JP6573693B2 - 基板処理装置のためのスケジュール作成方法および基板処理装置 - Google Patents
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Description
処理開始の遅延を防止するための方策として、制御部の処理性能を向上させたり、制御部の台数を増やしたりすることが考えられるが、これらの方策では、新たな制御部の設置によりコストアップになるおそれがある。また、それだけでなく、消費電力の上昇や、基板処理装置の構成の複雑化を招くおそれある。そのため、本願発明者は、スケジュールの作成を工夫して制御部でのデータ処理の効率化を図ることにより、制御部での制御負荷の集中を回避させることを検討している。
また、この発明の他の目的は、制御部でのデータ処理の効率化を図りながら基板を処理することが可能な基板処理装置を提供することである。
請求項4に記載の発明は、前記高負荷時間帯は、前記高負荷動作の開始時である、請求項3に記載のスケジュール作成方法である。
仮に、複数枚の基板のスケジュールにおいて、高負荷動作に対応するブロック同士を、当該高負荷動作が同時に開始するように時間軸上に配置すると、当該高負荷動作の開始時に、制御部の制御負荷が集中し制御部にてデータ処理を円滑に行えないおそれがある。その結果、いずれかのリソースの動作開始が遅延するおそれがある。
たとえば、特許文献1に記載のように、プロセスジョブが共通する全ての基板のスケジュールの作成が終了した後に、基板処理装置の動作を開始させるようにする場合、膨大な量のデータを基板処理装置に記憶させる必要がある。
また、作成済みのスケジュールのうち未実行の部分を、当該スケジュールの開始後に変更するので、基板処理装置の実際の動作状況(基板処理状況)に応じて、スケジュールの内容を変更できる。これにより、実際の動作状況に応じた柔軟なスケジュールを作成できる。
この構成によれば、ある基板のスケジュールの作成が終了すると、他の基板のスケジュールの作成が未終了であっても、作成したスケジュールの実行を開始する。したがって、基板処理装置に記憶させるスケジュールのデータ量の低減を図ることが可能である。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置1のレイアウトを示す図解的な平面図であり、図2は、その図解的な側面図である。図3Aは、基板処理装置1に備えられた処理ユニットSPIN1〜SPIN12の内部を水平方向に見た模式図である。
基板処理装置1は、インデクサセクション2と、処理セクション3とを含む。処理セクション3は、インデクサセクション2との間で基板Wを受け渡しするための受け渡しユニットPASSを備えている。インデクサセクション2は、未処理の基板Wを受け渡しユニットPASSに渡し、受け渡しユニットPASSから処理済みの基板Wを受け取る。処理セクション3は、受け渡しユニットPASSから未処理の基板Wを受け取って、その基板Wに対して、処理剤(処理液または処理ガス)を用いた処理、紫外線等の電磁波を用いた処理、物理洗浄処理(ブラシ洗浄、スプレーノズル洗浄等)などの各種の処理を施す。そして、処理セクション3は、処理後の基板Wを受け渡しユニットPASSに渡す。
ステージST1〜ST4は、複数枚の基板W(たとえば半導体ウエハ)を積層状態で収容した基板収容器Cをそれぞれ保持できる基板収容器保持部である。基板収容器Cは、基板Wを密閉した状態で収納するFOUP(Front Opening Unified Pod)であってもよいし、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)ポッド、OC(Open Cassette)等であってもよい。たとえば、基板収容器CをステージST1〜ST4に載置したとき、基板収容器Cでは、水平姿勢の複数枚の基板Wが互いに間隔を開けて鉛直方向に積層された状態となる。
処理ユニットSPIN1〜SPIN12は、この実施形態では、立体的に配置されている。より具体的には、三階建て構造をなすように複数の処理ユニットSPIN1〜SPIN12が配置されており、各階部分に4つの処理ユニットが配置されている。すなわち、一階部分に4つの処理ユニットSPIN1,SPIN4,SPIN7,SPIN10が配置され、二階部分に別の4つの処理ユニットSPIN2,SPIN5,SPIN8,SPIN11が配置され、三階部分にさらに別の処理ユニットSPIN3,SPIN6,SPIN9,SPIN12が配置されている。さらに具体的には、平面視において処理セクション3の中央に主搬送ロボットCRが配置されており、この主搬送ロボットCRとインデクサロボットIRとの間に受け渡しユニットPASSが配置されている。受け渡しユニットPASSを挟んで対向するように、3つの処理ユニットSPIN1〜SPIN3を積層した第1処理ユニット群G1と、別の3つの処理ユニットSPIN4〜SPIN6を積層した第2処理ユニット群G2とが配置されている。そして、第1処理ユニット群G1に対してインデクサロボットIRから遠い側に隣接するように、3つの処理ユニットSPIN7〜SPIN9を積層した第3処理ユニット群G3が配置されている。同様に、第2処理ユニット群G2に対してインデクサロボットIRから遠い側に隣接するように、3つの処理ユニットSPIN10〜SPIN12を積層した第4処理ユニット群G4が配置されている。第1〜第4処理ユニット群G1〜G4によって、主搬送ロボットCRが取り囲まれている。
処理室17は、箱状の隔壁17aによって隔壁されている。隔壁17aには、処理室17内に基板Wを搬出入するための開口17bが形成されている。開口17bはシャッタ17cによって開閉される。シャッタ17cは、シャッタ昇降機構(図示しない)によって、開口17bを覆う閉位置(図3Aに二点鎖線で示す)と、開口17bを開放する開位置(図3Aに実線で示す)との間で昇降させられる。
図3Aに示すように、スピンチャック15は、水平な姿勢をなす円板状のスピンベース15aと、スピンベース15aの上面外周部から上方に突出する複数のチャックピン15bと、複数のチャックピン15bを基板Wの周縁部に押し付けるチャック開閉機構と、スピンベース15aの中央部から下方に延びる回転軸15cと、回転軸15cを回転させることにより、複数のチャックピン15bに保持されている基板Wを回転させるスピンモータ15dとを含む。スピンチャック15は、図3Aに示す挟持式のチャックに限らず、基板の下面をスピンベースの上面に吸着させることにより基板を水平な姿勢で保持するバキューム式のチャックであってもよい。
また、図3Aに示すように、処理ユニットSPIN1〜SPIN12は、スピンチャック15に保持されている基板Wの上面に向けてリンス液を吐出するリンス液ノズル59と、リンス液供給源(図示しない)からのリンス液をリンス液ノズル59に供給するリンス液配管60と、リンス液配管60からリンス液ノズル59へのリンス液の供給および供給停止を切り換えるリンス液バルブ61とを含む。リンス液としては、DIW(脱イオン水)等が用いられる。薬液ノズル51により基板Wに薬液を供給後に、リンス液ノズル59からリンス液を基板Wに供給することにより、基板Wに付着している薬液を洗い流すことができる。
コンピュータ21は、メインコントローラ22と、サブコントローラ23とを備えている。
サブコントローラ23は、たとえば制御VME(VERSAmodule Eurocard)ボードにより構成されており、第2の制御部34と、第2の記憶部35と、シリアル通信部36とを備えている。第2の制御部34は、演算処理を実行するCPU37を含む。第2の制御部34が、特許請求の範囲の「制御部」に相当する。
レシピは、基板処理内容を定義したデータであり、基板処理条件および基板処理手順を含む。より具体的には、並行処理ユニット情報、使用処理液情報、処理時間情報、後処理実行条件、前準備実行条件等を含む。
「処理時間情報」は、レシピに含まれる各工程の実行に要する時間に関する情報である。具体的には当該レシピの指定処理ユニットにおける基板の滞在時間、次に述べる予備処理工程(前準備工程および後処理工程)の実行に要する時間などが含まれる。予備処理工程とは所定の処理ユニットにおいて基板処理を実行する前に、当該基板処理が精密に実行できるよう、基板処理工程の準備を行う処理であり、本実施形態では、基板処理の前に実行される前準備工程と、直前の基板処理の後に実行される後処理工程とが対応する。
前準備工程とは、所定の基板処理を実行する前に処理ユニットで実行すべき前準備作業である。
たとえば、図3Aを用いて前述したように、処理ユニットSPIN1〜12には、所定の薬液を規定された温度で基板Wに向けて吐出するための温度調節装置58が設けられている。レシピに規定された目的温度で薬液を基板Wに向けて吐出させる必要があるが、温度調節装置58が薬液を目的温度まで加熱するには一定時間を要する。このため、薬液ノズル51から基板Wに向けて薬液を吐出させる前から、循環バルブ57を開放し温度調節装置58を作動させた状態で送液装置54を作動させることで循環配管56の中で薬液を循環させることがある(前準備工程の例1)。
前準備実行条件には、どのような前準備(たとえば前準備工程の例1を行う場合には、循環バルブ57の開放、温度調節装置58および送液装置54の作動、温度調節装置58の所定の設定温度での温度調整等)を、どのタイミング(たとえば、基板処理の開始の所定時間前)から開始すべきか(たとえば、割り当てられた処理ユニットにおいて基板処理を開始する所定時間前、あるいは薬液ノズル51から実際に薬液を吐出する所定時間前)等の前準備工程の具体的内容が記述されている。
前準備工程の要否は、基板処理の内容や、当該基板処理の前に実行される基板処理の内容等によって決定される。前準備工程の要否の一例として次のような例を挙げる。たとえば、温度依存性の高い処理液を用いる基板処理を実行する場合には、前準備工程としてのプリディスペンス処理を実行することが必要であると考えられるから、前準備工程の実行を「要」にする。一方、温度依存性の低い処理液を用いる基板処理を実行する場合には、プリディスペンス処理は不要であるから、前準備工程の実行を「否」にする。なお、前準備工程の内容と要否とは、プロセスジョブ毎に規定されている。
後処理工程とは、所定の基板処理を実行した後に、処理ユニットSPIN1〜SPIN12の次の基板処理のために実行すべき作業である。
後処理実行条件には、後処理工程の具体的内容に関する情報、後処理工程の要否に関する情報が含まれている。後処理工程の要否および内容は、レシピに含まれるブロック毎に規定されている。
後処理工程の要否は、基板処理の内容や、当該基板処理の前に実行される基板処理の内容、当該基板処理の直後に実行される基板処理の内容等によって決定される。後処理工程の要否の一例として次のような例を挙げる。処理室17を汚染するおそれが大きい基板処理を行う場合には、その次に基板処理を行うか否かに拘わらず後処理工程の実行を「要」にする。また、たとえば同一の処理室17で処理工程が実行されないまま、所定時間が経過した場合や所定枚数の基板Wが処理された場合には、後処理工程の実行を「要」にする。さらに、同一の処理室17で直後に行われる基板処理に影響を与える可能性がある場合には、当該基板処理後に後処理工程を実行する必要があるから「要」にする。反対に、直前の基板処理で同じ処理液しか使用しない場合など、当該基板処理が直後の基板処理に影響を与えない場合には、基板処理の後に後処理工程を行う必要がなから「否」にする。
なお、サブコントローラ23は、メインコントローラ22と同一のコンピュータで構成されていてもよいし、メインコントローラ22と別のコンピュータで構成されていてもよい。
各プロセスジョブには、プロセスジョブ生成指示で指定されているレシピの識別情報が含まれている。第2の制御部34は、第2の記憶部35に記憶されている複数のレシピの中からプロセスジョブ生成指示で指定されているレシピの識別情報に対応するレシピを選択し、選択したレシピを読み込む。これにより、プロセスジョブに対応するレシピがサブコントローラ23によって準備される。
本実施形態に係るスケジュール作成方法の特徴の一つは、後述する「高負荷動作」に対応するブロック同士を、その高負荷時間帯が集中しないように時間軸上に配置するようにした点である。また、本実施形態に係るスケジュール作成方法の他の特徴は、共通のプロセスジョブ符号された複数枚の基板Wのうち、基板収容器Cから最初に払い出される一枚目の基板Wのスケジュールの作成の完了後、当該一枚目の基板W以外の基板Wのスケジュールの作成が未完了であるタイミングで、作成済みのスケジュールを開始する点である。
以下のスケジュール例では、同じプロセスジョブ符号「A」が付与された「N」(Nは「2」以上「12」以下の整数)枚の基板Wの計画(スケジュール)を作成する例を説明する。便宜上、最初に払い出される1枚目の基板(第1の基板)Wを「基板A1」とし、その次に払い出される2枚目の基板Wを「基板A2」として説明する。
搬入前処理工程とは、処理ユニットが当該処理ユニット内に基板Wを搬入するための動作である。搬入前処理工程として、シャッタ17cの開放動作や、チャックピン15bの開姿勢(基板Wを挟持しない姿勢)への変位動作等を例示できる。
図7に示すように、仮タイムテーブルの作成では、スケジューリング機能部29は、基板処理開始指示が与えられた全ての基板Wについて、レシピを取得し(図7のステップS51)、取得したレシピに基づいて仮タイムテーブルに含めるべきブロックを生成し(図7のステップS52)、仮タイムテーブルを作成する。
前準備工程の開始時において、サブコントローラ23のシリアル通信部36は、スケジューリング結果32に基づいて当該基板処理に必要なレシピを第2の記憶部35から読み出す。CPU37は読み出されたレシピをデータ解釈して、各処理ユニットSPIN1〜SPIN12において当該レシピを実現するための制御信号を生成する。CPU37は、生成した制御信号を、シリアル通信部36を介して制御対象の処理ユニットSPIN1〜SPIN12に対し送信する。また、制御対象の処理ユニットSPIN1〜SPIN12は、制御信号を受信すると直ちに、受信確認信号をシリアル通信部36に向けて送信する。前準備工程の処理データのデータ量が大きいので、シリアル通信部36やCPU37がデータ通信やデータ解釈を行う際に一時的に高い制御負荷が生じる。すなわち、基板処理工程の開始時に高負荷時間帯が存在する。
スケジューリング機能部29は、仮タイムテーブルに含めるべき全てのブロックを時間軸上で重なり合いのないように順番に配置することによって、仮タイムテーブルを作成する。スケジューリング機能部29は、基板Wに対して、処理ユニットSPIN2〜SPIN12をそれぞれ通る経路に対応した同様の仮タイムテーブル(ブロックを処理ユニットSPIN2〜SPIN12にそれぞれ配置した仮タイムテーブル)を作成する。こうして、一枚の基板Wに対して合計12経路分の仮タイムテーブルが作成される。
スケジューリング指示が発生すると(ステップS3:YES)、当該共通するプロセスジョブ符号が付された基板Wに関するブロックの配置が行われる(ステップS4〜S32)。具体的には、スケジューリング機能部29は、当該基板Wの仮タイムテーブルを第1の記憶部26から読み出して、その仮タイムテーブルを構成しているブロックを時間軸上に配置していく。
処理ユニットSPIN1〜SPIN12の全てに対応する前準備ブロックSP1〜SP12の配置が完了すると(この状態を図12に示す。ステップS7:YES)、スケジューリング機能部29は、次いで、各基板Wの処理/搬送ブロックを配置する(ステップS8〜ステップS12)。
ックA12〜A111および前準備ブロックSP8〜SP12を削除する。
次いで、スケジューリング機能部29は、図19に示すように、ステップS16で削除した前準備ブロックSP8〜SP12を時間軸上に再度配置する(ステップS17)。前準備ブロックSP8〜SP12を再配置すべき位置の検索は、ステップS6の前準備ブロックの配置位置の検索と同様の手法で行われ、その検索結果に従って、処理ユニットSPIN8〜SPIN12の前準備ブロックSP8〜SP12が再配置される。
スケジューリング機能部29は、削除した処理/搬送ブロックA12〜A111を一つ取得する(ステップS18)。このとき取得される処理/搬送ブロックは、削除前の時間軸上で最も早い位置に配置されている処理/搬送ブロックである。
そして、削除した全ての処理/搬送ブロックおよび2枚目の基板A2の仮タイムテーブルを構成する全てのブロックを配置(再配置)し終えると(ステップS21:YES)、図23に示すように、2枚目の基板A2のスケジューリングが終了すると共に、1枚目の基板A1のスケジュール(作成済みのスケジュール)の変更が終了する(ステップS22)。こうして作成および変更されるスケジュールが、スケジュールデータ33の一部として第1の記憶部26に格納される(ステップS23)。
そして、スケジューリング機能部29は、2枚目の基板A2に対応する仮タイムテーブルを第1の記憶部26から読み出して、2枚目の基板A2に対応する仮タイムテーブルを参照し、当該仮タイムテーブルに含まれる処理/搬送ブロックを一つ取得する(ステップS24)。このとき取得される処理/搬送ブロックは、未配置の処理/搬送ブロックのうち仮タイムテーブルの時間軸上で最も早い位置に配置されている処理/搬送ブロックである。さらに、スケジューリング機能部29は、取得した処理/搬送ブロックを、同一のリソースが同じ時間に重複して使用されないようにしながら、かつ高負荷情報が配置済みのブロックの高負荷情報に重複しないようにしながら、時間軸上で最も早い位置を検索し(ステップS25)、その検索結果に従って、当該処理/搬送ブロックを配置する(ステップS26)。
基板処理装置1において各リソースの動作が進行し、2枚目の基板A2のスケジュールの実行タイミングになると、スケジューリング機能部29は、2枚目の基板A2のスケジュールの実行を開始する。すなわち、スケジューリング機能部29は、作成済みの2枚目の基板A2のスケジュールに従ってリソースの動作を開始させる。具体的には、インデクサロボットIRにより基板収容器Cから2枚目の基板A2が払い出される(搬出される)。2枚目の基板A2の基板収容器Cからの払い出し時が、3枚目の基板A3のスケジューリングタイミングである。3枚目の基板A3のスケジューリングタイミングに達すると(ステップS14:YES)、すなわち、2枚目の基板A2が基板収容器Cから払い出されると、3枚目の基板A3に対するスケジュールの作成が行われる。
後処理の必要のある処理ユニットSPIN1〜SPIN12への後処理ブロックの配置が完了すると(ステップS32でYES)、図4A〜図4Dに示す一連の処理はリターンされる。
なお、図24に示すスケジュールは、各基板Wで後処理実行条件を満たしていない場合を示している。
仮に、「同一のリソースが同じ時間に重複して使用されないようにしながら、時間軸上で最も早い位置に配置する」というロジックのみに基づいて、処理ユニットSPIN1〜SPIN12の前準備工程を計画すれば、複数の前準備工程が同時に開始するおそれがある。とくに、図25Aに示す、スケジュールの作成の第1の変形例のように、いずれかのプロセスジョブ符号が付された基板Wについてのスケジュール作成時に、それとは異なるプロセスジョブ符号が付された基板Wに対する基板処理が既に実行開始している場合に、当該所定のプロセスジョブの基板Wについての(処理ユニットSPIN3〜SPIN12の)前準備工程を、「各ブロックを、同一のリソースが同じ時間に重複して使用されないようにしながら、時間軸上で最も早い位置に配置する」というロジックのみに基づいて計画するとすれば、これら複数(たとえば10個)の前準備ブロックが、計画開始可能時刻(スケジュールを開始可能な時刻)に揃って配置されるおそれがある。この場合、処理ユニットSPIN3〜SPIN12の前準備工程が同時に開始するように計画されるので、前準備工程の開始時に第2の制御部34の制御負荷が集中する結果、第2の制御部34がデータ処理を円滑に行えず、これにより、実行中の基板処理(処理ユニットSPIN1,SPIN2での処理)において処理遅延が生じるなどの問題が発生するおそれがある。
また、作成済みのスケジュールから削除した未実行のブロックを、新たにスケジュールを作成すべき基板Wに関するブロックの配置と並行して、時系列に従って再配置する。削除したブロックの再配置および新たな基板Wに関するブロックの配置は、複数枚の基板W相互間の干渉が生じることがなく、かつ効率的にリソース(処理ユニットSPIN1〜SPIN12等)を稼働させて複数枚の基板Wに対する処理が行われるように、時系列に従って行われる。削除したブロックおよび新たな基板Wに関するブロックの配置位置をよりきめ細かに決定できるので、処理ユニットSPIN1〜SPIN12等のリソースの稼働率を高めることができ、これにより、基板処理装置1の生産性を向上できる。
図26では、処理ユニットSPIN1〜SPIN7での基板処理中に、後処理工程を計画する。このプロセスジョブでは処理ユニットSPIN1〜SPIN7を使用しているが、処理ユニットSPIN8〜SPIN12は使用可能であるものの、実際には使用されていない。つまり、実際に使用する処理ユニットの数が、使用可能な処理ユニットの数よりも少ない。前述のように、プロセスジョブの最後の基板Wのスケジュールの作成が終了したタイミングで、スケジューリング機能部29は、後処理工程のスケジュールを作成する。
基板処理装置1では、複数の処理ユニットに基板Wが収容されている状態で、各処理ユニットから基板Wを一斉に回収する並列回収が用意されることがある。この並列回収に先立って、各処理ユニットでは、基板回収工程が実行される。
たとえば、前述の実施形態で示した基板処理装置1の構成や基板処理内容は一例に過ぎず、基板処理装置1は他の構成を採ることができ、かつ別の基板処理内容に対してもこの発明を適用できる。
また、前述の実施形態では、1枚目の基板A1のスケジュール作成の終了後、2枚目以降の基板(第2の基板)Wのスケジュールの作成が終わっていない状態で、作成済みのスケジュールの実行を開始する場合を例に挙げたが、プロセスジョブの全ての基板Wのスケジュールを作成した後に、スケジュールの開始を実行するようにしてもよい。
15 スピンチャック
17 処理室
22 メインコントローラ
23 サブコントローラ
24 第1の制御部
25 出入力部
26 第1の記憶部
28 装置管理部
29 スケジューリング機能部
30 スケジューリングエンジン
31 処理実行指示部
32 スケジュール作成プログラム
33 スケジュールデータ
34 第2の制御部
35 第2の記憶部
36 シリアル通信部
37 CPU
C 基板収容器
CR 主搬送ロボット
G1〜G4 処理ユニット群
IR インデクサロボット
PASS 受け渡しユニット
SPIN1〜SPIN12 処理ユニット
ST1〜ST4 ステージ
W 基板
Claims (8)
- 基板を1枚ずつ処理する少なくとも一つの枚葉式の処理ユニットと、前記処理ユニットを制御するための制御部とを有する基板処理装置の動作を時系列に従って規定するためのスケジュールを、前記基板処理装置に備えられたスケジュール作成部が作成するための方法であって、
各基板に対する前記基板処理装置の動作の内容を規定する複数のブロックを時系列に従って配置することにより、その基板のスケジュールを前記スケジュール作成部によって作成するスケジュール作成工程を含み、
前記スケジュール作成工程が、
前記ブロックに対応する動作に、前記制御部に高い制御負荷が生じる時間帯である高負荷時間帯が含まれるか否かを判断する判断工程と、
前記ブロックに対応する動作に前記高負荷時間帯が含まれる場合に、前記ブロックの前記高負荷時間帯に対応する部分に高負荷情報を付加する付加工程と、
前記高負荷情報に基づいて、高負荷動作に対応する前記ブロックを、時間軸上に配置する高負荷配置工程と、を含む、スケジュール作成方法。 - 前記判断工程が、前記ブロックに対応する動作における負荷と、前記高負荷時間帯として定められている基準範囲とを比較することにより、前記ブロックに対応する動作に前記高負荷時間帯が含まれるか否かを判断する、請求項1に記載のスケジュール作成方法。
- 前記高負荷配置工程が、前記高負荷情報が同じ時間帯に所定数以上重複しないように、前記制御部に高い制御負荷を少なくとも一時的に生じさせる動作である高負荷動作に対応する前記ブロックを、時間軸上に配置する、請求項1または2に記載のスケジュール作成方法。
- 前記高負荷時間帯は、前記高負荷動作の開始時である、請求項3に記載のスケジュール作成方法。
- 前記基板処理装置では、プロセスジョブが共通する複数枚の基板のうち所定の第1の基板のスケジュールの作成終了後、前記複数枚の基板のうち処理順序が前記第1の基板よりも後の第2の基板のスケジュールの作成が終わっていない状態で、作成済みのスケジュールの実行が開始されるようになっており、
前記作成済みのスケジュールの実行開始後において、当該作成済みのスケジュールのうち未実行の部分を変更するスケジュール変更工程をさらに含む、請求項4に記載のスケジュール作成方法。 - 前記スケジュール変更工程は、
前記スケジュールの実行開始後において、前記作成済みのスケジュールのうち未実行のブロックを削除する工程と、
削除したブロックを、前記第2の基板についてのブロックの配置と並行して、時系列に従って再配置する再配置工程とをさらに含む、請求項5に記載のスケジュール作成方法。 - 基板を1枚ずつ処理する少なくとも一つの枚葉式の処理ユニットと、
前記処理ユニットを制御するための制御部と、
前記処理ユニットを含むリソースの動作を、時系列に従って規定するためのスケジュールを作成するためのスケジュール作成部とを含み、
請求項1〜6のいずれか一項に記載のスケジュール作成方法によって前記スケジュール作成部が作成したスケジュールに従って、前記制御部は前記リソースを制御する、基板処理装置。 - 前記制御部は、プロセスジョブが共通する複数枚の基板のうち所定の第1の基板のスケジュール作成の終了後、前記複数枚の基板のうち処理順序が前記第1の基板よりも後の第2の基板のスケジュールの作成が終わっていない状態で、作成済みのスケジュールの実行を開始する、請求項7に記載の基板処理装置。
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