JP3098907B2 - 蒸気式真空排気装置のガス排出装置 - Google Patents
蒸気式真空排気装置のガス排出装置Info
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- JP3098907B2 JP3098907B2 JP06083431A JP8343194A JP3098907B2 JP 3098907 B2 JP3098907 B2 JP 3098907B2 JP 06083431 A JP06083431 A JP 06083431A JP 8343194 A JP8343194 A JP 8343194A JP 3098907 B2 JP3098907 B2 JP 3098907B2
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- gas
- exhaust
- fan
- type vacuum
- exhaust gas
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空中で溶鋼の脱ガスを
行う、溶鋼二次精錬分野の真空排気装置に関するもので
ある。
行う、溶鋼二次精錬分野の真空排気装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来、真空二次精錬処理で発生した有害
な排ガスを積極的に排出するためのガス排出装置には、
図３に示す、排出ダクト３に設けるサージング防止の流
量調節機構５を備えた強制排出ファン２からなるガス排
出装置、図４に示す、排出ダクト３に設ける強制排出フ
ァン２とサージング防止の流量調節機構５を備えた吸入
ダクトからなるガス排出装置、および図５に示す排出ダ
クト３に希釈エアを押し込む、押し込みファン６からな
るガス排出装置があった。
な排ガスを積極的に排出するためのガス排出装置には、
図３に示す、排出ダクト３に設けるサージング防止の流
量調節機構５を備えた強制排出ファン２からなるガス排
出装置、図４に示す、排出ダクト３に設ける強制排出フ
ァン２とサージング防止の流量調節機構５を備えた吸入
ダクトからなるガス排出装置、および図５に示す排出ダ
クト３に希釈エアを押し込む、押し込みファン６からな
るガス排出装置があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図３のガス排出装置
は、蒸気式真空排気装置の排ガス充満部は常に負圧にな
るため、有害な排ガスが機器の隙間からリークすること
は防げるものの、濃度の高い有害な排ガスをそのまま大
気に放出することとなり、大気放散部周辺に有害な雰囲
気が生じる可能性が高く、そのために大気放散部はガス
拡散条件を考慮した場所に設置しなければならず、工場
レイアウトを決定する上で甚だ不利であった。さらに真
空排気装置の排ガス量が大きく変動することから、強制
排出ファンには真空排気装置の瞬間最大流量に応じた大
容量の排出能力が必要となる上、サージングを防止する
ために排出ガス量変動に追従する流量調節機構を備える
必要があり、経済的とはいえなかった。
は、蒸気式真空排気装置の排ガス充満部は常に負圧にな
るため、有害な排ガスが機器の隙間からリークすること
は防げるものの、濃度の高い有害な排ガスをそのまま大
気に放出することとなり、大気放散部周辺に有害な雰囲
気が生じる可能性が高く、そのために大気放散部はガス
拡散条件を考慮した場所に設置しなければならず、工場
レイアウトを決定する上で甚だ不利であった。さらに真
空排気装置の排ガス量が大きく変動することから、強制
排出ファンには真空排気装置の瞬間最大流量に応じた大
容量の排出能力が必要となる上、サージングを防止する
ために排出ガス量変動に追従する流量調節機構を備える
必要があり、経済的とはいえなかった。
【０００４】同様に図４のガス排出装置も、蒸気式真空
排気装置の排ガス充満部を常に負圧に保つことができ、
かつ有害な排ガスを希釈することができたが、強制排出
ファンには真空排気装置の瞬間最大流量に応じた大容量
の排出能力が必要であることと、吸入ダクトにはファン
のサージングを防止するための吸入エア調節機構を備え
る必要があり経済的とはいえなかった。さらに図５のガ
ス排出装置では、希釈エアを吸い込むため、有害な排ガ
スは人体に無害な程度まで希釈されるものの、蒸気式真
空排気装置の排ガス充満部は押し込みファンの圧力で正
圧となるため、機器に隙間が生じた場合、有害な排ガス
がリークする危険性を有していた。
排気装置の排ガス充満部を常に負圧に保つことができ、
かつ有害な排ガスを希釈することができたが、強制排出
ファンには真空排気装置の瞬間最大流量に応じた大容量
の排出能力が必要であることと、吸入ダクトにはファン
のサージングを防止するための吸入エア調節機構を備え
る必要があり経済的とはいえなかった。さらに図５のガ
ス排出装置では、希釈エアを吸い込むため、有害な排ガ
スは人体に無害な程度まで希釈されるものの、蒸気式真
空排気装置の排ガス充満部は押し込みファンの圧力で正
圧となるため、機器に隙間が生じた場合、有害な排ガス
がリークする危険性を有していた。
【０００５】本発明は、かかる問題点を解決し、溶鋼二
次精錬の蒸気式真空排気装置の有害なガスのリーク防止
と、有害な排ガスの希釈という２つの条件を、経済的な
設備構成で実現することを目的とする。
次精錬の蒸気式真空排気装置の有害なガスのリーク防止
と、有害な排ガスの希釈という２つの条件を、経済的な
設備構成で実現することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、溶鋼二次精錬
の蒸気式真空排気装置のガス排出装置において、強制排
出ファンを蒸気式真空排気装置から排出される排ガスの
排出ダクトに結合する。この時強制排出ファンの排出能
力は、溶鋼二次精錬処理において発生する有害な排ガス
の最大量と、その有害な排ガスを人体に無害な濃度まで
希釈するのに必要なエア量を排出できる以上のものとす
る。そして、排出ダクトに、排出ガスが強制排出ファン
の排出能力より多い時に排ガスを排出し、排出ガスが少
ない時に大気を吸入する大気吸込兼排出管を配する。
の蒸気式真空排気装置のガス排出装置において、強制排
出ファンを蒸気式真空排気装置から排出される排ガスの
排出ダクトに結合する。この時強制排出ファンの排出能
力は、溶鋼二次精錬処理において発生する有害な排ガス
の最大量と、その有害な排ガスを人体に無害な濃度まで
希釈するのに必要なエア量を排出できる以上のものとす
る。そして、排出ダクトに、排出ガスが強制排出ファン
の排出能力より多い時に排ガスを排出し、排出ガスが少
ない時に大気を吸入する大気吸込兼排出管を配する。
【０００７】
【作用】本発明では溶鋼二次精錬処理で有害なガスが発
生する時には、蒸気式真空排気装置の排ガス充満部を強
制排出ファンの吸引力により常に負圧に保つことができ
るため、機器に隙間が生じても有害な排ガスを外部にリ
ークすることがなく、同時に大気吸込兼排出管からエア
を吸い込み、有害なガスを人体に無害となる濃度まで希
釈するという作用を有している。さらに本発明では初期
排気時の無害な大流量の排ガスを大気吸込兼排出管から
排出することで、ファンは小流量の有害なガスとそれを
希釈するのに十分なエアを加えた量のガスを強制排出す
るだけの能力を持てばよく、また大気と排ガスの混合気
体の量は常に一定となることより、複雑なガス量制御機
構は不要な構成となっている。従って小容量のファンと
ガス量制御機構不要という点で従来の強制排出ファンを
用いたガス排出装置に比べて大幅に安価な設備費で、溶
鋼二次精錬の蒸気式真空排気装置の有害なガスのリーク
防止と、有害な排ガスの希釈が実現できる。
生する時には、蒸気式真空排気装置の排ガス充満部を強
制排出ファンの吸引力により常に負圧に保つことができ
るため、機器に隙間が生じても有害な排ガスを外部にリ
ークすることがなく、同時に大気吸込兼排出管からエア
を吸い込み、有害なガスを人体に無害となる濃度まで希
釈するという作用を有している。さらに本発明では初期
排気時の無害な大流量の排ガスを大気吸込兼排出管から
排出することで、ファンは小流量の有害なガスとそれを
希釈するのに十分なエアを加えた量のガスを強制排出す
るだけの能力を持てばよく、また大気と排ガスの混合気
体の量は常に一定となることより、複雑なガス量制御機
構は不要な構成となっている。従って小容量のファンと
ガス量制御機構不要という点で従来の強制排出ファンを
用いたガス排出装置に比べて大幅に安価な設備費で、溶
鋼二次精錬の蒸気式真空排気装置の有害なガスのリーク
防止と、有害な排ガスの希釈が実現できる。
【０００８】
【実施例】図１は本発明の蒸気式真空排気装置のガス排
出装置の装置構成略図であり、以下この図に基づいて説
明する。
出装置の装置構成略図であり、以下この図に基づいて説
明する。
【０００９】蒸気式真空排気装置１は、真空とする対象
から吸い込んだガスをコンデンサー１ａ、気水分離器１
ｂおよび密閉貯水槽１ｃから排出する。この排ガスは、
真空度が低い初期排気時は膨大な量となるが、真空とす
る対象の真空度が高くなるにつれて小量になるという特
性を持っている。
から吸い込んだガスをコンデンサー１ａ、気水分離器１
ｂおよび密閉貯水槽１ｃから排出する。この排ガスは、
真空度が低い初期排気時は膨大な量となるが、真空とす
る対象の真空度が高くなるにつれて小量になるという特
性を持っている。
【００１０】これらの排ガスは強制排出ファン２に吸引
され、排出ダクト３から大気に放出されるが、人体に有
害であるため、大気放出前にエアで希釈する必要があ
る。しかしながら溶鋼二次精錬操業では排ガスが有害成
分を含むのは高真空になった時で、排ガス量は少なくな
っている。そこで強制排出ファン２を有害なガスとそれ
を希釈するに十分なエア量を加えた量のガスを排出でき
るだけの能力で、小量の有毒ガスは、強制排出ファン２
の排出能力を満たすために大気吸込兼排出管４から吸入
されたエアで人体に害をなさない濃度まで希釈されて大
気に放出される。また低真空時の排出能力を超える無害
な排ガスは、大気吸込兼排出管４から大気に放出され
る。
され、排出ダクト３から大気に放出されるが、人体に有
害であるため、大気放出前にエアで希釈する必要があ
る。しかしながら溶鋼二次精錬操業では排ガスが有害成
分を含むのは高真空になった時で、排ガス量は少なくな
っている。そこで強制排出ファン２を有害なガスとそれ
を希釈するに十分なエア量を加えた量のガスを排出でき
るだけの能力で、小量の有毒ガスは、強制排出ファン２
の排出能力を満たすために大気吸込兼排出管４から吸入
されたエアで人体に害をなさない濃度まで希釈されて大
気に放出される。また低真空時の排出能力を超える無害
な排ガスは、大気吸込兼排出管４から大気に放出され
る。
【００１１】図２の（ａ）は蒸気式真空排気装置から排
出されるガスの流量Ｑ0 と二次精錬処理時間の関係を示
している。この例では初期真空排気時に２１，０００ｍ
3 ／ｈの排ガスＱ0 は真空度が３００Torr、１０Torrと
低下するにつれて１４，７６０ｍ3 ／ｈ、５，０００ｍ
3 ／ｈと減少していることを示している。本実施例では
人体に有害なガスが発生するのは真空度が１０Torr以下
であり、またこのガスを人体に無害な濃度まで希釈する
のに必要な希釈倍率は約３倍であった。そこで強制排出
ファンの排出能力は１０Torr時に発生する有害排ガス量
５，０００ｍ3／ｈの約３倍の１４，７６０ｍ3 ／ｈあ
ればよかった。
出されるガスの流量Ｑ0 と二次精錬処理時間の関係を示
している。この例では初期真空排気時に２１，０００ｍ
3 ／ｈの排ガスＱ0 は真空度が３００Torr、１０Torrと
低下するにつれて１４，７６０ｍ3 ／ｈ、５，０００ｍ
3 ／ｈと減少していることを示している。本実施例では
人体に有害なガスが発生するのは真空度が１０Torr以下
であり、またこのガスを人体に無害な濃度まで希釈する
のに必要な希釈倍率は約３倍であった。そこで強制排出
ファンの排出能力は１０Torr時に発生する有害排ガス量
５，０００ｍ3／ｈの約３倍の１４，７６０ｍ3 ／ｈあ
ればよかった。
【００１２】図２の（ｂ）は大気吸込兼排出管から放出
される排ガスまたは吸入されるエアの流量Ｑ1 と二次精
錬処理時間の関係を示している。低真空時にはＱ1 は正
の値であり、大気吸込兼排出管から排ガスが放出され、
真空度が３００Torr以上になった時にはこれが負の値と
なり、１０Torrに達して排ガスが有害成分を含むように
なった時点では、９，７６０ｍ3 ／ｈのエアを吸入する
ことで有害な排ガスを所定の濃度の１４，７６０ｍ3 ／
ｈまで希釈していることを示している。
される排ガスまたは吸入されるエアの流量Ｑ1 と二次精
錬処理時間の関係を示している。低真空時にはＱ1 は正
の値であり、大気吸込兼排出管から排ガスが放出され、
真空度が３００Torr以上になった時にはこれが負の値と
なり、１０Torrに達して排ガスが有害成分を含むように
なった時点では、９，７６０ｍ3 ／ｈのエアを吸入する
ことで有害な排ガスを所定の濃度の１４，７６０ｍ3 ／
ｈまで希釈していることを示している。
【００１３】図２の（ｃ）は強制排出ファンから排出さ
れるガス量Ｑ2 と二次精錬処理時間の関係を示してお
り、処理時間を通じてＱ2 が一定であり、複雑なガス量
制御機構を用いなくとも強制排出ファンがサージングを
生じることがないことを示している。
れるガス量Ｑ2 と二次精錬処理時間の関係を示してお
り、処理時間を通じてＱ2 が一定であり、複雑なガス量
制御機構を用いなくとも強制排出ファンがサージングを
生じることがないことを示している。
【００１４】
【発明の効果】本発明は、蒸気式真空排気装置の排ガス
充満部を常に負圧に保つことで、有害な排ガスの機器隙
間からのリークを防止する機能と、有害な排ガスを大気
と混合し、人体に無害な濃度まで希釈する機能を、制御
機構を全く必要としない小容量のファンで実現できると
いう安全かつ経済的なガス排出装置を提供できる。
充満部を常に負圧に保つことで、有害な排ガスの機器隙
間からのリークを防止する機能と、有害な排ガスを大気
と混合し、人体に無害な濃度まで希釈する機能を、制御
機構を全く必要としない小容量のファンで実現できると
いう安全かつ経済的なガス排出装置を提供できる。
【図１】本発明の装置構成を表す略図。
【図２】（ａ）は蒸気式真空排気装置から排出されるガ
スの流量と二次精錬処理時間の関係を、（ｂ）は大気吸
込兼排出管から放出される排ガスまたは吸入されるエア
の流量と二次精錬処理時間の関係を、（ｃ）は強制排出
ファンから排出されるガス量と二次精錬処理時間の関係
を示す図。
スの流量と二次精錬処理時間の関係を、（ｂ）は大気吸
込兼排出管から放出される排ガスまたは吸入されるエア
の流量と二次精錬処理時間の関係を、（ｃ）は強制排出
ファンから排出されるガス量と二次精錬処理時間の関係
を示す図。
【図３】従来技術の装置構成略図。
【図４】従来装置の他の例を示す構成略図。
【図５】従来装置のさらに別の例を示す構成略図。
１ 蒸気式真空排気装置 １ａ コンデンサー １ｂ 気水分離器 １ｃ 密閉貯水槽 ２ 強制排出ファン ３ 排出ダクト ４ 大気吸込兼排出管 ５ 流量調節機構 ６ 押し込みファン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−56714（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−282414（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−125050（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C21C 5/40,7/00,7/10 F27D 17/00 F01N 3/30,3/34
Claims (1)
- 【請求項１】 溶鋼二次精錬の蒸気式真空排気装置のガ
ス排出装置において、蒸気式真空排気装置から排出され
る排ガスの排出ダクトに、強制排出ファンを設け、該フ
ァンの入り側に、大気吸込兼排出管を配したことを特徴
とする蒸気式真空排気装置のガス排出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06083431A JP3098907B2 (ja) | 1994-04-21 | 1994-04-21 | 蒸気式真空排気装置のガス排出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06083431A JP3098907B2 (ja) | 1994-04-21 | 1994-04-21 | 蒸気式真空排気装置のガス排出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07292408A JPH07292408A (ja) | 1995-11-07 |
| JP3098907B2 true JP3098907B2 (ja) | 2000-10-16 |
Family
ID=13802256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06083431A Expired - Fee Related JP3098907B2 (ja) | 1994-04-21 | 1994-04-21 | 蒸気式真空排気装置のガス排出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3098907B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100807441B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2008-02-25 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 가스 누설 검지 시스템, 가스 누설 검지 방법 및 반도체제조 장치 |
-
1994
- 1994-04-21 JP JP06083431A patent/JP3098907B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07292408A (ja) | 1995-11-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000725 |
|
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