JP3822675B2 - 真空室を迅速に排気するための装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空室を、2つの段階で迅速に排気するための装置であって、第1の真空ポンプと、この第1の真空ポンプの吸込側を真空室に接続する吸込管片と、該吸込管片内に設けられた第1の遮断弁と、第1の真空ポンプに後置された第2の真空ポンプと、これら2つのポンプを互いに接続する接続導管内に配置された第2の遮断弁と、第2のポンプと第2の遮断弁との間の接続導管区分において第2の真空ポンプの吸込側に接続された副導管と、該副導管内に設けられた第3の遮断弁とから構成されており、該副導管が真空室内に開口しており、第1の段階で、第2の遮断弁が閉鎖され、第3の遮断弁が開放され、それによって第2のポンプの吸込管片が真空室に接続されるようになっており、第2の段階で、第2の遮断弁が開放され、第3の遮断弁が閉鎖され、それによって第2のポンプが第1のポンプのための予備真空ポンプとして使用されるようになっている形式のものに関する。
【0002】
【従来の技術】
大容積の室を迅速に排気するために、予備インテーク冷却されたルーツポンプとしての真空ポンプを備えたポンプ段がしばしば使用される。200mbarより低い圧力範囲まで排気したいような室では、多数のポンプ段を設けるのが適切である。真空室に直接配置される最大の真空ポンプとしてルーツポンプを使用し、これに後置されたポンプ段のために予備インテーク冷却されたルーツポンプおよび/またはその他の真空ポンプとの任意な組み合わせを選択することが公知である。予備インテーク冷却された最大のルーツポンプが排気のために真空室に接続される。これにより、大気圧直後からすでに大きな吸込能力が発揮される。この作動形式により、後置された(比較的小さい)真空ポンプは、この第1の真空ポンプにより吐き出された気体量を大気圧より低い圧力ではもはや吐き出すことができない。この場合、不所望な過圧の形成を阻止するために、一般的には第1のポンプ段と、第2のポンプ段との間に大気へのブローアウトフラップが組み込まれる。使用される真空ポンプの段分けに関連してテイクオーバ圧力(Uebernahmedruck)が生じ、それより低い圧力ではブローアウトフラップが閉鎖される。その理由は、第1のポンプ段により吐き出された質量流れを予備ポンプがいまや負圧範囲内で吐き出すことができるからである。テイクオーバ圧力より低い圧力ではじめて、予備ポンプ段が全吸込能力へ影響する。すなわち、それより高い圧力では予備ポンプ段は利用されないままとなる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題とするところは、ポンピング時間を短縮するように主真空ポンプと予備真空ポンプとを互いに組み合わせることにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の構成では、第1の段階で、さらに第1の遮断弁が開放され、それによって2つのポンプの吸込能力が合算されるようになっており、接続導管内の、第1のポンプの吸込管片と第2の遮断弁との間の接続導管区分内に、大気に通じるブローアウトフラップが設けられており、ブローアウトフラップを閉鎖するテイクオーバ圧力より低い圧力が生じると、第2の段階が開始されるようにした。
【0005】
【発明の効果】
本発明のように構成されていると、ポンピング時間を著しく短縮することができる。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明によれば種々の実施例が可能であり、その1つを図面に示して以下に説明する。
【0007】
図1に示す公知技術に基づく装置では、主真空ポンプ2がルーツポンプとして形成されていて、遮断弁4を備えた吸込管片3を介して真空室5に接続されている。他面において、主真空ポンプ2の吐出部は接続導管6を介して予備真空ポンプ7に接続されている。接続導管6内にはさらに予備インテーク冷却器8が配置されており、かつ分岐導管9内には消音器10とブローアウトフラップ11とが配置されている。ルーツポンプとしての主真空ポンプ2の著しい加熱を排除するために、主真空ポンプから吐き出されて予備インテーク冷却器8により冷却された気体媒体が、主真空ポンプ2の冷却のために予備インテーク導管18を介して、主真空ポンプ2に戻すことができる(図1および図3参照)。主真空ポンプ2と予備真空ポンプ7とが互いに前後に接続されているために、予備真空ポンプ7は排気過程の開始当初では非作用状態にある。
【0008】
本発明の目的は、この予備真空ポンプ7の吸込能力をテイクオーバ圧力より高い圧力でも排気のために使用することができるようにすることにある。このことは付加的な遮断弁12,13により行われる。これにより、一般的には予備真空ポンプ段がブローアウトフラップ11;17の存在により機能を失うような、テークオーバ圧力より高い圧力においても、予備真空ポンプ段を真空室5に直接的に接続することができる。この期間中には主真空ポンプ2;14の吸込能力のみならず予備真空ポンプ7;15の吸込能力も共に利用される。
【0009】
ポンプ作動順序
排気のために、遮断弁16,13が同時に開放され、遮断弁12が遮断されたままである。これにより、主真空ポンプ14と予備真空ポンプ15が並列的に真空室5を排気する。吸込能力は
S=S(14)+S(15)
である。
【0010】
主真空ポンプ14は吐き出された気体量を直接的にブローアウトフラップ17を介して大気へ放出する。
【0011】
テイクオーバ圧力より低い圧力を適当に選択しようとする場合には、副導管19内に配置された遮断弁13が閉鎖され、接続導管20内に配置された遮断弁12が開放される。予備真空ポンプ15がいまや主真空ポンプ14のための予備ポンプとして役立ち、予備真空ポンプ15により吸い込まれた全気体量を吐き出す。
【0012】
以上説明した手段により、段分けおよび所望の最終圧力に応じて10〜15%のポンピング時間の短縮が付加的なポンプなしに可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】公知技術に基づく主ポンプと予備ポンプとを備えた装置を示す図である。
【図2】直列並びに並列に接続可能な複数の真空ポンプを備えた本発明の装置の1実施例を示す図である。
【図3】予備インテーク導管を備えた本発明の別の実施例を示す図である。
【符号の説明】
2 主真空ポンプ、 3 吸込管片、 4 遮断弁、 5 真空室、 6 接続導管、 7 予備真空ポンプ、 8 予備インテーク冷却器、 9 分岐導管、 10 消音器、 11 ブローアウトフラップ、 12,13 遮断弁、 14 主真空ポンプ、 15 予備真空ポンプ、 16 遮断弁、 17 ブローアウトフラップ、 18 予備インテーク導管、 19 副導管、 20 接続導管

Claims (1)

  1. 真空室(5)を、2つの段階で迅速に排気するための装置であって、第1の真空ポンプ(14)と、この第1の真空ポンプ(14)の吸込側を真空室(5)に接続する吸込管片と、該吸込管片内に設けられた第1の遮断弁(16)と、第1の真空ポンプ(14)に後置された第2の真空ポンプ(15)と、これら2つのポンプ(14,15)を互いに接続する接続導管(20)内に配置された第2の遮断弁(12)と、第2のポンプ(15)と第2の遮断弁(12)との間の接続導管区分において第2の真空ポンプ(15)の吸込側に接続された副導管(19)と、該副導管(19)内に設けられた第3の遮断弁(13)とから構成されており、該副導管(19)が真空室(5)内に開口しており、
    第1の段階で、第2の遮断弁(12)が閉鎖され、第3の遮断弁(13)が開放され、それによって第2のポンプ(15)の吸込管片が真空室(5)に接続されるようになっており、第2の段階で、第2の遮断弁(12)が開放され、第3の遮断弁(13)が閉鎖され、それによって第2のポンプ(15)が第1のポンプ(14)のための予備真空ポンプとして使用されるようになっている形式のものにおいて、
    第1の段階で、さらに第1の遮断弁(16)が開放され、それによって2つのポンプの吸込能力が合算されるようになっており、
    接続導管(20)内の、第1のポンプ(14)の吸込管片と第2の遮断弁(12)との間の接続導管区分内に、大気に通じるブローアウトフラップ(17)が設けられており、
    ブローアウトフラップ(17)を閉鎖するテイクオーバ圧力より低い圧力が生じると、第2の段階が開始されるようになっている
    ことを特徴とする、真空室を迅速に排気するための装置。
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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19831123A1 (de) * 1998-07-11 2000-01-13 Pfeiffer Vacuum Gmbh Gasballasteinrichtung für mehrstufige Verdrängerpumpen
DE19929519A1 (de) * 1999-06-28 2001-01-04 Pfeiffer Vacuum Gmbh Verfahren zum Betrieb einer Mehrkammer-Vakuumanlage
DE19962445A1 (de) * 1999-12-22 2001-06-28 Leybold Vakuum Gmbh Trockenverdichtende Vakuumpumpe mit Gasballasteinrichtung
RO118309B1 (ro) * 2000-07-04 2003-04-30 Adrian Bodea Instalatie de vid pentru tratarea otelului
DE10144210A1 (de) * 2001-09-08 2003-03-27 Sgi Prozess Technik Gmbh Pumpensystem
US6589023B2 (en) 2001-10-09 2003-07-08 Applied Materials, Inc. Device and method for reducing vacuum pump energy consumption
SE519647C2 (sv) * 2002-05-03 2003-03-25 Piab Ab Vakuumpump och sätt att tillhandahålla undertryck
GB0214273D0 (en) * 2002-06-20 2002-07-31 Boc Group Plc Apparatus for controlling the pressure in a process chamber and method of operating same
GB0401396D0 (en) * 2004-01-22 2004-02-25 Boc Group Plc Pressure control method
JP4633370B2 (ja) * 2004-02-17 2011-02-16 財団法人国際科学振興財団 真空装置
EP1721330A2 (en) * 2004-03-05 2006-11-15 Oi Corporation Focal plane detector assembly of a mass spectrometer
DE102004059486A1 (de) * 2004-12-10 2006-06-22 Leybold Vacuum Gmbh Vakuum-Anlage
FR2883934B1 (fr) * 2005-04-05 2010-08-20 Cit Alcatel Pompage rapide d'enceinte avec limitation d'energie
KR100730323B1 (ko) 2007-03-15 2007-06-19 한국뉴매틱(주) 필터 카트리지를 이용한 진공 시스템
DE102007060174A1 (de) * 2007-12-13 2009-06-25 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Vakuumpumpe sowie Verfahren zum Betreiben einer Vakuumpumpe
US8042566B2 (en) 2008-07-23 2011-10-25 Atmel Corporation Ex-situ component recovery
ES2731202T3 (es) * 2009-12-24 2019-11-14 Sumitomo Seika Chemicals Aparato de doble bomba de vacío, sistema de purificación de gas dotado de aparato con doble bomba de vacío y dispositivo de supresión de vibraciones del gas de escape en un aparato con doble bomba de vacío
GB201007814D0 (en) * 2010-05-11 2010-06-23 Edwards Ltd Vacuum pumping system
FR2967219B1 (fr) * 2010-11-05 2012-12-07 Centre Nat Rech Scient Installation de pompage pour l'obtention d'un vide pousse et procede de pompage mettant en oeuvre une telle installation
DE102011015464B4 (de) * 2010-11-30 2012-09-06 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Vakuumpumpeinrichtung und -verfahren für staubhaltige Gase
CH706231B1 (fr) * 2012-03-05 2016-07-29 Ateliers Busch Sa Installation de pompage et procédé de contrôle d'une telle installation.
KR101995358B1 (ko) 2012-06-28 2019-07-02 스털링 인더스트리 컨설트 게엠베하 챔버를 배기시키기 위한 방법 및 펌프 장치
DE102013108090A1 (de) * 2013-07-29 2015-01-29 Hella Kgaa Hueck & Co. Pumpenanordnung
DE102013219464A1 (de) 2013-09-26 2015-03-26 Inficon Gmbh Evakuierung einer Folienkammer
DE102013223556A1 (de) * 2013-11-19 2015-05-21 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Vakuumpumpen-System sowie Verfahren zum Betreiben eines Vakuumpumpen-Systems
FR3017425A1 (fr) * 2014-02-12 2015-08-14 Adixen Vacuum Products Systeme de pompage et procede de descente en pression dans un sas de chargement et de dechargement
KR101505505B1 (ko) 2014-03-24 2015-03-24 주식회사 누리텍 유기 랭킨 사이클용 유기용매 공급장치
AT14171U1 (de) * 2014-04-15 2015-05-15 Tropper Maschinen Und Anlagen Gmbh Fahrzeug, insbesondere zur Futteraufbereitung
CN104863857B (zh) * 2015-04-15 2017-02-22 武汉新芯集成电路制造有限公司 一种抽气泵的抽气系统及抽气泵
DE202016007609U1 (de) 2016-12-15 2018-03-26 Leybold Gmbh Vakuumpumpsystem
CN113056610B (zh) * 2018-11-15 2023-03-31 福斯管理公司 用于抽空超大体积的设备和方法
GB2579360A (en) * 2018-11-28 2020-06-24 Edwards Ltd Multiple chamber vacuum exhaust system
US11815095B2 (en) * 2019-01-10 2023-11-14 Elival Co., Ltd Power saving vacuuming pump system based on complete-bearing-sealing and dry-large-pressure-difference root vacuuming root pumps
US11492020B2 (en) 2020-05-05 2022-11-08 Flowserve Management Company Method of intelligently managing pressure within an evacuated transportation system

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2652188A (en) * 1948-07-08 1953-09-15 Cyr Rob Roy Automatic tank pump down
DE1024668B (de) * 1955-08-31 1958-02-20 Erwin Lothar Holland Merten Mehrstufige Hochvakuumpumpe
DE1114981B (de) * 1960-06-29 1961-10-12 Leybolds Nachfolger E Verfahren zur Evakuierung von Behaeltern, welche dampffoermige Bestandteile neben Permanentgasen enthalten, und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
DD96304A1 (ja) * 1972-02-29 1973-03-12
DE2462187A1 (de) * 1974-06-24 1976-09-02 Siemens Ag Fluessigkeitsring-vakuumpumpe mit vorgeschaltetem seitenkanal-ringverdichter
DD118144B1 (de) * 1975-05-07 1988-11-30 Lothar Reissmueller Verfahren und einrichtung zur schnellen evakuierung kleiner behaelter
US4505647A (en) * 1978-01-26 1985-03-19 Grumman Allied Industries, Inc. Vacuum pumping system
DD200534A1 (de) * 1981-08-10 1983-05-11 Siegfried Panzer Verfahren zur periodischen evakuierung eines rezipienten
DE3573152D1 (en) * 1984-04-11 1989-10-26 Hitachi Ltd Screw type vacuum pump
DE3639512A1 (de) * 1986-11-20 1988-06-01 Alcatel Hochvakuumtechnik Gmbh Vakuumpumpsystem mit einer waelzkolbenpumpe
US4850806A (en) * 1988-05-24 1989-07-25 The Boc Group, Inc. Controlled by-pass for a booster pump
FR2640697B1 (fr) * 1988-12-16 1993-01-08 Cit Alcatel Ensemble de pompage pour l'obtention de vides eleves
JPH076496B2 (ja) * 1990-01-19 1995-01-30 日東工器株式会社 真空ポンプにおける吸引系切換装置
JPH04326943A (ja) * 1991-04-25 1992-11-16 Hitachi Ltd 真空排気システム及び排気方法
DE4136950A1 (de) * 1991-11-11 1993-05-13 Pfeiffer Vakuumtechnik Mehrstufiges vakuumpumpsystem
DE4213763B4 (de) * 1992-04-27 2004-11-25 Unaxis Deutschland Holding Gmbh Verfahren zum Evakuieren einer Vakuumkammer und einer Hochvakuumkammer sowie Hochvakuumanlage zu seiner Durchführung
DE19500823A1 (de) * 1995-01-13 1996-07-18 Sgi Prozess Technik Gmbh Vakuum-Pumpstand

Also Published As

Publication number Publication date
EP0752531B2 (de) 2003-06-18
DE19524609A1 (de) 1997-01-09
EP0752531B1 (de) 1998-11-04
EP0752531A1 (de) 1997-01-08
DE59600761D1 (de) 1998-12-10
KR100221782B1 (ko) 1999-10-01
ES2124052T3 (es) 1999-01-16
ES2124052T5 (es) 2004-03-16
US6004109A (en) 1999-12-21
JPH0925876A (ja) 1997-01-28
KR970008325A (ko) 1997-02-24

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