JP4658966B2 - マイクロメカニカル素子の収容方法およびマイクロメカニカル素子の形成方法 - Google Patents
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Description
前記マイクロメカニカル素子の少なくとも一部の上に第1封入層を設ける工程と、
前記第1封入層の上に第2封入層を形成し、前記マイクロメカニカル素子を包囲する封入壁を設けて前記基層と前記第1封入層および第2封入層との間に伸張する側方シーリング壁を設ける工程と、
前記一つ以上の金属化層を前記第1封入層の上に堆積させる工程と、
前記基層と前記マイクロメカニカル素子上に形成された前記一つ以上の金属化層との間に電気的接続部を設ける工程と、を備える
ことを特徴とする。
マイクロメカニカル素子の少なくとも一部上に一つ以上の封入層を堆積する工程、
一つ以上の封入層を平坦化する工程、
一つ以上の封入層に一つ以上の開口部を形成する工程、
マイクロメカニカル素子と接触する一つ以上の犠牲層(Sacrifice Layer:捨て層)を設ける工程、及び
一つ以上の犠牲層を除去してマイクロメカニカル素子をキャビティ内で露出させる工程
が含まれる。
平坦化工程が、一つ以上の犠牲層により近接して一つ以上の封入層を後退させ、そして化学機械的研磨法(CMP)を用いて実施されるのが有用である。
一つ以上の犠牲層は同じ材料の異なった形態から構成される又は異なった材料から構成されるのが望ましい。
一つ以上の犠牲層は、シリコン窒化物、シリコン酸化物又はアモルファスシリコンのようなエッチング可能なシリコンを基材とする材料から構成されるのが最も望ましい。これらの材料はフッ素ベースの化合物を用いてエッチングできる。
一つ以上の封入層が、シリコン酸化物やシリコン窒化物のようなシリコンを基材とする材料で形成されることが有用である。
一つ以上の犠牲層はプラズマエンハンスド化学的蒸着法 (PECVD)を用いて堆積されるのが望ましい。
一つ以上の犠牲層を除去する工程には、一つ以上の封入層における一つ以上の開口部を通してエッチング剤を導入する工程を含むことが望ましい。
一つ以上の犠牲層は、酸素プラズマを用いてエッチングできるポリイミドのようなエッチング可能なポリマーを基材とする材料から構成されるのが望ましい。
壁は一つ以上の積層プラグで形成される。さらに、プラグは基層とマイクロメカニカル素子の下側の最上方金属化層との間に電気接続部も形成できるのが望ましい。
壁部が誘電体層と封入層を通じて進出するのが有用である。
パターニングされ得る基層を設ける工程と、
前記基層の少なくとも一部の上にエッチング可能な材料から成る第1犠牲層を設ける工程と、
前記第1犠牲層をパターニングして前記マイクロメカニカル素子の形状の少なくとも一部分を確定する工程と、
前記マイクロメカニカル素子材料の少なくとも一つの層を前記第1犠牲層の少なくとも一部の上に設ける工程と、
前記マイクロメカニカル素子をパターニングして前記素子の少なくとも一部分を形成する工程と、
前記マイクロメカニカル素子上にエッチング可能な材料からなる第2犠牲層を形成する工程と、
前記第2犠牲層の少なくとも一部の上に第1封入層を形成する工程と、
前記第1封入層の上に第2封入層を堆積させ前記マイクロメカニカル素子を包囲する封入壁を設けて前記基層と前記第1封入層および第2封入層との間に延びる側方シーリング壁を形成する工程と、
前記第1封入層上に前記一つ以上の金属化層を堆積させる工程と、
前記基層と前記一つ以上の金属化層との間を電気的に接続する工程と、
前記第1及び第2犠牲層の少なくとも一部を除去して前記マイクロメカニカル素子の少なくとも一部を解放する工程と、
を備えることを特徴とする。
図1には、当業者に知られている、標準のCMOS出発基層に実施した本発明のデバイスを示し、その内部には、マイクロメカニカル素子が形成されている。当該デバイスは、CMOSトランジスタレベル(図示していない)に堆積される基層1、誘電体3、金属相互接続体5、7、9、11、及び基層1の下側のCMOS基板層とその上に一体に形成したマイクロメカニカル素子28と上方金属相互接続層に対する接点との間を電気的に接触させる13、15、17、19に形成したビアプラグを備えている。
2、2’ 導電性層
3、3’ 誘電体層(誘電体,犠牲層)
4、4’ 構造体層
5、7、9、11 金属相互接続体(金属化層)
10、28 マイクロメカニカル素子
13、15、17、19、29、45 ビアプラグ(電気的接続部)
21、23 TiN層
25 第1犠牲層
26、32 ビア
30 第2犠牲層
33 第1封入層
40 金属化層
44 壁(封入壁)
46 開口部(あるいは解放開口部)
48 バリヤー
50 キャビティ
60 第2封入層
100 デバイス
Claims (24)
- 基層と一つ以上の金属化層との間に形成したマイクロメカニカル素子の収容方法であって、
前記マイクロメカニカル素子の少なくとも一部の上に第1封入層を設ける工程と、
前記第1封入層の上に第2封入層を形成し、前記マイクロメカニカル素子を包囲する封入壁を設けて前記基層と前記第1封入層および第2封入層との間に伸張する側方シーリング壁を設ける工程と、
前記一つ以上の金属化層を前記第1封入層の上に堆積させる工程と、
前記基層と前記マイクロメカニカル素子上に形成された前記一つ以上の金属化層との間に電気的接続部を設ける工程と、
を備える
ことを特徴とするマイクロメカニカル素子の収容方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記マイクロメカニカル素子は前記封入壁によって少なくとも部分的に境界付けられるキャビティ内に配され、
前記封入壁はタングステンが充填されるビアを有する
ことを特徴とする方法。 - 請求項1または請求項2に記載の方法において、
前記封入壁はTiNによりライニングされタングステンが充填されるビアを有する
ことを特徴とする方法。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の方法において、
前記封入壁は前記基層と前記一つ以上の金属化層との間を電気的に接続する
ことを特徴とする方法。 - 請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の方法において、
前記封入壁は前記基層と前記第1及び第2封入層とを介して延びる
ことを特徴とする方法。 - 請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の方法において、
前記封入壁が一つ以上の積層プラグで形成される
ことを特徴とする方法。 - 請求項6に記載の方法において、
前記一つ以上のプラグが前記基層と前記一つ以上の金属化層との間に電気接続部を形成する
ことを特徴とする方法。 - 請求項6または請求項7に記載の方法において、
前記一つ以上の積層プラグはTiNライナーとタングステン充填物とを含む
ことを特徴とする方法。 - 請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の方法において、
前記第1封入層とその下に配される犠牲層とを介してエッチングし、前記第1封入層と前記犠牲層とを通じる開口部を形成する工程と、
前記開口部を介してエッチング剤を導入する工程と、
前記犠牲層を除去する工程と、を有する
ことを特徴とする方法。 - マイクロメカニカル素子を基層と一つ以上の金属化層の間に形成するマイクロメカニカル素子の形成方法であって
パターニングされ得る基層を設ける工程と、
前記基層の少なくとも一部の上にエッチング可能な材料から成る第1犠牲層を設ける工程と、
前記第1犠牲層をパターニングして前記マイクロメカニカル素子の形状の少なくとも一部分を確定する工程と、
前記マイクロメカニカル素子材料の少なくとも一つの層を前記第1犠牲層の少なくとも一部の上に設ける工程と、
前記マイクロメカニカル素子をパターニングして前記素子の少なくとも一部分を形成する工程と、
前記マイクロメカニカル素子上にエッチング可能な材料からなる第2犠牲層を形成する工程と、
前記第2犠牲層の少なくとも一部の上に第1封入層を形成する工程と、
前記第1封入層の上に第2封入層を堆積させ前記マイクロメカニカル素子を包囲する封入壁を設けて前記基層と前記第1封入層および第2封入層との間に延びる側方シーリング壁を形成する工程と、
前記第1封入層上に前記一つ以上の金属化層を堆積させる工程と、
前記基層と前記一つ以上の金属化層との間を電気的に接続する工程と、
前記第1及び第2犠牲層の少なくとも一部を除去して前記マイクロメカニカル素子の少なくとも一部を解放する工程と、
を備える
ことを特徴とするマイクロメカニカル素子の形成方法。 - 請求項10に記載の方法において、
前記第1及び第2犠牲層はエッチング可能なシリコン系材料を含む
ことを特徴とする方法。 - 請求項10に記載の方法において、
前記第1及び第2犠牲層はエッチング可能なポリマー系材料を含む
ことを特徴とする方法。 - 請求項10に記載の方法において、
前記第1または第2犠牲層はエッチング可能なシリコン系材料を含む
ことを特徴とする方法。 - 請求項10に記載の方法において、
前記第1または第2犠牲層はエッチング可能なポリマー系材料を含む
ことを特徴とする方法。 - 請求項10ないし請求項14のいずれかに記載の方法において、
さらに前記第1封入層を平坦化する工程を有する
ことを特徴とする方法。 - 請求項15に記載の方法において、
前記平坦化する工程が化学機械的研磨法(CMP)を備える
ことを特徴とする方法。 - 請求項10ないし請求項16のいずれかに記載の方法において、
前記マイクロメカニカル素子は前記封入壁によって少なくとも部分的に境界付けられるキャビティ内に配され、
前記封入壁はタングステンによって充填されるビアを有する
ことを特徴とする方法。 - 請求項10ないし請求項17のいずれかに記載の方法において、
前記封入壁はTiNによりライニングされタングステンが充填されるビアを有する
ことを特徴とする方法。 - 請求項10ないし請求項18のいずれかに記載の方法において、
前記封入壁は前記基層と前記一つ以上の封入層を介して延びる
ことを特徴とする方法。 - 請求項10ないし請求項19のいずれかに記載の方法において、
前記封入壁は前記基層と前記一つ以上の金属化層との間を電気的に接続する
ことを特徴とする方法。 - 請求項10ないし請求項20のいずれかに記載の方法において、
前記封入壁は一つ以上の積層プラグから形成される
ことを特徴とする方法。 - 請求項21に記載の方法において、
前記一つ以上の積層プラグは前記基層と前記一つ以上の金属化層との間に電気的に接続する
ことを特徴とする方法。 - 請求項22に記載の方法において、
前記一つ以上の積層プラグはTiNライナーとタングステン充填物とを含む
ことを特徴とする方法。 - 請求項10ないし請求項23のいずれかに記載の方法において、
前記第1封入層と前記第2封入層とを介してエッチングし、前記第1封入層と前記第2封入層とを介して開口部を形成する工程と、
前記開口部を介してエッチング剤を導入する工程と、
前記第1犠牲層と前記第2犠牲層とを除去する工程と、を有する
ことを特徴とする方法。
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US7553684B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-06-30 | Idc, Llc | Method of fabricating interferometric devices using lift-off processing techniques |
JP4544140B2 (ja) * | 2005-02-16 | 2010-09-15 | セイコーエプソン株式会社 | Mems素子 |
JP4724488B2 (ja) | 2005-02-25 | 2011-07-13 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 集積化マイクロエレクトロメカニカルシステム |
GB0516148D0 (en) * | 2005-08-05 | 2005-09-14 | Cavendish Kinetics Ltd | Method of integrating an element |
US7541209B2 (en) * | 2005-10-14 | 2009-06-02 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method of forming a device package having edge interconnect pad |
GB0522471D0 (en) * | 2005-11-03 | 2005-12-14 | Cavendish Kinetics Ltd | Memory element fabricated using atomic layer deposition |
GB0523713D0 (en) * | 2005-11-22 | 2005-12-28 | Cavendish Kinetics Ltd | Enclosure method |
JP2007222956A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Seiko Epson Corp | Memsデバイスおよびmemsデバイスの製造方法 |
JP2008114354A (ja) | 2006-11-08 | 2008-05-22 | Seiko Epson Corp | 電子装置及びその製造方法 |
US7706042B2 (en) * | 2006-12-20 | 2010-04-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS device and interconnects for same |
WO2008077821A2 (de) * | 2006-12-21 | 2008-07-03 | Continental Teves Ag & Co. Ohg | Verkapselungsmodul, verfahren zu dessen herstellung und verwendung |
US7736929B1 (en) | 2007-03-09 | 2010-06-15 | Silicon Clocks, Inc. | Thin film microshells incorporating a getter layer |
US7923790B1 (en) | 2007-03-09 | 2011-04-12 | Silicon Laboratories Inc. | Planar microshells for vacuum encapsulated devices and damascene method of manufacture |
US7659150B1 (en) | 2007-03-09 | 2010-02-09 | Silicon Clocks, Inc. | Microshells for multi-level vacuum cavities |
US7595209B1 (en) | 2007-03-09 | 2009-09-29 | Silicon Clocks, Inc. | Low stress thin film microshells |
US9019756B2 (en) * | 2008-02-14 | 2015-04-28 | Cavendish Kinetics, Ltd | Architecture for device having cantilever electrode |
US7989262B2 (en) | 2008-02-22 | 2011-08-02 | Cavendish Kinetics, Ltd. | Method of sealing a cavity |
US7993950B2 (en) | 2008-04-30 | 2011-08-09 | Cavendish Kinetics, Ltd. | System and method of encapsulation |
US8349635B1 (en) | 2008-05-20 | 2013-01-08 | Silicon Laboratories Inc. | Encapsulated MEMS device and method to form the same |
JP5374077B2 (ja) * | 2008-06-16 | 2013-12-25 | ローム株式会社 | Memsセンサ |
US8063454B2 (en) * | 2008-08-13 | 2011-11-22 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor structures including a movable switching element and systems including same |
JP2010098518A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Rohm Co Ltd | Memsセンサの製造方法およびmemsセンサ |
JP5677971B2 (ja) * | 2008-11-07 | 2015-02-25 | キャベンディッシュ・キネティックス・インコーポレイテッドCavendish Kinetics, Inc. | 相対的に小型の複数のmemsデバイスを用いて相対的に大型のmemsデバイスを置き換える方法 |
US8957485B2 (en) * | 2009-01-21 | 2015-02-17 | Cavendish Kinetics, Ltd. | Fabrication of MEMS based cantilever switches by employing a split layer cantilever deposition scheme |
US8877648B2 (en) * | 2009-03-26 | 2014-11-04 | Semprius, Inc. | Methods of forming printable integrated circuit devices by selective etching to suspend the devices from a handling substrate and devices formed thereby |
US8247253B2 (en) | 2009-08-11 | 2012-08-21 | Pixart Imaging Inc. | MEMS package structure and method for fabricating the same |
US8158200B2 (en) * | 2009-08-18 | 2012-04-17 | University Of North Texas | Methods of forming graphene/(multilayer) boron nitride for electronic device applications |
CN102001613B (zh) * | 2009-09-02 | 2014-10-22 | 原相科技股份有限公司 | 微电子装置及制造方法、微机电封装结构及封装方法 |
US8030112B2 (en) * | 2010-01-22 | 2011-10-04 | Solid State System Co., Ltd. | Method for fabricating MEMS device |
WO2011109231A2 (en) * | 2010-03-01 | 2011-09-09 | Cavendish Kinetics, Inc. | Cmp process flow for mems |
US8530985B2 (en) * | 2010-03-18 | 2013-09-10 | Chia-Ming Cheng | Chip package and method for forming the same |
EP2619780B1 (en) | 2010-09-21 | 2015-12-16 | Cavendish Kinetics Inc. | Pull up electrode and waffle type microstructure |
JP2012096316A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-24 | Seiko Epson Corp | 電子装置および電子装置の製造方法 |
US8877536B1 (en) * | 2011-03-30 | 2014-11-04 | Silicon Laboratories Inc. | Technique for forming a MEMS device using island structures |
US8852984B1 (en) | 2011-03-30 | 2014-10-07 | Silicon Laboratories | Technique for forming a MEMS device |
US9455353B2 (en) | 2012-07-31 | 2016-09-27 | Robert Bosch Gmbh | Substrate with multiple encapsulated devices |
JP2014086447A (ja) * | 2012-10-19 | 2014-05-12 | Seiko Epson Corp | 電子装置及びその製造方法 |
US20140147955A1 (en) * | 2012-11-29 | 2014-05-29 | Agency For Science, Technology And Research | Method of encapsulating a micro-electromechanical (mems) device |
US9018715B2 (en) | 2012-11-30 | 2015-04-28 | Silicon Laboratories Inc. | Gas-diffusion barriers for MEMS encapsulation |
US20150048514A1 (en) * | 2013-08-14 | 2015-02-19 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Stacked via structures and methods of fabrication |
US9466554B2 (en) * | 2014-02-13 | 2016-10-11 | Qualcomm Incorporated | Integrated device comprising via with side barrier layer traversing encapsulation layer |
US9637371B2 (en) | 2014-07-25 | 2017-05-02 | Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation | Membrane transducer structures and methods of manufacturing same using thin-film encapsulation |
CN107709227A (zh) * | 2015-04-21 | 2018-02-16 | 加泰罗尼亚理工大学 | 包括具有通过使用修改的通孔改善质量和可靠性的多层微机械结构的集成电路及其获得方法 |
CN107445135B (zh) * | 2016-05-31 | 2020-07-31 | 上海丽恒光微电子科技有限公司 | 半导体器件及其封装方法 |
DE102017218883A1 (de) * | 2017-10-23 | 2019-04-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Mikroelektromechanisches Bauteil sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung |
US10793422B2 (en) | 2018-12-17 | 2020-10-06 | Vanguard International Semiconductor Singapore Pte. Ltd. | Microelectromechanical systems packages and methods for packaging a microelectromechanical systems device |
US11884536B2 (en) * | 2020-10-23 | 2024-01-30 | AAC Technologies Pte. Ltd. | Electrical interconnection structure, electronic apparatus and manufacturing methods for the same |
CN116199183B (zh) * | 2023-04-28 | 2023-07-14 | 润芯感知科技(南昌)有限公司 | 一种半导体器件及其制造方法 |
Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63198378A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-17 | Nissan Motor Co Ltd | 振動センサの製造方法 |
JPH05297413A (ja) * | 1991-12-19 | 1993-11-12 | Sony Corp | 液晶表示装置 |
JPH09148467A (ja) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Murata Mfg Co Ltd | 動作素子の真空封止の構造およびその製造方法 |
JPH09257618A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-10-03 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 静電容量型圧力センサおよびその製造方法 |
JPH1070287A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-10 | Yokogawa Electric Corp | 振動式トランスデューサとその製造方法 |
JPH10111195A (ja) * | 1996-10-09 | 1998-04-28 | Yokogawa Electric Corp | 振動式トランスデューサとその製造方法 |
JPH10281862A (ja) * | 1997-04-08 | 1998-10-23 | Yokogawa Electric Corp | 振動式赤外線センサとその製造方法 |
JPH11177067A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Sony Corp | メモリ素子およびメモリアレイ |
JP2000186931A (ja) * | 1998-12-21 | 2000-07-04 | Murata Mfg Co Ltd | 小型電子部品及びその製造方法並びに該小型電子部品に用いるビアホールの成形方法 |
JP2001133703A (ja) * | 1999-11-04 | 2001-05-18 | Seiko Epson Corp | 半導体基板上に構造物を有する装置の製造方法および装置 |
JP2002009078A (ja) * | 2000-05-15 | 2002-01-11 | Asm Microchemistry Oy | 交互層蒸着前の保護層 |
JP2002280470A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-27 | Aisin Seiki Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003035874A (ja) * | 2001-07-23 | 2003-02-07 | Nikon Corp | 薄膜スライド接続機構及びその製造方法並びにこれを用いたミラーデバイス及び光スイッチ |
JP2003506871A (ja) * | 1999-08-02 | 2003-02-18 | ハネウエル・インコーポレーテッド | デュアルウエハー付設法 |
JP2003509847A (ja) * | 1999-09-08 | 2003-03-11 | アライドシグナル インコーポレイテッド | デュアルダマシンプロセスにおける低誘電率エッチストップ層 |
WO2003040436A1 (en) * | 2001-11-08 | 2003-05-15 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method of eliminating voids in w plugs |
JP2003531474A (ja) * | 1999-10-15 | 2003-10-21 | エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド | ダマシン・メタライゼーションのための正角ライニング層 |
JP2005522049A (ja) * | 2002-04-02 | 2005-07-21 | ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド | エアギャップ含有半導体デバイスの製造方法及び得られる半導体デバイス |
Family Cites Families (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307758A (ja) | 1987-06-09 | 1988-12-15 | Nec Corp | 集積回路装置 |
US5504026A (en) * | 1995-04-14 | 1996-04-02 | Analog Devices, Inc. | Methods for planarization and encapsulation of micromechanical devices in semiconductor processes |
US5578976A (en) | 1995-06-22 | 1996-11-26 | Rockwell International Corporation | Micro electromechanical RF switch |
US5696662A (en) | 1995-08-21 | 1997-12-09 | Honeywell Inc. | Electrostatically operated micromechanical capacitor |
US6012336A (en) * | 1995-09-06 | 2000-01-11 | Sandia Corporation | Capacitance pressure sensor |
DE19638666C1 (de) | 1996-01-08 | 1997-11-20 | Siemens Ag | Schmelzsicherung mit einer Schutzschicht in einer integrierten Halbleiterschaltung sowie zugehöriges Herstellungsverfahren |
US5730835A (en) | 1996-01-31 | 1998-03-24 | Micron Technology, Inc. | Facet etch for improved step coverage of integrated circuit contacts |
US5919548A (en) * | 1996-10-11 | 1999-07-06 | Sandia Corporation | Chemical-mechanical polishing of recessed microelectromechanical devices |
US6268661B1 (en) * | 1999-08-31 | 2001-07-31 | Nec Corporation | Semiconductor device and method of its fabrication |
US5980349A (en) | 1997-05-14 | 1999-11-09 | Micron Technology, Inc. | Anodically-bonded elements for flat panel displays |
FR2781499B1 (fr) * | 1998-07-24 | 2000-09-08 | Atochem Elf Sa | Compositions de nettoyage ou de sechage a base de 1,1,1,2,3,4,4,5,5, 5 - decafluoropentane |
US6153839A (en) | 1998-10-22 | 2000-11-28 | Northeastern University | Micromechanical switching devices |
KR20080047629A (ko) | 1998-12-02 | 2008-05-29 | 폼팩터, 인크. | 전기 접촉 구조체의 제조 방법 |
US6174820B1 (en) * | 1999-02-16 | 2001-01-16 | Sandia Corporation | Use of silicon oxynitride as a sacrificial material for microelectromechanical devices |
US6274440B1 (en) | 1999-03-31 | 2001-08-14 | International Business Machines Corporation | Manufacturing of cavity fuses on gate conductor level |
US6633055B2 (en) | 1999-04-30 | 2003-10-14 | International Business Machines Corporation | Electronic fuse structure and method of manufacturing |
US6500694B1 (en) * | 2000-03-22 | 2002-12-31 | Ziptronix, Inc. | Three dimensional device integration method and integrated device |
US6310339B1 (en) | 1999-10-28 | 2001-10-30 | Hrl Laboratories, Llc | Optically controlled MEM switches |
US20010040675A1 (en) | 2000-01-28 | 2001-11-15 | True Randall J. | Method for forming a micromechanical device |
US6439693B1 (en) | 2000-05-04 | 2002-08-27 | Silverbrook Research Pty Ltd. | Thermal bend actuator |
US7153717B2 (en) * | 2000-05-30 | 2006-12-26 | Ic Mechanics Inc. | Encapsulation of MEMS devices using pillar-supported caps |
US7008812B1 (en) | 2000-05-30 | 2006-03-07 | Ic Mechanics, Inc. | Manufacture of MEMS structures in sealed cavity using dry-release MEMS device encapsulation |
WO2002016150A1 (en) | 2000-08-23 | 2002-02-28 | Reflectivity, Inc. | Transition metal dielectric alloy materials for mems |
US6535091B2 (en) | 2000-11-07 | 2003-03-18 | Sarnoff Corporation | Microelectronic mechanical systems (MEMS) switch and method of fabrication |
DE10056716B4 (de) * | 2000-11-15 | 2007-10-18 | Robert Bosch Gmbh | Mikrostrukturbauelement |
US6583047B2 (en) * | 2000-12-26 | 2003-06-24 | Honeywell International, Inc. | Method for eliminating reaction between photoresist and OSG |
DE10104868A1 (de) | 2001-02-03 | 2002-08-22 | Bosch Gmbh Robert | Mikromechanisches Bauelement sowie ein Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelements |
US6566242B1 (en) * | 2001-03-23 | 2003-05-20 | International Business Machines Corporation | Dual damascene copper interconnect to a damascene tungsten wiring level |
US6958123B2 (en) | 2001-06-15 | 2005-10-25 | Reflectivity, Inc | Method for removing a sacrificial material with a compressed fluid |
WO2003028059A1 (en) | 2001-09-21 | 2003-04-03 | Hrl Laboratories, Llc | Mems switches and methods of making same |
US6635506B2 (en) * | 2001-11-07 | 2003-10-21 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating micro-electromechanical switches on CMOS compatible substrates |
EP1717195B1 (en) | 2001-11-09 | 2011-09-14 | WiSpry, Inc. | Trilayered beam MEMS switch and related method |
US7160429B2 (en) | 2002-05-07 | 2007-01-09 | Microfabrica Inc. | Electrochemically fabricated hermetically sealed microstructures and methods of and apparatus for producing such structures |
US7943412B2 (en) * | 2001-12-10 | 2011-05-17 | International Business Machines Corporation | Low temperature Bi-CMOS compatible process for MEMS RF resonators and filters |
FR2835963B1 (fr) | 2002-02-11 | 2006-03-10 | Memscap | Micro-composant du type micro-interrupteur et procede de fabrication d'un tel micro-composant |
US6635509B1 (en) * | 2002-04-12 | 2003-10-21 | Dalsa Semiconductor Inc. | Wafer-level MEMS packaging |
DE10230252B4 (de) * | 2002-07-04 | 2013-10-17 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung integrierter Mikrosysteme |
US7064637B2 (en) | 2002-07-18 | 2006-06-20 | Wispry, Inc. | Recessed electrode for electrostatically actuated structures |
WO2004037711A2 (en) * | 2002-10-23 | 2004-05-06 | Rutgers, The State University Of New Jersey | Processes for hermetically packaging wafer level microscopic structures |
EP1433740A1 (en) | 2002-12-24 | 2004-06-30 | Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw | Method for the closure of openings in a film |
US20040157426A1 (en) * | 2003-02-07 | 2004-08-12 | Luc Ouellet | Fabrication of advanced silicon-based MEMS devices |
EP1450406A1 (en) * | 2003-02-19 | 2004-08-25 | Cavendish Kinetics Limited | Micro fuse |
US20040166603A1 (en) * | 2003-02-25 | 2004-08-26 | Carley L. Richard | Micromachined assembly with a multi-layer cap defining a cavity |
NL1023275C2 (nl) | 2003-04-25 | 2004-10-27 | Cavendish Kinetics Ltd | Werkwijze voor het vervaardigen van een micro-mechanisch element. |
US6917459B2 (en) * | 2003-06-03 | 2005-07-12 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | MEMS device and method of forming MEMS device |
US7060624B2 (en) * | 2003-08-13 | 2006-06-13 | International Business Machines Corporation | Deep filled vias |
US6861277B1 (en) * | 2003-10-02 | 2005-03-01 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method of forming MEMS device |
JP2005183557A (ja) | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Canon Inc | 半導体集積回路とその動作方法、該回路を備えたicカード |
GB0330010D0 (en) | 2003-12-24 | 2004-01-28 | Cavendish Kinetics Ltd | Method for containing a device and a corresponding device |
US7482193B2 (en) * | 2004-12-20 | 2009-01-27 | Honeywell International Inc. | Injection-molded package for MEMS inertial sensor |
US7576426B2 (en) * | 2005-04-01 | 2009-08-18 | Skyworks Solutions, Inc. | Wafer level package including a device wafer integrated with a passive component |
GB0515980D0 (en) | 2005-08-03 | 2005-09-07 | Cavendish Kinetics Ltd | Memory cell for a circuit and method of operation therefor |
GB0516148D0 (en) | 2005-08-05 | 2005-09-14 | Cavendish Kinetics Ltd | Method of integrating an element |
GB0523713D0 (en) | 2005-11-22 | 2005-12-28 | Cavendish Kinetics Ltd | Enclosure method |
GB0523715D0 (en) | 2005-11-22 | 2005-12-28 | Cavendish Kinetics Ltd | Method of minimising contact area |
US20070235501A1 (en) | 2006-03-29 | 2007-10-11 | John Heck | Self-packaging MEMS device |
-
2003
- 2003-12-24 GB GBGB0330010.0A patent/GB0330010D0/en not_active Ceased
-
2004
- 2004-12-06 JP JP2006546296A patent/JP4658966B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-06 CN CN201110053427.4A patent/CN102161470B/zh active Active
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- 2004-12-06 EP EP04805944.8A patent/EP1697255B1/en active Active
- 2004-12-06 WO PCT/GB2004/005122 patent/WO2005061376A1/en not_active Application Discontinuation
-
2006
- 2006-06-26 US US11/474,490 patent/US7615395B2/en not_active Ceased
-
2011
- 2011-07-27 US US13/191,865 patent/USRE44246E1/en active Active
Patent Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63198378A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-17 | Nissan Motor Co Ltd | 振動センサの製造方法 |
JPH05297413A (ja) * | 1991-12-19 | 1993-11-12 | Sony Corp | 液晶表示装置 |
JPH09148467A (ja) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Murata Mfg Co Ltd | 動作素子の真空封止の構造およびその製造方法 |
JPH09257618A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-10-03 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 静電容量型圧力センサおよびその製造方法 |
JPH1070287A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-10 | Yokogawa Electric Corp | 振動式トランスデューサとその製造方法 |
JPH10111195A (ja) * | 1996-10-09 | 1998-04-28 | Yokogawa Electric Corp | 振動式トランスデューサとその製造方法 |
JPH10281862A (ja) * | 1997-04-08 | 1998-10-23 | Yokogawa Electric Corp | 振動式赤外線センサとその製造方法 |
JPH11177067A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Sony Corp | メモリ素子およびメモリアレイ |
JP2000186931A (ja) * | 1998-12-21 | 2000-07-04 | Murata Mfg Co Ltd | 小型電子部品及びその製造方法並びに該小型電子部品に用いるビアホールの成形方法 |
JP2003506871A (ja) * | 1999-08-02 | 2003-02-18 | ハネウエル・インコーポレーテッド | デュアルウエハー付設法 |
JP2003509847A (ja) * | 1999-09-08 | 2003-03-11 | アライドシグナル インコーポレイテッド | デュアルダマシンプロセスにおける低誘電率エッチストップ層 |
JP2003531474A (ja) * | 1999-10-15 | 2003-10-21 | エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド | ダマシン・メタライゼーションのための正角ライニング層 |
JP2001133703A (ja) * | 1999-11-04 | 2001-05-18 | Seiko Epson Corp | 半導体基板上に構造物を有する装置の製造方法および装置 |
JP2002009078A (ja) * | 2000-05-15 | 2002-01-11 | Asm Microchemistry Oy | 交互層蒸着前の保護層 |
JP2002280470A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-27 | Aisin Seiki Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003035874A (ja) * | 2001-07-23 | 2003-02-07 | Nikon Corp | 薄膜スライド接続機構及びその製造方法並びにこれを用いたミラーデバイス及び光スイッチ |
WO2003040436A1 (en) * | 2001-11-08 | 2003-05-15 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method of eliminating voids in w plugs |
JP2005522049A (ja) * | 2002-04-02 | 2005-07-21 | ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド | エアギャップ含有半導体デバイスの製造方法及び得られる半導体デバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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