JP3532627B2 - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、長時間にわたって優れ
た電子写真特性を維持し得る電子写真感光体に関するも
のである。 【０００２】 【従来の技術】電子写真用の感光体としては、積層型の
電子写真感光体と単層型の電子写真感光体が知られてお
り、積層型の電子写真感光体においては、導電性基板上
に露光により電荷を発生させるための電荷発生層と電荷
を輸送するための電荷輸送層とが積層された少なくとも
２層よりなる感光層が形成されており（前記二層が逆に
なったものを逆層型といい、本発明においてはこれも積
層型電子写真感光体という）、単層型の電子写真感光体
においては、導電性基板上に、電荷発生物質と電荷輸送
物質がバインダー樹脂に分散した単一層からなる感光層
が形成されている。 【０００３】電子写真感光体の感光層（単層型の電子写
真感光体においては感光層、積層型の電子写真感光体に
おいては特に電荷輸送層）のバインダー樹脂としては、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以
下ビスフェノール−Ａと略称する。）を原料としたポリ
カーボネート樹脂が広く利用されている。ビスフェノー
ル−Ａを原料としたポリカーボネート樹脂は、電荷輸送
物質との相溶性が良好であるので、これをバインダー樹
脂とした感光層を有する電子写真感光体は電気特性が良
好であり、また比較的機械的強度が大きいという特徴を
有している。 【０００４】しかしながら、バインダー樹脂としてビス
フェノール−Ａを原料としたポリカーボネート樹脂を用
いて感光層を形成した場合には、以下に示すような問題
があることが明らかになった。 (1)感光体作成時において、下地に感光層を塗布する
際、使用する溶媒によっては塗工液がゲル化したり、感
光層内で樹脂が結晶化することがあった。そして、塗布
層においてゲル化した部分や結晶化した部分では、光減
衰がなく、電荷は残留電位となって残り、画質上ディフ
ェクトとなって出現する。 (2)通常の負帯電型の電子写真感光体の場合、ビスフェ
ノール−Ａを原料としたポリカーボネート樹脂を用いた
感光層は、下地との密着性が悪いため、剥離し易かった
り、表面硬度が不足しているので、傷ついたり、表面が
摩耗して耐刷寿命が短くなるという問題があった。 ここで意味する下地とは、積層型感光体の場合では電荷
発生層を、逆層型の感光体では導電性基板を、単層型の
感光体では導電性基板を指す。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】上記のような実状に鑑
み、本発明の課題は、電子写真感光体の作製時に塗工液
がゲル化したり、感光層内におけるバインンダー樹脂が
結晶化したりすることがなく、感光層と下地との密着性
が良好で、感光層が機械的強度に優れていて耐刷性が良
好で、長期間にわたって優れた電子写真特性を維持し得
る電子写真感光体を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明者らはこの様な課
題を解決するべく鋭意研究を重ねた結果、感光層のバイ
ンダー樹脂として特定の構造単位に含むポリアリレート
を用いると、前述のような電子写真感光体に認められる
問題を解決することができるという知見を得、これら知
見に基づいて、本発明に到達した。 【０００７】すなわち、本発明の要旨は、導電性基板上
に感光層を設けた電子写真感光体において、感光層を形
成するバインダー樹脂が、式（１）で示される構造単位
を有するポリアリレートであって１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−
シクロヘキサンを二価フェノール原料として構成される
ポリアリレート、及び式（２）で示される構造単位を有
するポリアリレートであって、これら式（１）及び式
（２）で示される構造単位のモル分率が０．０５≦
〔（１）／｛（１）＋（２）｝〕≦１．００を満足し、
かつ、インヘレント粘度（ηinh.）が０．２５〜１．０
０（溶媒としてテトラクロロエタンを用い、バインダー
樹脂の濃度を１．０ｇ／ｄｌとし、２５℃で測定）であ
ることを特徴とする電子写真感光体である。 【０００８】〔式（１）中、Ｒ1 〜Ｒ4 は各々独立に水
素原子、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基か
ら選ばれ、Ｘは炭素原子を表し、ｍは４〜７の整数を表
し、Ｒ5 及びＲ6 は各々Ｘに関して個別に選択されてよ
く、独立に水素原子及び炭素数１〜６のアルキル基から
選ばれ（ただし、Ｒ5 及びＲ6 は少なくとも１つのＸ原
子上に結合している）、Ｙは、フェニレン基、ビフェニ
レン基、ナフチレン基、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水
素基、炭素数３〜７の環状炭化水素基からなる群から選
ばれる。また、式（２）中、Ｒ7 及びＲ8 は各々独立に
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４アルキル基から
選ばれ、Ｚは、炭素数６のアルキレン基、アルキリデン
基からなる群から選ばれ、Ｙは、フェニレン基、ビフェ
ニレン基、ナフチレン基、炭素数１〜１２の脂肪族炭化
水素基、炭素数３〜７の環状炭化水素基からなる群から
選ばれる。〕 【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
電子写真感光体の感光層を形成するバインダー樹脂とし
てに用いられるポリアリレートにおいて式（１）及び式
（２）に示す構造単位を有するポリアリレートである。 【００１０】式（１）に示す構造単位を構成する１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アルキルシクロアル
カンの具体例としては、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−シクロヘ
キサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３−ジメチル−５，５−ジメチル−シクロヘキサ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３
−ジメチル−４−メチル−シクロヘキサン、１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５
−エチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−シク
ロペンタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−
シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジフェニル−
４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メ
チル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４
−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチ
ル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチ
ル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジクロロ
−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−
メチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−
５−メチル−シクロヘキサンなどが挙げられる。これら
のうち、１種類もしくは２種類以上共重合して用いても
よい。この中で、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３−ジメチル−５−メチル−シクロヘキサン
を用いることが特に好ましい。１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）アルキルシクロアルカンの製造方法
は、特開平２−８８６３４号公報に詳細に述べられてい
る。 【００１１】式（２）で示される構造単位を構成するた
めの原料である二価フェノールとしては、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２
−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４
−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、
ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１
−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタ
ン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジ
ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビ
ス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフ
ルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−
４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，
２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビ
ス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、
ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキ
シフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、４，
４′−ジヒドロキシビフェニル、４，４′−ジヒドロキ
シ−３，３′−ジメチルビフェニル、４，４′−ジヒド
ロキシ−２，２′−ジメチルビフェニル、４，４′−ジ
ヒドロキシ−３，３′−ジシクロヘキシルビフェニル、
４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフルオロビフェ
ニル、３，３′，５，５′−テトラメチル−４，４′−
ジヒドロキシビフェニル、４，４′−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ビスフ
ェノールフローレンなどが挙げられる。これらの二価フ
ェノールは、１種類で用いることもできるし、２種類以
上で併用することも可能である。中でも、特に好ましく
は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンが挙げられる。 【００１２】式（１）及び式（２）で示される構造単位
を有するポリアリレートを製造する際に用いられる二価
のカルボン酸を例示すると、テレフタル酸、イソフタル
酸、オルトフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、ジフェン酸、４、４′−ジカルボキシジフェニルエ
ーテル、ビス（ｐ−カルボキシフェニル）アルカン、
４，４′−ジカルボキシフェニルスルホン、シュウ酸、
マロン酸、コハク酸、アジピン酸などの脂肪族ジカルボ
ン酸が挙げられる。これらの二価のカルボン酸は、１種
類で用いることもできるし、２種類以上を併用すること
も可能である。 【００１３】また、式（１）及び式（２）で示される構
造単位を有するポリアリレートにおいて、これらの構造
単位のモル分率が０．０５≦〔（１）／｛（１）＋
（２）｝〕≦１．００を満足するものである。〔（１）
／｛（１）＋（２）｝〕が０．０５未満では、本発明の
効果が得られず、塗工液のゲル化や感光層又は電荷輸送
層の結晶化等の防止及び耐刷寿命の向上が達成されず、
また下引層との密着性が悪くなるので好ましくない。 【００１４】上記ポリアリレートのインヘレント粘度
（ηinh.）は０．２５〜１．００（溶媒としてテトラク
ロロエタンを用い、バインダー樹脂の濃度を１．０ｇ／
ｄｌとし、２５℃で測定）である。インヘレント粘度が
０．２５未満では機械的強度が低く、このポリアリレー
トをバインダー樹脂とする層の表面強度が不足し、感光
体が摩耗して耐刷寿命が短くなる。一方、インヘレント
粘度が１．０を超えるとポリアリレートの溶液粘度が上
昇し、溶液塗工法による感光体製造が困難になることが
ある。 【００１５】上記ポリアリレートの製造方法としては、
前述した二価のカルボン酸ハライドと二価のフェノール
を有機溶剤中で反応させる溶液重合法（Ａ．Ｃｏｎｉｘ
Ｉｎｄ．Ｅｎｇ．ｏｈｅｍ．５１ １４７ １９５９
年、特公昭３７−５５９９号公報）、二価のカルボン酸
と二価のフェノールを無水酢酸の存在下で加熱する溶融
重合法、二価のカルボン酸と二価のフェノールをジアリ
ルカーボネートの存在下で加熱する溶融重合法（特公昭
３８−２６２９９号公報）、水と相溶しない有機溶剤に
溶解せしめた二価のカルボン酸ハライドとアルカリ水溶
液に溶解せしめた二価のフェノールとを混合する界面重
合法（Ｗ．Ｍ．ＥＡＲＥＣＫＳＯＮ Ｊ．Ｐｏｌｙ．Ｓ
ｃｉ．ＸＬ３９９ １９５９年、特公昭４０−１９５９
号公報）等公知の方法が挙げられ、特に界面重合法が好
適に採用される。 【００１６】界面重合法における製造方法をさらに説明
すると、前記した二価フェノールのアルカリ水溶液を調
製し、続いて、重合触媒、例えばトリメチルアミン、ト
リエチルアミンなどの第三級アミン、トリメチルベンジ
ルアンモニウムクロライド、トリブチルベンジルアンモ
ニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩などを添
加する。一方、水と相溶せず、かつポリアリレートを溶
解する様な溶媒、例えば塩化メチレン、１，２−ジクロ
ロエタン、クロロホルム、クロロベンゼンなどの塩素系
溶媒、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族系炭
化水素などに二価のカルボン酸ハライドを溶解させた溶
液を先のアルカリ溶液に混合し、２５℃以下の温度で１
時間〜５時間攪拌しながら反応を行うことによって所望
のポリアリレートを得る。ここで用いることができるア
ルカリには、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等があ
る。 【００１７】上記ポリアリレートの分子量を調節する方
法としては、界面重合方法に限らず、重合時に一官能の
物質を添加して行うことができる。ここで言う分子量調
節剤として用いられる一官能物質としては、フェノー
ル、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールなど
の一価フェノール類、安息香酸クロライド、メタンスル
ホニルクロライド、フェニルクロロホルメートなどの一
価酸クロライド類が挙げられる。 【００１８】本発明においては上記のような特定のポリ
アリレートをバインダー用の樹脂として用い感光層を形
成する。感光層の形成方法としては通常の方法が用いら
れ、なんら限定されないが、このポリアリレートを用い
て塗工液を製造し、下地上に塗布して感光層を形成する
のが好ましい。すなわち、単層型の電子写真感光体にお
いては電荷輸送物質、電荷発生物質、上記のような特定
のポリアリレート及び溶媒とより塗工液を製造し、基板
上に塗布して感光層を形成する。また、積層型の電子写
真感光体においては電荷輸送物質、上記のような特定の
ポリアリレート及び溶媒とよりより塗工液を製造し、下
地上に塗布して電荷輸送層を形成する。この際、本発明
の効果を阻害しない範囲で他のバインダー樹脂を混合す
るなどの方法で使用することもできる。また、酸化防止
剤などを添加することも可能である。 【００１９】本発明の電子写真感光体を構成する導電性
基板材料としては、公知のものを各種使用することがで
きる。例えば、アルミニウム、真鍮、銅、ニッケル、鋼
などの金属板、これらのドラム若しくは金属シートが挙
げられる。また、プラスチックシート上にアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、パラジウム、グラファイトなど
の導電性物質を蒸着、スパッタリング、塗布などにより
コーティングするなどして導電化処理を施したもの、金
属ドラムの表面を電極酸化などにより金属酸化物処理し
たもの、あるいはガラス、プラスチック板、布、紙など
の基板に導電化処理を施したものなどを使用することが
できる。 【００２０】積層型電子写真感光体において、電荷輸送
層は少なくとも電荷輸送物質を有する層であり、また、
電荷発生層はその下地上に真空蒸着、スパッタ法などに
より電荷発生物質の層を形成するか、又はその下地上に
電荷発生物質をバインダー樹脂を用いて結着してなる層
を形成することによって得ることができる。バインダー
樹脂を用いた電荷発生層の形成方法としては、公知の各
種方法を用いることができるが、通常、電荷発生物質を
バインダー樹脂と共に適当な溶媒に分散又は溶解した塗
工液を、下層上に塗布し、乾燥させる方法が好適に使用
される。 【００２１】上記電荷発生物質としては、公知のものな
ど各種使用することができる。具体的には、非晶質セレ
ン、三方晶セレンなどのセレン単体、セレン−テルルな
どのセレン合金、Ａｓ2 Ｓｅ3 などのセレン化合物若し
くはセレン含有組成物、酸化亜鉛、ＣｄＳ−Ｓｅなどの
第II族及び第IV族元素からなる無機材料、酸化チタンな
どの酸化物系半導体、アモルファスシリコンなどのシリ
コン系材料などの各種無機材料、金属もしくは無金属フ
タロシアニン、シアニン、アントラセン、ビスアゾ化合
物、ピレン、ペリレン、ピリリウム塩、チアピリリウム
塩、ポリビニルカルバゾール、スクエアリウム顔料など
の各種有機材料が挙げられ、これらの電荷発生物質を１
種類だけで用いることもできるし、複数以上混合するな
どして併用しても差し支えない。 【００２２】上記の積層型電子写真感光体の電荷発生層
におけるバインダー樹脂としては、特に制限がなく、公
知のものを使用することができる。例えば、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、ポリビニルアセタール、アルキッド
樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、スチレン
−アクリロニトリル共重合体、ポリカーボネート、ポリ
アミド、ポリアリレート、ポリエステル、ポリケトン、
ポリアクリルアミド、ブチラール樹脂、ＡＢＳ樹脂など
の熱可塑性樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、フェノ
ール樹脂などの熱硬化性樹脂を使用することができる。
なお、上記電荷発生層におけるバインダー樹脂として、
本発明の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アル
キルシクロアルカンを構造単位に含むポリアリレートを
使用することもできる。 【００２３】積層型電子写真感光体における電荷輸送層
は、下地上に電荷輸送物質をバインダー樹脂で結着して
なる層を形成することによって得られる。この電荷輸送
層の作製方法としては、公知の方法を使用することがで
きる。通常、電荷輸送物質と１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）アルキルシクロアルカンを構造単位に含
むポリアリレートを適当な溶媒に分散若しくは溶解した
塗工液を下地層となる基板に塗布し、乾燥して方式が好
ましく使用される。 【００２４】前記電荷輸送物質としては、従来用いられ
ている電子輸送物質や正孔輸送物質が挙げられる。電子
輸送物質を例示すると、クロラニル、ブロマニル、テト
ラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，
４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，
７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，７−ト
リニトロ−９−ジシアノメチレンフルオレノン、２，
４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，９−ト
リニトロチオキサントンその他に、３，５−ジメチル−
３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル− ４′，４′−ジ
フェノキノンなどのジフェノキノン誘導体などの電子吸
引物質やこれらの高分子物質などが挙げら、これらは１
種類で使用してもよく複数以上混合するなどして使用し
てもよい。 【００２５】前記正孔輸送物質を例示すると、ピレン、
Ｎ−エチルカルバゾール、Ｎ−イソプロピリカルバゾー
ル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルヒドラジノ−３−メチリ
デン−９−エチルカルバゾール、Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒ
ドラジノ−３−メチリデン−９−エチルカルバゾール、
Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラジノ−３−メチリデン−１０
−エチルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラジ
ノ−３−メチリデン−１０−エチルフェノキサジン、ｐ
−ジエチルアミノベンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニ
ルヒドラゾン、ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
Ｎ−α−ナフチル−Ｎ−フェニルヒドラゾン、ｐ−ピロ
リジノベンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾ
ン、１，３，３−トリメチルインドレニン−ω−アルデ
ヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、ｐ−ジエチルベ
ンズアルデヒド−３−メチルベンズチアゾリノン−２−
ヒドラゾン、１−フェニル−１，２，３，４−テトラヒ
ドロキノリン−６−カルボキシアルデヒド−１′，１′
−ジフェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン類、２，５−
ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オ
キサジアゾール、１−フェニル−３−（ｐ−ジエチルア
ミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）
ピラゾン、１−［キノリル（２）］−３−（ｐ−ジエチ
ルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）ピラゾリン、１−〔レピジル（２）〕−３−（ｐ−
ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノ
フェニル）ピラゾリン、１−［６−メトキシ−ピリジル
（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−
（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−〔ピ
リジル（５）〕−３−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）
ピラゾリン、１−〔ピリジル（２）〕−３−（ｐ−ジエ
チルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）ピラゾリン、１−〔ピリジル（２）〕−３−（ｐ
−ジエチルアミノスチリル）−４−メチル−５−（ｐ−
ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−〔ピリジル
（２）〕−３−（α−メチル−ｐ−ジエチルアミノスチ
リル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリ
ン、１−フェニル−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリ
ル）−４−メチル−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）ピラゾリン、１−フェニル−３−（α−ベンジル−
ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルア
ミノフェニル）ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピ
ラゾリン類、２−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−δ
−ジエチルアミノベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジエ
チルアミノフェニル）−４−（ｐ−ジメチルアミノフェ
ニル）−５−（２−クロロフェニル）オキサゾールなど
のオキサゾール化合物、２−（ｐ−ジエチルアミノスチ
リル）−６−ジエチルアミノベンゾチアゾールなどのチ
アゾール系化合物、ビス（４−ジエチルアミノ−２−メ
チルフェニル）フェニルメタンなどのトリアリールメタ
ン系化合物、１，１−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノ−２−メチルフェニル）ヘプタン、１，１，２，２−
テトラキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチル
フェニル）エタンなどのポリアリールアミン類、Ｎ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（メチルフェニル）
ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス
（エチルフェニル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル
−Ｎ，Ｎ′−ビス（プロピルフェニル）ベンジジン、
Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（ブチルフェニ
ル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（イソプロピルフェニル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジ
フェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（イソブチルフェニル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフ
ェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（クロロフェニル）ベンジジン
などのベンジジン系化合物、あるいはブタジエン系化合
物、トリフェニルアミン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリ
ビニルアクリジン、ポリ−９−ビニルフェニルアントラ
セン、有機ポリシラン、ピレン−ホルムアルデヒド樹
脂、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂などが
挙げられ、これらは、１種類で使用しても複数混合する
などして使用することも可能である。 【００２６】積層型電子写真感光体の電荷発生層及び電
荷輸送層、又は、単層型電子写真感光体の感光層を作製
する際に使用することができる溶媒としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンなどの芳香族系溶媒、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、メ
チルセルソルブ、エチルセルソルブなどのアルコール系
溶媒、酢酸エチル、酢酸メチルなどのエステル系溶媒、
四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、１，２−ジ
クロロエタン、テトラクロロエタン、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロイソプロパノールなどのハロゲ
ン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル系溶媒やそのほかアセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルホルムアミド
などが挙げられ、これらは単独で使用しても複数以上混
合するなどして使用してもよい。 【００２７】各層の塗布は公知の各種塗布装置を使用し
て行うことができる。例えば、アプリケーター、スプレ
ーコーター、バーコーター、チップコーター、ロールコ
ーター、ディップコーター、ドクタブレードなどが挙げ
られる。 【００２８】本発明の電子写真感光体は、特定の化学構
造を有するポリアリレートを感光層のバインダー樹脂に
用いることによって、電荷発生物質や電荷輸送物質との
相溶性や溶媒との親和性が向上するため、感光層作製時
に塗工液がゲル化したり、樹脂が結晶化したりすること
がなく、感光層と下地層との密着性能が良好であり、感
光層は機械的強度に優れている。 【００２９】 【実施例】次に、本発明を実施例及び比較例によって詳
細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。なお、本発明の電子写真感光体の評価方
法を次に記す。 （ａ）塗工液の安定性 塗工液を１ヶ月間放置し、液が白濁又はゲル化が起こっ
たかどうか目視にて判断した。 （ｂ）塗布時の結晶化の有無 電荷発生層に塗工液を塗布した後、膜が白濁したか否か
を目視で判断した。 （ｃ）電子写真特性評価 川口電気製作所製静電気帯電試験装置を用いて、−６ｋ
Ｖのコロナ放電を行い、初期表面電位（Ｖ0 ）、５秒間
の光照射後の残留電位（ＶR ）、半減露光量（Ｅ1/2 ）
を測定した。 （ｄ）感光層の耐摩耗性 スガ試験機（株）製、スガ摩耗試験機を用い、２００ｇ
の荷重をかけた摩耗紙上に試料を１２００回往復させ、
その後の摩耗量の変化を測定した。 【００３０】実施例１ １５００ｍｌの容器に６００ｍｌの水を添加した後、水
酸化ナトリウム１１．０５ｇ、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−シ
クロヘキサン２０．７２ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ノール０．２１ｇを溶解させ、さらに二価フェノールに
対し０．５ｍｏｌ％分の重合触媒（トリメチルベンジル
アンモニウムクロライド）を添加し、激しく攪拌する。
別に、テレフタル酸クロライドとイソフタル酸クロライ
ドの等量混合物（以下にＭＰＣと略称）を１４．１６ｇ
測り取り、３００ｍｌの塩化メチレンに溶解させる。こ
の塩化メチレン溶液を先に調製した攪拌下のアルカリ水
溶液に添加し、重合を開始した。重合反応温度は２５℃
以下になるように調整した。重合時間は３時間行い、そ
の後、系内に酢酸を添加することによって重合反応を終
了した。水相が中性になるまで水で洗浄を繰り返した。
洗浄終了後、攪拌下のメタノール中にゆっくり添加し、
ポリアリレートを沈澱させた。さらにろ別、乾燥するこ
とによって、ポリアリレート３０ｇを得た。得られたポ
リアリレートをテトラクロロエタン溶媒を用いて、２５
℃でインヘレント粘度を測定したところ、０．８２５で
あった。 【００３１】実施例２ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン２０．４２ｇ、ｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５２ｇ、ＭＰＣ１
４．１６ｇ、水酸化ナトリウム１０．８９ｇ使用した以
外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得た。こ
の試料のインヘレント粘度は０．６２３であった。 【００３２】実施例３ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン２０．２２ｇ、ｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．７１ｇ、ＭＰＣ１
４．１６ｇ、水酸化ナトリウム１０．７９ｇ使用した以
外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得た。こ
の試料のインヘレント粘度は０．４２１であった。 【００３３】実施例４ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン４．７０ｇ、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１４．２
８ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５９ｇ、Ｍ
ＰＣ１６．２９ｇ、水酸化ナトリウム８．０２ｇ使用し
た以外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得
た。この試料のインヘレント粘度は０．６８６であっ
た。 【００３４】実施例５ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１１．１２ｇ、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン８．
４５ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５６ｇ、
ＭＰＣ１５．４２ｇ、水酸化ナトリウム９．１９ｇ使用
した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得
た。この試料のインヘレント粘度は０．６５２であっ
た。 【００３５】実施例６ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１６．８９ｇ、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン３．
２１ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５３ｇ、
水酸化ナトリウム１０．２５ｇ使用した以外は実施例１
と同様の方法でポリアリレートを得た。この試料のイン
ヘレント粘度は０．６４６であった。 【００３６】実施例７ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１０．７５ｇ、
２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン９．１７ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
０．５４ｇ、ＭＰＣ１４．９１ｇ、水酸化ナトリウム
９．７４ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でポリ
アリレートを得た。この試料のインヘレント粘度は０．
５７８であった。 【００３７】実施例８ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１０．５９ｇ、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン９．４６ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５
３ｇ、ＭＰＣ１４．７０ｇ、水酸化ナトリウム１０．１
７ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレ
ートを得た。この試料のインヘレント粘度は０．５１９
であった。 【００３８】比較例１ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン２０．９３ｇ、Ｍ
ＰＣ１４．１６ｇ、水酸化ナトリウム１１．１６ｇ使用
した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得
た。この試料のインヘレント粘度は１．２４６であっ
た。 【００３９】比較例２ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１９．９３ｇ、ｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１．００ｇ、ＭＰＣ１
４．１６ｇ、水酸化ナトリウム１０．６３ｇ使用した以
外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得た。こ
の試料のインヘレント粘度は０．２１１であった。 【００４０】比較例３ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１
８．５５ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．６１
ｇ、ＭＰＣ１６．９３ｇ、水酸化ナトリウム７．３４ｇ
使用した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレート
を得た。この試料のインヘレント粘度は０．６９９であ
った。 【００４１】比較例４ ２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン１９．３６ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
ル０．５７ｇ、ＭＰＣ１５．７３ｇ、水酸化ナトリウム
８．０３ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でポリ
アリレートを得た。この試料のインヘレント粘度は０．
６８７であった。 【００４２】比較例５ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン１９．６７ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．
５５ｇ、ＭＰＣ１５．２７ｇ、水酸化ナトリウム８．９
７ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレ
ートを得た。この試料のインヘレント粘度は０．５４１
であった。 【００４３】比較例６ 三つ口フラスコに攪拌機、温度計、ガス導入管、排気管
をつける。この三つ口フラスコに６００ｍｌの水を添加
した後、水酸化ナトリウム１１．２６ｇ、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２６．０９ｇ、ｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．８６ｇを溶解させ、
さらに二価フェノールに対し０．５ｍｏｌ％分の重合触
媒（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド）を添
加した。その後、３００ｍｌの塩化メチレンを系内に添
加し、これを激しく攪拌しながらホスゲンガスを導入し
た。ホスゲンはボンベから空の洗気びん、水を入れた洗
気びん、空の洗気びんを通してフラスコ内に導入した。
ホスゲンガス導入中の反応温度は２５℃以下になるよう
に調整した。重縮合反応の進行と共に系内の有機相の粘
度が上昇してくる。ホスゲンガスは、ホスゲン−塩化水
素錯体の黄色が消えるまで添加した。その後、酢酸を添
加することによって重縮合反応を終了し、水相が中性に
なるまで水で洗浄を繰り返した。洗浄終了後、攪拌下の
メタノール中にゆっくり添加し、ポリカーボネートを沈
澱させた。さらにろ別、乾燥することによって、ポリカ
ーボネート３０ｇを得た。得られたポリカーボネートを
テトラクロロエタン溶媒を用いて、２５℃でインヘレン
ト粘度を測定したところ、０．７０２であった。 【００４４】以上の実施例１〜８、比較例１〜６で合成
したポリアリレート又はポリカーボネートを用い、電荷
輸送物質として式（３）に示す化合物を用い、ポリアリ
レート又はポリカーボネート：電荷輸送物質：塩化メチ
レン＝１：１：８（重量比）の溶液を調整し、塗工液と
し、この塗工液をアルミニウム製導電性基板上に形成し
たオキソチタニウムフタロシアニンの約０．５μｍの電
荷発生層上に浸漬塗工法により塗布し、乾燥した後、２
０μｍの電荷輸送層を設けて積層型電子写真感光体を製
造した。 【００４５】 【化３】 【００４６】表１に実施例１〜８、比較例１〜６で合成
したポリアリレート又はポリカーボネートの製造条件と
ηinh.を、表２に塗工液の安定性と塗布時の結晶化の有
無を、表３に初期表面電位（Ｖ0 ）、５秒間の光照射後
の残留電位（ＶR ）及び半減露光量（Ｅ1/2 ）を、表４
に電荷輸送層の耐摩耗性の結果を示した。 【００４７】 【表１】【００４８】 【表２】 【００４９】 【表３】【００５０】 【表４】 【００５１】 【発明の効果】以上のように構成されているので、本発
明の電子写真感光体においては、感光層の作製時に塗工
液がゲル化したり、感光層内におけるバインダー樹脂が
結晶化したりすることがなく、感光層と下地との密着性
が良好で感光層が機械的強度に優れて耐刷性が良好で、
長時間にわたって優れた電子写真特性を維持し得る。
た電子写真特性を維持し得る電子写真感光体に関するも
のである。 【０００２】 【従来の技術】電子写真用の感光体としては、積層型の
電子写真感光体と単層型の電子写真感光体が知られてお
り、積層型の電子写真感光体においては、導電性基板上
に露光により電荷を発生させるための電荷発生層と電荷
を輸送するための電荷輸送層とが積層された少なくとも
２層よりなる感光層が形成されており（前記二層が逆に
なったものを逆層型といい、本発明においてはこれも積
層型電子写真感光体という）、単層型の電子写真感光体
においては、導電性基板上に、電荷発生物質と電荷輸送
物質がバインダー樹脂に分散した単一層からなる感光層
が形成されている。 【０００３】電子写真感光体の感光層（単層型の電子写
真感光体においては感光層、積層型の電子写真感光体に
おいては特に電荷輸送層）のバインダー樹脂としては、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以
下ビスフェノール−Ａと略称する。）を原料としたポリ
カーボネート樹脂が広く利用されている。ビスフェノー
ル−Ａを原料としたポリカーボネート樹脂は、電荷輸送
物質との相溶性が良好であるので、これをバインダー樹
脂とした感光層を有する電子写真感光体は電気特性が良
好であり、また比較的機械的強度が大きいという特徴を
有している。 【０００４】しかしながら、バインダー樹脂としてビス
フェノール−Ａを原料としたポリカーボネート樹脂を用
いて感光層を形成した場合には、以下に示すような問題
があることが明らかになった。 (1)感光体作成時において、下地に感光層を塗布する
際、使用する溶媒によっては塗工液がゲル化したり、感
光層内で樹脂が結晶化することがあった。そして、塗布
層においてゲル化した部分や結晶化した部分では、光減
衰がなく、電荷は残留電位となって残り、画質上ディフ
ェクトとなって出現する。 (2)通常の負帯電型の電子写真感光体の場合、ビスフェ
ノール−Ａを原料としたポリカーボネート樹脂を用いた
感光層は、下地との密着性が悪いため、剥離し易かった
り、表面硬度が不足しているので、傷ついたり、表面が
摩耗して耐刷寿命が短くなるという問題があった。 ここで意味する下地とは、積層型感光体の場合では電荷
発生層を、逆層型の感光体では導電性基板を、単層型の
感光体では導電性基板を指す。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】上記のような実状に鑑
み、本発明の課題は、電子写真感光体の作製時に塗工液
がゲル化したり、感光層内におけるバインンダー樹脂が
結晶化したりすることがなく、感光層と下地との密着性
が良好で、感光層が機械的強度に優れていて耐刷性が良
好で、長期間にわたって優れた電子写真特性を維持し得
る電子写真感光体を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明者らはこの様な課
題を解決するべく鋭意研究を重ねた結果、感光層のバイ
ンダー樹脂として特定の構造単位に含むポリアリレート
を用いると、前述のような電子写真感光体に認められる
問題を解決することができるという知見を得、これら知
見に基づいて、本発明に到達した。 【０００７】すなわち、本発明の要旨は、導電性基板上
に感光層を設けた電子写真感光体において、感光層を形
成するバインダー樹脂が、式（１）で示される構造単位
を有するポリアリレートであって１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−
シクロヘキサンを二価フェノール原料として構成される
ポリアリレート、及び式（２）で示される構造単位を有
するポリアリレートであって、これら式（１）及び式
（２）で示される構造単位のモル分率が０．０５≦
〔（１）／｛（１）＋（２）｝〕≦１．００を満足し、
かつ、インヘレント粘度（ηinh.）が０．２５〜１．０
０（溶媒としてテトラクロロエタンを用い、バインダー
樹脂の濃度を１．０ｇ／ｄｌとし、２５℃で測定）であ
ることを特徴とする電子写真感光体である。 【０００８】〔式（１）中、Ｒ1 〜Ｒ4 は各々独立に水
素原子、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基か
ら選ばれ、Ｘは炭素原子を表し、ｍは４〜７の整数を表
し、Ｒ5 及びＲ6 は各々Ｘに関して個別に選択されてよ
く、独立に水素原子及び炭素数１〜６のアルキル基から
選ばれ（ただし、Ｒ5 及びＲ6 は少なくとも１つのＸ原
子上に結合している）、Ｙは、フェニレン基、ビフェニ
レン基、ナフチレン基、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水
素基、炭素数３〜７の環状炭化水素基からなる群から選
ばれる。また、式（２）中、Ｒ7 及びＲ8 は各々独立に
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４アルキル基から
選ばれ、Ｚは、炭素数６のアルキレン基、アルキリデン
基からなる群から選ばれ、Ｙは、フェニレン基、ビフェ
ニレン基、ナフチレン基、炭素数１〜１２の脂肪族炭化
水素基、炭素数３〜７の環状炭化水素基からなる群から
選ばれる。〕 【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
電子写真感光体の感光層を形成するバインダー樹脂とし
てに用いられるポリアリレートにおいて式（１）及び式
（２）に示す構造単位を有するポリアリレートである。 【００１０】式（１）に示す構造単位を構成する１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アルキルシクロアル
カンの具体例としては、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−シクロヘ
キサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３−ジメチル−５，５−ジメチル−シクロヘキサ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３
−ジメチル−４−メチル−シクロヘキサン、１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５
−エチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−シク
ロペンタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−
シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジフェニル−
４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メ
チル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４
−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチ
ル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチ
ル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジクロロ
−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−
メチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−
５−メチル−シクロヘキサンなどが挙げられる。これら
のうち、１種類もしくは２種類以上共重合して用いても
よい。この中で、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３−ジメチル−５−メチル−シクロヘキサン
を用いることが特に好ましい。１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）アルキルシクロアルカンの製造方法
は、特開平２−８８６３４号公報に詳細に述べられてい
る。 【００１１】式（２）で示される構造単位を構成するた
めの原料である二価フェノールとしては、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２
−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４
−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、
ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１
−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタ
ン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジ
ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビ
ス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフ
ルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−
４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，
２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビ
ス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、
ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキ
シフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、４，
４′−ジヒドロキシビフェニル、４，４′−ジヒドロキ
シ−３，３′−ジメチルビフェニル、４，４′−ジヒド
ロキシ−２，２′−ジメチルビフェニル、４，４′−ジ
ヒドロキシ−３，３′−ジシクロヘキシルビフェニル、
４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフルオロビフェ
ニル、３，３′，５，５′−テトラメチル−４，４′−
ジヒドロキシビフェニル、４，４′−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ビスフ
ェノールフローレンなどが挙げられる。これらの二価フ
ェノールは、１種類で用いることもできるし、２種類以
上で併用することも可能である。中でも、特に好ましく
は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンが挙げられる。 【００１２】式（１）及び式（２）で示される構造単位
を有するポリアリレートを製造する際に用いられる二価
のカルボン酸を例示すると、テレフタル酸、イソフタル
酸、オルトフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、ジフェン酸、４、４′−ジカルボキシジフェニルエ
ーテル、ビス（ｐ−カルボキシフェニル）アルカン、
４，４′−ジカルボキシフェニルスルホン、シュウ酸、
マロン酸、コハク酸、アジピン酸などの脂肪族ジカルボ
ン酸が挙げられる。これらの二価のカルボン酸は、１種
類で用いることもできるし、２種類以上を併用すること
も可能である。 【００１３】また、式（１）及び式（２）で示される構
造単位を有するポリアリレートにおいて、これらの構造
単位のモル分率が０．０５≦〔（１）／｛（１）＋
（２）｝〕≦１．００を満足するものである。〔（１）
／｛（１）＋（２）｝〕が０．０５未満では、本発明の
効果が得られず、塗工液のゲル化や感光層又は電荷輸送
層の結晶化等の防止及び耐刷寿命の向上が達成されず、
また下引層との密着性が悪くなるので好ましくない。 【００１４】上記ポリアリレートのインヘレント粘度
（ηinh.）は０．２５〜１．００（溶媒としてテトラク
ロロエタンを用い、バインダー樹脂の濃度を１．０ｇ／
ｄｌとし、２５℃で測定）である。インヘレント粘度が
０．２５未満では機械的強度が低く、このポリアリレー
トをバインダー樹脂とする層の表面強度が不足し、感光
体が摩耗して耐刷寿命が短くなる。一方、インヘレント
粘度が１．０を超えるとポリアリレートの溶液粘度が上
昇し、溶液塗工法による感光体製造が困難になることが
ある。 【００１５】上記ポリアリレートの製造方法としては、
前述した二価のカルボン酸ハライドと二価のフェノール
を有機溶剤中で反応させる溶液重合法（Ａ．Ｃｏｎｉｘ
Ｉｎｄ．Ｅｎｇ．ｏｈｅｍ．５１ １４７ １９５９
年、特公昭３７−５５９９号公報）、二価のカルボン酸
と二価のフェノールを無水酢酸の存在下で加熱する溶融
重合法、二価のカルボン酸と二価のフェノールをジアリ
ルカーボネートの存在下で加熱する溶融重合法（特公昭
３８−２６２９９号公報）、水と相溶しない有機溶剤に
溶解せしめた二価のカルボン酸ハライドとアルカリ水溶
液に溶解せしめた二価のフェノールとを混合する界面重
合法（Ｗ．Ｍ．ＥＡＲＥＣＫＳＯＮ Ｊ．Ｐｏｌｙ．Ｓ
ｃｉ．ＸＬ３９９ １９５９年、特公昭４０−１９５９
号公報）等公知の方法が挙げられ、特に界面重合法が好
適に採用される。 【００１６】界面重合法における製造方法をさらに説明
すると、前記した二価フェノールのアルカリ水溶液を調
製し、続いて、重合触媒、例えばトリメチルアミン、ト
リエチルアミンなどの第三級アミン、トリメチルベンジ
ルアンモニウムクロライド、トリブチルベンジルアンモ
ニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩などを添
加する。一方、水と相溶せず、かつポリアリレートを溶
解する様な溶媒、例えば塩化メチレン、１，２−ジクロ
ロエタン、クロロホルム、クロロベンゼンなどの塩素系
溶媒、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族系炭
化水素などに二価のカルボン酸ハライドを溶解させた溶
液を先のアルカリ溶液に混合し、２５℃以下の温度で１
時間〜５時間攪拌しながら反応を行うことによって所望
のポリアリレートを得る。ここで用いることができるア
ルカリには、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等があ
る。 【００１７】上記ポリアリレートの分子量を調節する方
法としては、界面重合方法に限らず、重合時に一官能の
物質を添加して行うことができる。ここで言う分子量調
節剤として用いられる一官能物質としては、フェノー
ル、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールなど
の一価フェノール類、安息香酸クロライド、メタンスル
ホニルクロライド、フェニルクロロホルメートなどの一
価酸クロライド類が挙げられる。 【００１８】本発明においては上記のような特定のポリ
アリレートをバインダー用の樹脂として用い感光層を形
成する。感光層の形成方法としては通常の方法が用いら
れ、なんら限定されないが、このポリアリレートを用い
て塗工液を製造し、下地上に塗布して感光層を形成する
のが好ましい。すなわち、単層型の電子写真感光体にお
いては電荷輸送物質、電荷発生物質、上記のような特定
のポリアリレート及び溶媒とより塗工液を製造し、基板
上に塗布して感光層を形成する。また、積層型の電子写
真感光体においては電荷輸送物質、上記のような特定の
ポリアリレート及び溶媒とよりより塗工液を製造し、下
地上に塗布して電荷輸送層を形成する。この際、本発明
の効果を阻害しない範囲で他のバインダー樹脂を混合す
るなどの方法で使用することもできる。また、酸化防止
剤などを添加することも可能である。 【００１９】本発明の電子写真感光体を構成する導電性
基板材料としては、公知のものを各種使用することがで
きる。例えば、アルミニウム、真鍮、銅、ニッケル、鋼
などの金属板、これらのドラム若しくは金属シートが挙
げられる。また、プラスチックシート上にアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、パラジウム、グラファイトなど
の導電性物質を蒸着、スパッタリング、塗布などにより
コーティングするなどして導電化処理を施したもの、金
属ドラムの表面を電極酸化などにより金属酸化物処理し
たもの、あるいはガラス、プラスチック板、布、紙など
の基板に導電化処理を施したものなどを使用することが
できる。 【００２０】積層型電子写真感光体において、電荷輸送
層は少なくとも電荷輸送物質を有する層であり、また、
電荷発生層はその下地上に真空蒸着、スパッタ法などに
より電荷発生物質の層を形成するか、又はその下地上に
電荷発生物質をバインダー樹脂を用いて結着してなる層
を形成することによって得ることができる。バインダー
樹脂を用いた電荷発生層の形成方法としては、公知の各
種方法を用いることができるが、通常、電荷発生物質を
バインダー樹脂と共に適当な溶媒に分散又は溶解した塗
工液を、下層上に塗布し、乾燥させる方法が好適に使用
される。 【００２１】上記電荷発生物質としては、公知のものな
ど各種使用することができる。具体的には、非晶質セレ
ン、三方晶セレンなどのセレン単体、セレン−テルルな
どのセレン合金、Ａｓ2 Ｓｅ3 などのセレン化合物若し
くはセレン含有組成物、酸化亜鉛、ＣｄＳ−Ｓｅなどの
第II族及び第IV族元素からなる無機材料、酸化チタンな
どの酸化物系半導体、アモルファスシリコンなどのシリ
コン系材料などの各種無機材料、金属もしくは無金属フ
タロシアニン、シアニン、アントラセン、ビスアゾ化合
物、ピレン、ペリレン、ピリリウム塩、チアピリリウム
塩、ポリビニルカルバゾール、スクエアリウム顔料など
の各種有機材料が挙げられ、これらの電荷発生物質を１
種類だけで用いることもできるし、複数以上混合するな
どして併用しても差し支えない。 【００２２】上記の積層型電子写真感光体の電荷発生層
におけるバインダー樹脂としては、特に制限がなく、公
知のものを使用することができる。例えば、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、ポリビニルアセタール、アルキッド
樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、スチレン
−アクリロニトリル共重合体、ポリカーボネート、ポリ
アミド、ポリアリレート、ポリエステル、ポリケトン、
ポリアクリルアミド、ブチラール樹脂、ＡＢＳ樹脂など
の熱可塑性樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、フェノ
ール樹脂などの熱硬化性樹脂を使用することができる。
なお、上記電荷発生層におけるバインダー樹脂として、
本発明の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アル
キルシクロアルカンを構造単位に含むポリアリレートを
使用することもできる。 【００２３】積層型電子写真感光体における電荷輸送層
は、下地上に電荷輸送物質をバインダー樹脂で結着して
なる層を形成することによって得られる。この電荷輸送
層の作製方法としては、公知の方法を使用することがで
きる。通常、電荷輸送物質と１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）アルキルシクロアルカンを構造単位に含
むポリアリレートを適当な溶媒に分散若しくは溶解した
塗工液を下地層となる基板に塗布し、乾燥して方式が好
ましく使用される。 【００２４】前記電荷輸送物質としては、従来用いられ
ている電子輸送物質や正孔輸送物質が挙げられる。電子
輸送物質を例示すると、クロラニル、ブロマニル、テト
ラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，
４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，
７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，７−ト
リニトロ−９−ジシアノメチレンフルオレノン、２，
４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，９−ト
リニトロチオキサントンその他に、３，５−ジメチル−
３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル− ４′，４′−ジ
フェノキノンなどのジフェノキノン誘導体などの電子吸
引物質やこれらの高分子物質などが挙げら、これらは１
種類で使用してもよく複数以上混合するなどして使用し
てもよい。 【００２５】前記正孔輸送物質を例示すると、ピレン、
Ｎ−エチルカルバゾール、Ｎ−イソプロピリカルバゾー
ル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルヒドラジノ−３−メチリ
デン−９−エチルカルバゾール、Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒ
ドラジノ−３−メチリデン−９−エチルカルバゾール、
Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラジノ−３−メチリデン−１０
−エチルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラジ
ノ−３−メチリデン−１０−エチルフェノキサジン、ｐ
−ジエチルアミノベンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニ
ルヒドラゾン、ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
Ｎ−α−ナフチル−Ｎ−フェニルヒドラゾン、ｐ−ピロ
リジノベンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾ
ン、１，３，３−トリメチルインドレニン−ω−アルデ
ヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、ｐ−ジエチルベ
ンズアルデヒド−３−メチルベンズチアゾリノン−２−
ヒドラゾン、１−フェニル−１，２，３，４−テトラヒ
ドロキノリン−６−カルボキシアルデヒド−１′，１′
−ジフェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン類、２，５−
ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オ
キサジアゾール、１−フェニル−３−（ｐ−ジエチルア
ミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）
ピラゾン、１−［キノリル（２）］−３−（ｐ−ジエチ
ルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）ピラゾリン、１−〔レピジル（２）〕−３−（ｐ−
ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノ
フェニル）ピラゾリン、１−［６−メトキシ−ピリジル
（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−
（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−〔ピ
リジル（５）〕−３−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）
ピラゾリン、１−〔ピリジル（２）〕−３−（ｐ−ジエ
チルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）ピラゾリン、１−〔ピリジル（２）〕−３−（ｐ
−ジエチルアミノスチリル）−４−メチル−５−（ｐ−
ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−〔ピリジル
（２）〕−３−（α−メチル−ｐ−ジエチルアミノスチ
リル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリ
ン、１−フェニル−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリ
ル）−４−メチル−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）ピラゾリン、１−フェニル−３−（α−ベンジル−
ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルア
ミノフェニル）ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピ
ラゾリン類、２−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−δ
−ジエチルアミノベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジエ
チルアミノフェニル）−４−（ｐ−ジメチルアミノフェ
ニル）−５−（２−クロロフェニル）オキサゾールなど
のオキサゾール化合物、２−（ｐ−ジエチルアミノスチ
リル）−６−ジエチルアミノベンゾチアゾールなどのチ
アゾール系化合物、ビス（４−ジエチルアミノ−２−メ
チルフェニル）フェニルメタンなどのトリアリールメタ
ン系化合物、１，１−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノ−２−メチルフェニル）ヘプタン、１，１，２，２−
テトラキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチル
フェニル）エタンなどのポリアリールアミン類、Ｎ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（メチルフェニル）
ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス
（エチルフェニル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル
−Ｎ，Ｎ′−ビス（プロピルフェニル）ベンジジン、
Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（ブチルフェニ
ル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（イソプロピルフェニル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジ
フェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（イソブチルフェニル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ′−ジフ
ェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（クロロフェニル）ベンジジン
などのベンジジン系化合物、あるいはブタジエン系化合
物、トリフェニルアミン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリ
ビニルアクリジン、ポリ−９−ビニルフェニルアントラ
セン、有機ポリシラン、ピレン−ホルムアルデヒド樹
脂、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂などが
挙げられ、これらは、１種類で使用しても複数混合する
などして使用することも可能である。 【００２６】積層型電子写真感光体の電荷発生層及び電
荷輸送層、又は、単層型電子写真感光体の感光層を作製
する際に使用することができる溶媒としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンなどの芳香族系溶媒、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、メ
チルセルソルブ、エチルセルソルブなどのアルコール系
溶媒、酢酸エチル、酢酸メチルなどのエステル系溶媒、
四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、１，２−ジ
クロロエタン、テトラクロロエタン、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロイソプロパノールなどのハロゲ
ン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル系溶媒やそのほかアセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルホルムアミド
などが挙げられ、これらは単独で使用しても複数以上混
合するなどして使用してもよい。 【００２７】各層の塗布は公知の各種塗布装置を使用し
て行うことができる。例えば、アプリケーター、スプレ
ーコーター、バーコーター、チップコーター、ロールコ
ーター、ディップコーター、ドクタブレードなどが挙げ
られる。 【００２８】本発明の電子写真感光体は、特定の化学構
造を有するポリアリレートを感光層のバインダー樹脂に
用いることによって、電荷発生物質や電荷輸送物質との
相溶性や溶媒との親和性が向上するため、感光層作製時
に塗工液がゲル化したり、樹脂が結晶化したりすること
がなく、感光層と下地層との密着性能が良好であり、感
光層は機械的強度に優れている。 【００２９】 【実施例】次に、本発明を実施例及び比較例によって詳
細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。なお、本発明の電子写真感光体の評価方
法を次に記す。 （ａ）塗工液の安定性 塗工液を１ヶ月間放置し、液が白濁又はゲル化が起こっ
たかどうか目視にて判断した。 （ｂ）塗布時の結晶化の有無 電荷発生層に塗工液を塗布した後、膜が白濁したか否か
を目視で判断した。 （ｃ）電子写真特性評価 川口電気製作所製静電気帯電試験装置を用いて、−６ｋ
Ｖのコロナ放電を行い、初期表面電位（Ｖ0 ）、５秒間
の光照射後の残留電位（ＶR ）、半減露光量（Ｅ1/2 ）
を測定した。 （ｄ）感光層の耐摩耗性 スガ試験機（株）製、スガ摩耗試験機を用い、２００ｇ
の荷重をかけた摩耗紙上に試料を１２００回往復させ、
その後の摩耗量の変化を測定した。 【００３０】実施例１ １５００ｍｌの容器に６００ｍｌの水を添加した後、水
酸化ナトリウム１１．０５ｇ、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチル−シ
クロヘキサン２０．７２ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ノール０．２１ｇを溶解させ、さらに二価フェノールに
対し０．５ｍｏｌ％分の重合触媒（トリメチルベンジル
アンモニウムクロライド）を添加し、激しく攪拌する。
別に、テレフタル酸クロライドとイソフタル酸クロライ
ドの等量混合物（以下にＭＰＣと略称）を１４．１６ｇ
測り取り、３００ｍｌの塩化メチレンに溶解させる。こ
の塩化メチレン溶液を先に調製した攪拌下のアルカリ水
溶液に添加し、重合を開始した。重合反応温度は２５℃
以下になるように調整した。重合時間は３時間行い、そ
の後、系内に酢酸を添加することによって重合反応を終
了した。水相が中性になるまで水で洗浄を繰り返した。
洗浄終了後、攪拌下のメタノール中にゆっくり添加し、
ポリアリレートを沈澱させた。さらにろ別、乾燥するこ
とによって、ポリアリレート３０ｇを得た。得られたポ
リアリレートをテトラクロロエタン溶媒を用いて、２５
℃でインヘレント粘度を測定したところ、０．８２５で
あった。 【００３１】実施例２ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン２０．４２ｇ、ｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５２ｇ、ＭＰＣ１
４．１６ｇ、水酸化ナトリウム１０．８９ｇ使用した以
外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得た。こ
の試料のインヘレント粘度は０．６２３であった。 【００３２】実施例３ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン２０．２２ｇ、ｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．７１ｇ、ＭＰＣ１
４．１６ｇ、水酸化ナトリウム１０．７９ｇ使用した以
外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得た。こ
の試料のインヘレント粘度は０．４２１であった。 【００３３】実施例４ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン４．７０ｇ、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１４．２
８ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５９ｇ、Ｍ
ＰＣ１６．２９ｇ、水酸化ナトリウム８．０２ｇ使用し
た以外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得
た。この試料のインヘレント粘度は０．６８６であっ
た。 【００３４】実施例５ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１１．１２ｇ、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン８．
４５ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５６ｇ、
ＭＰＣ１５．４２ｇ、水酸化ナトリウム９．１９ｇ使用
した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得
た。この試料のインヘレント粘度は０．６５２であっ
た。 【００３５】実施例６ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１６．８９ｇ、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン３．
２１ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５３ｇ、
水酸化ナトリウム１０．２５ｇ使用した以外は実施例１
と同様の方法でポリアリレートを得た。この試料のイン
ヘレント粘度は０．６４６であった。 【００３６】実施例７ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１０．７５ｇ、
２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン９．１７ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
０．５４ｇ、ＭＰＣ１４．９１ｇ、水酸化ナトリウム
９．７４ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でポリ
アリレートを得た。この試料のインヘレント粘度は０．
５７８であった。 【００３７】実施例８ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１０．５９ｇ、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン９．４６ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５
３ｇ、ＭＰＣ１４．７０ｇ、水酸化ナトリウム１０．１
７ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレ
ートを得た。この試料のインヘレント粘度は０．５１９
であった。 【００３８】比較例１ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン２０．９３ｇ、Ｍ
ＰＣ１４．１６ｇ、水酸化ナトリウム１１．１６ｇ使用
した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得
た。この試料のインヘレント粘度は１．２４６であっ
た。 【００３９】比較例２ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチル−５−メチル−シクロヘキサン１９．９３ｇ、ｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１．００ｇ、ＭＰＣ１
４．１６ｇ、水酸化ナトリウム１０．６３ｇ使用した以
外は実施例１と同様の方法でポリアリレートを得た。こ
の試料のインヘレント粘度は０．２１１であった。 【００４０】比較例３ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１
８．５５ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．６１
ｇ、ＭＰＣ１６．９３ｇ、水酸化ナトリウム７．３４ｇ
使用した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレート
を得た。この試料のインヘレント粘度は０．６９９であ
った。 【００４１】比較例４ ２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン１９．３６ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
ル０．５７ｇ、ＭＰＣ１５．７３ｇ、水酸化ナトリウム
８．０３ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でポリ
アリレートを得た。この試料のインヘレント粘度は０．
６８７であった。 【００４２】比較例５ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン１９．６７ｇ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．
５５ｇ、ＭＰＣ１５．２７ｇ、水酸化ナトリウム８．９
７ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でポリアリレ
ートを得た。この試料のインヘレント粘度は０．５４１
であった。 【００４３】比較例６ 三つ口フラスコに攪拌機、温度計、ガス導入管、排気管
をつける。この三つ口フラスコに６００ｍｌの水を添加
した後、水酸化ナトリウム１１．２６ｇ、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２６．０９ｇ、ｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．８６ｇを溶解させ、
さらに二価フェノールに対し０．５ｍｏｌ％分の重合触
媒（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド）を添
加した。その後、３００ｍｌの塩化メチレンを系内に添
加し、これを激しく攪拌しながらホスゲンガスを導入し
た。ホスゲンはボンベから空の洗気びん、水を入れた洗
気びん、空の洗気びんを通してフラスコ内に導入した。
ホスゲンガス導入中の反応温度は２５℃以下になるよう
に調整した。重縮合反応の進行と共に系内の有機相の粘
度が上昇してくる。ホスゲンガスは、ホスゲン−塩化水
素錯体の黄色が消えるまで添加した。その後、酢酸を添
加することによって重縮合反応を終了し、水相が中性に
なるまで水で洗浄を繰り返した。洗浄終了後、攪拌下の
メタノール中にゆっくり添加し、ポリカーボネートを沈
澱させた。さらにろ別、乾燥することによって、ポリカ
ーボネート３０ｇを得た。得られたポリカーボネートを
テトラクロロエタン溶媒を用いて、２５℃でインヘレン
ト粘度を測定したところ、０．７０２であった。 【００４４】以上の実施例１〜８、比較例１〜６で合成
したポリアリレート又はポリカーボネートを用い、電荷
輸送物質として式（３）に示す化合物を用い、ポリアリ
レート又はポリカーボネート：電荷輸送物質：塩化メチ
レン＝１：１：８（重量比）の溶液を調整し、塗工液と
し、この塗工液をアルミニウム製導電性基板上に形成し
たオキソチタニウムフタロシアニンの約０．５μｍの電
荷発生層上に浸漬塗工法により塗布し、乾燥した後、２
０μｍの電荷輸送層を設けて積層型電子写真感光体を製
造した。 【００４５】 【化３】 【００４６】表１に実施例１〜８、比較例１〜６で合成
したポリアリレート又はポリカーボネートの製造条件と
ηinh.を、表２に塗工液の安定性と塗布時の結晶化の有
無を、表３に初期表面電位（Ｖ0 ）、５秒間の光照射後
の残留電位（ＶR ）及び半減露光量（Ｅ1/2 ）を、表４
に電荷輸送層の耐摩耗性の結果を示した。 【００４７】 【表１】【００４８】 【表２】 【００４９】 【表３】【００５０】 【表４】 【００５１】 【発明の効果】以上のように構成されているので、本発
明の電子写真感光体においては、感光層の作製時に塗工
液がゲル化したり、感光層内におけるバインダー樹脂が
結晶化したりすることがなく、感光層と下地との密着性
が良好で感光層が機械的強度に優れて耐刷性が良好で、
長時間にわたって優れた電子写真特性を維持し得る。
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平３−80255（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−213853（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−89038（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−216251（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−132453（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−238061（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−34951（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−75411（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−235901（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−160459（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−96175（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−55663（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−139557（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03G 5/00
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 導電性基板上に感光層を設けた電子写真
感光体において、感光層を形成するバインダー樹脂が、
下記式（１）で示される構造単位を有するポリアリレー
トであって１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３−ジメチル−５−メチル−シクロヘキサンを二価
フェノール原料として構成されるポリアリレート、及び
式（２）で示される構造単位を有するポリアリレートで
あって、これら式（１）及び式（２）で示される構造単
位のモル分率が０．０５≦〔（１）／｛（１）＋
（２）｝〕≦１．００を満足し、かつ、インヘレント粘
度（ηinh.）が０．２５〜１．００（溶媒としてテトラ
クロロエタンを用い、バインダー樹脂の濃度を１．０ｇ
／ｄｌとし、２５℃で測定）であることを特徴とする電
子写真感光体。 【化１】【化２】 〔式（１）中、Ｒ1 〜Ｒ4 は各々独立に水素原子、ハロ
ゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基から選ばれ、Ｘ
は炭素原子を表し、ｍは４〜７の整数を表し、Ｒ5 及び
Ｒ6 は各々Ｘに関して個別に選択されてよく、独立に水
素原子及び炭素数１〜６のアルキル基から選ばれ（ただ
し、Ｒ5 及びＲ6 は少なくとも１つのＸ原子上に結合し
ている）、Ｙは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフ
チレン基、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数
３〜７の環状炭化水素基からなる群から選ばれる。ま
た、式（２）中、Ｒ7 及びＲ8 は各々独立に水素原子、
ハロゲン原子、炭素数１〜４アルキル基から選ばれ、Ｚ
は、炭素数６のアルキレン基、アルキリデン基からなる
群から選ばれ、Ｙは、フェニレン基、ビフェニレン基、
ナフチレン基、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭
素数３〜７の環状炭化水素基からなる群から選ばれ
る。〕
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-
1994
- 1994-10-12 JP JP24592594A patent/JP3532627B2/ja not_active Expired - Lifetime
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