電極２もしくは第２電極４がそれぞれの画素に独
立の電極としてもよい。また、図８（ｂ）に示されるよ
うに有機ＬＥＤ媒体を挟持する第１電極２と第２電極４
が共通の基板１上で互いに直交するストライプ状の電極
になるように構成されているか、あるいは図８（ｃ）に
示されるように第１電極２もしくは第２電極４が薄膜ト
ランジスタ（ＴＦＴ）１１を介して共通の電極に接続さ
れていてもよい。図中、１２はソースバスライン、１３
はゲートバスラインをそれぞれ示す。
【００３４】次に、隔壁の形状について説明する。本発
明の有機ＬＥＤ素子は、隔壁がテーパー状であり、かつ
基板または第１電極の近傍に裾部を有し、裾部の表面が
凹面であることを特徴とする（図１（ａ）〜（ｃ）、図
２（ａ）〜（ｃ））。そして、凹面が円弧面または楕円
弧面からなり、その円弧面または楕円弧面の基板または
第１電極と接する部分における接線と、基板または第１
電極とのなす角θ1が６０°以下であるのが好ましく、
４５°以下がより好ましい（図３）。この角度が６０°
以上であれば、電極どうしの短絡が生じる恐れがあるの
で好ましくない。
明の有機ＬＥＤ素子は、隔壁がテーパー状であり、かつ
基板または第１電極の近傍に裾部を有し、裾部の表面が
凹面であることを特徴とする（図１（ａ）〜（ｃ）、図
２（ａ）〜（ｃ））。そして、凹面が円弧面または楕円
弧面からなり、その円弧面または楕円弧面の基板または
第１電極と接する部分における接線と、基板または第１
電極とのなす角θ1が６０°以下であるのが好ましく、
４５°以下がより好ましい（図３）。この角度が６０°
以上であれば、電極どうしの短絡が生じる恐れがあるの
で好ましくない。
【００３５】また、隔壁の全体の断面形状は、図１
（ａ）および図２（ａ）に示されるように、基板側が長
辺となる台形、または図１（ｂ）および図２（ｂ）に示
されるように、基板側が長辺となる三角形であってもよ
く、隔壁の斜辺と基板または第１電極とのなす角θ2は
６０°以下が好ましく、４５°以下がより好ましい（図
４）。この角度が６０°以上であれば、電極どうしの短
絡が生じる恐れがあるので好ましくない。または、図１
（ｃ）および図２（ｃ）に示されるように、基板側が長
辺となる円弧の一部であってもよい。図１および図２
中、１は基板、２は第１電極、３は有機ＬＥＤ媒体、４
は第２電極、５は隔壁を示す。
（ａ）および図２（ａ）に示されるように、基板側が長
辺となる台形、または図１（ｂ）および図２（ｂ）に示
されるように、基板側が長辺となる三角形であってもよ
く、隔壁の斜辺と基板または第１電極とのなす角θ2は
６０°以下が好ましく、４５°以下がより好ましい（図
４）。この角度が６０°以上であれば、電極どうしの短
絡が生じる恐れがあるので好ましくない。または、図１
（ｃ）および図２（ｃ）に示されるように、基板側が長
辺となる円弧の一部であってもよい。図１および図２
中、１は基板、２は第１電極、３は有機ＬＥＤ媒体、４
は第２電極、５は隔壁を示す。
【００３６】本発明の有機ＬＥＤ素子の製造方法につい
て説明する。 ・第１電極の形成 前記の電極材料を用いて基板上に第１電極を形成する。
その方法は特に限定されず、スパッタ、ＥＢ蒸着、抵抗
加熱蒸着などのドライプロセス、印刷法、インクジェッ
ト法などのウエットプロセスのいずれであってもよい。
パターニング工程（例えば、フォトリソグラフィ技術）
により、所望の形状になるように基板１上に形成する。
て説明する。 ・第１電極の形成 前記の電極材料を用いて基板上に第１電極を形成する。
その方法は特に限定されず、スパッタ、ＥＢ蒸着、抵抗
加熱蒸着などのドライプロセス、印刷法、インクジェッ
ト法などのウエットプロセスのいずれであってもよい。
パターニング工程（例えば、フォトリソグラフィ技術）
により、所望の形状になるように基板１上に形成する。
【００３７】・隔壁の形成 本発明の有機ＬＥＤ素子の製造方法は、基板上または第
１電極上に隔壁材料層を形成し、フォトリソグラフィ法
によりレジストマスクを形成し、次いでドライエッチン
グ法またはウエットエッチング法により隔壁材料層を腐
刻して隔壁を形成することを特徴とする。本発明の隔壁
の断面形状は、例えば、公知の光感光性樹脂を用いてフ
ォトリソグラフィ法により隔壁を形成する際に、光感光
性樹脂を露光する露光条件、エッチング条件、ベーク条
件を制御することにより得られる。
１電極上に隔壁材料層を形成し、フォトリソグラフィ法
によりレジストマスクを形成し、次いでドライエッチン
グ法またはウエットエッチング法により隔壁材料層を腐
刻して隔壁を形成することを特徴とする。本発明の隔壁
の断面形状は、例えば、公知の光感光性樹脂を用いてフ
ォトリソグラフィ法により隔壁を形成する際に、光感光
性樹脂を露光する露光条件、エッチング条件、ベーク条
件を制御することにより得られる。
【００３８】・有機ＬＥＤ媒体の形成 次に、第１電極２上に発光層もしくは発光層と電荷輸送
層からなる有機ＬＥＤ媒体３を形成する。本発明の有機
ＬＥＤ素子の製造方法によれば、有機ＬＥＤ媒体の少な
くとも１層を、有機ＬＥＤ媒体形成用塗液を用いた印刷
法、もしくは転写法により形成するのが好ましい。有機
ＬＥＤ媒体形成用塗液としては、前記の発光層形成用塗
液と電荷輸送層形成用塗液が挙げられる。
層からなる有機ＬＥＤ媒体３を形成する。本発明の有機
ＬＥＤ素子の製造方法によれば、有機ＬＥＤ媒体の少な
くとも１層を、有機ＬＥＤ媒体形成用塗液を用いた印刷
法、もしくは転写法により形成するのが好ましい。有機
ＬＥＤ媒体形成用塗液としては、前記の発光層形成用塗
液と電荷輸送層形成用塗液が挙げられる。
【００３９】印刷法としては、例えば、凸版印刷、凹版
印刷、平版印刷、オフセット印刷法などの従来の方法が
挙げられるが、本発明の方法では特に限定されない。し
かし、膜厚１μｍ以下の薄膜を均一に形成するために
は、凸版印刷、凹版印刷、平版印刷が好ましい。さらに
膜厚１０００Å以下の薄膜を均一に形成するためには、
凸版印刷が好ましい。
印刷、平版印刷、オフセット印刷法などの従来の方法が
挙げられるが、本発明の方法では特に限定されない。し
かし、膜厚１μｍ以下の薄膜を均一に形成するために
は、凸版印刷、凹版印刷、平版印刷が好ましい。さらに
膜厚１０００Å以下の薄膜を均一に形成するためには、
凸版印刷が好ましい。
【００４０】用いられる印刷機の構造としては、図９
（ａ）に示されるように、ロール部に固定されている転
写基板１６に塗液１８を直接塗布し、基板１に転写して
もよいが、基板１に形成される膜の膜厚を均一にするた
めには、図９（ｂ）に示されるように、まず塗液１８
を、塗液を一時保持するロール部２０に塗布し、そのロ
ール部２０を別のロール部（転写基板を固定するロール
部）１７に転写し、その転写したものを基板１に転写す
るのが好ましい。また、図９（ｃ）に示されるように、
まず塗液１８を、塗液を一時保持するロール部２０に塗
布し、そのロール部２０を別のロール部（転写基板を固
定するロール部）１７に転写し、さらに転写された塗液
１８を別のロール部２１に転写し、その転写したものを
基板１に転写することもできる。図９において、１４は
塗液投入口、１５はブレード、１９はステージである。
（ａ）に示されるように、ロール部に固定されている転
写基板１６に塗液１８を直接塗布し、基板１に転写して
もよいが、基板１に形成される膜の膜厚を均一にするた
めには、図９（ｂ）に示されるように、まず塗液１８
を、塗液を一時保持するロール部２０に塗布し、そのロ
ール部２０を別のロール部（転写基板を固定するロール
部）１７に転写し、その転写したものを基板１に転写す
るのが好ましい。また、図９（ｃ）に示されるように、
まず塗液１８を、塗液を一時保持するロール部２０に塗
布し、そのロール部２０を別のロール部（転写基板を固
定するロール部）１７に転写し、さらに転写された塗液
１８を別のロール部２１に転写し、その転写したものを
基板１に転写することもできる。図９において、１４は
塗液投入口、１５はブレード、１９はステージである。
【００４１】ロール部に固定する転写基板について説明
する。転写基板の材質は、用いる基板の材質により選定
するのが好ましい。基板が樹脂基板の場合には、転写基
板の材質は金属材料、樹脂材料のいずれであってもよい
が、基板が無機材料基板の場合には、転写基板の材質は
基板へのダメージを考慮して、樹脂材料が好ましい。金
属材料としては、銅版などが挙げられ、樹脂材料として
は、ＡＰＲ（旭化成（株）製）、富士トレリーフ（富士
フィルム（株）製）が挙げられるが、本発明はこれらに
より限定されない。また、転写パターンとしては、単純
に凹凸のパターンが形成されていてもよいし、塗液に対
して濡れ性の良い部分と悪い部分でパターンが形成され
ていてもよい。転写パターンの一例として、図１０にＡ
ＰＲ樹脂のパターンの概略部分平面図を示す。図中、１
６は転写基板であり、寸法は一例である。
する。転写基板の材質は、用いる基板の材質により選定
するのが好ましい。基板が樹脂基板の場合には、転写基
板の材質は金属材料、樹脂材料のいずれであってもよい
が、基板が無機材料基板の場合には、転写基板の材質は
基板へのダメージを考慮して、樹脂材料が好ましい。金
属材料としては、銅版などが挙げられ、樹脂材料として
は、ＡＰＲ（旭化成（株）製）、富士トレリーフ（富士
フィルム（株）製）が挙げられるが、本発明はこれらに
より限定されない。また、転写パターンとしては、単純
に凹凸のパターンが形成されていてもよいし、塗液に対
して濡れ性の良い部分と悪い部分でパターンが形成され
ていてもよい。転写パターンの一例として、図１０にＡ
ＰＲ樹脂のパターンの概略部分平面図を示す。図中、１
６は転写基板であり、寸法は一例である。
【００４２】また、本発明の有機ＬＥＤ媒体の成膜方法
の１つである転写法による成膜法について説明する（図
１３参照）。フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層
を形成したものをベースフィルムとし、このベースフィ
ルム上にレーザー転写により形成したい有機ＬＥＤ媒体
を成膜する。ここで有機ＬＥＤ媒体の成膜方法として
は、従来の真空蒸着法などのドライプロセスや、ディッ
プコート法、スピンコート法、インクジェット法などの
ウエットプロセスを用いることが可能であり、本発明は
特に限定されるものではない。ここで、ベースフィルム
に形成する層としては、単層であってもよいし、多層膜
であってもよい。また、ベースフィルム上に有機ＬＥＤ
媒体と電極を形成し、有機ＬＥＤ媒体と電極を同時に形
成することも可能である。
の１つである転写法による成膜法について説明する（図
１３参照）。フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層
を形成したものをベースフィルムとし、このベースフィ
ルム上にレーザー転写により形成したい有機ＬＥＤ媒体
を成膜する。ここで有機ＬＥＤ媒体の成膜方法として
は、従来の真空蒸着法などのドライプロセスや、ディッ
プコート法、スピンコート法、インクジェット法などの
ウエットプロセスを用いることが可能であり、本発明は
特に限定されるものではない。ここで、ベースフィルム
に形成する層としては、単層であってもよいし、多層膜
であってもよい。また、ベースフィルム上に有機ＬＥＤ
媒体と電極を形成し、有機ＬＥＤ媒体と電極を同時に形
成することも可能である。
【００４３】次に、本発明の転写法による発光層の形成
方法としては、このベースフィルムを、第１電極もしく
は電荷輸送層上に貼り合わせ、所望の位置にレーザー照
射を行うことにより発光層を転写することで、第１電極
上もしくは電荷輸送層上に発光層を形成することが可能
である。また、本発明の転写法による電荷輸送層の形成
方法としては、このベースフィルムを、第１電極上、電
荷輸送層上、もしくは発光層上に貼り合わせ所望の位置
にレーザー照射を行うことにより電荷輸送層を転写する
ことで、第１電極上、電荷輸送層上、もしくは発光層上
に電荷輸送層を形成することが可能である。
方法としては、このベースフィルムを、第１電極もしく
は電荷輸送層上に貼り合わせ、所望の位置にレーザー照
射を行うことにより発光層を転写することで、第１電極
上もしくは電荷輸送層上に発光層を形成することが可能
である。また、本発明の転写法による電荷輸送層の形成
方法としては、このベースフィルムを、第１電極上、電
荷輸送層上、もしくは発光層上に貼り合わせ所望の位置
にレーザー照射を行うことにより電荷輸送層を転写する
ことで、第１電極上、電荷輸送層上、もしくは発光層上
に電荷輸送層を形成することが可能である。
【００４４】本発明において、有機ＬＥＤ媒体の少なく
とも１層が印刷法もしくは転写法で形成されていことが
好ましい。これにより、より容易に発光層のパターニン
グが可能となる。また、他の層の形成方法は特に限定さ
れない。印刷法、転写法以外の形成方法としては、スピ
ンコート法、バーコード法、ディップコート法、インク
ジェット法などのウェットプロセス、および真空蒸着法
のようなドライプロセスなどが挙げられる。
とも１層が印刷法もしくは転写法で形成されていことが
好ましい。これにより、より容易に発光層のパターニン
グが可能となる。また、他の層の形成方法は特に限定さ
れない。印刷法、転写法以外の形成方法としては、スピ
ンコート法、バーコード法、ディップコート法、インク
ジェット法などのウェットプロセス、および真空蒸着法
のようなドライプロセスなどが挙げられる。
【００４５】・第２電極の形成 前記の電極材料を用いて第１電極と同様にして、第２電
極を形成する。
極を形成する。
【００４６】・封止膜の形成 必要に応じて、有機ＬＥＤディスプレイの防湿のため
に、公知の材料を用いて封止する。 ・偏光板の形成 さらに、必要に応じて、有機ＬＥＤディスプレイのコン
トラストの向上のために、基板の外側（有機ＬＥＤ媒体
と反対側）に偏向板を設ける。
に、公知の材料を用いて封止する。 ・偏光板の形成 さらに、必要に応じて、有機ＬＥＤディスプレイのコン
トラストの向上のために、基板の外側（有機ＬＥＤ媒体
と反対側）に偏向板を設ける。
【００４７】
【実施例】本発明を実施例および比較例によりさらに具
体的に説明するが、これらの実施例により本発明が限定
されるものではない。
体的に説明するが、これらの実施例により本発明が限定
されるものではない。
【００４８】（比較例１）１３０ｎｍの膜厚をもつＩＴ
Ｏ付きガラス基板を、フォトリソグラフィ法により第１
電極として１３０μｍピッチで１００μｍ幅のＩＴＯ透
明ストライプ電極を作製した。次に、このＩＴＯ付きガ
ラス基板を、イソプロピルアルコール、アセトン、純水
を用いた従来のウエットプロセスによる洗浄とＵＶオゾ
ン処理、プラズマ処理などの従来のドライプロセスによ
る洗浄を行った。
Ｏ付きガラス基板を、フォトリソグラフィ法により第１
電極として１３０μｍピッチで１００μｍ幅のＩＴＯ透
明ストライプ電極を作製した。次に、このＩＴＯ付きガ
ラス基板を、イソプロピルアルコール、アセトン、純水
を用いた従来のウエットプロセスによる洗浄とＵＶオゾ
ン処理、プラズマ処理などの従来のドライプロセスによ
る洗浄を行った。
【００４９】次に、この基板上に隔壁材料としてＴＳＭ
Ｒ−Ｖ９０（東京応化社製）を用い、スピンコート法に
より回転数３０００ｒｐｍ、２０秒で膜厚１．０μｍの
レジスト膜を形成した。次に、プリベーク９０℃、９０
秒を行い、次に１３０μｍピッチで４０μｍ幅のフォト
マスクを用いて露光し、１１０℃、９０秒ベークを行っ
た。ＭＮＤ−Ｗ（東京応化社製）を用いて現像を行い、
純水で洗浄し、ＩＴＯ間にＩＴＯと平行に１３０μｍピ
ッチで４０μｍ幅の隔壁を作製した。ここで、ＳＥＭで
隔壁の断面形状を観察すると隔壁は図１１に示すような
断面形状をしており、隔壁が基板または第１電極と接す
る部分には凹上の裾部は形成されていなかった。次に、
上記と同様の方法で、２３０μｍピッチで４０μｍ幅の
フォトマスクを用いて、ＩＴＯと直交する方向に２３０
μｍピッチで４０μｍ幅の隔壁を作製した。
Ｒ−Ｖ９０（東京応化社製）を用い、スピンコート法に
より回転数３０００ｒｐｍ、２０秒で膜厚１．０μｍの
レジスト膜を形成した。次に、プリベーク９０℃、９０
秒を行い、次に１３０μｍピッチで４０μｍ幅のフォト
マスクを用いて露光し、１１０℃、９０秒ベークを行っ
た。ＭＮＤ−Ｗ（東京応化社製）を用いて現像を行い、
純水で洗浄し、ＩＴＯ間にＩＴＯと平行に１３０μｍピ
ッチで４０μｍ幅の隔壁を作製した。ここで、ＳＥＭで
隔壁の断面形状を観察すると隔壁は図１１に示すような
断面形状をしており、隔壁が基板または第１電極と接す
る部分には凹上の裾部は形成されていなかった。次に、
上記と同様の方法で、２３０μｍピッチで４０μｍ幅の
フォトマスクを用いて、ＩＴＯと直交する方向に２３０
μｍピッチで４０μｍ幅の隔壁を作製した。
【００５０】次に、ＰＥＤＴ／ＰＳＳ水溶液をスピンコ
ート法を用いて、膜厚５０ｎｍの正孔輸送層を形成し
た。次に、市販の凸版印刷機を改造したものを用い、Ｐ
ＤＦをｏ−キシレンとニトロベンゼンの５：５混合溶媒
に溶かし青色発光層形成用塗液とし、Ｐｒｅ−ＰＰＶを
メタノールとエチレングリコールの５：５混合溶媒に溶
かし緑色発光層形成用塗液とし、ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ
をｏ−キシレンとニトロベンゼンの５：５混合溶媒に溶
かし赤色発光層形成用塗液とし、転写基板として図１０
に示すようなパターンをもつＡＰＲ樹脂転写基板を用い
て、各発光層形成用塗液に関してそれぞれの転写を繰り
返すことで青色、緑色、赤色の各１００ｎｍの膜厚の発
光層を形成した。
ート法を用いて、膜厚５０ｎｍの正孔輸送層を形成し
た。次に、市販の凸版印刷機を改造したものを用い、Ｐ
ＤＦをｏ−キシレンとニトロベンゼンの５：５混合溶媒
に溶かし青色発光層形成用塗液とし、Ｐｒｅ−ＰＰＶを
メタノールとエチレングリコールの５：５混合溶媒に溶
かし緑色発光層形成用塗液とし、ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ
をｏ−キシレンとニトロベンゼンの５：５混合溶媒に溶
かし赤色発光層形成用塗液とし、転写基板として図１０
に示すようなパターンをもつＡＰＲ樹脂転写基板を用い
て、各発光層形成用塗液に関してそれぞれの転写を繰り
返すことで青色、緑色、赤色の各１００ｎｍの膜厚の発
光層を形成した。
【００５１】ただし、ここでまずはじめに緑色発光層形
成用塗液を用いて緑色発光層を形成した後、Ａｒ雰囲気
下で１５０℃で６時間、加熱処理を行うことで、前駆体
をポリフェニレンビニレンに変換した。次に、青色発光
層、赤色発光層を形成した後、１×１０-3Ｔｏｒｒの減
圧下で１００℃で１時間加熱乾燥を行った。
成用塗液を用いて緑色発光層を形成した後、Ａｒ雰囲気
下で１５０℃で６時間、加熱処理を行うことで、前駆体
をポリフェニレンビニレンに変換した。次に、青色発光
層、赤色発光層を形成した後、１×１０-3Ｔｏｒｒの減
圧下で１００℃で１時間加熱乾燥を行った。
【００５２】次に、この基板に先ほどのＩＴＯとは直交
する向きに２００μｍ×１００ｎｍ幅の穴の空いたシャ
ドウマスクを固定し、真空蒸着装置に入れ、１×１０-6
Ｔｏｒｒの真空下でＣａを５０ｎｍ、Ａｇを２００ｎｍ
真空蒸着し、第２電極とした。最後に、ＵＶ硬化性樹脂
を用いて封止をした。
する向きに２００μｍ×１００ｎｍ幅の穴の空いたシャ
ドウマスクを固定し、真空蒸着装置に入れ、１×１０-6
Ｔｏｒｒの真空下でＣａを５０ｎｍ、Ａｇを２００ｎｍ
真空蒸着し、第２電極とした。最後に、ＵＶ硬化性樹脂
を用いて封止をした。
【００５３】次に、この有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパル
ス電圧を印加すると、第１電極と第２電極がショートし
ており有機ＬＥＤ素子からの発光は観測されなかった。
ス電圧を印加すると、第１電極と第２電極がショートし
ており有機ＬＥＤ素子からの発光は観測されなかった。
【００５４】（比較例２）比較例１と同様にして作製し
た隔壁つき基板上に、ＮＰＤを抵抗加熱蒸着法により５
０ｎｍの膜厚になるように成膜し、正孔輸送層とした。
次に、赤色転写基板として、ベースフィルムとして０．
１ｍｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートフィルムを用
い、このフィルムにレーザー光を熱に変換する層として
カーボン粒子を混合した熱硬化型エポキシ樹脂を５μｍ
の膜厚にコーティングして室温硬化させた。次に、熱伝
播および剥離層として、ポリαメチルスチレン膜を１μ
ｍの膜厚にコーティングして形成し、次に赤色発光層と
してＡｌｑ3とＤＣＭ２を共蒸着により膜厚が７０ｎｍ
になるように成膜したものを作製した。
た隔壁つき基板上に、ＮＰＤを抵抗加熱蒸着法により５
０ｎｍの膜厚になるように成膜し、正孔輸送層とした。
次に、赤色転写基板として、ベースフィルムとして０．
１ｍｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートフィルムを用
い、このフィルムにレーザー光を熱に変換する層として
カーボン粒子を混合した熱硬化型エポキシ樹脂を５μｍ
の膜厚にコーティングして室温硬化させた。次に、熱伝
播および剥離層として、ポリαメチルスチレン膜を１μ
ｍの膜厚にコーティングして形成し、次に赤色発光層と
してＡｌｑ3とＤＣＭ２を共蒸着により膜厚が７０ｎｍ
になるように成膜したものを作製した。
【００５５】次に、緑色転写基板として、ベースフィル
ムとして０．１ｍｍ膜厚のポリエチレンテレフタレート
フィルムを用い、このフィルムにレーザー光を熱に変換
する層としてカーボン粒子を混合した熱硬化型エポキシ
樹脂を５μｍの膜厚にコーティングして室温硬化させ
た。次に、熱伝播および剥離層として、ポリαメチルス
チレン膜を１μｍの膜厚にコーティングして形成し、次
に緑色発光層としてＡｌｑ3を共蒸着により膜厚が７０
ｎｍになるように成膜したものを作製した。
ムとして０．１ｍｍ膜厚のポリエチレンテレフタレート
フィルムを用い、このフィルムにレーザー光を熱に変換
する層としてカーボン粒子を混合した熱硬化型エポキシ
樹脂を５μｍの膜厚にコーティングして室温硬化させ
た。次に、熱伝播および剥離層として、ポリαメチルス
チレン膜を１μｍの膜厚にコーティングして形成し、次
に緑色発光層としてＡｌｑ3を共蒸着により膜厚が７０
ｎｍになるように成膜したものを作製した。
【００５６】次に、青色転写基板として、ベースフィル
ムとして０．１ｎｍ膜厚のポリエチレンテレフタレート
フィルムを用い、このフィルムにレーザー光を熱に変換
する層としてカーボン粒子を混合した熱硬化型エポキシ
樹脂を５μｍの膜厚にコーティングして室温硬化させ
た。次に、熱伝播および剥離層として、ポリαメチルス
チレン膜を１μｍの膜厚にコーティングして形成し、次
に青色発光層としてＤＰＶＢｉを共蒸着により膜厚が７
０ｎｍになるように成膜したものを作製した。
ムとして０．１ｎｍ膜厚のポリエチレンテレフタレート
フィルムを用い、このフィルムにレーザー光を熱に変換
する層としてカーボン粒子を混合した熱硬化型エポキシ
樹脂を５μｍの膜厚にコーティングして室温硬化させ
た。次に、熱伝播および剥離層として、ポリαメチルス
チレン膜を１μｍの膜厚にコーティングして形成し、次
に青色発光層としてＤＰＶＢｉを共蒸着により膜厚が７
０ｎｍになるように成膜したものを作製した。
【００５７】次に、基板に、赤色転写基板を貼り付け、
１３ＷのＹＡＧレーザーで所望の位置を走査すること
で、赤色転写基板の赤色発光層をｐ−Ｓｉ ＴＦＴを形
成してある基板上にパターン転写を行った。次に、同様
にして緑色発光層、青色発光層をパターニング転写を行
った。
１３ＷのＹＡＧレーザーで所望の位置を走査すること
で、赤色転写基板の赤色発光層をｐ−Ｓｉ ＴＦＴを形
成してある基板上にパターン転写を行った。次に、同様
にして緑色発光層、青色発光層をパターニング転写を行
った。
【００５８】次に、真空蒸着装置にこの基板を挿入し、
１×１０-6Ｔｏｒｒの真空下でＬｉＦを０．９ｎｍの膜
厚になるように真空蒸着し、次に２００μｍ×１００ｍ
ｍ幅の穴の空いたシャドウマスクをこの基板に固定し、
真空蒸着装置に入れ、１×１０-6Ｔｏｒｒの真空下でＡ
ｌを２００ｎｍ真空蒸着し、第２電極とした。最後に、
ＵＶ硬化性樹脂を用いて封止をした。
１×１０-6Ｔｏｒｒの真空下でＬｉＦを０．９ｎｍの膜
厚になるように真空蒸着し、次に２００μｍ×１００ｍ
ｍ幅の穴の空いたシャドウマスクをこの基板に固定し、
真空蒸着装置に入れ、１×１０-6Ｔｏｒｒの真空下でＡ
ｌを２００ｎｍ真空蒸着し、第２電極とした。最後に、
ＵＶ硬化性樹脂を用いて封止をした。
【００５９】次に、この有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパル
ス電圧を印加すると、第１電極と第２電極がショートし
ており有機ＬＥＤ素子からの発光は観測されなかった。
ス電圧を印加すると、第１電極と第２電極がショートし
ており有機ＬＥＤ素子からの発光は観測されなかった。
【００６０】（実施例１）隔壁材料としてＯＭＲ−８３
（東京応化社製）を用いて、スピンコート法により回転
数３０００ｒｐｍ、２０秒で膜厚１．５μｍのレジスト
膜を形成した。次にプリベーク８０℃、３０分を行い。
フォトマスクを用いて２０秒間露光し、ＯＭＲ現像液
（東京応化社製）を用いて現像を行い、ＯＭＲリンスで
洗浄した後、１５０℃で２０分、ポストベークを行い、
ＩＴＯ間に隔壁を形成したこと以外は、比較例１と同様
にして有機ＬＥＤ素子を作製した。ここで、ＳＥＭで隔
壁の断面形状を観察すると隔壁は図１（ａ）に示すよう
な台形の断面形状をしていた。また、隔壁の円弧面また
は楕円弧面の基板または第１電極と接する部分における
接線と、基板または第１電極とのなす角θ1（図３参
照）は５５°であった。また、前記隔壁の斜辺と基板ま
たは第１電極とのなす角θ2（図４参照）は６０°であ
った。
（東京応化社製）を用いて、スピンコート法により回転
数３０００ｒｐｍ、２０秒で膜厚１．５μｍのレジスト
膜を形成した。次にプリベーク８０℃、３０分を行い。
フォトマスクを用いて２０秒間露光し、ＯＭＲ現像液
（東京応化社製）を用いて現像を行い、ＯＭＲリンスで
洗浄した後、１５０℃で２０分、ポストベークを行い、
ＩＴＯ間に隔壁を形成したこと以外は、比較例１と同様
にして有機ＬＥＤ素子を作製した。ここで、ＳＥＭで隔
壁の断面形状を観察すると隔壁は図１（ａ）に示すよう
な台形の断面形状をしていた。また、隔壁の円弧面また
は楕円弧面の基板または第１電極と接する部分における
接線と、基板または第１電極とのなす角θ1（図３参
照）は５５°であった。また、前記隔壁の斜辺と基板ま
たは第１電極とのなす角θ2（図４参照）は６０°であ
った。
【００６１】次に、この有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパル
ス電圧を印加したところ、画素全体から（隔壁の端ま
で）均一な発光が得られた。また、第１電極と第２電極
間でショートは生じなかった。
ス電圧を印加したところ、画素全体から（隔壁の端ま
で）均一な発光が得られた。また、第１電極と第２電極
間でショートは生じなかった。
【００６２】（実施例２）比較例２と同様にして有機Ｌ
ＥＤ媒体および第２電極を形成したこと以外は、実施例
１と同様にして、有機ＬＥＤ素子を作製した。次に、こ
の有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパルス電圧を印加したとこ
ろ、画素全体から（隔壁の端まで）均一な発光が得られ
た。また、第１電極と第２電極間でショートは生じなか
った。
ＥＤ媒体および第２電極を形成したこと以外は、実施例
１と同様にして、有機ＬＥＤ素子を作製した。次に、こ
の有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパルス電圧を印加したとこ
ろ、画素全体から（隔壁の端まで）均一な発光が得られ
た。また、第１電極と第２電極間でショートは生じなか
った。
【００６３】（実施例３）露光時間を６０秒としたこと
以外は実施例１と同様にして、有機ＬＥＤ素子を作製し
た。ここで、ＳＥＭで隔壁の断面形状を観察すると隔壁
は図１（ｂ）に示すような三角形の断面形状をしてい
た。また、隔壁の円弧面または楕円弧面の基板または第
１電極と接する部分における接線と、基板または第１電
極とのなす角θ1（図３参照）は４５°であった、ま
た、前記隔壁の斜辺と基板または第１電極とのなす角θ
2（図４参照）は６０°であった。
以外は実施例１と同様にして、有機ＬＥＤ素子を作製し
た。ここで、ＳＥＭで隔壁の断面形状を観察すると隔壁
は図１（ｂ）に示すような三角形の断面形状をしてい
た。また、隔壁の円弧面または楕円弧面の基板または第
１電極と接する部分における接線と、基板または第１電
極とのなす角θ1（図３参照）は４５°であった、ま
た、前記隔壁の斜辺と基板または第１電極とのなす角θ
2（図４参照）は６０°であった。
【００６４】次に、この有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパル
ス電圧を印加したところ、画素全体から（隔壁の端ま
で）均一な発光が得られた。また、第１電極と第２電極
間でショートは生じなかった。
ス電圧を印加したところ、画素全体から（隔壁の端ま
で）均一な発光が得られた。また、第１電極と第２電極
間でショートは生じなかった。
【００６５】（実施例４）比較例２と同様にして有機Ｌ
ＥＤ媒体および第２電極を形成したこと以外は、実施例
３と同様にして、有機ＬＥＤ素子を作製した。次に、こ
の有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパルス電圧を印加したとこ
ろ、画素全体から（隔壁の端まで）均一な発光が得られ
た。また、第１電極と第２電極間でショートは生じなか
った。
ＥＤ媒体および第２電極を形成したこと以外は、実施例
３と同様にして、有機ＬＥＤ素子を作製した。次に、こ
の有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパルス電圧を印加したとこ
ろ、画素全体から（隔壁の端まで）均一な発光が得られ
た。また、第１電極と第２電極間でショートは生じなか
った。
【００６６】（実施例５）ガラス基板上に、ＴＦＴを形
成して、第１電極として、長辺２００μｍ、短辺１００
μｍとなるようにＩＴＯ透明電極を形成した。次に、こ
の基板上に隔壁材料としてＯＦＰＲ−８００（東京応化
社製）を用い、スピンコート法により回転数３０００ｒ
ｐｍ、２０秒で膜厚１．５μｍのレジスト膜を形成し
た。次に、プリベーク１１０℃、９０秒を行い。フォト
マスクを用いて露光し、ＮＭＤ−Ｗ（東京応化社製）を
用いて現像を行い、純水で洗浄した後、１５０℃で５
分、ポストベークを行い、ＩＴＯ間に隔壁を形成した。
ここで、ＳＥＭで隔壁の断面形状を観察すると隔壁は図
１（ｃ）に示すような円弧の断面形状をしていた。ま
た、隔壁の円弧面または楕円弧面の基板または第１電極
と接する部分における接線と、基板または第１電極との
なす角θ1（図３参照）は１５°であった。
成して、第１電極として、長辺２００μｍ、短辺１００
μｍとなるようにＩＴＯ透明電極を形成した。次に、こ
の基板上に隔壁材料としてＯＦＰＲ−８００（東京応化
社製）を用い、スピンコート法により回転数３０００ｒ
ｐｍ、２０秒で膜厚１．５μｍのレジスト膜を形成し
た。次に、プリベーク１１０℃、９０秒を行い。フォト
マスクを用いて露光し、ＮＭＤ−Ｗ（東京応化社製）を
用いて現像を行い、純水で洗浄した後、１５０℃で５
分、ポストベークを行い、ＩＴＯ間に隔壁を形成した。
ここで、ＳＥＭで隔壁の断面形状を観察すると隔壁は図
１（ｃ）に示すような円弧の断面形状をしていた。ま
た、隔壁の円弧面または楕円弧面の基板または第１電極
と接する部分における接線と、基板または第１電極との
なす角θ1（図３参照）は１５°であった。
【００６７】次に、比較例１と同様にして、正孔輸送層
正孔輸送層、青色、緑色、赤色発光層を形成した。次
に、この基板を、真空蒸着装置に入れ、１×１０-6Ｔｏ
ｒｒの真空下でＣａを５０ｎｍ、Ａｇを２００ｎｍ真空
蒸着し、第２電極とした。最後に、ＵＶ硬化性樹脂を用
いて封止をした。
正孔輸送層、青色、緑色、赤色発光層を形成した。次
に、この基板を、真空蒸着装置に入れ、１×１０-6Ｔｏ
ｒｒの真空下でＣａを５０ｎｍ、Ａｇを２００ｎｍ真空
蒸着し、第２電極とした。最後に、ＵＶ硬化性樹脂を用
いて封止をした。
【００６８】次に、この有機ＬＥＤ素子に５Ｖの電圧を
印加したところ、画素全体から（隔壁の端まで）均一な
発光が得られた。また、第１電極と第２電極間でショー
トは生じなかった。
印加したところ、画素全体から（隔壁の端まで）均一な
発光が得られた。また、第１電極と第２電極間でショー
トは生じなかった。
【００６９】（実施例６）比較例２と同様にして有機Ｌ
ＥＤ媒体および第２電極を形成したこと以外は、実施例
５と同様にして、有機ＬＥＤ素子を作製した。次に、こ
の有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパルス電圧を印加したとこ
ろ、画素全体から（隔壁の端まで）均一な発光が得られ
た。また、第１電極と第２電極間でショートは生じなか
った。
ＥＤ媒体および第２電極を形成したこと以外は、実施例
５と同様にして、有機ＬＥＤ素子を作製した。次に、こ
の有機ＬＥＤ素子に３０Ｖのパルス電圧を印加したとこ
ろ、画素全体から（隔壁の端まで）均一な発光が得られ
た。また、第１電極と第２電極間でショートは生じなか
った。
【００７０】
【発明の効果】本発明によれば、基板または第１電極上
の隔壁近傍に塗液が塗布されない部分、つまり膜が形成
されない部分を大幅に減少させることができる。また、
本発明によれば、基板または第１電極上の隔壁近傍に有
機層が転写されない部分、つまり膜が形成されない部分
を大幅に減少させることができる。したがって、印刷法
もしくは転写法により有機ＬＥＤ媒体の層を形成した場
合に起こる電極どうしの短絡がなく、安価で表示品位の
優れたフルカラー表示可能な有機ＬＥＤディスプレイを
提供することできる。
の隔壁近傍に塗液が塗布されない部分、つまり膜が形成
されない部分を大幅に減少させることができる。また、
本発明によれば、基板または第１電極上の隔壁近傍に有
機層が転写されない部分、つまり膜が形成されない部分
を大幅に減少させることができる。したがって、印刷法
もしくは転写法により有機ＬＥＤ媒体の層を形成した場
合に起こる電極どうしの短絡がなく、安価で表示品位の
優れたフルカラー表示可能な有機ＬＥＤディスプレイを
提供することできる。
【図１】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの基板、第１
電極および隔壁の概略部分斜視図とその部分拡大断面図
である。
電極および隔壁の概略部分斜視図とその部分拡大断面図
である。
【図２】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの基板、第１
電極、隔壁、有機ＬＥＤ層および第２電極の概略部分断
面図とその部分拡大断面図である。
電極、隔壁、有機ＬＥＤ層および第２電極の概略部分断
面図とその部分拡大断面図である。
【図３】本発明の隔壁の断面構造のうち、円もしくは楕
円の一部の接線と基板もしくは電極とのなす角度を示す
図である。
円の一部の接線と基板もしくは電極とのなす角度を示す
図である。
【図４】本発明の隔壁の斜辺と基板もしくは電極とのな
す角度を示す図である。
す角度を示す図である。
【図５】本発明の有機ＬＥＤ素子の概略断面図である。
【図６】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの発光層の配
置の概略部分平面図である。
置の概略部分平面図である。
【図７】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの隔壁の配置
の概略部分平面図である。
の概略部分平面図である。
【図８】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの電極の配置
の概略部分平面図である。
の概略部分平面図である。
【図９】本発明の有機ＬＥＤディスプレイの印刷装置の
概略部分断面図である。
概略部分断面図である。
【図１０】本発明の実施例のＡＰＲ樹脂のパターンの概
略部分平面図である。
略部分平面図である。
【図１１】従来の有機ＬＥＤディスプレイの基板、第１
電極および隔壁の概略部分斜視図とその部分拡大断面図
である。
電極および隔壁の概略部分斜視図とその部分拡大断面図
である。
【図１２】従来の有機ＬＥＤディスプレイの基板、第１
電極、隔壁、有機ＬＥＤ層および第２電極の概略部分断
面図とその部分拡大断面図である。
電極、隔壁、有機ＬＥＤ層および第２電極の概略部分断
面図とその部分拡大断面図である。
【図１３】本発明の転写法による製造工程を示す概略断
面図
面図
１ 基板 ２ 第１電極 ３ 有機ＬＥＤ媒体 ４ 第２電極 ５ 隔壁 ６ 封止膜または封止基板 ７ 偏向板 ８ 赤色（Ｒ）発光画素 ９ 緑色（Ｇ）発光画素 １０ 青色（Ｂ）発光画素 １１ 薄膜トランジスタ（ＴＦＴ） １２ ソースバスライン １３ ゲートバスライン １４ 塗液投入口 １５ ブレード １６ 転写基板 １７ 転写基板を固定するロール部 １８ 塗液 １９ ステージ ２０ 塗液を一時保持するロール部 ２１ ロール部 ２２ 第１電極と第２電極が接する部分 ２３ 熱伝播層 ２４ 光−熱変換層 ２５ フィルム ２６ レーザー θ1 円弧面または楕円弧面の基板または第１電極と接す
る部分における接線と、基板または第１電極とのなす角 θ2 隔壁の斜辺と基板または第１電極とのなす角
る部分における接線と、基板または第１電極とのなす角 θ2 隔壁の斜辺と基板または第１電極とのなす角
Claims (8)
- 【請求項１】 基板上に第１電極、有機ＬＥＤ媒体およ
び第２電極が順次形成され、基板上または第１電極上に
テーパー状の隔壁が形成された有機ＬＥＤ素子であっ
て、隔壁が基板または第１電極の近傍に裾部を有し、裾
部の表面が凹面であることを特徴とする有機ＬＥＤ素
子。 - 【請求項２】 凹面が円弧面または楕円弧面からなり、
その円弧面または楕円弧面の基板または第１電極と接す
る部分における接線と、基板または第１電極とのなす角
が６０°以下である請求項１に記載の有機ＬＥＤ素子。 - 【請求項３】 隔壁の全体の断面形状が、基板側が長辺
となる台形、三角形または円弧の一部である請求項１に
記載の有機ＬＥＤ素子。 - 【請求項４】 隔壁の全体の断面形状が、基板側が長辺
となる台形または三角形であり、該隔壁の斜辺と基板ま
たは第１電極とのなす角が６０°以下である請求項３に
記載の有機ＬＥＤ素子。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１つに記載の有
機ＬＥＤ素子の製造方法であって、基板上または第１電
極上に隔壁材料層を形成し、フォトリソグラフィ法によ
りレジストマスクを形成し、次いでドライエッチング法
またはウエットエッチング法により隔壁材料層を腐刻し
て隔壁を形成することを特徴とする有機ＬＥＤ素子の製
造方法。 - 【請求項６】 有機ＬＥＤ媒体の少なくとも１層を、有
機ＬＥＤ媒体形成用塗液を用いた印刷法により形成する
工程を含む請求項５に記載の有機ＬＥＤ素子の製造方
法。 - 【請求項７】 印刷法が凸版印刷法であり、印刷法によ
り形成される有機ＬＥＤ媒体の膜厚が１μｍ以下である
請求項６に記載の有機ＬＥＤ素子の製造方法。 - 【請求項８】 有機ＬＥＤ媒体の少なくとも１層を、転
写法により形成する工程を含む請求項５記載の有機ＬＥ
Ｄ素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000170790A JP2001351787A (ja) | 2000-06-07 | 2000-06-07 | 有機ｌｅｄ素子とその製造方法および有機ｌｅｄディスプレイ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000170790A JP2001351787A (ja) | 2000-06-07 | 2000-06-07 | 有機ｌｅｄ素子とその製造方法および有機ｌｅｄディスプレイ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001351787A true JP2001351787A (ja) | 2001-12-21 |
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ID=18673447
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000170790A Pending JP2001351787A (ja) | 2000-06-07 | 2000-06-07 | 有機ｌｅｄ素子とその製造方法および有機ｌｅｄディスプレイ |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2001351787A (ja) |
Cited By (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2003168560A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | 有機エレクトロルミネセンスディスプレーの製造方法およびこの種のディスプレー |
| JP2003217855A (ja) * | 2002-01-28 | 2003-07-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 |
| JP2003317971A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
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