JPS63232833A - 真空装置の排気方法 - Google Patents
真空装置の排気方法Info
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- JPS63232833A JPS63232833A JP6383387A JP6383387A JPS63232833A JP S63232833 A JPS63232833 A JP S63232833A JP 6383387 A JP6383387 A JP 6383387A JP 6383387 A JP6383387 A JP 6383387A JP S63232833 A JPS63232833 A JP S63232833A
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- JP
- Japan
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- exhaust
- pump
- vacuum
- molecular
- vacuum chamber
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- Pending
Links
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- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は真空装置の排気方法に係り、特に分子線エピタ
キシ装置など、異物の混入を特に否とする半導体装置に
好適な真空装置の排気方法に係る。
キシ装置など、異物の混入を特に否とする半導体装置に
好適な真空装置の排気方法に係る。
分子線エピタキシ装置にターボ分子ポンプが使用される
ようになったのはごく近年であるが、一般に市販されて
いるターボ分子ポンプはその到達圧力が要求される圧力
を満足せず必らず他の真空ポンプの助けを借りていた。
ようになったのはごく近年であるが、一般に市販されて
いるターボ分子ポンプはその到達圧力が要求される圧力
を満足せず必らず他の真空ポンプの助けを借りていた。
真空引きの際の気流の乱れによる塵埃の巻き上げ防止を
目的として。
目的として。
エツチング装置などでは、油回転ポンプの吸入口上流か
ら、メインの排気管の他に、小径の排気管を処理室にバ
イパスして接続して、排気を衝撃的に行わない様にした
ものがあるが、分子線エピタキシ装置などの真空装置に
ついては、油回転ポンプと、真空室を直接接続すること
は油汚染の元であるため好ましくない。
ら、メインの排気管の他に、小径の排気管を処理室にバ
イパスして接続して、排気を衝撃的に行わない様にした
ものがあるが、分子線エピタキシ装置などの真空装置に
ついては、油回転ポンプと、真空室を直接接続すること
は油汚染の元であるため好ましくない。
なお、この種の装置として関連するものには例えば昭和
６１年７月１３日発行「日刊工業新聞」に掲載される如
きものが挙げられる。
６１年７月１３日発行「日刊工業新聞」に掲載される如
きものが挙げられる。
ターボ分子ポンプは、その取扱いの便利さから注目を浴
びているが、到達圧力が要求圧力に対して不足する。
びているが、到達圧力が要求圧力に対して不足する。
又、ターボ分子ポンプは分子流での排気を前提とするた
め吸入口は一般に大径であって、スロー排気の系を構成
するには不便であるなどの問題があった。
め吸入口は一般に大径であって、スロー排気の系を構成
するには不便であるなどの問題があった。
本発明の目的は、上記問題点を全て解決して、超高真空
を容易に得ることができ、クリーンな状態で緩慢な排気
から正規排気が可能で、衝撃的な気体の流れがないため
異物を巻上げないで静かな排気を行うことができる真空
装置の排気方法を提供することにある。
を容易に得ることができ、クリーンな状態で緩慢な排気
から正規排気が可能で、衝撃的な気体の流れがないため
異物を巻上げないで静かな排気を行うことができる真空
装置の排気方法を提供することにある。
上記目的を達成するために１本発明では下記の方法によ
り構成する。
り構成する。
１．１次のターボ分子ポンプの吐出口を２次のターボ分
子ポンプの吸入口と接続し、ターボ分子ポンプの圧縮比
を大きくし、１次のターボ分子ポンプの吸入口での見か
け上の到達圧力を装置の要求する圧力に見合うか、それ
以下にする。
子ポンプの吸入口と接続し、ターボ分子ポンプの圧縮比
を大きくし、１次のターボ分子ポンプの吸入口での見か
け上の到達圧力を装置の要求する圧力に見合うか、それ
以下にする。
２．１次のターボ分子ポンプと２次のターボ分子ポンプ
を接続する管路から、真空室へバイパスして管路を設け
、真空引きを開始する時はバイパス管路から真空引きし
、流れがなくなって（分子流域に入ってから）メインの
管路を用いて真空引きをする。この時、２次のターボ分
子ポンプの排気速度を１次のターボ分子ポンプの５分の
１以下に選ぶ事によって、バイパスの管路が過大になる
ことを規制する。
を接続する管路から、真空室へバイパスして管路を設け
、真空引きを開始する時はバイパス管路から真空引きし
、流れがなくなって（分子流域に入ってから）メインの
管路を用いて真空引きをする。この時、２次のターボ分
子ポンプの排気速度を１次のターボ分子ポンプの５分の
１以下に選ぶ事によって、バイパスの管路が過大になる
ことを規制する。
以上の様に構成すると、油回転ポンプで真空引きして、
粘性流域から分子流域に遷移する前に２次のターボ分子
をポンプは十分に加速され、排気能力を発揮するので、
油回転ポンプからの油拡散は２次のターボ分子ポンプで
遮断され、真空室が汚染されることがない。
粘性流域から分子流域に遷移する前に２次のターボ分子
をポンプは十分に加速され、排気能力を発揮するので、
油回転ポンプからの油拡散は２次のターボ分子ポンプで
遮断され、真空室が汚染されることがない。
大気の状態にある真空室を真空引きしようとする時、１
次のターボ分子ポンプの吸入口側のバルブを締切り、バ
イパス管路のバルブ及び、ターボ分子ポンプと油回転ポ
ンプの間にあるバルブを開にし、て、各々のポンプを同
時に起動する。
次のターボ分子ポンプの吸入口側のバルブを締切り、バ
イパス管路のバルブ及び、ターボ分子ポンプと油回転ポ
ンプの間にあるバルブを開にし、て、各々のポンプを同
時に起動する。
油回輌ポンプは直ちに真空引きを初ぬるが、ターボ分子
ポンプはローターが起動され、加速されるのみで、一定
の回転数に達する迄は殆どポンプ作用をしない。
ポンプはローターが起動され、加速されるのみで、一定
の回転数に達する迄は殆どポンプ作用をしない。
真空室はバイパス管路から徐々に排気（スロー排気）さ
れる、ターボ分子ポンプは油回転ポンプによる真空引き
により、大気が希蒋になるにつれて加速が増し、ポンプ
作用を行う様になる。バイパス管路からの排気によって
真空室が十分１分子流域の圧力に達した後に、１次のタ
ーボ分子ポンプの吸入口のバルブを開け、バイパス管路
中のバルブを閉とすることによって、到達圧力迄の達成
を容易にする。
れる、ターボ分子ポンプは油回転ポンプによる真空引き
により、大気が希蒋になるにつれて加速が増し、ポンプ
作用を行う様になる。バイパス管路からの排気によって
真空室が十分１分子流域の圧力に達した後に、１次のタ
ーボ分子ポンプの吸入口のバルブを開け、バイパス管路
中のバルブを閉とすることによって、到達圧力迄の達成
を容易にする。
以下、本発明の一実施例を図によって説明する。
真空室１に排気ダクト２が設けてあり、バルブ３を介し
てターボ分子ポンプ４が設けられている。
てターボ分子ポンプ４が設けられている。
ターボ分子ポンプ３の吐出口管路には途中にバイパス管
路７が設けてあり、バイパス管路７はバルブ８を介して
、ダクト２あるいは真空室１に接続される。管ｙ＆５の
他端は２次のターボ分子ポンプ６の吸入口に接続され、
ターボ分子ポンプ６の吐出口はバルブ９を介して、油回
転ポンプ１０に接続されている。
路７が設けてあり、バイパス管路７はバルブ８を介して
、ダクト２あるいは真空室１に接続される。管ｙ＆５の
他端は２次のターボ分子ポンプ６の吸入口に接続され、
ターボ分子ポンプ６の吐出口はバルブ９を介して、油回
転ポンプ１０に接続されている。
バルブｉｔ、１２および絞り弁１３はリークのために設
けであるもので１通常はバルブ１１は開、バルブ１２は
閑となっている。
けであるもので１通常はバルブ１１は開、バルブ１２は
閑となっている。
大気の状態にある真空室１を真空に引く場合は。
バルブ３を閉に、バルブ８及び９を開にして、各各のポ
ンプを起動する。
ンプを起動する。
油回転ポンプ１０は管路７から真空室１を真空引きする
と同時に、管路５からターボ分子ポンプ４の内部を真空
引きする。バイパス管路７は十分小さい面積を有し、真
空室１をスロー排気する。
と同時に、管路５からターボ分子ポンプ４の内部を真空
引きする。バイパス管路７は十分小さい面積を有し、真
空室１をスロー排気する。
その間にターボ分子ポンプ４及び６は加速されて、ポン
プ作用を開始し、分子流域で油回転ポンプからの油の逆
流によって、真空室１が汚染することを防止する。
プ作用を開始し、分子流域で油回転ポンプからの油の逆
流によって、真空室１が汚染することを防止する。
真空室１が分子流域の圧力に到達した後で、バルブ３を
開はバルブ８を閉じて、排気ダク１〜２から排気する。
開はバルブ８を閉じて、排気ダク１〜２から排気する。
これによって排気速度が大となり、真空到達を早くする
と共に、ターボ分子ポンプが２段に作用するので、ター
ボ分子ポンプ４の見掛は上の到達圧力が低くできる。
と共に、ターボ分子ポンプが２段に作用するので、ター
ボ分子ポンプ４の見掛は上の到達圧力が低くできる。
真空になっている真空室１をリークする場合は、バルブ
１１を閉とし、バルブ１２を開とすることによって、絞
り１３を通じてリークされ、締りの径を適当に選ぶこと
により、スローリークが可能である。絞り１３だけでリ
ークすると長時間を要するので適当な圧力以上になった
時でバルブ１１を開にして、リーク時間を縮めることも
できる。
１１を閉とし、バルブ１２を開とすることによって、絞
り１３を通じてリークされ、締りの径を適当に選ぶこと
により、スローリークが可能である。絞り１３だけでリ
ークすると長時間を要するので適当な圧力以上になった
時でバルブ１１を開にして、リーク時間を縮めることも
できる。
本発明によれば、一般に市販されているターボ分子ポン
プを組合せて使用することによって１分子線エピタキシ
装置などで要求される超高真空を容易に得ることができ
、クリーンな状態で緩慢な排気から正規排気が可能で、
衝撃的な気体の流れがないため異物を巻上げないで静か
な排気を行うことができる。
プを組合せて使用することによって１分子線エピタキシ
装置などで要求される超高真空を容易に得ることができ
、クリーンな状態で緩慢な排気から正規排気が可能で、
衝撃的な気体の流れがないため異物を巻上げないで静か
な排気を行うことができる。
図面は本発明の排気方法の説明図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空排気をするターボ分子ポンプの吐出し口に、他
のターボ分子ポンプを接続して、然る後に、油回転ポン
プなどの粗引きポンプを接続する真空装置の排気方法に
おいて、２つのターボ分子ポンプの真空排気速度（窒素
換算）の比率が５：１以上であることを特徴とする真空
装置の排気方法。 ２、特許請求の範囲第１項の方法において、２つのター
ボ分子ポンプの間の管路に、締切弁を介して、真空室へ
通ずる別の管路を設けたことを特徴とする真空装置の排
気方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6383387A JPS63232833A (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | 真空装置の排気方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6383387A JPS63232833A (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | 真空装置の排気方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63232833A true JPS63232833A (ja) | 1988-09-28 |
Family
ID=13240746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6383387A Pending JPS63232833A (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | 真空装置の排気方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63232833A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04281834A (ja) * | 1991-03-07 | 1992-10-07 | Nec Yamagata Ltd | 真空装置 |
-
1987
- 1987-03-20 JP JP6383387A patent/JPS63232833A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04281834A (ja) * | 1991-03-07 | 1992-10-07 | Nec Yamagata Ltd | 真空装置 |
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