JP3998467B2 - 不揮発性半導体メモリ装置及びその動作方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、不揮発性半導体メモリ装置及びその動作方法に関し、より詳細には、高集積が可能な、コンタクトレス構造セルを有する不揮発性半導体メモリ装置及びその動作方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の書き込み可能なNOR型不揮発性メモリアレイは、図14に示すように、各セルトランジスタ15は、フィールド酸化膜16によって規定された活性領域に形成されており、ソース11/ドレイン12と、ソース11/ドレイン12間の活性領域上に形成された浮遊ゲート17と、その上に形成され、ソース11/ドレイン12間のチャンネル方向に対して垂直に配置するワード線に接続された制御ゲート10とによって構成されている。また、このようなメモリセルアレイにおいては、ドレイン12は、コンタクト13を介してビット線14に接続されている。
したがって、ドレイン12上に形成されるコンタクト13は、セル面積の大きな部分を占有し、セル面積の縮小を妨げる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、図15に示したような、ソース及びドレインとビット線とのコンタクトを別途設けないコンタクトレス・メモリアレイが提案されている。
このメモリアレイでは、ビット線20が、不純物拡散領域として、ソース及びドレインを兼ねて形成されている。
【0004】
しかし、このメモリアレイにおいては、ワード線18が、セルトランジスタ19のチャンネル方向と同一方向に配置しているため、読み出し時のセル電流が、同一ワード線18上の隣接セルの影響を受ける。よって、同一ワード線18上の複数個のセルの内、特定のセルに書き込みを行い、そのしきい値を正確に制御しておいても、以下の問題がある。つまり、
(1)ソース側の隣接セルが低いしきい値から高いしきい値に変化すると、みかけ上、ソース抵抗が大きくなり、しきい値は最初の値より高い側にシフトする、
(2)ソース側の隣接セルが高いしきい値から低いしきい値に変化すると、みかけ上、ソース抵抗が小さくなり、しきい値は最初の値より低い側にシフトするなどである。
【0005】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、同一ワード線に配置された複数個のセルにおいて、隣接セルの状態に依存することなく、正確に書き込み後のしきい値を制御することができる不揮発性半導体メモリ装置及びその動作方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、複数のメモリセルがマトリクス状に配置され、ロー方向に配置するメモリセルが2以上にセグメント化されてなるコンタクトレス構造の不揮発性メモリ装置であって、
ロー方向におけるゲートが同一ワード線に接続され、
カラム方向に配置する複数のメモリセルにおけるソース及びドレインが、それぞれ同一サブビット線に接続され、かつ、
同一セグメントにおけるメモリセルのサブビット線が、ロー方向に隣接するメモリセルと共有してなるとともに、
各セグメントのサブビット線が、他のセグメントのサブビット線と電気的に分離され、
前記サブビット線が、それと階層化されたメインビット線と共にビット線を構成し、前記メインビット線が、選択トランジスタを介して、隣接するセグメントにおけるメモリセルにそれぞれ接続されたサブビット線と共有接続されていることを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置が提供される。
【0007】
さらに、本発明によれば、2セグメントにて又は3セグメントにて、同時に1ビットのみの書き込みを行う上記不揮発性半導体メモリ装置の書き込み方法が提供される。
また、本発明によれば、チャンネルホットエレクトロンにより書き込みを行う上記不揮発性半導体メモリ装置の書き込み方法が提供される。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の不揮発性半導体メモリ装置及びその動作方法の実施の形態を図面に基づいて説明する。
実施の形態1
本発明の不揮発性半導体メモリ装置は、図1に示すように、基本的に、マトリクス状に不揮発性メモリトランジスタが配置しており、1本のワード線(WL)に複数個のメモリセルトランジスタ(メモリセル:Cn)が接続されて、実質的に図15に示すのと同様のコンタクトレス・メモリアレイを構成している。ワード線は、そのワード線に接続されたメモリセルのチャンネル方向と同一方向に延設されている。
【0009】
このような構成のメモリセルアレイに対して、まず、図1に示したように、同一ワード線上の複数個のメモリセル(C1〜Cn)において、最もソース(SRC)に近いセルC1に書き込みを行う。なお、セルC1のドレインはBLlに接続されている。BL1には電圧Vdが印加され、他のビットライン(BL2〜BLn)にはBL1と同様の電圧Vdを与える。これにより、チャネルホットエレクトロンにより、セルC1のみデータの書き込みが行われる。
【0010】
セルC1の書き込み終了後、BL1をソースとして用いるセルC2に書き込みを行う。このとき、ビットライン(BL2)をドレインとして用い、BL1には0Vを印加し、他のビットライン(BL2〜BLn)には電圧Vdを与える。これにより、チャネルホットエレクトロンにより、セルC2のデータ書き込みが行われる。同様に、セルC3以降に書き込みを行い、最後にソースから一番遠いセルCnに書き込みを行う。
【0011】
このように、複数のセルがワードラインに接続された不揮発性メモリセルにおいては、上記のようなシークエンシャル・プログラム方式によってソース側のメモリセルから順番に書き込みを行うことにより、ソース側の影響をなくし、しきい値を精度よく制御することが可能となる。
なお、通常、上記のような構成のメモリアレイでは、初期状態で、全てのメモリセルは、消去されることによりそのしきい値が低く制御されているが、ワード線の電圧をセルのしきい値より高くすると、すべてのセルがON状態となる。
【0012】
全てのメモリセルのしきい値が低く制御された状態において、まず、図2(a)に示すように、セルC4に書き込みを行ってしきい値を高くする。このセルC4を読み出す場合には、C4以外のメモリセルのしきい値以上の電圧がワード線WLに印加される。このとき、ソース側のセルCl〜C3のしきい値は、ワード線の電圧よりも低いため、Cl〜C3はON状態となり、隣接セルCl〜C3に電流が流れる。
次いで、図2(b)に示すように、セルC3に書きこみを行ってしきい値を高くする。同様に読み出しを行うと、C3はオフ状態となり、C4のドレインBL4からソース側BL3、BL2、BL1、SRCへ電流が流れなくなる。
【0013】
図3に、図2(a)における各セル(Cl〜C4)のソース抵抗を示すが、図2(a)でのセルC4のソース抵抗は、図3におけるC4のソース抵抗に相当する。また、図2(b)でのセルC4のソース抵抗は、図3におけるC1のソース抵抗に相当する。
よって、セルC4のソース抵抗は、セルC3への書き込みの前後において1.5kΩ変化し、セルのしきい値を精度よく制御できず、多値化の実現が困難となることがわかる。
【0014】
実施の形態2
この実施の形態における不揮発性半導体メモリ装置は、図4〜図7に示したように、複数のメモリセルがマトリクス状に配置されており、ロー方向に配置するメモリセルC1〜C5のゲートは同一ワード線に接続され、ロー方向に配置するメモリセルが2つにセグメント化されてなる。
カラム方向に配置するメモリセルでは、図7に示したように、ソース及びドレインが、それぞれ同一ビット線に接続されている。また、同一セグメントにおけるメモリセルのビット線は、ロー方向に隣接するメモリセルと共有してなるとともに、各セグメントのビット線は、他のセグメントのビット線と電気的に分離されている。なお、所定のセグメントの一方端におけるビット線と、これに隣接するセグメントの他方端におけるビット線とは、素子分離領域によって電気的に分離されていることが好ましい。
【0015】
さらに、図7には図示されてないが、カラム方向に2以上のセグメントが形成されていてもよい。このような場合においては、公知のように、カラム方向における各セグメントのサブビット線が、カラム方向における他のセグメントのサブビット線と電気的に分離可能、例えば、選択トランジスタ等を介して、電気的に分離可能とすることが好ましい。また、1本のサブビット線に接続されるメモリセルの数が、1つのセグメント中の同一ワードラインに接続されるメモリセルの数よりも多いことが好ましい。これにより、メモリセルに対する選択トランジスタの占有面積比率を小さくすることができ、メモリの微細化を図ることができる。
上記のように、ロー方向に2セグメント化されたメモリのシークエンシャル・プログラム方式での書き込みを、図4〜図6に示す。
【0016】
図4は、セグメントのソースが隣接セグメントのドレインと向かい合って配置されている場合の書き込み方法を示す。また、図5は、セグメントのソースが、隣接のセグメントのソースと向かい合って配置されている場合の書き込み方法を示す。図6は、セグメントのソースが、隣接のセグメントのソースと共有されている。
なお、本発明の半導体装置においては、図6に示すように、1つのセグメントをさらに複数個、例えば、2つにサブセグメント化してもよく、この場合には、メインビット線を、選択トランジスタを介して、隣接するサブセグメントにおけるメモリセルにそれぞれ接続された2本のサブビット線と共有することができる。
また、このようにセグメント化及び/又はサブセグメント化されたメモリセルアレイは、図7〜図13に示すように、ビット線が、階層化されたサブビット線とメインビット線とから構成されていてもよい。
【0017】
図7では、メモリセルは、ワード線方向に2分割されており、セグメント中のサブビット線SBLはn+1個である。また、サブビット線SBLは、選択トランジスタ(図示せず)を介して、メインビット線MBL(図示せず)に接続される階層構造となっている。サブビット線SBLに接続されたセルのワード線WL数は、k個(n<k)となるように配置されている。
このように配置されることにより、メモリセルに対する選択トランジスタの占有面積の割合を小さくすることができ、より高集積化を図ることができる。
サブビット線SBLとメインビット線MBLの接続方法を、図8から図13に示す。
【0018】
図8では、1本のメインビット線MBLが、隣接する2つのセグメントのサブビット線SBLにて共有されており、これらのサブビット線SBLは、それぞれ2個の選択トランジスタSG1、SG2を介してメインビット線MBLに接続されている。これにより、同一セグメントにおけるメモリセルの各サブビット線に接続された選択トランジスタSG1のゲートに、同一電位を与えることができる。また、選択トランジスタSG1及びSG2のゲートに異なる電圧を印加することにより、隣接するセグメントで異なる電位を与えることができる。
なお、図8では、2つのセグメントにてメインビット線を共有しているが、3つ、4つ、5つ以上のセグメントにてメインビット線を共有していてもよい。
【0019】
このような構造では、選択トランジスタSG1をオン状態にし、選択トランジスタSG2をオフ状態にすることにより、セグメント1のセルに書き込みができる。この際のセグメント2のサブビット線SBLはフローティング状態であり、セグメント2のセルへは書き込みが行われない。セグメント2のセルへの書き込みは、同様に行うことができる。これにより、2個のセグメントによって1ビット書き込みが可能となる。
なお、このような接続を有するメモリセルアレイは、表1に示す印加電圧によって動作させることができる。ただし、印加電圧は、表1及び後述する表2に示された値に限定されるものではなく、これらに準じて適宜調節することができる。
【0020】
図9では、2つの隣接セグメントのソースを向い合わせて配置しており、1本のメインビット線MBLが、隣接するセグメントのサブビット線SBLにて、共有されている。これらのサブビット線SBLは、それぞれ2個の選択トランジスタSG1、SG2を介してメインビット線MBLに接続されており、ソースSLが同一ワード線に接続された、異なるセグメントで共有されている。
なお、このような接続を有するメモリセルアレイは、表1に示す印加電圧によって動作させることができる。
【0021】
図10では、2つの隣接セグメントのドレインを向い合わせて配置しており、1本のメインビット線MBLが、隣接するセグメントのサブビット線SBLにて共有されている。これらのサブビット線SBLは、それぞれ2個の選択トランジスタSG1、SG2を介してメインビット線MBLに接続されており、ソースSL線は同一ワード線に接続された、異なるセグメントで共有されている。
なお、このような接続を有するメモリセルアレイは、表1に示す印加電圧によって動作させることができる。
【0022】
図11では、2つの隣接サブセグメントのドレインを向い合わせて配置しており、ソースは、選択トランジスタを介することなく、隣接サブセグメントのソースと共有しており、1本のメインビット線MBLが、隣接するサブセグメントのサブビット線SBLにて共有されている。これらのサブビット線SBLは、それぞれ2個の選択トランジスタSG1、SG2を介してメインビット線MBLに接続されている。ソース線SLは異なるセグメントで共有されている。
なお、このような接続を有するメモリセルアレイは、表1に示す印加電圧によって動作させることができる。
【0023】
図12では、1つのセグメントが、隣接する2つのセグメントとの間で、メインビット線MBLを共有している。これにより、3つのセグメントによって1ビットを書き込むことができる。
なお、このような接続を有するメモリセルアレイは、表1に示す印加電圧によって動作させることができる。
図13では、1つのセグメントが2つのサブセグメントから構成されており、1つのサブセグメントが、隣接する2つのサブセグメントとの間で、ソース同士及びドレイン同士が向かい合うように配置している。ソースは、選択トランジスタを介することなく、隣接する2つのサブセグメントとの間で、ソースを共有している。ソースは、異なるサブセグメント間にて共有が可能である。また、1本のメインビット線MBLが、これらのサブセグメントのサブビット線に共有されている。これにより、3つのサブセグメントによって1ビットを書き込むことができる。
なお、このような接続を有するメモリセルアレイは、表2に示す印加電圧によって動作させることができる。
【0024】
【表1】
【0025】
【表2】
【0026】
【発明の効果】
本発明によれば、コンタクトレス・アレイ構造を採用した不揮発性メモリ装置において、同一ワードラインに接続される複数のメモリセルのうち、一方端のメモリセルから他方端のメモリセルへ順番に書き込みを行うことにより、セル面積を小さくして大容量化を実現しながら、隣接セルの状態にかかわらず、しきい値を精度よく制御することができ、高い信頼性で動作させることが可能となる。
また、本発明によれば、複数のメモリセルがマトリクス状に配置され、ロー方向に配置するメモリセルが2以上にセグメント化されてなることにより、選択セグメントのビット線のみ独立して電圧制御を行うことができ、バイアス発生回路の面積を縮小することができる。
さらに、ビット線が、階層化されたサブビット線とメインビット線とから構成されてなることにより、メインビット線のピッチ幅が階層化しない場合と比較して2倍となり、メインビット線の配線位置の影響をうけることなく、メモリセルのレイアウト等の設計の自由度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の不揮発性メモリ装置の書き込み方法を説明するための不揮発性メモリ装置の等価回路図である。
【図2】 通常の不揮発性メモリ装置の書き込みを行った場合の隣接セルの影響を説明するための等価回路図である。
【図3】 隣接セルがソース抵抗に及ぼす影響を示すグラフである。
【図4】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化されたアレイの書き込み方法を示す図である。
【図5】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化された別のアレイの書き込み方法を示す図である。
【図6】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化されたさらに別のアレイの書き込み方法を示す図である。
【図7】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化されたコンタクトレス・アレイを示す等価回路図である。
【図8】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化されたアレイのサブビット線及びメインビット線の接続を示す等価回路図である。
【図9】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化された別のアレイのサブビット線及びメインビット線の接続を示す等価回路図である。
【図10】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化されたさらに別のアレイのサブビット線及びメインビット線の接続を示す等価回路図である。
【図11】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化されたさらに別のアレイのサブビット線及びメインビット線の接続を示す等価回路図である。
【図12】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化されたさらに別のアレイのサブビット線及びメインビット線の接続を示す等価回路図である。
【図13】 本発明の不揮発性メモリ装置におけるロー方向にセグメント化されたさらに別のアレイのサブビット線及びメインビット線の接続を示す等価回路図である。
【図14】 従来のNOR型不揮発性メモリ装置の概略平面図である。
【図15】 従来のコンタクトレス・アレイセルの概略平面図である。
【符号の説明】
C メモリセル
WL ワードライン
BL ビットライン
SBL サブビットライン
MBL メインビットライン
SL ソース線
SSL サブソースライン
SG1、SG2 選択トランジスタ
SS サブセグメント
Claims (13)
- 複数のメモリセルがマトリクス状に配置され、ロー方向に配置するメモリセルが2以上にセグメント化されてなるコンタクトレス構造の不揮発性メモリ装置であって、
ロー方向におけるゲートが同一ワード線に接続され、
カラム方向に配置する複数のメモリセルにおけるソース及びドレインが、それぞれ同一サブビット線に接続され、かつ、
同一セグメントにおけるメモリセルのサブビット線が、ロー方向に隣接するメモリセルと共有してなるとともに、
各セグメントのサブビット線が、他のセグメントのサブビット線と電気的に分離され、
前記サブビット線が、それと階層化されたメインビット線と共にビット線を構成し、前記メインビット線が、選択トランジスタを介して、隣接するセグメントにおけるメモリセルにそれぞれ接続されたサブビット線と共有接続されていることを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置。 - 所定のセグメントの一方端におけるサブビット線と、これに隣接するセグメントの他方端におけるサブビット線とが、素子分離領域によって電気的に分離されてなる請求項1に記載の装置。
- セグメントがさらにサブセグメント化され、メインビット線が、選択トランジスタを介して、隣接するサブセグメントにおけるメモリセルにそれぞれ接続された2本のサブビット線と共有接続されてなる請求項1又は2に記載の装置。
- 1つのセグメント又はサブセグメントにおけるメモリセルに接続されるメインビット線が複数本あり、そのうちのいくつかのメインビット線は一方側に隣接するセグメント又はサブセグメントにおけるメモリセルと共有接続され、のこりのメインビット線は他方側に隣接するセグメント又はサブセグメントにおけるメモリセルと共有接続されてなる請求項3に記載の装置。
- 隣接するセグメント又はサブセグメントにおける最も近いサブビット線同士又は最も遠いサブビット線同士が、それぞれ選択トランジスタを介してソース線に接続されており、該ソース線が、同一ワード線に接続された複数のセグメント又はサブセグメントで共有されてなる請求項3に記載の装置。
- ロー方向に配置するセグメント又はサブセグメントの一方端のメモリセルにおいては、一方側のサブビット線を、一方側に隣接するセグメント又はサブセグメントの他方端のメモリセルの他方側のサブビット線と共有する請求項3に記載の装置。
- さらに、カラム方向に2以上のセグメントが形成され、カラム方向における各セグメントのビット線が、カラム方向における他のセグメントのビット線と電気的に分離可能であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つに記載の装置。
- 同一セグメント又はサブセグメントにおけるメモリセルの各サブビット線に接続された選択トランジスタのゲートが、同一電位が与えられるように配線されてなる請求項1〜7のいずれか1つに記載の装置。
- 選択トランジスタのゲートが、隣接セグメント又はサブセグメントで異なる電位が与えられるように配線されてなる請求項8に記載の装置。
- 1本のサブビット線に接続されるメモリセルの数が、1つのセグメント又はサブセグメント中の同一ワードラインに接続されるメモリセルの数よりも多い請求項1〜9のいずれか1つに記載の装置。
- 2セグメントにて同時に1ビットのみの書き込みを行うことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ装置の書き込み方法。
- 3セグメントにて同時に1ビットのみの書き込みを行うことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ装置の書き込み方法。
- チャンネルホットエレクトロンにより書き込みを行うことを特徴とする請求項1〜12のいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ装置の書き込み方法。
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