JP4073186B2 - 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称する)に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の基板処理装置では、特に積極的に省電力化を図っていない関係上、装置において電力を消費する構成が全て同時に動作する可能性を考慮して電気的な設計を行なっている。
【0003】
しかし、比較的消費電力が大きなヒータを複数個備える場合には、複数個のヒータを同時に使用するのを禁止し、排他的に各々のヒータを順次に切り換えながら使用することで消費電力を抑制している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、電力的には余裕がある場合も存在するにも関わらず、排他的な制御を行なうことから、ヒータによる昇温に長時間を要することがある。そのため薬液処理部などのリソースの利用効率が低下するという問題がある。
【0005】
また、このように電力だけでなく、装置では純水、薬液、気体などの単位時間当たりに供給可能な最大量が決まっている消費材を使用する。これらについても、複数箇所にそれらを供給する際には、やはり排他的に供給することで単位時間当たりの消費量を抑制している。したがって、純水、薬液、気体などについても上述した電力同様の問題が生じる。
【0006】
さらに、上記の消費とは反対に、処理液や純水などの排液、窒素ガス等の排気などのように装置から排出される廃材については、単位時間当たりの処理能力が決まっている廃棄物処理装置に送られる。したがって、処理能力を超えることがないように廃材を排出するリソースについては排他的な制御を行なう必要があり、リソースの使用効率が低下する問題もある。
【0007】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、消費材の使用予定を見越して容量リソースを使用することにより、最大消費量を超えないように制御しつつも効率的にリソースを利用することができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びプログラムを提供することを目的とする。
【0008】
もう一つの目的は、廃材の排出予定を見越して容量リソースを使用することにより、最大排出量を超えないように制御しつつも効率的にリソースを利用することができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用することを特徴とするものである。
【0010】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記容量リソースは、リソースが使用されるごとに時間あたりの消費量の合計を求め、この消費量が最大消費量を超える場合には、その原因となったリソースの使用を回避させることを特徴とするものである。
【0011】
請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記消費材は、電力、純水、薬液、気体のうちいずれか一つを含むことを特徴とするものである。
【0012】
請求項4に記載の発明は、基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラムにおいて、実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用するようにコンピュータを制御することを特徴とするものである。
【0013】
請求項5に記載の発明は、基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、各リソースから排出される廃材について、最大排出量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用することを特徴とするものである。
【0014】
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記容量リソースは、リソースが使用されるごとに時間あたりの排出量の合計を求め、この排出量が最大排出量を超える場合には、その原因となったリソースの使用を回避させることを特徴とするものである。
【0015】
請求項7に記載の発明は、請求項5または6に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記廃材は、排液または排気であることを特徴とするものである。
【0016】
請求項8に記載の発明は、基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラムにおいて、実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、各リソースから排出される廃材について、最大排出量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用するようにコンピュータを制御することを特徴とするものである。
【0017】
【作用】
請求項1に記載の発明の作用は次のとおりである。
すなわち、処理前に予め各リソースの使用タイミングを作成するが、その際には複数のリソースの使用により容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、容量リソースの最大消費量を消費材の合計が超えないようにする。
【0018】
なお、本発明におけるリソースとは、例えば、移動時に電力を使用する基板搬送機構、純水や窒素ガスなどとともに電力を使用する純水洗浄処理部、昇温のために電力を使用する温水ユニット、硫酸や過酸化水素水などの薬液と電力を使用する薬液薬液処理部、加熱に電力を使用する加熱処理部などを含む。
【0019】
請求項2に記載の発明によれば、同時に使用される全てのリソースの時間当たりの消費量を求め、これが容量リソースの最大消費量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を回避することで最大消費量以内に収める。
【0020】
請求項3に記載の発明によれば、電力、純水、薬液(例えば、硫酸や過酸化水素水)、気体(例えば、窒素)のいずれか一つの消費材について容量リソースを定義する。
【0021】
請求項4に記載の発明によれば、プログラムとして上記請求項1と同様の作用を生じる。
【0022】
請求項5に記載の発明によれば、処理前に予め各リソースの使用タイミングを作成するが、その際には複数のリソースの使用により容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、容量リソースの最大排出量を廃材の合計が超えないようにする。
【0023】
なお、本発明におけるリソースとは、例えば、使用済みの純水や窒素ガスなどを排出する純水洗浄処理部、使用済みの処理液を排出する薬液薬液処理部、使用済みの窒素ガスを排出する乾燥処理部などを含む。
【0024】
請求項6に記載の発明によれば、同時に使用される全てのリソースの時間当たりの排出量を求め、これが容量リソースの最大排出量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を回避して最大排出量以内に収める。
【0025】
請求項7に記載の発明によれば、排液、排気の廃材について容量リソースを定義する。
【0026】
請求項8に記載の発明によれば、プログラムとして上記の請求項5と同様の作用を生じる。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
図1及び図2はこの発明の一実施例に係り、図1は実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図2はそのブロック図である。
【0028】
この基板処理装置は、例えば、基板Wに対して薬液処理及び純水洗浄処理及び乾燥処理を施すための装置である。基板Wは複数枚(例えば25枚)がカセット1に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基板Wを収納したカセット1は、投入部3に載置される。投入部3は、カセット1を載置される載置台5を二つ備えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部3の反対側には、払出部7が配備されている。この払出部7は、処理済みの基板Wをカセット1に収納してカセット1ごと払い出す。このように機能する払出部7は、投入部3と同様に、カセット1を載置するための二つの載置台9を備えている。
【0029】
投入部3と払出部7に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第1搬送機構11が配置されている。第1搬送機構11は、投入部3に載置されたカセット1ごと複数枚の基板Wを第2搬送機構13に対して搬送する。
【0030】
第2搬送機構13は、収納されている全ての基板Wをカセット1から取り出した後、第3搬送機構15に対して全ての基板Wを搬送する。また、第3搬送機構15から処理済みの基板Wを受け取った後に、基板Wをカセット1に収容して第1搬送機構11に搬送する。
【0031】
第3搬送機構15は、基板処理装置の長手方向に向けて移動可能に構成されており、上述した第2搬送機構13との間で基板Wの受け渡しを行なう。上記第3搬送機構15の移動方向における最も手前側には、乾燥処理部17が配備されている。この乾燥処理装置17は、例えば、低圧のチャンバ内に基板Wを収納して乾燥させる。
【0032】
第3搬送機構15の移動方向であって上記乾燥処理部17に隣接する位置には、第1処理部19が配備されている。この第1処理部19は、複数枚の基板Wに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部21を備えているとともに、複数枚の基板Wに対して薬液処理を施すための薬液処理部23を備えている。
【0033】
第1副搬送機構25は、第1処理部19内での基板搬送の他に、第3搬送機構15との間で基板Wを受け渡しする。純水洗浄処理部21の上方に位置する非処理位置では、第3搬送機構15との間で基板Wを受け渡す動作が行なわれる一方、薬液処理部23の上方に位置する非処理位置では、基板Wの受け渡しは行なわれない。また、基板Wを処理する際には、純水洗浄処理部21や薬液処理部23の槽内に位置する処理位置にまで下降する。第2副搬送機構53は、上記の第1副搬送機構25と同様の機能を有し、純水洗浄処理部49と薬液処理部51を備えた第2処理部47内での基板搬送等を行なう。
【0034】
第1搬送機構11と第2搬送機構13に隣接する位置には、バッファ装置71が配備されている。このバッファ装置71は、第2搬送機構13と基板Wを受け渡しする機能を備え、スケジュールの対象外となった複数枚の基板W(以下、ロットと称する)を一時的に収容する。そして、そのロットがスケジュールの対象となった時点で第2搬送機構13によって受け取られて搬送される。
【0035】
上記のように構成されている基板処理装置は、図2のブロック図に示すように制御部73によって統括的に制御される。
【0036】
制御部73は、CPUなどから構成されており、以下に説明するスケジュール作成プログラムに相当する手順に基づき、レシピに応じて上述した薬液処理部23,51などの各リソースの使用タイミングをロットに対する処理を実際に開始する前に予め決定する。その後、実際にロットを処理するにあたり、作成されたスケジュールに基づき各リソースを使用してレシピに応じた処理をロットに対して施す。
【0037】
記憶部75には、この基板処理装置のユーザによって予め作成され、ロットをどのようにして処理するかを規定した複数種類のレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールと、スケジュールを実行する処理プログラム等が予め格納されている。
【0038】
本発明では、容量リソースというものを新たに定義していることが特徴的である。これは、各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能になっている。この例では、消費材として「電力」を例に採って説明する。制御部73は、各リソースを使用してスケジューリングを進めてゆくが、各リソースで使用される電力の合計が容量リソースの最大消費量を超えないようにする。そして、各リソースを使用するとともに容量リソースを使用する。
【0039】
より詳細には、リソースが使用されるごとに、時間あたりの消費量の合計を求める。この合計が最大消費量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を中止して、容量リソースの最大消費量を超えるのを避ける。
【0040】
図3ないし図7に示すタイムチャートを参照しながらスケジュール作成プログラムに相当する手順について説明するが、理解を容易にするためにレシピの一部を例に採って説明する。
【0041】
まず、図3を参照し、リソースと容量リソースの関係について説明する。
パターンAは、第3搬送機構15が第2搬送機構13の位置から純水洗浄処理部49へ移動する場合を例示している。この場合、第3搬送機構15のリソースが使用されるとともに、容量リソースが同じ時間だけ使用される。容量リソースは、最大消費電力が303に設定されており、第3搬送機構15の動作に応じて「1,3,1」の電力を消費する。この場合の消費電力は、例えば、単位時間当たりの電力であり、単位は[W]であるが、以下の説明においては単位を省略する。また、容量リソースは、他のリソースとともに重複して使用可能であり、その場合には消費電力の合計が容量リソースに設定されている最大消費量を超えないようにする。この場合の容量リソースの最大消費量は、基板処理装置の電気設計に基づいて規定してある。
【0042】
パターンBは、第1副搬送機構25が純水洗浄処理部21から薬液処理部23に移動する場合を例示している。この場合には、第1副搬送機構25のリソースが使用されるとともに、容量リソースが同じ時間使用される。容量リソースは、第1副搬送機構25の動作に応じて「3」の電力を消費する。
【0043】
パターンCは、薬液処理部51の液交換を行なう場合を例示している。この場合、薬液処理部51のリソースが使用されるとともに、容量リソースが同じ時間だけ使用される。容量リソースは、薬液処理部51の液交換動作に応じて「1,300」の電力を消費する。液交換は、新液に交換した後、処理に応じた温度にまで液温を高めるのにヒータを動作させるので、一般的に消費電力が他のリソースに比較して著しく大きくなる。
【0044】
次に、図4ないし図7を参照して、上述したパターンAないしCを含む処理工程のスケジュール作成について具体的に説明する。
【0045】
まず、薬液処理部51のリソースがステップS1の液交換予定で使用され、第1ロットの処理のために純水洗浄処理部21のリソースがステップS2で使用される。これに伴い容量リソースが使用され、消費電力の合計値が「1,300」となる(上述したパターンC)。
【0046】
次に、図5に示すように、第2ロットの処理のために第2搬送機構13と、第3搬送機構15と、純水洗浄処理部49の各リソースがステップS3ないし5で使用される。これに伴い、第3搬送機構15の使用に合わせて容量リソースが使用される。このときの消費電力は、上述したパターンAのように「1,3,1」である。したがって、消費電力の合計値は、「1,2,301,303,301,300」となる。つまり、このスケジュールであれば、容量リソースの最大消費電力である「303」以内に収めることができる。
【0047】
さらに、図6に示すように、水洗処理を終えた第1ロットに対して薬液処理を施すために、第1副搬送機構25と、薬液処理部23の各リソースがステップS6,S7で使用される。特に、ステップS6は、ステップS2の直後に配置され、ステップS2から時間を置かずに配置される。これに伴って、第1副搬送機構25の使用に合わせて容量リソースが使用される。このときの消費電力(パターンB)は「3」であるので、消費電力の合計値は、「1,2,301,306,304,300」となる。
【0048】
容量リソースの最大消費電力は「303」と規定している。しかしながら、上記のスケジュールをたてた時点にて、消費電力の合計値が最大消費電力を超えている(306と304)。したがって、これらの原因をつくったリソースの使用は回避して、時間をずらして再びスケジュールを行なう。
【0049】
ここでは図7に示すように、ステップS2の直後に待機時間wtをおき、第1ロットのためのステップS6及びステップS7を後ろにずらしている。これにより消費電力の合計値は、「1,2,301,303,301,303」となる。つまり、容量リソースの最大消費電力内に消費電力の合計値を収めることができる。このようにして予め作成されたスケジュールが記憶部75に格納され、制御部73によって実行される。
【0050】
このように実際に処理を行なう前に各リソースの使用タイミングを作成するが、各リソースの消費電力の合計値が容量リソースの最大消費電力を超えないようにしている。これによって最大消費電力を超えないように制御しながらも効率的に各リソースを使用することができる。例えば、液交換では、複数個のヒータを排他使用するのではなく、消費電力を超えない範囲で最大限に利用して素早く昇温させることが可能となる。その結果、基板処理装置のスループットを向上できる。
【0051】
なお、上述した説明においては、理解を容易にするために、細かな電力消費については考慮していない。つまり、上述したパターンAでは、第3搬送機構15だけが容量リソースを使用しているが、実際には第2搬送機構13及び純水洗浄処理部49の使用時にも電力が消費されている。したがって、現実的には、消費電力の合計値が図7における「1,2,301,303,301,303」よりも高くなる。実際のスケジュール作成では、全ての電力を考慮することが好ましいことは言うまでもない。
【0052】
また、上記の実施例では消費材として電力を例に採って説明した。本発明では、この電力以外にも、純水、硫酸や過酸化水素水、IPAなどの薬液、窒素などの気体についても適用できる。
【0053】
例えば、純水を例に採ると、基板処理装置に供給される純水は、純水供給設備、基板処理装置内の配管やポンプなどに基づいて単位時間当たりに供給可能な供給量が規定されているものである。したがって、純水洗浄処理部21,49と薬液処理部23,51が同時に使用されて純水の消費量の合計値が容量リソースを超えることがないように使用タイミングを調整するのである。
【0054】
上述した説明は全て基板処理装置内で消費される「消費材」を対象にしたものであるが、基板処理装置から排出される「廃材」についても上述した技術が有効である。つまり、基板処理装置から排出される純水、処理液、薬液などの排液や、窒素やオゾンなどの排気は、そのまま一般排水や大気中に排気することができず、廃棄処理設備で浄化する必要がある。ところが廃棄処理設備では時間当たりの処理量に上限がある。
【0055】
そこで排液や排気などの廃材についても上述したような容量リソースを定義する。そして、その最大排出量の上限を規定しておき、廃材を排出する各リソースの使用タイミングを決定する際には、最大排出量内に収まるようにする。このようにスケジュールを作成することによって、最大排出量を超えないように制御しながらも効率的に各リソースを使用することができ、上述した実施例と同様の効果を得ることができる。
【0056】
また、本発明において予め処理の前にスケジュールする際には、次の方法を併用することが好ましい。なお、以下の方法における処理工程とは、上述した純水洗浄処理部21における洗浄処理や薬液処理部51における薬液処理であり、またそれらを一連の処理として扱うブロックとした場合も含む。
【0057】
すなわち、基板に処理を施すための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、複数の処理工程を含むレシピに基づいて各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、いずれかのロットについて最初の処理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のうち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置するのである。
【0058】
この方法によれば、予めスケジュールすることで前の処理工程の後作業と、その後の処理工程の前作業とを重複させて配置することができるとともに、配置可能な処理工程のうち前の処理工程が早く終わるロットの処理工程を次の処理工程として選択して配置することで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮することができる。したがって、基板処理装置の処理部を有効利用することができるので、待機時間を抑制して稼働率を向上することができる。
【0059】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項1に記載の発明によれば、処理前に予め各リソースの使用タイミングを作成するが、その際には複数のリソースの使用により容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、容量リソースの最大消費量を消費材の合計が超えないようにする。これによって最大消費量を超えないように制御しながらも効率的にリソースを使用することができる。その結果、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【0060】
請求項2に記載の発明によれば、同時に使用される全てのリソースについて時間当たりの消費量の合計を求め、これが容量リソースの最大消費量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を回避することで最大消費量以内に収める。これにより、同時に使用する全てのリソースの消費材の合計を容量リソースの最大消費量内に収めることができる。
【0061】
請求項3に記載の発明によれば、電力、純水、薬液、気体のいずれか一つの消費材について容量リソースを定義することで、その消費材に係るリソースについて効率的に使用できる。
【0062】
請求項4に記載の発明によれば、プログラムとして上記請求項1と同様の効果を奏する。
【0063】
請求項5に記載の発明によれば、処理前に予め各リソースの使用タイミングを作成するが、その際には複数のリソースの使用により容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、容量リソースの最大排出量を廃材の合計が超えないようにする。これによって最大排出量を超えないように制御しながらも効率的にリソースを使用することができる。その結果、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【0064】
請求項6に記載の発明によれば、同時に使用される全てのリソースについて時間当たりの排出量の合計を求め、これが容量リソースの最大排出量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を回避して最大排出量以内に収める。これにより、同時に使用する全てのリソースの廃材の合計を容量リソースの最大排出量内に収めることができる。
【0065】
請求項7に記載の発明によれば、排液、排気の廃材について容量リソースを定義することで、その廃材に係るリソースについて効率的に使用できる。
【0066】
請求項8に記載の発明によれば、プログラムとして上記の請求項5と同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。
【図2】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【図3】リソースと容量リソースの関係を示すタイムチャートである。
【図4】スケジュール例の一部を示すタイムチャートである。
【図5】スケジュール例の一部を示すタイムチャートである。
【図6】スケジュール例の一部を示すタイムチャートである。
【図7】スケジュール例の一部を示すタイムチャートである。
【符号の説明】
W … 基板
1 … カセット
3 … 投入部
11 … 第1搬送機構
13 … 第2搬送機構
15 … 第3搬送機構
17 … 乾燥処理部
19 … 第1処理部
21 … 純水洗浄処理部
23 … 薬液処理部
25 … 第1副搬送機構
47 … 第2処理部
49 … 純水洗浄処理部
51 … 薬液処理部
53 … 第2副搬送機構
73 … 制御部
75 … 記憶部
Claims (8)
- 基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、
各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 請求項1に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記容量リソースは、リソースが使用されるごとに時間あたりの消費量の合計を求め、この消費量が最大消費量を超える場合には、その原因となったリソースの使用を回避させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記消費材は、電力、純水、薬液、気体のうちいずれか一つを含むことを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラムにおいて、
実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、
各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用するようにコンピュータを制御することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラム。 - 基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
各リソースから排出される廃材について、最大排出量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、
各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 請求項5に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記容量リソースは、リソースが使用されるごとに時間あたりの排出量の合計を求め、この排出量が最大排出量を超える場合には、その原因となったリソースの使用を回避させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 請求項5または6に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記廃材は、排液または排気であることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラムにおいて、
実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
各リソースから排出される廃材について、最大排出量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、
各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用するようにコンピュータを制御することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラム。
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