JP3594104B2 - 電子写真プロセス - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真感光体及びそれを用いた電子写真プロセスに関し、より詳しくは諸機能を向上させる外添剤を用いた電子写真プロセスに関する。
本発明の電子写真プロセスは、電子写真複写機、ファクシミリ、レーザプリンタ、ＬＥＤプリンタ、ダイレクトデジタル製版機等に応用される。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真方法としては、カールソンプロセスやその種々の変形プロセスなどが知られており、複写機やプリンタなどに広く使用されている。この様な電子写真方法に用いられる感光体の中でも、有機系の感光材料を用いたものが、安価、大量生産性、無公害性などをメリットとして、近年使用され始めている。
【０００３】
有機系の電子写真感光体には、ＰＶＫ（ポリビニルカルバゾール）に代表される光導電性樹脂、ＰＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表される顔料分散型、電荷発生材料と電荷輸送材料とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが知られており、特に機能分離型の感光体が注目されている。
【０００４】
この機能分離型の感光体における静電潜像形成のメカニズムは、感光体を帯電した後光照射すると、光は透明な電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電荷発生材料により吸収され、光を吸収した電荷発生材料は電荷担体を発生し、この電荷担体は電荷輸送層に注入され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和することにより静電潜像を形成するものである。機能分離型感光体においては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送材料と、主に可視部に吸収を持つ電荷発生材料とを組み合わせて用いることが知られており、かつ有用である。
【０００５】
この様な電子写真感光体は、通常コロナ帯電、露光、現像、転写、クリーニング等からなるプロセスに供される。感光体の使用プロセスにおいて、感光体表面は、コロナ帯電の時に発生するオゾン等の酸化雰囲気に曝されるため、表面の劣化を生じる欠点を有している。感光体の劣化は、感度低下、帯電電位の低下、残留電位の増加の原因となり、このため、コピーの画像濃度低下、画像流れ、地汚れ等の異常画像の発生を招くことになる。
【０００６】
このような材料の劣化、とりわけ酸化を防ぐ目的で特定の外添剤を感光層中に添加することが知られている。例えば、特開昭５７−１２２４４４号公報にはフェノール類、ヒドロキシアニソール類等の添加について、特開昭６１−１５６０５２号公報にはニトロン化合物、イソベンゾフラン化合物等の添加について、特開昭６３−１８３５６号公報には、ヒンダードフェノール、ｐ−フェニレンジアミン等の添加について、特開昭６４−４４４５１号公報にはヒンダードアミンの添加について各々外添剤を感光層中に含有させることによる耐オゾン性向上について記載されている。しかしながら、これらの発明においては、感光層中に外添剤を含有しており、保存及び／又は長期にわたる使用という観点からは感光体中の外添剤が酸化してしまい保存に耐えなくなったり、逆に感光体中に必要以上の外添剤を添加した場合、使用時に静電特性に悪影響を及ぼしてしまうという欠点を有していた。こうした欠点に鑑み、特開平５−１８１２９８号公報には感光体表面に外添剤を付着させるという方法が提案されている。
【０００７】
一方、電荷輸送材料の多くは低分子化合物として開発されているが、低分子化合物は単独で製膜性がないため、通常、不活性高分子に分散・混合して用いられる。しかるに低分子電荷輸送材料と不活性高分子からなる電荷輸送層は一般に柔らかく、かかる外添剤を外添するプロセスを適用した場合、感光体表面の膜削れを促進させてしまい、感光体の寿命を短くしてしまうことが少なくなく、この点の改善が望まれていた。
【０００８】
異常画像の発生は他にも、感光体と他部材との接触による感光体表面の損傷や感光体表面への異物（現像剤中の成分や転写紙の成分、及び放電生成物等）の付着によっても発生する。このような電子写真プロセスによる異常画像の発生に対して特開平７−１８１８６７号公報には、感光体と他部材との接触による異常画像の発生を低減するための技術が、また、特開昭６３−６０４７７号公報には、感光体上に付着した転写紙の紙粉によってもたらされる画像流れの防止方法が、また、特開昭６２−１１９５６７号公報には感光体ドラム表面を研磨することにより、放電生成物を除去する方法が開示されている。
【０００９】
しかしながら、これらいずれの方法も感光体表面が一定の硬度を要するものであり、これらの手法を、上記低分子電荷輸送材料と不活性高分子との組み合わせからなる感光体において適用した場合、画像に膜削れによる黒スジや欠陥が生じてしまい、必ずしも満足されるべき方法ではなかった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、長期にわたり異常画像の発生を防止し、安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスを提供することにある。本発明の別の目的は、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の劣化防止方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層にトリアリールアミン構造を主鎖及び／又は側鎖に含むポリカーボネートであることを特徴とする高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００１２】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式１で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００１３】
【化１３】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して置換若しくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ４は水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基、Ｒ５、Ｒ６は置換若しくは無置換のアリール基、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｋ、ｊは組成を表わし、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表わし５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基、又は下記一般式で表わされる２価基を表わす。
【００１４】
【化１４】
式中、Ｒ１０１、Ｒ１０２は各々独立して置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表わす。ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１〜１２の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を表わす。）または、
【００１５】
【化１５】
（式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整数、Ｒ１０３、Ｒ１０４は置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を表わす。）を表わす。ここで、Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４は、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００１６】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式２で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００１７】
【化１６】
式中、Ｒ７、Ｒ８は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００１８】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式３で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００１９】
【化１７】
式中、Ｒ９、Ｒ１０は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ４、Ａｒ５、Ａｒ６は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００２０】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式４で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２１】
【化１８】
式中、Ｒ１１、Ｒ１２は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ７、Ａｒ８、Ａｒ９は同一又は異なるアリレン基、ｐは１〜４の整数を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００２２】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式５で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２３】
【化１９】
式中、Ｒ１３、Ｒ１４は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ１０、Ａｒ１１、Ａｒ１２は同一又は異なるアリレン基、Ｘ１、Ｘ２は置換若しくは無置換のエチレン基、又は置換若しくは無置換のビニレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００２４】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式６で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２５】
【化２０】
式中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ１３、Ａｒ１４、Ａｒ１５、Ａｒ１６は同一又は異なるアリレン基、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３は単結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし同一であっても異なってもよい。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００２６】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式７で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２７】
【化２１】
式中、Ｒ１９、Ｒ２０は水素原子、置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ｒ１９とＲ２０は環を形成していてもよい。Ａｒ１７、Ａｒ１８、Ａｒ１９は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００２８】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式８で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２９】
【化２２】
式中、Ｒ２１は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ２０、Ａｒ２１、Ａｒ２２、Ａｒ２３は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００３０】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式９で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００３１】
【化２３】
式中、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ２４、Ａｒ２５、Ａｒ２６、Ａｒ２７、Ａｒ２８は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００３２】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式１０で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００３３】
【化２４】
式中、Ｒ２６、Ｒ２７は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ２９、Ａｒ３０、Ａｒ３１は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００３４】
本発明者らは、電子写真プロセスの繰り返し使用による異常画像発生は、
１．該プロセス内に用いられる電子写真感光体の帯電電位低下や残留電位上昇等の特性劣化によるもの
２．該感光体と当接部材との接触による感光体表面の損傷や摩耗によるもの
３．また、該感光体表面への異物（現像剤の成分、転写紙の紙粉及び放電生成物等）の付着によるもの
に集約されることを知得し、また、これらの原因による異常画像発生の解決をすべく検討した結果、繰り返し使用される電子写真プロセス内において、連続的／間欠的に感光体の特性劣化を防止できる外添剤或いは該プロセスの各機能を向上させる外添剤を感光体表面に添加することにより解消できることを見い出した。
【００３５】
さらに、該感光体の最表層に高分子電荷輸送材料を含有させることでこれらの効果が著しくなることを見い出し、高分子電荷輸送材料のうち、特に、トリアリールアミン構造を主鎖及び／又は側鎖に有するポリカーボネート、更に、前記一般式１乃至１０の何れかで示される高分子電荷輸送材料を用いると著しい安定性が得られることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【００３６】
このような外添剤を電子写真感光体に供給する方法としては、外添剤を、感光体表面にそのまま添付し付着させる方法、ローラ、ベルト或いはクリーナーを介して外添剤を付着させる方法、マイクロカプセル化した外添剤を感光体表面に付着させる方法、外添剤粉末やマイクロカプセル化した外添剤を感光体に静電気力で付着させる方法、外添剤を適当な溶媒に溶解し、適当な方法によって感光体表面に塗布、乾燥させ、供給する方法などを挙げることができる。
【００３７】
上記外添方法のうち以下に幾つかの例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
これらの方法のうちベルトを介して感光体表面に外添剤を供給する方法について説明する。
図１は、ベルトを介して感光体表面に外添剤を供給する電子写真プロセスを実行するための電子写真装置例の概略構成図である。この図において、（１１）は導電性支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された感光体であり、この感光体（１１）の周りには、帯電器（１２）、露光ビーム手段（１３）、現像機（１４）、転写チャージャー（１５）、トナークリーナー（１６）が配置されている。図中（１Ｂ）の外添剤供給手段は、ケーシング中に収脱可能に外添剤ボトル（１７）が収納され、この外添剤ボトル（１７）中に外添剤搬送ベルト（１９）が１部分入り込み、他の１部分は突出し、残余の１部分は感光体（１１）表面の極く近隣又は感光体表面にほとんど当接する程度にローラ（１８）（１８）（１８）間に掛け回わされており、また過剰又は不必要な外添剤を感光体（１１）表面から除去するためのブレード（１Ａ）が配置されたものであり、外添剤は搬送ベルト（１９）により感光体表面に運ばれ、感光体表面に供給することができる。
図２に外添剤供給手段の変形例を示す。該変形例における外添剤供給手段（１Ｂ）は、外添剤ボトル（１７）の外添剤出口にローラ（１８）が設けられたものであり、このローラ（１８）表面に付着した外添剤がローラ（１８）の回転に伴ってボトル（１７）中の外添剤を感光体（１１）表面に供給する。
【００３８】
次にクリーナーを介して感光体表面に外添剤を供給する方法について述べる。
図３は、クリーナーを介して感光体表面に外添剤を供給する電子写真プロセスに用いられる電子写真装置例の概略構成図である。この例において（２１）は、外添剤を含有させたクリーナーで、（２２）は例えば空気圧シリンダー、（２３）は空気圧ポンプで、例えば、１００枚〜５万枚毎にシリンダー（２２）を作動させて、所定の圧力でクリーナー（２１）を感光体（１１）の表面に押しつける。図１の例の場合と同様、感光体（１１）の周りには帯電機（１２）、露光ビーム手段（１３）、現像機（１４）、転写チャージャー（１５）及びトナークリーナー（１６）が配置されている。空気圧シリンダー（２２）に替え、バネやモーター等の任意のクリーナー移動手段を用いることができる。図４〜図６にクリーナーの変形例を示す。
【００３９】
図４のクリーナーでは、芯材（２５）の周囲に外添剤を含有させた繊維布（２４）を貼り付け、クリーナーとする。芯材（２５）の他端にはトナークリーナー移動手段（２２）が設けられている。
【００４０】
図５のクリーナーでは、ローラ（２６）の周囲に外添剤を含有させた布（２４）を巻き付け、クリーナーとする。図６のクリーナーでは、ローラ（２６）を利用して、外添剤を含有させた布（２４）を送り、感光体表面に外添剤を供給する。
【００４１】
クリーナーの形状や種類、材質は外添剤を保持できるものであれば、任意である。クリーナーはブレードクリーナー、繊維クリーナー等、公知のものを使用することができる。クリーナーの形状としては、織布状や不織布状、フェルト状、筆状、パッド状、タオル地状、或いは紙状等の任意のものを用いることができ、材質には、綿、麻、紙、脱脂綿等の植物性繊維、羊や兎、馬等の獣毛、或いはナイロン、ポリエステル、アクリル等の合成樹脂繊維等を用いることができる。
【００４２】
また、本発明によれば、感光体表面に外添剤を供給する他の手段としては電子写真プロセスが実施可能な装置において、昇華性外添剤を含有する部材を用いる方法も適用できる。
昇華性外添剤を含有する部材について説明する。電子写真装置内の空間を利用し、該装置のプロセス作動を妨げることなく設置できるものであれば、形態、色などは特定することなく使用できる。以下に本発明における（劣化防止）部材の作製方法及び構成について詳細に説明する。
【００４３】
本発明における該部材の基体となる材料は、昇華性材料を含有することが可能で、且つ様々な環境下である程度安定であるものならば特定されるものではない。中でも、外添剤の昇華性を考えると、比表面積の大きい物が好ましく用いられ、多孔質なもの、一般に言う発泡材料のようなものが好ましく用いられる。発泡材料としては、ポリスチレンフォーム、硬質ウレタンフォーム、軟質ウレタンフォーム、ポリエチレンフォーム、ユリアフォーム等の発泡プラスチック、硬質フォームラバー、発泡クロロプレンゴム等の発泡ゴム、軽量気泡コンクリートパネル等の発泡コンクリート、発泡アルミニウム等の発泡金属或いは天然ゴム、ＳＢＲ、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリエチレン、ＥＰＤＭ、ＥＶＡ、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、６−ナイロン、ポリカーボネート、ＰＥＴ、ＰＢＴ、変性ＰＰＯ等に、発泡材料としてアゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、４，４’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド、パラトルエンスルホニルヒドラジド等を加え、発泡させたようななもの等が挙げられるが、外添剤を含有することが可能で且つ、様々な環境下である程度安定したものならば、特定されるものではない。これらを形成させるときに昇華性外添剤を含有させることで、本発明における該部材を形成することができる。
【００４４】
また、本発明によれば、複写機内に設置された感光体表面を外添剤を表面及び／又は内部に含有する転写紙等の部材で処理する方法も適用できる。
本発明において、転写紙に外添剤を含有させる方法は、大別すると２つの方法がある。１つは、転写紙の抄紙前までに材料中に充填し抄紙する方法、もう１つは、転写紙表面に外添剤を含有する溶工液をコーティングする方法である。
【００４５】
前者は通常、繊維に充填材として、粘土、白土、滑石、アガライト、炭酸石灰、硫酸バリウム、チタン白、硫化亜鉛などを添加し、叩解機で加える。この際に、外添剤を同時に或いは前後に加えるか、或いはパルプの染色過程（行なわないときもある。）の前後、或いは同時に加え、抄紙機で紙を濾くことで作製される。外添剤の添加時期は抄紙直前が最も好ましい。後者は通常は原紙にブラッシュコーター、ロールコーター、エヤーブラッシュコーター、マシンコーター、キャストコーティング等を用いて種々塗工液を塗工し、乾燥工程を経て作製されたものである。この際、塗工液は片面でもかまわないが、好ましくは両面されるのが好ましい。又、数層塗工する場合は、表面層に外添剤を含有させることが好ましい。
【００４６】
次に本発明に使用できる外添剤を示す。本発明において、外添剤には目的に応じて酸化防止剤、滑剤、クリーニング助剤等を適用することができる。以下に外添剤の例を示すが、外添剤として効果が現れるものならば、これらに限定されるものではない。
本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
【００４７】
モノフェノール系化合物
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートなど。
【００４８】
ビスフェノール系化合物
２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）など。
【００４９】
高分子フェノール系化合物
１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、トコフェノール類など。
【００５０】
パラフェニレンジアミン類
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
【００５１】
ハイドロキノン類
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。
【００５２】
有機硫黄化合物類
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネートなど。
【００５３】
有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。
【００５４】
これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
次に本発明に用いることができる滑剤として、下記のものが挙げられる。
【００５５】
炭化水素類
流動パラフィン、ポリエチレンワックス類、塩素化炭化水素類など。
金属石鹸
ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸鉛など。
脂肪酸及び脂肪酸アミド類。
ステアリン酸、ステアリン酸アミド、パルチミン酸アミド、メチレンビスステアロアマイド、セチルパルミテート、ステアリン酸モノグリセライドなど。
次に本発明に用いることができるクリーニング助剤として、下記のものが挙げられる。
【００５６】
多価アルコール及びその誘導体
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチレングリコール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリールイソアミルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、エチレングリコールベンジルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、メトキシメトキシエタノール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールエステル、エチレンクロルヒドリン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリグリコールジクロリド、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、１−ブトキシエトキシプロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレンクロルヒドリン、ジプロピレンクロルヒドリン、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリ（オキシエチレン−オキシプロピレン）誘導体、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、グリセリルモノアセテート、グリセリルジアセテート、グリセリルトリアセテート、グリセリルモノブチレート、グリセリン−α−モノメチルエーテル、グリセリン−α，γ−ジメチルエーテル、グリセリン−α−モノブチルエーテル、グリセリン−α−モノイソアミルエーテル、グリセリン−α，β−ジイソアミルエーテル、グリセリン−α−モノクロルヒドリン、グリセリン−α，γ−ジクロルヒドリン、トリメチロールプロパン、１，２，６−ヘキサントリオール、及びこれらの混合物。
水、ポリフッ化ビニリデン、ポリメチルメタアクリレート等の微粉末。
酸化ケイ素、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、四酸化三鉄等のマグネタイト等。
【００５７】
次に、図面を用いて本発明で用いられる電子写真感光体を説明する。
図７は、本発明において用いられる電子写真感光体の断面図であり、導電性支持体（４１）上に、感光層（４２）が形成されたものである。
図８は、本発明において用いられる電子写真感光体の別の構成を示す断面図である。導電性支持体（４１）上に、電荷発生層（５１）と電荷輸送層（５２）からなる感光層（４２）が形成されたものである。
図９は、本発明において用いられる電子写真感光体の更に別の構成を示す断面図であり、導電性支持体（４１）と感光層（４２）との間に下引き層（４３）が形成されたものである。
【００６６】
次に、本発明に用いられる高分子電荷輸送物質について説明する。
本発明における高分子電荷輸送物質として、主鎖及び／又は側鎖にトリアリールアミン構造を有するポリカーボネートが有効に使用される。更に、下記一般式１〜１０で表わされる高分子電荷輸送物質を用いることにより、本発明の効果はよりいっそう顕著なものとなる。一般式１〜１０で表わされる高分子電荷輸送物質を以下に例示し、具体例を示す。
【００６７】
【化３０】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して置換若しくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ４は水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基、Ｒ５、Ｒ６は置換若しくは無置換のアリール基、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｋ、ｊは組成を表わし、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表わし５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基、又は下記一般式で表わされる２価基を表わす。
【００６８】
【化３１】
式中、Ｒ１０１、Ｒ１０２は各々独立して置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表わす。ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１〜１２の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を表わす。）又は、
【００６９】
【化３２】
（式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整数、Ｒ１０３、Ｒ１０４は置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を表わす。）を表わす。ここで、Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４は、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００７０】
一般式１の具体例
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して置換若しくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【００７１】
アルキル基として好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００７２】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ４は水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基を表わすが、そのアルキル基の具体例としては上記のＲ１、Ｒ２、Ｒ３と同様のものが挙げられる。
Ｒ５、Ｒ６は置換若しくは無置換のアリール基（芳香族炭化水素基及び不飽和複素環基）を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【００７３】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【００７４】
上記のアリール基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、上記のＲ１、Ｒ２、Ｒ３と同様のものが挙げられる。
【００７５】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１０５）。アルコキシ基（−ＯＲ１０５）としては、Ｒ１０５が上記（２）で定義したアルキル基であるものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００７６】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が前記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【００７７】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【００７８】
【化３３】
一般式（Ｂ）のジオール化合物の具体例としては以下のものが挙げられる。
１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−１，３−プロパンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール等の脂肪族ジオールや１，４−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール等の環状脂肪族ジオール等が挙げられる。
【００７９】
また、芳香環を有するジオールとしては、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルオキシド、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）キサンテン、エチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）、ジエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）、トリエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−テトラメチルジシロキサン、フェノール変性シリコーンオイル等が挙げられる。
【００８０】
【化３４】
式中、Ｒ７、Ｒ８は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００８１】
一般式２の具体例
Ｒ７、Ｒ８は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基、又は
【００８２】
【化３５】
（ここで、Ｗは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−又は以下の２価基を表わす。）
【００８３】
【化３６】
【００８４】
【化３７】
【００８５】
【化３８】
【００８６】
【化３９】
を表わす。
【００８７】
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
また、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３で示されるアリレン基としてはＲ７及びＲ８で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基（１）〜基（７）を置換基として有してもよい。また、これら置換基は上記一般式中のＲ１０６、Ｒ１０７、Ｒ１０８と同じ意味を有する。
【００８８】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくはＣ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ１８さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００８９】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１０９）。アルコキシ基（−ＯＲ１０９）としては、Ｒ１０９が（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００９０】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）次式で表わされるアルキル置換アミノ基。
【００９１】
【化４０】
式中、Ｒ１１０及びＲ１１１は各々独立に前記（２）で定義したアルキル基又はアリール基を表わす。アリール基としては例えばフェニル基、ビフェニル基、又はナフチル基が挙げられ、これらはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。またアリール基上の炭素原子と共同で環を形成してもよい。このアルキル置換アミノ基としては具体的には、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｐ−トリル）アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ユロリジル基等が挙げられる。
【００９２】
（７）メチレンジオキシ基、又はメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基等。
【００９３】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｃ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｃ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【００９４】
【化４１】
一般式（Ｂ）のジオール化合物としては一般式１と同じものが挙げられる。
【００９５】
【化４２】
式中、Ｒ９、Ｒ１０は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ４、Ａｒ５、Ａｒ６は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【００９６】
一般式３の具体例
Ｒ９、Ｒ１０は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【００９７】
また、Ａｒ４、Ａｒ５及びＡｒ６で示されるアリレン基としてはＲ９及びＲ１０で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００９８】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１２）。アルコキシ基（−ＯＲ１１２）としては、Ｒ１１２が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００９９】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１００】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１０１】
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１０２】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｄ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｄ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１０３】
【化４３】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
【０１０４】
【化４４】
式中、Ｒ１１、Ｒ１２は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ７、Ａｒ８、Ａｒ９は同一又は異なるアリレン基、ｐは１〜５の整数を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１０５】
一般式４の具体例
Ｒ１１、Ｒ１２は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１０６】
また、Ａｒ７、Ａｒ８及びＡｒ９で示されるアリレン基としてはＲ１１及びＲ１２で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１０７】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１３）。アルコキシ基（−ＯＲ１１３）としては、Ｒ１１３が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１０８】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１０９】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｅ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｅ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１１０】
【化４５】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
【０１１１】
【化４６】
式中、Ｒ１３、Ｒ１４は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ１０、Ａｒ１１、Ａｒ１２は同一又は異なるアリレン基、Ｘ１、Ｘ２は置換若しくは無置換のエチレン基、又は置換若しくは無置換のビニレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１１２】
一般式５の具体例
Ｒ１３、Ｒ１４は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１１３】
また、Ａｒ１０、Ａｒ１１及びＡｒ１２で示されるアリレン基としてはＲ１３及びＲ１４で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１１４】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１４）。アルコキシ基（−ＯＲ１１４）としては、Ｒ１１４が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１１５】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１１６】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１１７】
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１１８】
前記Ｘ１、Ｘ２の構造部分は置換若しくは無置換のエチレン基、置換若しくは無置換のビニレン基を表わし、この置換基としては、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、上記Ｒ１３、Ｒ１４のアリール基、上記（２）のアルキル基が挙げられる。
【０１１９】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｆ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｆ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１２０】
【化４７】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
【０１２１】
【化４８】
【０１２２】
式中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ１３、Ａｒ１４、Ａｒ１５、Ａｒ１６は同一又は異なるアリレン基、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３は単結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし同一であっても異なってもよい。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１２３】
一般式６の具体例
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１２４】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１２５】
また、Ａｒ１３、Ａｒ１４、Ａｒ１５及びＡｒ１６で示されるアリレン基としてはＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、及びＲ１８で示した上記のアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
【０１２６】
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１２７】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１５）。アルコキシ基（−ＯＲ１１５）としては、Ｒ１１５が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１２８】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１２９】
前記Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３の構造部分は単結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし、同一であっても異なっていてもよい。
【０１３０】
このアルキレン基としては、上記（２）で示したアルキル基より誘導される２価基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、２−メチル−１，３−プロピレン基、ジフルオロメチレン基、ヒドロキシエチレン基、シアノエチレン基、メトキシエチレン基、フェニルメチレン基、４−メチルフェニルメチレン基、２，２−プロピレン基、２，２−ブチレン基、ジフェニルメチレン基等を挙げることができる。
【０１３１】
同シクロアルキレン基としては、１，１−シクロペンチレン基、１，１−シクロヘキシレン基、１，１−シクロオクチレン基等を挙げることができる。
【０１３２】
同アルキレンエーテル基としては、ジメチレンエーテル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチレンエーテル基、ビス（トリエチレン）エーテル基、ポリテトラメチレンエーテル基等が挙げられる。
【０１３３】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｇ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｇ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１３４】
【化４９】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
【０１３５】
【化５０】
式中、Ｒ１９、Ｒ２０は水素原子、置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ｒ１９とＲ２０は環を形成していてもよい。Ａｒ１７、Ａｒ１８、Ａｒ１９は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１３６】
一般式７の具体例
Ｒ１９、Ｒ２０は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１３７】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１３８】
また、Ｒ１９、Ｒ２０は環を形成する場合、９−フルオレニリデン、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンなどが挙げられる。
また、Ａｒ１７、Ａｒ１８及びＡｒ１９で示されるアリレン基としてはＲ１９及びＲ２０で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
【０１３９】
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１４０】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１６）。アルコキシ基（−ＯＲ１１６）としては、Ｒ１１６が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１４１】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１４２】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１４３】
前記Ｘの構造部分は下記一般式（Ｈ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｈ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１４４】
【化５１】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
【０１４５】
【化５２】
式中、Ｒ２１は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ２０、Ａｒ２１、Ａｒ２２、Ａｒ２３は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１４６】
一般式８の具体例
Ｒ２１は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１４７】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１４８】
また、Ａｒ２０、Ａｒ２１、Ａｒ２２及びＡｒ２３で示されるアリレン基としてはＲ２１で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
【０１４９】
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１５０】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１７）。アルコキシ基（−ＯＲ１１７）としては、Ｒ１１７が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１５１】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１５２】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１５３】
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものを表わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１５４】
前記Ｘの構造部分は下記一般式（Ｊ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、この構造部分Ｘは下記一般式（Ｊ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１５５】
【化５３】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
【０１５６】
【化５４】
式中、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ２４、Ａｒ２５、Ａｒ２６、Ａｒ２７、Ａｒ２８は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１５７】
一般式９の具体例
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１５８】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１５９】
また、Ａｒ２４、Ａｒ２５、Ａｒ２６、Ａｒ２７、及びＡｒ２８で示されるアリレン基としては、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、及びＲ２５で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【０１６０】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１６１】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１８）。アルコキシ基（−ＯＲ１１８）としては、Ｒ１１８が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１６２】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１６３】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１６４】
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１６５】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｌ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、この構造部分Ｘは下記一般式（Ｌ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１６６】
【化５５】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
【０１６７】
【化５６】
式中、Ｒ２６、Ｒ２７は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ２９、Ａｒ３０、Ａｒ３１は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１６８】
一般式１０の具体例
Ｒ２６、Ｒ２７は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１６９】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１７０】
また、Ａｒ２９、Ａｒ３０、及びＡｒ３１で示されるアリレン基としては、Ｒ２６及びＲ２７で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【０１７１】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１７２】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１９）。アルコキシ基（−ＯＲ１１９）としては、Ｒ１１９が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１７３】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１７４】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１７５】
前記Ｘの構造部分は下記一般式（Ｍ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、この構造部分Ｘは下記一般式（Ｍ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１７６】
【化５７】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
【０１７７】
導電性支持体（４１）としては、体積抵抗１０１０Ω以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、鉄などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの酸化物を蒸着又はスパッタリングによりフィルム状若しくは円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、或るいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板及びそれらをＤ．Ｉ．、Ｉ．Ｉ．、押出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨などで表面処理した管などを使用することができる。
【０１７８】
本発明における感光層（４２）は、単層型でも積層型でもよいが、ここでは説明の都合上、まず積層型について述べる。
はじめに、電荷発生層（５１）について説明する。電荷発生層（５１）は、電荷発生材料を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を用いることもある。電荷発生材料としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【０１７９】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１８０】
電荷発生層（５１）に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが用いられる。これらのバインダー樹脂は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、先述の高分子電荷輸送材料を用いることができる。更に、必要に応じて低分子電荷輸送材料を添加してもよい。
【０１８１】
電荷発生層（５１）に併用できる低分子電荷輸送材料には、正孔輸送材料と電子輸送材料とがある。
【０１８２】
電子輸送材料としては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ［１，２−ｂ］チオフェン−４オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送材料は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１８３】
正孔輸送材料としては、以下に表わされる電子供与性材料が挙げられ、良好に用いられる。例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。これらの正孔輸送材料は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１８４】
電荷発生層（５１）を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
【０１８５】
また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系若しくは有機系電荷発生材料を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法などを用いて行なうことができる。
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。
【０１８６】
次に、電荷輸送層（５２）について説明する。
電荷輸送層（５２）は、高分子電荷輸送物質を主成分とする層であり、高分子電荷輸送物質を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することにより形成できる。前記一般式１〜１０の高分子電荷輸送物質が特に良好に使用される。また、必要により適当なバインダー樹脂、低分子電荷輸送物質、可塑剤やレベリング剤を添加することもできる。
【０１８７】
電荷輸送層（５２）に併用できるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート（ビスフェノールＡタイプ、ビスフェノールＺタイプ）、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂などが用いられる。これらのバインダーは、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１８８】
電荷輸送層（５２）に併用できる低分子電荷輸送材料は、電荷発生層（５１）の説明において記載したものと同じものを用いることができる。電荷輸送層（５２）の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当であり、好ましくは、１０〜４０μｍ程度が適当である。
また、本発明において電荷輸送層（５２）中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。
【０１８９】
可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、バインダー樹脂１００重量部に対して０〜３０重量部程度が適当である。
レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー或いはオリゴマーが使用され、その使用量は、バインダー樹脂１００重量部に対して０〜１重量部程度が適当である。
【０１９０】
次に、感光層（４２）が単層構成の場合について述べる。
キャスティング法で単層感光層を設ける場合、多くは電荷発生材料と低分子並びに高分子電荷輸送材料よりなる機能分離型のものが挙げられる。即ち、電荷発生材料並びに電荷輸送材料には、前出の材料を用いることができる。
また、必要により可塑剤やレベリング剤を添加することもできる。更に、必要に応じて用いることのできるバインダー樹脂としては、先に電荷輸送層（５２）で挙げたバインダー樹脂をそのまま用いる他に、電荷発生層（５１）で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。単層感光体の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当であり、好ましくは、１０〜４０μｍ程度が適当である。
【０１９１】
本発明に用いられる電子写真感光体には、導電性支持体（４１）と感光層（４２）［積層タイプの場合には、電荷発生層（５１）］との間に下引き層（４３）を設けることができる。下引き層（４３）は、接着性を向上する、モワレなどを防止する、上層の塗工性を改良する、残留電位を低減するなどの目的で設けられる。下引き層（４３）は一般に樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤でもって塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶解性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂などが挙げられる。また、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物、或るいは金属硫化物、金属窒化物などの微粉末を加えてもよい。これらの下引き層は、前述の感光層の場合と同様、適当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。
【０１９２】
さらに、本発明における感光体の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用して、例えばゾル−ゲル法等により形成した金属酸化物層も有用である。
この他に、本発明の下引き層にはＡｌ２Ｏ３を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシレン（パリレン）等の有機物や、ＳｉＯ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物を真空薄膜作製法にて設けたものも良好に使用できる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。
【０１９３】
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、酸化防止剤を添加することができる。酸化防止剤は、有機物を含む層ならばいずれに添加してもよいが、電荷輸送材料を含む層に添加すると良好な結果が得られる。
【０１９４】
【実施例】
次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例において、使用する部は全て重量部を表わし、使用された高分子電荷輸送物質の繰り返し単位ｎは、いずれの例においても、重量平均分子量から算出して１００±２０の範囲であった。
【０１９５】
実施例１
φ８０ｍｍのアルミニウムドラム上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層、２５μｍの電荷輸送層を形成して、本発明の電子写真感光体を得た。
【０１９６】
［下引き層用塗工液］
アルキッド樹脂 ６部
（ベッコゾール １３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製）
メラミン樹脂 ４部
（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製）
酸化チタン ４０部
メチルエチルケトン ２００部
【０１９７】
［電荷発生層用塗工液］
下記構造のトリスアゾ顔料 ２．５部
【０１９８】
【化５８】
ポリビニルブチラール（ＵＣＣ社製：ＸＹＨＬ） ０．２５部
シクロヘキサノン ２００部
メチルエチルケトン ８０部
【０１９９】
［電荷輸送層用塗工液］
下記構造の高分子電荷輸送材料 １０部
【０２００】
【化５９】
塩化メチレン １００部
【０２０１】
以上のように作成した電子写真感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載し、図１に示すような外添剤供給手段を使用し、酸化防止剤として２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノンを搬送ベルトを介して連続複写１００枚毎に感光体表面に付着させた。２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続５万枚のコピーを行なった。その際、１０枚目及び５万枚目の画像を評価した。更に５万枚複写における感光体の膜厚減少量（摩耗量）を測定した。
【０２０２】
実施例２
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に感光体を作製し、全く同様にして評価をした。
【０２０３】
【化６０】
【０２０４】
実施例３
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に感光体を作製し、全く同様にして評価をした。
【０２０５】
【化６１】
【０２０６】
実施例４
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２０７】
【化６２】
【０２０８】
実施例５
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２０９】
【化６３】
【０２１０】
実施例６
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１１】
【化６４】
【０２１２】
実施例７
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１３】
【化６５】
【０２１４】
実施例８
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１５】
【化６６】
【０２１６】
実施例９
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１７】
【化６７】
【０２１８】
実施例１０
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１９】
【化６８】
【０２２０】
比較例１〜１０
実施例１〜１０において、酸化防止剤を感光体表面に付着させない以外は、実施例１〜１０と全く同様の評価を行なった。
【０２２１】
比較例１１
実施例１における電荷輸送層塗工液を下記組成のものに変えた以外は、全く同様に作製し、実施例１と全く同様の評価を行なった。
［電荷輸送層用塗工液］
ビスフェノールＡ型ポリカーボネート １０部
（帝人：パンライトＫ１３００）
下記構造の低分子電荷輸送材料 １０部
【０２２２】
【化６９】
塩化メチレン １００部
以上のように作成した比較例１１の電子写真感光体を実装用にした後、実施例１と全く同様の評価を行なった。
【０２２３】
比較例１２
比較例１１において、酸化防止剤を感光体表面に付着させない以外は、比較例１１と全く同様の評価を行なった。
実施例１〜１０と比較例１〜１２の結果を表１に示す。
【０２２４】
【表１】
【０２２５】
実施例１１〜２０
上記実施例１〜１０と全く同様にして作製した電子写真感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載し、図３に示すようなクリーナー手段を使用し、５万枚の連続複写を行なった。環境条件は、２５℃−５０％ＲＨであった。クリーナー（２１）には、酸化防止剤として２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノンを含ませた多孔質のスポンジを用い、１ｋｇ／ｃｍ２の圧力で連続複写５００枚毎に感光体表面を擦った。評価方法としては、５万枚目の画像の地汚れを目視にて５段階に評価した。但し、ランク５を良、ランク１を否とする。更に５万枚複写における感光体の膜厚減少量（摩耗量）を測定した。
【０２２６】
比較例１３〜２２
上記実施例１１〜２０における酸化防止剤の供給を行なわない（クリーナーを感光体表面に接触させない）他は、実施例１３〜２２と全く同様の評価を行なった。
【０２２７】
比較例２３
上記比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例１１と全く同様の評価を行なった。
比較例２４
上記比較例２３において、酸化防止剤の供給を行なわない（クリーナーを感光体表面に接触させない）他は、比較例２３と全く同様の評価を行なった。
実施例１１〜２０と比較例１３〜２４の結果を表２に示す。
【０２２８】
【表２】
【０２２９】
実施例２１〜３０
実施例１〜１０と全く同様にして作製した電子写真感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載した。次に昇華性酸化防止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール２０部、ＳＢＲ７０部、パラトルエンスルホニルヒドラジド６部を混合後、加圧成形により成形した酸化防止部材を上記複写機に搭載した。３０℃−８０％ＲＨという条件にて５万枚の連続コピーを行ない、１０枚目と５万枚目の画像評価を行なった。
【０２３０】
比較例２５〜３４
実施例２１〜３０における酸化防止部材を搭載しない他は、実施例２１〜３０と全く同様の評価を行なった。
【０２３１】
比較例３５
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例２５と全く同様の評価を行なった。
比較例３６
比較例３５における酸化防止部材を搭載しない他は、比較例３５と全く同様にして評価を行なった。
実施例２１〜３０と比較例２５〜３６の結果を表３に示す。
【０２３２】
【表３】
【０２３３】
実施例３１〜４０
実施例１におけるアルミニウムドラムの代りにアルミニウム導電層を有するポリエステルフィルムを支持体に用い、電荷発生層塗工液を下記組成のものに変えた以外は、実施例１〜１０と全く同様に本発明で使用する感光体を作製した。
【０２３４】
［電荷発生層用塗工液］
下記構造のジスアゾ顔料 ２．５部
【０２３５】
【化７０】
ポリビニルブチラール（ＵＣＣ社製：ＸＹＨＬ） ０．２５部
シクロヘキサノン ２００部
メチルエチルケトン ８０部
【０２３６】
以上のように作製した感光体に導電性塗工及びベルト接合を行ない、実装用の感光体とし、この感光体を一部改造した複写機（リコー製：リコピーＦＴ２０５０）に搭載した。次に酸化防止剤を含有する転写紙について説明する。亜硫酸及びソーダ木パルプをそれぞれ５００ｇづつ叩解機に入れ、水を加えて濃度を４％として、これに粘土２５０ｇ、ロジン酸ソーダ溶液を順次加え、硫酸アルミニウム５ｇを加え、最後に酸化防止剤として２−ドデシルハイドロキノンを加え、３時間叩解した。以上の液を長網式抄紙機を用いて濾した後、プレス、乾燥工程を経て適当な大きさに裁断した。普通紙５０枚につきこの転写紙を１枚用い、５００１０枚の連続コピーを行なった。環境は、２３℃−５０％ＲＨであった。評価方法としては、１０枚目と５００１０枚目の画像の黒ベタ部を市販のマクベス濃度計にて画像濃度（以下Ｉ．Ｄと略す。）を測定した。
【０２３７】
比較例３７〜４６
実施例３１〜４０における転写紙に酸化防止剤を添加しない以外は、実施例３１〜４０と全く同様にして評価した。
比較例４７
上記比較例１１におけるアルミニウムドラムの代りにアルミニウム導電層を有するポリエステルフィルムを支持体に用い、電荷発生層塗工液を下記組成のものに変えた以外は、比較例１１と全く同様に作製した。
【０２３８】
［電荷発生層用塗工液］
下記構造のジスアゾ顔料 ２．５部
【０２３９】
【化７１】
ポリビニルブチラール（ＵＣＣ社製：ＸＹＨＬ） ０．２５部
シクロヘキサノン ２００部
メチルエチルケトン ８０部
【０２４０】
以上のように作製した感光体に導電層塗工及びベルト接合を行ない、実装用の感光体とした。この感光体を実施例３１で用いた複写機に設置し、実施例３１と全く同様にして評価を行なった。
比較例４８
比較例４７において、転写紙に酸化防止剤を添加しない以外は、比較例４７と全く同様にして評価した。
実施例３１〜４０と比較例３７〜４８の結果を表４に示す。
【０２４１】
【表４】
【０２４２】
実施例４１〜５０
実施例１〜１０と全く同様にして作製した感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載した。図１に示すような外添剤供給手段を使用し、滑剤としてエチレンビスステアリルアミドをベルトを介して感光体表面に付着させた。以上のように条件を整えた後、２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続５万枚のコピーを行なった。その際、１０枚目及び５万枚目の画像評価を評価した。
【０２４３】
比較例４９〜５８
実施例４１〜５０において、滑剤を感光体表面に付着させない以外は、実施例４１〜５０と全く同様の評価を行なった。
【０２４４】
比較例５９
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例４１と全く同様にして評価をした。
比較例６０
比較例５９において、滑剤を感光体表面に付着させない以外は、比較例５９と全く同様の評価を行なった。
実施例４１〜５０と比較例４９〜６０の結果を表５に示す。
【０２４５】
【表５】
【０２４６】
実施例５１〜６０
実施例１〜１０と全く同様にして作製した感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載した。図５に示すような外添剤供給手段を使用し、滑剤としてステアリン酸亜鉛をローラを介して感光体表面に付着させた。以上のように条件を整えた後、２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続５万枚のコピーを行なった。その際、１０枚目及び５万枚目の画像評価を評価した。
【０２４７】
比較例６１〜７０
実施例５１〜６０において、滑剤を感光体表面に付着させない以外は、実施例５１〜６０と全く同様の評価を行なった。
【０２４８】
比較例７１
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例５１と全く同様にして評価をした。
比較例７２
比較例７１において、滑剤を感光体表面に付着させない以外は、比較例７１と全く同様の評価を行なった。
実施例５１〜６０と比較例６１〜７２の結果を表６に示す。
【０２４９】
【表６】
【０２５０】
実施例６１〜７０
実施例３１〜４０と全く同様にして作製した実装用の電子写真感光体を一部改造した複写機（リコー製：ＭＦ５３０）に搭載した。クリーニング助剤としてチタン酸バリウムを現像剤中に１部の割合で添加した。２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続３万枚のコピーを行なった。その際、１０枚目及び３万枚目の画像評価を評価した。
【０２５１】
比較例７３〜８２
実施例６１〜７０におけるクリーニング助剤を添加しない他は、実施例６１〜７０と全く同様にして評価した。
【０２５２】
比較例８３
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例６１と全く同様にして評価をした。
比較例８４
比較例８３におけるクリーニング助剤を添加しない他は、比較例８３と全く同様にして評価した。
実施例６１〜７０と比較例７３〜８４の結果を表７に示す。
【０２５３】
【表７】
【０２５４】
実施例７１〜８０
実施例１〜１０と全く同様にして作製した実装用の電子写真感光体を一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載した。図１に示すような外添剤供給手段を使用し、クリーニング助剤としてポリフッ化ビニリデンをベルトを介して感光体表面に連続複写１００枚毎に感光体表面に付着させた。以上のように条件を整えた後、２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続５万枚のコピーを行なった。評価方法としては、５万枚目の画像の地汚れを目視にて５段階に評価した。但し、ランク５を良、ランク１を否とする。
【０２５５】
比較例８５〜９４
実施例７１〜８０におけるクリーニング助剤供給を行なわない他は、実施例７１〜８６と全く同様の評価を行なった。
【０２５６】
比較例９５
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた他は実施例７１と全く同様の評価を行なった。
比較例９６
比較例９５におけるクリーニング助剤供給を行なわない他は、比較例９５と全く同様にして評価した。
実施例７１〜８０と比較例８５〜９６の結果を表８に示す。
【０２５７】
【表８】
【０２５８】
【発明の効果】
以上詳細且つ具体的に説明したように、本発明の電子写真プロセスは、機械的強度の高い高分子電荷輸送材料を含有した感光体を使用し、且つ感光体表面に外添剤を付着させるため、長期にわたり感光体の劣化を抑えることが可能であり、繰り返し使用により高感度を損なうことなく、帯電電位の低下を抑制することができる。したがって、長期にわたり安定した良好な画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電子写真プロセスを実行するための電子写真装置例を示す模式図である。
【図２】本発明の電子写真プロセスにおける外添剤供給手段を示す別の模式図である。
【図３】本発明の電子写真プロセスを実行するための他の電子写真装置を示す更に別の模式図である。
【図４】本発明の電子写真プロセスに用いるクリーナー例の側面図である。
【図５】本発明の電子写真プロセスに用いる他のクリーナー例の側面図である。
【図６】本発明の電子写真プロセスに用いる更に別のクリーナー例の側面図である。
【図７】本発明の電子写真プロセスに用いる電子写真感光体の構成を示す断面図である。
【図８】本発明の電子写真プロセスに用いる電子写真感光体の別の構成を示す断面図である。
【図９】本発明の電子写真プロセスに用いる電子写真感光体の更に別の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１１ 感光体
１２ 帯電器
１３ 露光ビーム手段
１４ 現像器
１５ 転写器
１６ トナークリーナー
１７ 外添剤ボトル
１８ ローラ
１９ 搬送ベルト
１Ａ ブレード
１Ｂ 外添剤供給手段
２１ クリーナー
２２ 空気圧シリンダー
２３ 空気圧ポンプ
２４ 布
２５ 芯材
２６ ローラ
３１ クリーナー手段
４１ 導電性支持体
４２ 感光層
４３ 下引き層
５１ 電荷発生層
５２ 電荷輸送層
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真感光体及びそれを用いた電子写真プロセスに関し、より詳しくは諸機能を向上させる外添剤を用いた電子写真プロセスに関する。
本発明の電子写真プロセスは、電子写真複写機、ファクシミリ、レーザプリンタ、ＬＥＤプリンタ、ダイレクトデジタル製版機等に応用される。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真方法としては、カールソンプロセスやその種々の変形プロセスなどが知られており、複写機やプリンタなどに広く使用されている。この様な電子写真方法に用いられる感光体の中でも、有機系の感光材料を用いたものが、安価、大量生産性、無公害性などをメリットとして、近年使用され始めている。
【０００３】
有機系の電子写真感光体には、ＰＶＫ（ポリビニルカルバゾール）に代表される光導電性樹脂、ＰＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表される顔料分散型、電荷発生材料と電荷輸送材料とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが知られており、特に機能分離型の感光体が注目されている。
【０００４】
この機能分離型の感光体における静電潜像形成のメカニズムは、感光体を帯電した後光照射すると、光は透明な電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電荷発生材料により吸収され、光を吸収した電荷発生材料は電荷担体を発生し、この電荷担体は電荷輸送層に注入され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和することにより静電潜像を形成するものである。機能分離型感光体においては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送材料と、主に可視部に吸収を持つ電荷発生材料とを組み合わせて用いることが知られており、かつ有用である。
【０００５】
この様な電子写真感光体は、通常コロナ帯電、露光、現像、転写、クリーニング等からなるプロセスに供される。感光体の使用プロセスにおいて、感光体表面は、コロナ帯電の時に発生するオゾン等の酸化雰囲気に曝されるため、表面の劣化を生じる欠点を有している。感光体の劣化は、感度低下、帯電電位の低下、残留電位の増加の原因となり、このため、コピーの画像濃度低下、画像流れ、地汚れ等の異常画像の発生を招くことになる。
【０００６】
このような材料の劣化、とりわけ酸化を防ぐ目的で特定の外添剤を感光層中に添加することが知られている。例えば、特開昭５７−１２２４４４号公報にはフェノール類、ヒドロキシアニソール類等の添加について、特開昭６１−１５６０５２号公報にはニトロン化合物、イソベンゾフラン化合物等の添加について、特開昭６３−１８３５６号公報には、ヒンダードフェノール、ｐ−フェニレンジアミン等の添加について、特開昭６４−４４４５１号公報にはヒンダードアミンの添加について各々外添剤を感光層中に含有させることによる耐オゾン性向上について記載されている。しかしながら、これらの発明においては、感光層中に外添剤を含有しており、保存及び／又は長期にわたる使用という観点からは感光体中の外添剤が酸化してしまい保存に耐えなくなったり、逆に感光体中に必要以上の外添剤を添加した場合、使用時に静電特性に悪影響を及ぼしてしまうという欠点を有していた。こうした欠点に鑑み、特開平５−１８１２９８号公報には感光体表面に外添剤を付着させるという方法が提案されている。
【０００７】
一方、電荷輸送材料の多くは低分子化合物として開発されているが、低分子化合物は単独で製膜性がないため、通常、不活性高分子に分散・混合して用いられる。しかるに低分子電荷輸送材料と不活性高分子からなる電荷輸送層は一般に柔らかく、かかる外添剤を外添するプロセスを適用した場合、感光体表面の膜削れを促進させてしまい、感光体の寿命を短くしてしまうことが少なくなく、この点の改善が望まれていた。
【０００８】
異常画像の発生は他にも、感光体と他部材との接触による感光体表面の損傷や感光体表面への異物（現像剤中の成分や転写紙の成分、及び放電生成物等）の付着によっても発生する。このような電子写真プロセスによる異常画像の発生に対して特開平７−１８１８６７号公報には、感光体と他部材との接触による異常画像の発生を低減するための技術が、また、特開昭６３−６０４７７号公報には、感光体上に付着した転写紙の紙粉によってもたらされる画像流れの防止方法が、また、特開昭６２−１１９５６７号公報には感光体ドラム表面を研磨することにより、放電生成物を除去する方法が開示されている。
【０００９】
しかしながら、これらいずれの方法も感光体表面が一定の硬度を要するものであり、これらの手法を、上記低分子電荷輸送材料と不活性高分子との組み合わせからなる感光体において適用した場合、画像に膜削れによる黒スジや欠陥が生じてしまい、必ずしも満足されるべき方法ではなかった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、長期にわたり異常画像の発生を防止し、安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスを提供することにある。本発明の別の目的は、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の劣化防止方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層にトリアリールアミン構造を主鎖及び／又は側鎖に含むポリカーボネートであることを特徴とする高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００１２】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式１で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００１３】
【化１３】
【００１４】
【化１４】
【００１５】
【化１５】
【００１６】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式２で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００１７】
【化１６】
【００１８】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式３で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００１９】
【化１７】
【００２０】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式４で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２１】
【化１８】
【００２２】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式５で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２３】
【化１９】
【００２４】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式６で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２５】
【化２０】
【００２６】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式７で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２７】
【化２１】
【００２８】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式８で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００２９】
【化２２】
【００３０】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式９で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００３１】
【化２３】
【００３２】
また、本発明によれば、電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に下記一般式１０で表わされる高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体の表面に外添剤を付着させることにより、異常画像の発生を防止し、長期にわたり安定した画像を得られるようにした電子写真プロセスが提供される。
【００３３】
【化２４】
【００３４】
本発明者らは、電子写真プロセスの繰り返し使用による異常画像発生は、
１．該プロセス内に用いられる電子写真感光体の帯電電位低下や残留電位上昇等の特性劣化によるもの
２．該感光体と当接部材との接触による感光体表面の損傷や摩耗によるもの
３．また、該感光体表面への異物（現像剤の成分、転写紙の紙粉及び放電生成物等）の付着によるもの
に集約されることを知得し、また、これらの原因による異常画像発生の解決をすべく検討した結果、繰り返し使用される電子写真プロセス内において、連続的／間欠的に感光体の特性劣化を防止できる外添剤或いは該プロセスの各機能を向上させる外添剤を感光体表面に添加することにより解消できることを見い出した。
【００３５】
さらに、該感光体の最表層に高分子電荷輸送材料を含有させることでこれらの効果が著しくなることを見い出し、高分子電荷輸送材料のうち、特に、トリアリールアミン構造を主鎖及び／又は側鎖に有するポリカーボネート、更に、前記一般式１乃至１０の何れかで示される高分子電荷輸送材料を用いると著しい安定性が得られることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【００３６】
このような外添剤を電子写真感光体に供給する方法としては、外添剤を、感光体表面にそのまま添付し付着させる方法、ローラ、ベルト或いはクリーナーを介して外添剤を付着させる方法、マイクロカプセル化した外添剤を感光体表面に付着させる方法、外添剤粉末やマイクロカプセル化した外添剤を感光体に静電気力で付着させる方法、外添剤を適当な溶媒に溶解し、適当な方法によって感光体表面に塗布、乾燥させ、供給する方法などを挙げることができる。
【００３７】
上記外添方法のうち以下に幾つかの例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
これらの方法のうちベルトを介して感光体表面に外添剤を供給する方法について説明する。
図１は、ベルトを介して感光体表面に外添剤を供給する電子写真プロセスを実行するための電子写真装置例の概略構成図である。この図において、（１１）は導電性支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された感光体であり、この感光体（１１）の周りには、帯電器（１２）、露光ビーム手段（１３）、現像機（１４）、転写チャージャー（１５）、トナークリーナー（１６）が配置されている。図中（１Ｂ）の外添剤供給手段は、ケーシング中に収脱可能に外添剤ボトル（１７）が収納され、この外添剤ボトル（１７）中に外添剤搬送ベルト（１９）が１部分入り込み、他の１部分は突出し、残余の１部分は感光体（１１）表面の極く近隣又は感光体表面にほとんど当接する程度にローラ（１８）（１８）（１８）間に掛け回わされており、また過剰又は不必要な外添剤を感光体（１１）表面から除去するためのブレード（１Ａ）が配置されたものであり、外添剤は搬送ベルト（１９）により感光体表面に運ばれ、感光体表面に供給することができる。
図２に外添剤供給手段の変形例を示す。該変形例における外添剤供給手段（１Ｂ）は、外添剤ボトル（１７）の外添剤出口にローラ（１８）が設けられたものであり、このローラ（１８）表面に付着した外添剤がローラ（１８）の回転に伴ってボトル（１７）中の外添剤を感光体（１１）表面に供給する。
【００３８】
次にクリーナーを介して感光体表面に外添剤を供給する方法について述べる。
図３は、クリーナーを介して感光体表面に外添剤を供給する電子写真プロセスに用いられる電子写真装置例の概略構成図である。この例において（２１）は、外添剤を含有させたクリーナーで、（２２）は例えば空気圧シリンダー、（２３）は空気圧ポンプで、例えば、１００枚〜５万枚毎にシリンダー（２２）を作動させて、所定の圧力でクリーナー（２１）を感光体（１１）の表面に押しつける。図１の例の場合と同様、感光体（１１）の周りには帯電機（１２）、露光ビーム手段（１３）、現像機（１４）、転写チャージャー（１５）及びトナークリーナー（１６）が配置されている。空気圧シリンダー（２２）に替え、バネやモーター等の任意のクリーナー移動手段を用いることができる。図４〜図６にクリーナーの変形例を示す。
【００３９】
図４のクリーナーでは、芯材（２５）の周囲に外添剤を含有させた繊維布（２４）を貼り付け、クリーナーとする。芯材（２５）の他端にはトナークリーナー移動手段（２２）が設けられている。
【００４０】
図５のクリーナーでは、ローラ（２６）の周囲に外添剤を含有させた布（２４）を巻き付け、クリーナーとする。図６のクリーナーでは、ローラ（２６）を利用して、外添剤を含有させた布（２４）を送り、感光体表面に外添剤を供給する。
【００４１】
クリーナーの形状や種類、材質は外添剤を保持できるものであれば、任意である。クリーナーはブレードクリーナー、繊維クリーナー等、公知のものを使用することができる。クリーナーの形状としては、織布状や不織布状、フェルト状、筆状、パッド状、タオル地状、或いは紙状等の任意のものを用いることができ、材質には、綿、麻、紙、脱脂綿等の植物性繊維、羊や兎、馬等の獣毛、或いはナイロン、ポリエステル、アクリル等の合成樹脂繊維等を用いることができる。
【００４２】
また、本発明によれば、感光体表面に外添剤を供給する他の手段としては電子写真プロセスが実施可能な装置において、昇華性外添剤を含有する部材を用いる方法も適用できる。
昇華性外添剤を含有する部材について説明する。電子写真装置内の空間を利用し、該装置のプロセス作動を妨げることなく設置できるものであれば、形態、色などは特定することなく使用できる。以下に本発明における（劣化防止）部材の作製方法及び構成について詳細に説明する。
【００４３】
本発明における該部材の基体となる材料は、昇華性材料を含有することが可能で、且つ様々な環境下である程度安定であるものならば特定されるものではない。中でも、外添剤の昇華性を考えると、比表面積の大きい物が好ましく用いられ、多孔質なもの、一般に言う発泡材料のようなものが好ましく用いられる。発泡材料としては、ポリスチレンフォーム、硬質ウレタンフォーム、軟質ウレタンフォーム、ポリエチレンフォーム、ユリアフォーム等の発泡プラスチック、硬質フォームラバー、発泡クロロプレンゴム等の発泡ゴム、軽量気泡コンクリートパネル等の発泡コンクリート、発泡アルミニウム等の発泡金属或いは天然ゴム、ＳＢＲ、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリエチレン、ＥＰＤＭ、ＥＶＡ、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、６−ナイロン、ポリカーボネート、ＰＥＴ、ＰＢＴ、変性ＰＰＯ等に、発泡材料としてアゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、４，４’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド、パラトルエンスルホニルヒドラジド等を加え、発泡させたようななもの等が挙げられるが、外添剤を含有することが可能で且つ、様々な環境下である程度安定したものならば、特定されるものではない。これらを形成させるときに昇華性外添剤を含有させることで、本発明における該部材を形成することができる。
【００４４】
また、本発明によれば、複写機内に設置された感光体表面を外添剤を表面及び／又は内部に含有する転写紙等の部材で処理する方法も適用できる。
本発明において、転写紙に外添剤を含有させる方法は、大別すると２つの方法がある。１つは、転写紙の抄紙前までに材料中に充填し抄紙する方法、もう１つは、転写紙表面に外添剤を含有する溶工液をコーティングする方法である。
【００４５】
前者は通常、繊維に充填材として、粘土、白土、滑石、アガライト、炭酸石灰、硫酸バリウム、チタン白、硫化亜鉛などを添加し、叩解機で加える。この際に、外添剤を同時に或いは前後に加えるか、或いはパルプの染色過程（行なわないときもある。）の前後、或いは同時に加え、抄紙機で紙を濾くことで作製される。外添剤の添加時期は抄紙直前が最も好ましい。後者は通常は原紙にブラッシュコーター、ロールコーター、エヤーブラッシュコーター、マシンコーター、キャストコーティング等を用いて種々塗工液を塗工し、乾燥工程を経て作製されたものである。この際、塗工液は片面でもかまわないが、好ましくは両面されるのが好ましい。又、数層塗工する場合は、表面層に外添剤を含有させることが好ましい。
【００４６】
次に本発明に使用できる外添剤を示す。本発明において、外添剤には目的に応じて酸化防止剤、滑剤、クリーニング助剤等を適用することができる。以下に外添剤の例を示すが、外添剤として効果が現れるものならば、これらに限定されるものではない。
本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
【００４７】
モノフェノール系化合物
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートなど。
【００４８】
ビスフェノール系化合物
２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）など。
【００４９】
高分子フェノール系化合物
１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、トコフェノール類など。
【００５０】
パラフェニレンジアミン類
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
【００５１】
ハイドロキノン類
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。
【００５２】
有機硫黄化合物類
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネートなど。
【００５３】
有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。
【００５４】
これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
次に本発明に用いることができる滑剤として、下記のものが挙げられる。
【００５５】
炭化水素類
流動パラフィン、ポリエチレンワックス類、塩素化炭化水素類など。
金属石鹸
ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸鉛など。
脂肪酸及び脂肪酸アミド類。
ステアリン酸、ステアリン酸アミド、パルチミン酸アミド、メチレンビスステアロアマイド、セチルパルミテート、ステアリン酸モノグリセライドなど。
次に本発明に用いることができるクリーニング助剤として、下記のものが挙げられる。
【００５６】
多価アルコール及びその誘導体
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチレングリコール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリールイソアミルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、エチレングリコールベンジルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、メトキシメトキシエタノール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールエステル、エチレンクロルヒドリン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリグリコールジクロリド、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、１−ブトキシエトキシプロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレンクロルヒドリン、ジプロピレンクロルヒドリン、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリ（オキシエチレン−オキシプロピレン）誘導体、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、グリセリルモノアセテート、グリセリルジアセテート、グリセリルトリアセテート、グリセリルモノブチレート、グリセリン−α−モノメチルエーテル、グリセリン−α，γ−ジメチルエーテル、グリセリン−α−モノブチルエーテル、グリセリン−α−モノイソアミルエーテル、グリセリン−α，β−ジイソアミルエーテル、グリセリン−α−モノクロルヒドリン、グリセリン−α，γ−ジクロルヒドリン、トリメチロールプロパン、１，２，６−ヘキサントリオール、及びこれらの混合物。
水、ポリフッ化ビニリデン、ポリメチルメタアクリレート等の微粉末。
酸化ケイ素、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、四酸化三鉄等のマグネタイト等。
【００５７】
次に、図面を用いて本発明で用いられる電子写真感光体を説明する。
図７は、本発明において用いられる電子写真感光体の断面図であり、導電性支持体（４１）上に、感光層（４２）が形成されたものである。
図８は、本発明において用いられる電子写真感光体の別の構成を示す断面図である。導電性支持体（４１）上に、電荷発生層（５１）と電荷輸送層（５２）からなる感光層（４２）が形成されたものである。
図９は、本発明において用いられる電子写真感光体の更に別の構成を示す断面図であり、導電性支持体（４１）と感光層（４２）との間に下引き層（４３）が形成されたものである。
【００６６】
次に、本発明に用いられる高分子電荷輸送物質について説明する。
本発明における高分子電荷輸送物質として、主鎖及び／又は側鎖にトリアリールアミン構造を有するポリカーボネートが有効に使用される。更に、下記一般式１〜１０で表わされる高分子電荷輸送物質を用いることにより、本発明の効果はよりいっそう顕著なものとなる。一般式１〜１０で表わされる高分子電荷輸送物質を以下に例示し、具体例を示す。
【００６７】
【化３０】
【００６８】
【化３１】
【００６９】
【化３２】
【００７０】
一般式１の具体例
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して置換若しくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【００７１】
アルキル基として好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００７２】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ４は水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基を表わすが、そのアルキル基の具体例としては上記のＲ１、Ｒ２、Ｒ３と同様のものが挙げられる。
Ｒ５、Ｒ６は置換若しくは無置換のアリール基（芳香族炭化水素基及び不飽和複素環基）を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【００７３】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【００７４】
上記のアリール基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、上記のＲ１、Ｒ２、Ｒ３と同様のものが挙げられる。
【００７５】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１０５）。アルコキシ基（−ＯＲ１０５）としては、Ｒ１０５が上記（２）で定義したアルキル基であるものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００７６】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が前記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【００７７】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【００７８】
【化３３】
１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−１，３−プロパンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール等の脂肪族ジオールや１，４−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール等の環状脂肪族ジオール等が挙げられる。
【００７９】
また、芳香環を有するジオールとしては、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルオキシド、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）キサンテン、エチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）、ジエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）、トリエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−テトラメチルジシロキサン、フェノール変性シリコーンオイル等が挙げられる。
【００８０】
【化３４】
【００８１】
一般式２の具体例
Ｒ７、Ｒ８は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基、又は
【００８２】
【化３５】
【００８３】
【化３６】
【化３７】
【化３８】
【化３９】
【００８７】
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
また、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３で示されるアリレン基としてはＲ７及びＲ８で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基（１）〜基（７）を置換基として有してもよい。また、これら置換基は上記一般式中のＲ１０６、Ｒ１０７、Ｒ１０８と同じ意味を有する。
【００８８】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくはＣ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ１８さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００８９】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１０９）。アルコキシ基（−ＯＲ１０９）としては、Ｒ１０９が（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００９０】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）次式で表わされるアルキル置換アミノ基。
【００９１】
【化４０】
【００９２】
（７）メチレンジオキシ基、又はメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基等。
【００９３】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｃ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｃ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【００９４】
【化４１】
【００９５】
【化４２】
【００９６】
一般式３の具体例
Ｒ９、Ｒ１０は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【００９７】
また、Ａｒ４、Ａｒ５及びＡｒ６で示されるアリレン基としてはＲ９及びＲ１０で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００９８】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１２）。アルコキシ基（−ＯＲ１１２）としては、Ｒ１１２が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００９９】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１００】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１０１】
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１０２】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｄ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｄ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１０３】
【化４３】
【０１０４】
【化４４】
【０１０５】
一般式４の具体例
Ｒ１１、Ｒ１２は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１０６】
また、Ａｒ７、Ａｒ８及びＡｒ９で示されるアリレン基としてはＲ１１及びＲ１２で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１０７】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１３）。アルコキシ基（−ＯＲ１１３）としては、Ｒ１１３が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１０８】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１０９】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｅ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｅ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１１０】
【化４５】
【０１１１】
【化４６】
【０１１２】
一般式５の具体例
Ｒ１３、Ｒ１４は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１１３】
また、Ａｒ１０、Ａｒ１１及びＡｒ１２で示されるアリレン基としてはＲ１３及びＲ１４で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１１４】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１４）。アルコキシ基（−ＯＲ１１４）としては、Ｒ１１４が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１１５】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１１６】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１１７】
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１１８】
前記Ｘ１、Ｘ２の構造部分は置換若しくは無置換のエチレン基、置換若しくは無置換のビニレン基を表わし、この置換基としては、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、上記Ｒ１３、Ｒ１４のアリール基、上記（２）のアルキル基が挙げられる。
【０１１９】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｆ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｆ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１２０】
【化４７】
【０１２１】
【化４８】
式中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８は置換若しくは無置換のアリール基、Ａｒ１３、Ａｒ１４、Ａｒ１５、Ａｒ１６は同一又は異なるアリレン基、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３は単結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし同一であっても異なってもよい。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１２３】
一般式６の具体例
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１２４】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１２５】
また、Ａｒ１３、Ａｒ１４、Ａｒ１５及びＡｒ１６で示されるアリレン基としてはＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、及びＲ１８で示した上記のアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
【０１２６】
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１２７】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１５）。アルコキシ基（−ＯＲ１１５）としては、Ｒ１１５が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１２８】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１２９】
前記Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３の構造部分は単結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし、同一であっても異なっていてもよい。
【０１３０】
このアルキレン基としては、上記（２）で示したアルキル基より誘導される２価基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、２−メチル−１，３−プロピレン基、ジフルオロメチレン基、ヒドロキシエチレン基、シアノエチレン基、メトキシエチレン基、フェニルメチレン基、４−メチルフェニルメチレン基、２，２−プロピレン基、２，２−ブチレン基、ジフェニルメチレン基等を挙げることができる。
【０１３１】
同シクロアルキレン基としては、１，１−シクロペンチレン基、１，１−シクロヘキシレン基、１，１−シクロオクチレン基等を挙げることができる。
【０１３２】
同アルキレンエーテル基としては、ジメチレンエーテル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチレンエーテル基、ビス（トリエチレン）エーテル基、ポリテトラメチレンエーテル基等が挙げられる。
【０１３３】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｇ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｇ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１３４】
【化４９】
【０１３５】
【化５０】
【０１３６】
一般式７の具体例
Ｒ１９、Ｒ２０は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１３７】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１３８】
また、Ｒ１９、Ｒ２０は環を形成する場合、９−フルオレニリデン、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンなどが挙げられる。
また、Ａｒ１７、Ａｒ１８及びＡｒ１９で示されるアリレン基としてはＲ１９及びＲ２０で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
【０１３９】
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１４０】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１６）。アルコキシ基（−ＯＲ１１６）としては、Ｒ１１６が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１４１】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１４２】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１４３】
前記Ｘの構造部分は下記一般式（Ｈ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｈ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１４４】
【化５１】
【０１４５】
【化５２】
【０１４６】
一般式８の具体例
Ｒ２１は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１４７】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１４８】
また、Ａｒ２０、Ａｒ２１、Ａｒ２２及びＡｒ２３で示されるアリレン基としてはＲ２１で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
【０１４９】
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１５０】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１７）。アルコキシ基（−ＯＲ１１７）としては、Ｒ１１７が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１５１】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１５２】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１５３】
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものを表わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１５４】
前記Ｘの構造部分は下記一般式（Ｊ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、この構造部分Ｘは下記一般式（Ｊ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１５５】
【化５３】
【０１５６】
【化５４】
【０１５７】
一般式９の具体例
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１５８】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１５９】
また、Ａｒ２４、Ａｒ２５、Ａｒ２６、Ａｒ２７、及びＡｒ２８で示されるアリレン基としては、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、及びＲ２５で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【０１６０】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１６１】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１８）。アルコキシ基（−ＯＲ１１８）としては、Ｒ１１８が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１６２】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１６３】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１６４】
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１６５】
前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式（Ｌ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、この構造部分Ｘは下記一般式（Ｌ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１６６】
【化５５】
【０１６７】
【化５６】
【０１６８】
一般式１０の具体例
Ｒ２６、Ｒ２７は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【０１６９】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【０１７０】
また、Ａｒ２９、Ａｒ３０、及びＡｒ３１で示されるアリレン基としては、Ｒ２６及びＲ２７で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【０１７１】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１７２】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ１１９）。アルコキシ基（−ＯＲ１１９）としては、Ｒ１１９が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１７３】
（４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するものが挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１７４】
（５）置換メルカプト基又はアリールメルカプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１７５】
前記Ｘの構造部分は下記一般式（Ｍ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、この構造部分Ｘは下記一般式（Ｍ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１７６】
【化５７】
【０１７７】
導電性支持体（４１）としては、体積抵抗１０１０Ω以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、鉄などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの酸化物を蒸着又はスパッタリングによりフィルム状若しくは円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、或るいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板及びそれらをＤ．Ｉ．、Ｉ．Ｉ．、押出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨などで表面処理した管などを使用することができる。
【０１７８】
本発明における感光層（４２）は、単層型でも積層型でもよいが、ここでは説明の都合上、まず積層型について述べる。
はじめに、電荷発生層（５１）について説明する。電荷発生層（５１）は、電荷発生材料を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を用いることもある。電荷発生材料としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【０１７９】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１８０】
電荷発生層（５１）に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが用いられる。これらのバインダー樹脂は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、先述の高分子電荷輸送材料を用いることができる。更に、必要に応じて低分子電荷輸送材料を添加してもよい。
【０１８１】
電荷発生層（５１）に併用できる低分子電荷輸送材料には、正孔輸送材料と電子輸送材料とがある。
【０１８２】
電子輸送材料としては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ［１，２−ｂ］チオフェン−４オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送材料は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１８３】
正孔輸送材料としては、以下に表わされる電子供与性材料が挙げられ、良好に用いられる。例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。これらの正孔輸送材料は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１８４】
電荷発生層（５１）を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
【０１８５】
また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系若しくは有機系電荷発生材料を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法などを用いて行なうことができる。
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。
【０１８６】
次に、電荷輸送層（５２）について説明する。
電荷輸送層（５２）は、高分子電荷輸送物質を主成分とする層であり、高分子電荷輸送物質を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することにより形成できる。前記一般式１〜１０の高分子電荷輸送物質が特に良好に使用される。また、必要により適当なバインダー樹脂、低分子電荷輸送物質、可塑剤やレベリング剤を添加することもできる。
【０１８７】
電荷輸送層（５２）に併用できるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート（ビスフェノールＡタイプ、ビスフェノールＺタイプ）、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂などが用いられる。これらのバインダーは、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１８８】
電荷輸送層（５２）に併用できる低分子電荷輸送材料は、電荷発生層（５１）の説明において記載したものと同じものを用いることができる。電荷輸送層（５２）の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当であり、好ましくは、１０〜４０μｍ程度が適当である。
また、本発明において電荷輸送層（５２）中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。
【０１８９】
可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、バインダー樹脂１００重量部に対して０〜３０重量部程度が適当である。
レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー或いはオリゴマーが使用され、その使用量は、バインダー樹脂１００重量部に対して０〜１重量部程度が適当である。
【０１９０】
次に、感光層（４２）が単層構成の場合について述べる。
キャスティング法で単層感光層を設ける場合、多くは電荷発生材料と低分子並びに高分子電荷輸送材料よりなる機能分離型のものが挙げられる。即ち、電荷発生材料並びに電荷輸送材料には、前出の材料を用いることができる。
また、必要により可塑剤やレベリング剤を添加することもできる。更に、必要に応じて用いることのできるバインダー樹脂としては、先に電荷輸送層（５２）で挙げたバインダー樹脂をそのまま用いる他に、電荷発生層（５１）で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。単層感光体の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当であり、好ましくは、１０〜４０μｍ程度が適当である。
【０１９１】
本発明に用いられる電子写真感光体には、導電性支持体（４１）と感光層（４２）［積層タイプの場合には、電荷発生層（５１）］との間に下引き層（４３）を設けることができる。下引き層（４３）は、接着性を向上する、モワレなどを防止する、上層の塗工性を改良する、残留電位を低減するなどの目的で設けられる。下引き層（４３）は一般に樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤でもって塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶解性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂などが挙げられる。また、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物、或るいは金属硫化物、金属窒化物などの微粉末を加えてもよい。これらの下引き層は、前述の感光層の場合と同様、適当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。
【０１９２】
さらに、本発明における感光体の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用して、例えばゾル−ゲル法等により形成した金属酸化物層も有用である。
この他に、本発明の下引き層にはＡｌ２Ｏ３を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシレン（パリレン）等の有機物や、ＳｉＯ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物を真空薄膜作製法にて設けたものも良好に使用できる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。
【０１９３】
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、酸化防止剤を添加することができる。酸化防止剤は、有機物を含む層ならばいずれに添加してもよいが、電荷輸送材料を含む層に添加すると良好な結果が得られる。
【０１９４】
【実施例】
次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例において、使用する部は全て重量部を表わし、使用された高分子電荷輸送物質の繰り返し単位ｎは、いずれの例においても、重量平均分子量から算出して１００±２０の範囲であった。
【０１９５】
実施例１
φ８０ｍｍのアルミニウムドラム上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層、２５μｍの電荷輸送層を形成して、本発明の電子写真感光体を得た。
【０１９６】
［下引き層用塗工液］
アルキッド樹脂 ６部
（ベッコゾール １３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製）
メラミン樹脂 ４部
（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製）
酸化チタン ４０部
メチルエチルケトン ２００部
【０１９７】
［電荷発生層用塗工液］
下記構造のトリスアゾ顔料 ２．５部
【０１９８】
【化５８】
シクロヘキサノン ２００部
メチルエチルケトン ８０部
【０１９９】
［電荷輸送層用塗工液］
下記構造の高分子電荷輸送材料 １０部
【０２００】
【化５９】
【０２０１】
以上のように作成した電子写真感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載し、図１に示すような外添剤供給手段を使用し、酸化防止剤として２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノンを搬送ベルトを介して連続複写１００枚毎に感光体表面に付着させた。２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続５万枚のコピーを行なった。その際、１０枚目及び５万枚目の画像を評価した。更に５万枚複写における感光体の膜厚減少量（摩耗量）を測定した。
【０２０２】
実施例２
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に感光体を作製し、全く同様にして評価をした。
【０２０３】
【化６０】
実施例３
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に感光体を作製し、全く同様にして評価をした。
【０２０５】
【化６１】
実施例４
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２０７】
【化６２】
実施例５
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２０９】
【化６３】
実施例６
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１１】
【化６４】
実施例７
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１３】
【化６５】
実施例８
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１５】
【化６６】
実施例９
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１７】
【化６７】
実施例１０
実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送材料を以下の構造のものに変えた以外は実施例１と全く同様に作製し、全く同様にして評価をした。
【０２１９】
【化６８】
比較例１〜１０
実施例１〜１０において、酸化防止剤を感光体表面に付着させない以外は、実施例１〜１０と全く同様の評価を行なった。
【０２２１】
比較例１１
実施例１における電荷輸送層塗工液を下記組成のものに変えた以外は、全く同様に作製し、実施例１と全く同様の評価を行なった。
［電荷輸送層用塗工液］
ビスフェノールＡ型ポリカーボネート １０部
（帝人：パンライトＫ１３００）
下記構造の低分子電荷輸送材料 １０部
【０２２２】
【化６９】
以上のように作成した比較例１１の電子写真感光体を実装用にした後、実施例１と全く同様の評価を行なった。
【０２２３】
比較例１２
比較例１１において、酸化防止剤を感光体表面に付着させない以外は、比較例１１と全く同様の評価を行なった。
実施例１〜１０と比較例１〜１２の結果を表１に示す。
【０２２４】
【表１】
実施例１１〜２０
上記実施例１〜１０と全く同様にして作製した電子写真感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載し、図３に示すようなクリーナー手段を使用し、５万枚の連続複写を行なった。環境条件は、２５℃−５０％ＲＨであった。クリーナー（２１）には、酸化防止剤として２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノンを含ませた多孔質のスポンジを用い、１ｋｇ／ｃｍ２の圧力で連続複写５００枚毎に感光体表面を擦った。評価方法としては、５万枚目の画像の地汚れを目視にて５段階に評価した。但し、ランク５を良、ランク１を否とする。更に５万枚複写における感光体の膜厚減少量（摩耗量）を測定した。
【０２２６】
比較例１３〜２２
上記実施例１１〜２０における酸化防止剤の供給を行なわない（クリーナーを感光体表面に接触させない）他は、実施例１３〜２２と全く同様の評価を行なった。
【０２２７】
比較例２３
上記比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例１１と全く同様の評価を行なった。
比較例２４
上記比較例２３において、酸化防止剤の供給を行なわない（クリーナーを感光体表面に接触させない）他は、比較例２３と全く同様の評価を行なった。
実施例１１〜２０と比較例１３〜２４の結果を表２に示す。
【０２２８】
【表２】
実施例２１〜３０
実施例１〜１０と全く同様にして作製した電子写真感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載した。次に昇華性酸化防止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール２０部、ＳＢＲ７０部、パラトルエンスルホニルヒドラジド６部を混合後、加圧成形により成形した酸化防止部材を上記複写機に搭載した。３０℃−８０％ＲＨという条件にて５万枚の連続コピーを行ない、１０枚目と５万枚目の画像評価を行なった。
【０２３０】
比較例２５〜３４
実施例２１〜３０における酸化防止部材を搭載しない他は、実施例２１〜３０と全く同様の評価を行なった。
【０２３１】
比較例３５
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例２５と全く同様の評価を行なった。
比較例３６
比較例３５における酸化防止部材を搭載しない他は、比較例３５と全く同様にして評価を行なった。
実施例２１〜３０と比較例２５〜３６の結果を表３に示す。
【０２３２】
【表３】
実施例３１〜４０
実施例１におけるアルミニウムドラムの代りにアルミニウム導電層を有するポリエステルフィルムを支持体に用い、電荷発生層塗工液を下記組成のものに変えた以外は、実施例１〜１０と全く同様に本発明で使用する感光体を作製した。
【０２３４】
［電荷発生層用塗工液］
下記構造のジスアゾ顔料 ２．５部
【０２３５】
【化７０】
シクロヘキサノン ２００部
メチルエチルケトン ８０部
【０２３６】
以上のように作製した感光体に導電性塗工及びベルト接合を行ない、実装用の感光体とし、この感光体を一部改造した複写機（リコー製：リコピーＦＴ２０５０）に搭載した。次に酸化防止剤を含有する転写紙について説明する。亜硫酸及びソーダ木パルプをそれぞれ５００ｇづつ叩解機に入れ、水を加えて濃度を４％として、これに粘土２５０ｇ、ロジン酸ソーダ溶液を順次加え、硫酸アルミニウム５ｇを加え、最後に酸化防止剤として２−ドデシルハイドロキノンを加え、３時間叩解した。以上の液を長網式抄紙機を用いて濾した後、プレス、乾燥工程を経て適当な大きさに裁断した。普通紙５０枚につきこの転写紙を１枚用い、５００１０枚の連続コピーを行なった。環境は、２３℃−５０％ＲＨであった。評価方法としては、１０枚目と５００１０枚目の画像の黒ベタ部を市販のマクベス濃度計にて画像濃度（以下Ｉ．Ｄと略す。）を測定した。
【０２３７】
比較例３７〜４６
実施例３１〜４０における転写紙に酸化防止剤を添加しない以外は、実施例３１〜４０と全く同様にして評価した。
比較例４７
上記比較例１１におけるアルミニウムドラムの代りにアルミニウム導電層を有するポリエステルフィルムを支持体に用い、電荷発生層塗工液を下記組成のものに変えた以外は、比較例１１と全く同様に作製した。
【０２３８】
［電荷発生層用塗工液］
下記構造のジスアゾ顔料 ２．５部
【０２３９】
【化７１】
シクロヘキサノン ２００部
メチルエチルケトン ８０部
【０２４０】
以上のように作製した感光体に導電層塗工及びベルト接合を行ない、実装用の感光体とした。この感光体を実施例３１で用いた複写機に設置し、実施例３１と全く同様にして評価を行なった。
比較例４８
比較例４７において、転写紙に酸化防止剤を添加しない以外は、比較例４７と全く同様にして評価した。
実施例３１〜４０と比較例３７〜４８の結果を表４に示す。
【０２４１】
【表４】
実施例４１〜５０
実施例１〜１０と全く同様にして作製した感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載した。図１に示すような外添剤供給手段を使用し、滑剤としてエチレンビスステアリルアミドをベルトを介して感光体表面に付着させた。以上のように条件を整えた後、２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続５万枚のコピーを行なった。その際、１０枚目及び５万枚目の画像評価を評価した。
【０２４３】
比較例４９〜５８
実施例４１〜５０において、滑剤を感光体表面に付着させない以外は、実施例４１〜５０と全く同様の評価を行なった。
【０２４４】
比較例５９
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例４１と全く同様にして評価をした。
比較例６０
比較例５９において、滑剤を感光体表面に付着させない以外は、比較例５９と全く同様の評価を行なった。
実施例４１〜５０と比較例４９〜６０の結果を表５に示す。
【０２４５】
【表５】
実施例５１〜６０
実施例１〜１０と全く同様にして作製した感光体を実装用にした後、一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載した。図５に示すような外添剤供給手段を使用し、滑剤としてステアリン酸亜鉛をローラを介して感光体表面に付着させた。以上のように条件を整えた後、２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続５万枚のコピーを行なった。その際、１０枚目及び５万枚目の画像評価を評価した。
【０２４７】
比較例６１〜７０
実施例５１〜６０において、滑剤を感光体表面に付着させない以外は、実施例５１〜６０と全く同様の評価を行なった。
【０２４８】
比較例７１
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例５１と全く同様にして評価をした。
比較例７２
比較例７１において、滑剤を感光体表面に付着させない以外は、比較例７１と全く同様の評価を行なった。
実施例５１〜６０と比較例６１〜７２の結果を表６に示す。
【０２４９】
【表６】
実施例６１〜７０
実施例３１〜４０と全く同様にして作製した実装用の電子写真感光体を一部改造した複写機（リコー製：ＭＦ５３０）に搭載した。クリーニング助剤としてチタン酸バリウムを現像剤中に１部の割合で添加した。２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続３万枚のコピーを行なった。その際、１０枚目及び３万枚目の画像評価を評価した。
【０２５１】
比較例７３〜８２
実施例６１〜７０におけるクリーニング助剤を添加しない他は、実施例６１〜７０と全く同様にして評価した。
【０２５２】
比較例８３
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた以外は実施例６１と全く同様にして評価をした。
比較例８４
比較例８３におけるクリーニング助剤を添加しない他は、比較例８３と全く同様にして評価した。
実施例６１〜７０と比較例７３〜８４の結果を表７に示す。
【０２５３】
【表７】
実施例７１〜８０
実施例１〜１０と全く同様にして作製した実装用の電子写真感光体を一部改造した複写機（リコー製：イマジオＭＦ５３０）に搭載した。図１に示すような外添剤供給手段を使用し、クリーニング助剤としてポリフッ化ビニリデンをベルトを介して感光体表面に連続複写１００枚毎に感光体表面に付着させた。以上のように条件を整えた後、２０℃−６０％ＲＨの環境下で連続５万枚のコピーを行なった。評価方法としては、５万枚目の画像の地汚れを目視にて５段階に評価した。但し、ランク５を良、ランク１を否とする。
【０２５５】
比較例８５〜９４
実施例７１〜８０におけるクリーニング助剤供給を行なわない他は、実施例７１〜８６と全く同様の評価を行なった。
【０２５６】
比較例９５
比較例１１と全く同様にして作製した電子写真感光体を用いた他は実施例７１と全く同様の評価を行なった。
比較例９６
比較例９５におけるクリーニング助剤供給を行なわない他は、比較例９５と全く同様にして評価した。
実施例７１〜８０と比較例８５〜９６の結果を表８に示す。
【０２５７】
【表８】
【発明の効果】
以上詳細且つ具体的に説明したように、本発明の電子写真プロセスは、機械的強度の高い高分子電荷輸送材料を含有した感光体を使用し、且つ感光体表面に外添剤を付着させるため、長期にわたり感光体の劣化を抑えることが可能であり、繰り返し使用により高感度を損なうことなく、帯電電位の低下を抑制することができる。したがって、長期にわたり安定した良好な画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電子写真プロセスを実行するための電子写真装置例を示す模式図である。
【図２】本発明の電子写真プロセスにおける外添剤供給手段を示す別の模式図である。
【図３】本発明の電子写真プロセスを実行するための他の電子写真装置を示す更に別の模式図である。
【図４】本発明の電子写真プロセスに用いるクリーナー例の側面図である。
【図５】本発明の電子写真プロセスに用いる他のクリーナー例の側面図である。
【図６】本発明の電子写真プロセスに用いる更に別のクリーナー例の側面図である。
【図７】本発明の電子写真プロセスに用いる電子写真感光体の構成を示す断面図である。
【図８】本発明の電子写真プロセスに用いる電子写真感光体の別の構成を示す断面図である。
【図９】本発明の電子写真プロセスに用いる電子写真感光体の更に別の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１１ 感光体
１２ 帯電器
１３ 露光ビーム手段
１４ 現像器
１５ 転写器
１６ トナークリーナー
１７ 外添剤ボトル
１８ ローラ
１９ 搬送ベルト
１Ａ ブレード
１Ｂ 外添剤供給手段
２１ クリーナー
２２ 空気圧シリンダー
２３ 空気圧ポンプ
２４ 布
２５ 芯材
２６ ローラ
３１ クリーナー手段
４１ 導電性支持体
４２ 感光層
４３ 下引き層
５１ 電荷発生層
５２ 電荷輸送層
Claims (13)
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式１で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする電子写真プロセス。
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写 真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式２で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする電子写真プロセス。
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式３で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする電子写真プロセス。
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式４で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする電子写真プロセス。
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式５で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする電子写真プロセス。
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式６で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする電子写真プロセス。
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式７で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする電子写真プロセス。
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該記電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式８で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のうちの何れか１に記載の電子写真プロセス。
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式９で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする電子写真プロセス。
- 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の劣化を防止する、若しくは、該電子写真プロセス内の各機能を向上させる外添剤を、該電子写真プロセスにおいて感光体の表面に供給できる機構を具備した電子写真プロセスにおいて、前記電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の支持体から最も離れた最表層に高分子電荷輸送材料が含有された電子写真感光体が用いられ、該電子写真プロセスで使用される電子写真感光体に含有される高分子電荷輸送材料が、下記一般式１０で表わされる高分子電荷輸送材料であることを特徴とする電子写真プロセス。
- 感光体表面に供給される外添剤が酸化防止剤であることを特徴とする請求項１乃至１０のうちのいずれか１に記載の電子写真プロセス。
- 感光体表面に供給される外添剤が滑剤であることを特徴とする請求項 1 乃至１０のうちのいずれか１に記載の電子写真プロセス。
- 感光体表面に供給される外添剤がクリーニング助剤であることを特徴とする請求項１乃至１０のうちのいずれか１に記載の電子写真プロセス。
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