JP3358029B2 - 偏光板用保護フィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は偏光板用保護フィルムに
関し、更に詳しくは、光学的性能を要求される用途、例
えば液晶表示装置の偏光板等に広く使用されているセル
ロースエステルフィルムに、それ自体の耐久性や偏光膜
の液晶物質の保護のために紫外線吸収性能を付与する方
法に関する。

【０００２】

【発明の背景】セルロースエステルフィルムは透明性が
優れ、かつ屈折率の異方性の小さな膜を容易に作成する
ことが出来るため、偏光板の保護フィルム等の光学的用
途に広く使用されている。

【０００３】しかしながら、セルロースエステルフィル
ムは紫外線に長時間暴露されると黄変するという固有の
欠点を有している。このため、従来一般的には予めセル
ロースエステルの溶液中に紫外線吸収剤を混入し、この
溶液を用いてキャスティングフィルムとする方法や、特
開昭61-98301号に記載されているような紫外線吸収剤を
溶解した溶液をセルロースエステルフィルムに塗布又は
浸漬等の手段で付着又は含浸する方法などにより紫外線
吸収性を付与している。

【０００４】この低分子紫外線吸収剤によるセルロース
エステルフィルムへの紫外線吸収能付与には、以下のよ
うな欠点があった。

【０００５】紫外線吸収剤の360〜400nmの吸収特性が
充分でない。

【０００６】紫外線吸収剤の吸光係数が低く、必要な
濃度を得るためには多量の添加を必要とする。

【０００７】通常、偏光板に接着剤を用いて上記セル
ロースエステルフィルムを貼り付けているが、接着剤の
接着性を向上する目的でセルロースエステルフィルムを
水酸化ナトリウムを含有させたアルカリ処理液に浸積し
て鹸化する方法を採っている。従来の紫外線吸収剤はセ
ルロースアセテートフィルムとの相溶性が必ずしも良く
ない。従って充分選択しないとアルカリ処理液に浸積し
乾燥した場合、表面に紫外線吸収剤の粒子が粗大化した
り結晶化したりして析出するものが多く、フィルムの透
明性を阻害したり紫外線吸収特性を低下したりすること
が多い。

【０００８】又、このアルカリ処理は高濃度アルカリ液
を使用するため、作業安全性上、環境保全上好ましくな
い上に、アルカリ処理の前に帯電防止加工やハードコー
ト加工等の機能性付与の加工を行うと、アルカリ処理に
よって効果が減殺されるので、保護フィルムの機能性付
与はアルカリ処理後に限定される不利益があった。

【０００９】一般に自動車の計器表示盤等の液晶表示
板として用いられる場合、偏光板は過酷な耐湿熱性を満
足しなければならないが、特にその使用環境の厳しい高
温多湿の条件下、例えば80℃・90％RHの雰囲気下におい
て1000時間程度経時すると、前記のような方法で製作さ
れたフィルムは紫外線吸収剤が全体に均一に分散含有さ
れたものであるため、どれもセルロースエステルとの混
和性が悪かったり、ブリード現象により表面に結晶が析
出したりして光学特性を劣化させたり、又、それ自身が
紫外線、湿度、熱に対して充分安定でなかったりして紫
外線吸収性能が著しく劣化するため変色し、従来の紫外
線吸収剤では充分な要求性能を満たさないものが多い。

【００１０】従って上記問題点を解決した、紫外線吸収
能が付与されたセルロースエステルフィルムの開発が望
まれていた。

【００１１】本発明者等は、従来、低分子の紫外線吸収
剤しか使えなかったことによる上記問題点の解決に対し
種々検討を重ねた結果、セルロースエステルに対して相
溶性の優れた、紫外線吸収性基を有する単量体から誘導
される紫外線吸収性ポリマーを選択することにより、前
記ブリードアウトによる性能低下に対し著しい効果を発
揮する紫外線吸収剤のポリマーが使用できる様になっ
た。

【００１２】又、このポリマーはブリードアウトばかり
でなく、高温・高湿下に於ける耐湿熱特性に対しても著
しい効果を有することが判明し本発明に至った。

【００１３】

【発明の目的】本発明の第１の目的は、360〜400nmの紫
外線吸収特性が良く、紫外光による着色などの変色を生
じない透明性の優れた偏光板用保護フィルムを提供する
ことにある。

【００１４】第２に高温高湿下の過酷な条件でも、ブリ
ード現象により表面に移行して光学特性を損なうことの
無い、セルロースエステルと相溶性の良好な紫外線吸収
ポリマーを含有する偏光板用保護フィルムを提供するこ
とにある。

【００１５】第３に紫外線吸収剤が紫外線、湿度、熱に
対して充分安定な紫外線吸収性ポリマーを含有する偏光
板用保護フィルムを提供することにある。

【００１６】更には鹸化処理を省くことが出来るので、
従来鹸化処理することで生じていた紫外線吸収剤の表面
への析出がなく、工程の簡略化にも繋がる偏光板用保護
フィルムを提供することにある。

【００１７】

【発明の構成】本発明の上記目的は、セルロースエステ
ルフィルムに紫外線吸収性ポリマーを含有する偏光板用
保護フィルムによって達成できる。

【００１８】なお、紫外線吸収性ポリマーが前記一般式
（１）｛〔化１〕｝で示される紫外線吸収基から選ばれ
る少なくとも一つを有する単量体の繰返し単位から誘導
される重合体を含有すること、及び／又はセルロースエ
ステルフィルムの片面に親水性バインダーからなる易接
着処理層を塗設することは、本発明の効果をより発揮で
きるので好ましい態様である。

【００１９】本発明に係る紫外線吸収性ポリマーには以
下のような特徴がある。

【００２０】従来知られているベンゾフェノン系化合
物、桂皮酸系化合物等に比較して360〜400nmにおける分
光吸収濃度が極めて大きい。

【００２１】少量の使用で上記波長領域において所望
の吸収濃度を得ることができ、更に420nm以上の可視光
を実質的に殆ど吸収しないのでセルロースアセテートフ
ィルムに適用しても着色しない。

【００２２】本発明のポリマーは、セルロースエステ
ルフィルムに添加しても相溶性が良好なためアルカリ処
理液で鹸化しても粒子の粗大化や結晶析出が起こらず安
定であり不透明化しない。

【００２３】ポリマー自身、紫外線、熱、湿度に対し
て充分に安定であり、高温、高湿下に曝されても紫外線
吸収特性の低下が殆どなく、耐湿熱特性の優れたセルロ
ーストリアセテートフィルムを得ることができる。

【００２４】次に本発明に用いる紫外線吸収性ポリマー
について詳述する。

【００２５】本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマー
は、前記一般式（１）示される紫外線吸収基を有する単
量体から誘導される重合体であれば、如何なるものでも
よいが、好ましい型として下記一般式〔I〕又は〔II〕
で示される単量体の繰返し単位から誘導される重合体を
挙げることができる。

【００２６】

【化６】

【００２７】式中、Ｒ¹及びＲ²は各々、水素原子、炭素
数１〜４のアルキル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表
し、Ｗは水素原子又は−COOR⁴を表す。

【００２８】Ｘ¹は炭素数１〜６のアルキレン基、炭素
数６〜12のアリーレン基、炭素数７〜15のアリーレンア
ルキレン基、−O−、−CON(R³)−、

【００２９】

【化７】

【００３０】を表す。ただし、Ｗが−COOR⁴の時−COO−
又は−CON(R⁶)−である。

【００３１】Ｙは−O−、−N(R⁵)−、−N(R⁵)SO₂−、−
CO−、−S−、−SO−、−SO₂−、−SO₃−又は

【００３２】

【化８】

【００３３】を少なくとも一つ有する炭素数０〜12の２
価基を表し、ｋは０又は１を表す。ただし、Ｘ１がアリ
ーレン基の時Ｙの炭素数は１ではない。

【００３４】Ｒ³は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素
数６〜１2のアリール基を表し、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各
々、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６
〜１2のアリール基を表す。

【００３５】Ｚは含窒素複素環を形成するに必要な原子
群を表す。

【００３６】Ｑは前記一般式（１）〜（５）で示される
紫外線吸収基を表す。

【００３７】

【化９】

【００３８】式中、Ｒ⁷は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｘ²は−CONH−、−C
OO−又はフェニレン基を表し、Ａは炭素数１〜20のアル
キレン基又は炭素数６〜20のアリーレン基を表し、Ｕは
−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−SO₂NH−、
−NHSO₂−、−SO₂−又は−O−を表し、ｍ及びｎは各々
０又は１を表す。

【００３９】Ｑは前記一般式（１）で示される紫外線吸
収基を表す。

【００４０】以下に本発明に好ましく用いられる紫外線
吸収性ポリマーの代表的化合物を例示するが、勿論これ
等に限定されない。

【００４１】

【化１０】

【００４２】

【化１１】

【００４３】

【化１２】

【００４４】

【化１３】

【００４５】

【化１４】

【００４６】上記化合物例の他にも、特開昭63-53543
号、同63-53544号等に記載される紫外線吸収性ポリマー
を使用することができ、これら明細書に記載の合成法が
適用できる。以下に合成例を示す。

【００４７】合成例１（化合物ＰＵＶ−４の合成） CH₂＝CHCON(C₆H₅)CH₂CH₂N(C₆H₅)CH₂CH₂SO₂CH₂CH₂Cl 150
ｇをテトラヒドロフラン1.5リットルに溶解した液に、4
-メトキシ-2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン90ｇを加
え、０〜５℃に保ちながら10％水酸化ナトリウム水溶液
150ｇをゆっくり添加する。添加終了後、更に３時間反
応させ、生じた塩を濾過し氷水にあける。酢酸エチルで
抽出し析出した結晶をエタノールから再結晶して単量体
51ｇを得た。構造はＩＲ及びＮＭＲで確認した。

【００４８】上記単量体50ｇとブチルアクリレート10ｇ
をジオキサン150ccに溶解し、窒素気流下に70℃で加熱
・撹拌しながらジオキサン５ccに溶解した2,2′-アゾビ
ス(2,4-ジメチルバレロニトリル)270mgを加えた後、４
時間反応した。室温まで冷却し、反応液を氷水２リット
ルに注ぎ析する固体を濾取した。この固体は上記単量体
単位を58モル％含有するポリマーであった。 合成例２（化合物ＰＵＶ−14の合成） 4-ヒドロキシ-3-メトキシベンジリデンヒドラゾノ-3-メ
チルベンゾチアゾリデン-2-イン35ｇをピリジン20ｇ、
テトラヒドロフラン300ccに溶解し、０〜５℃に保ちな
がらp-(3-クロロプロパンアミド)スチレン20ｇをゆっく
り滴下する。滴下後、室温まで加熱し２時間反応する。
生じた塩を濾過し、濾液を氷水にあける。酢酸エチルで
抽出し、酢酸エチルを減圧溜去した後、得られた結晶を
メタノールで再結晶して目的物12ｇを得た。構造はＩＲ
及びＮＭＲで確認した。

【００４９】合成例３（化合物ＰＵＶ−19の合成） 1-エチル-3-フェニル-2,5-ジオキソイミダゾリジン100
ｇとN-(4-ホルミルフェニル)メタクリルアミド20ｇをハ
イドロキノンモノメチルエーテル５ｇを溶解した2-メト
キシメタノール１リットル中で還流し、メチルアミン10
ccを加えた。１時間還流後、室温まで冷却し、生じた沈
澱をエーテルから再結晶して単量体50ｇを得た。ＩＲ及
びＮＭＲにより構造を確認した。

【００５０】上記単量体70ｇとメチルメタクリレート10
ｇをジオキサン150ccに溶解し、窒素気流下に70℃で加
熱・撹拌しながらジオキサン５ccに溶解した2,2′-アゾ
ビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)270mgを加えた後、
４時間反応した。室温まで冷却し、反応液を氷水２リッ
トルに注ぎ析する固体を濾取した。この固体は上記単量
体単位を60モル％含有するポリマーであった。これら紫
外線吸収性ポリマーの使用量は、化合物の種類、使用条
件等により一様ではないが、セルロースエステルフィル
ム１m²当たり0.2〜３ｇが好ましく、特に0.5〜２ｇが好
ましい。

【００５１】以下、本発明について具体的に説明する。

【００５２】偏光板用保護フィルムとしては、従来透明
で柔軟性がある熱可塑性プラスチックフィルム、特にポ
リエチレンのようなプラスチックが使用されていたが、
配向性がなく、更に透明性が良いことから、本発明では
セルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。

【００５３】本発明に用いられるセルロースエステルフ
ィルムとしては、ジアセチルセルロース、トリアセチル
セルロース、セルロースプロピオネート、セルロースア
セテートブチレート及びニトロセルロースなどの材料か
らなるセルロースエステル系フィルムが挙げられる。偏
光フィルム用等の保護フィルムとして使用するためには
強度の関係から厚さ10μm以上が必要で、特に20〜500μ
mのトリアセチルセルロースフィルムもしくはジアセチ
ルセルロースフィルムが透明性、吸湿寸法安定性、強力
特性及び耐候性等の点で好ましい。

【００５４】本発明に係るセルロースエステルフィルム
は、皮膜の柔軟性、耐湿性などの向上のために可塑剤を
添加してもよい。その具体例としては、例えばトリフェ
ニルホスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリ
ルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレ
ートなどが挙げられる。これらの可塑剤の使用量は、セ
ルロースエステルに対して重量比で２〜20％が用いられ
るが、膜の柔軟性を損なわない最小量を用いるのが好ま
しい。

【００５５】本発明に係るセルロースエステルフィルム
の溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、n-プ
ロピルアルコール、i-プロピルアルコール、n-ブタノー
ルなどの低級アルコール類、シクロヘキサン、ジオキサ
ン類、メチレンクロライドのような低級脂肪族炭化水素
塩化物類などを用いることができる。

【００５６】溶剤比率としては、例えばメチレンクロラ
イド70〜95重量％、その他の溶剤は30〜５重量％が好ま
しい。又、セルロースエステルの濃度は10〜50重量％が
好ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の沸
点以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好まし
く例えば60℃以上、80〜110℃の範囲に設定するのが好
適である。又、圧力は設定温度において、溶剤が沸騰し
ないように定められる。

【００５７】なお、溶解を促進することを目的として、
例えばセルロースアセテートと前記の溶剤を加圧容器に
入れて密閉し、加圧下で溶媒の常圧における沸点以上
で、かつ該溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱して撹拌
溶解してもよい。溶解後は冷却しながら容器から取り出
すか、又は容器からポンプ等で抜きだして熱交換器など
で冷却し、これを製膜に供する。

【００５８】本発明におけるセルロースエステルフィル
ムの製造方法は特に制限はなく、当業界で一般に用いら
れている方法でよく、例えば米国特許2,492,978号、同
2,739,070号、同2,739,069号、同2,492,977号、同2,33
6,310号、同2,367,603号、同2,492,978号、同2,607,704
号、英国特許64071号、同735892号、特公昭45-9074号、
同49-4554号、同49-5614号、同60-27562号、同61-39890
号、同62-4208号等に記載の方法を参考にすることがで
きる。

【００５９】本発明の偏光板用保護膜の構成において
は、トリアセチルセルロースの一方の側に帯電防止層を
設け、その反対側には偏光子と接着するための親水性バ
インダーからなる接着層が設置されることが好ましい。

【００６０】本発明に用いる親水性バインダーとして
は、例えば−COOM基含有の酢酸ビニル-マレイン酸共重
合体化合物又は親水性セルロース誘導体（例えばメチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
アルキルセルロース等）、ポリビニルアルコール誘導体
（例えば酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体、ポリ
ビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ベンザール等）、天然高分子化合物（例えばゼラチン、
カゼインアラビアゴム等）、親水基含有ポリエステル誘
導体（例えばスルホ基含有ポリエステル共重合体）等が
挙げられる。

【００６１】上記、本発明に使用される特定の−COOM基
含有共重合体化合物は下記一般式〔III〕又は〔IV〕で
示される。

【００６２】

【化１５】

【００６３】式中、Ａはビニル単量体、Ｂは水素原子、
−COOM又は−COR であって、ｚ＝０の時Ｂは水素原子、
又、Ｒがアルキル基の時Ｂは水素原子、Ｍは水素又はカ
チオン、Ｒは−OR′あるいは−N(R″)(R′) 、ここで
Ｒ′はアルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環
残基あるいはＲ″と共同して複素環を形成するに必要な
非金属原子、Ｒ″は水素原子、低級アルキル基あるいは
Ｒ′と共同して複素環を形成するに必要な非金属原子、
Ｒ₁及びＲ₂は水素原子又は低級アルキル基、Ｘは−COO
−又は−OCO−、Ｒ₃はハロゲノアルキル又はハロゲノア
ルキルオキシアルキル基、ｍ，ｐ，ｑ，ｒ，ｘ，ｙ，ｚ
は各々、各単量体のモル％を示す値であって、ｍは０〜
60、ｐは０〜100、ｑは０〜100、ｒは０〜100、ｘは０
〜60、ｙは０〜100、ｚは０〜100であり、ｍ＋ｐ＋ｑ＋
ｒ＝100、 ｘ＋ｙ＋ｚ＝100である。上記一般式において
ビニル単量体としては、例えばスチレン、ニトロ基、弗
素、塩素、臭素、クロルメチル基、低級アルキル基等が
置換されたスチレン；ビニルメチルエーテル、ビニルエ
チルエーテル、ビニルクロルエチルエーテル、酢酸ビニ
ル、クロル酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリル
酸、メタクリル酸又はイタコン酸等の不飽和酸；炭素数
１〜５であって、非置換もしくは塩素原子、フェニル基
等を置換したアルキルアクリレート又はアルキルメタク
リレート；フェニルアクリレート又はフェニルメタクリ
レート；アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、エチレン、アクリルアミド、炭素数１〜５のアルキ
ル基もしくは塩素、フェニル基等を置換したアクリルア
ミド、ビニルアルコール、クリシジルアクリレート、ア
クロレイン等があり、好ましくはスチレン、置換基を有
するスチレン、酢酸ビニル、ビニルメチルエーテル、ア
ルキルアクリレート、アクリロニトリル等である。

【００６４】又、上記式中のＲ′のアルキル基として
は、炭素数１〜24のものが好ましく、直鎖アルキル基、
分岐アルキル基、シクロアルキル基等のいずれでもよ
く、又、該アルキル基は置換基を有していてもよい。こ
の置換基としては、ヒドロキシル基、ヒドロキシカルボ
ニル基、カチオンのオキシカルボニル基等で、特に弗素
の如きハロゲンが置換されたハロゲノアルキル基又はハ
ロゲノアルキルオキシアルキル基は望ましい結果が得ら
れ、この時、炭素数２〜18のハロゲノアルキル基、ハロ
ゲノアルキルオキシアルキル基又はハロゲノシクロアル
キル基であって、ハロゲン数は望ましくは１〜37であ
る。このハロゲノアルキル基及びハロゲノアルキルオキ
シアルキル基及び前記式中のＲ₃のハロゲノアルキル基
及びハロゲノアルキルオキシアルキル基は、好ましくは
下記一般式〔Ａ〕で示される。

【００６５】

【化１６】

【００６６】式中、Ｒ₄，Ｒ₅，Ｒ₆，Ｒ₇，Ｒ₈ は水素原
子又は弗素原子で、ｎ₂は０又は１であり、ｎ₂が０の時
にはｎ₁は０、ｎ₂が１の時にはｎ₁は２又は３であり、
ｎ₃は１〜17の整数、 ただしn₁＋n₃は１〜17である。た
だしＲ₄が構造式中に２個以上ある場合には１個が水素
で他が弗素であるように異なる基であってもよく、同様
にＲ₅，Ｒ₆，Ｒ₇が、それぞれ構造式中に複数個ある時
には異なる基であってもよい。

【００６７】又、前記一般式〔III〕及び一般式〔IV〕
中のＲ′が前述のようなハロゲノアルキル基、あるいは
ハロゲノアルキルオキシアルキル基の時には、好ましく
は前記一般式〔III〕及び一般式〔IV〕中のＲは−O−
R′である。又、Ｒ′のフェニル基の如きアリール基、
又はベンジル基の如きアラルキル基は置換基を有してい
てもよく、この置換基としては、弗素、塩素、臭素等の
ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシル基、カル
ボキシル基、カチオンのオキシカルボニル基、ニトリル
基、ニトロ基等が挙げられる。又、式中のＲ′の複素環
又はＲ′とＲ″とで形成する複素環は酸素原子、硫黄原
子又は窒素原子を含む飽和あるいは不飽和の複素環であ
って、例えばアジリジン、ピロール、ピロリジン、ピラ
ゾール、イミダゾール、イミダゾリン、トリアゾール、
ピペリジン、ピペラジン、オキサジン、モルホリン、チ
アジン等から選択される複素環である。又、Ｍのカチオ
ンとしては、例えばアンモニウム、ナトリウム、カリウ
ム、リチウムイオン等のカチオンである。

【００６８】そして上記一般式〔III〕及び〔IV〕で示
される−COOM基含有共重合体化合物は、単独又は２種以
上併用して用いられ、好ましくは平均分子量約500〜50
0,000程度のものが用いられる。

【００６９】上記共重合体化合物の代表的なものとして
下記のものを挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。

【００７０】

【化１７】

【００７１】これら−COOM基含有共重合体化合物は公知
の方法で合成される。即ち、無水マレイン酸共重合物は
極く一般的な重合物であることは周知の通りであり、こ
れらの誘導体もそれらに適合するアルコールあるいはア
ミン類を無水マレイン酸共重合物に反応させれば簡単に
得られ、又、無水マレイン酸単量体に適合するアルコー
ルあるいはアミン類を反応し精製したものを他のビニル
単量体と共重合させても得られる。又、ハロゲノアルキ
ル、ハロゲノアルキルオキシアルキル等のアクリレート
類は、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス（Jour
nal of PolymerScience）15 ,515〜574頁（1955）又は
英国特許1,121,357号に記載されている単量体及び重合
体の合成法によって容易に合成される。本発明に係る前
記共重合体化合物の使用量は、10〜1000mg／m²であるこ
とが好ましく、更には20〜300mg／m²であることが特に
好ましい。

【００７２】又、接着層用ポリマー溶液はグラビアコー
ター、ディップコーター、リバースロールコーター、押
出しコーターなど公知の方法で塗布できる。

【００７３】本発明に係るポリマーの付量は10〜1000mg
／m²の範囲であり、特に安定な接着力、塗布後の仕上り
性からみると20〜300mg／m²が好ましい。該塗布液を塗
布した後乾燥する方法としては特に制限はないが、乾燥
後の残留溶媒量は５wt％以下とするのが好ましい。残留
溶媒量が多いと、偏光子と積層された後の乾燥過程で接
着界面に気泡を生じる場合があり好ましくない。

【００７４】接着層用ポリマー溶液には所望により紫外
線吸収剤、滑り剤、マット剤、帯電防止剤、架橋剤及び
活性剤などを添加してもよい。

【００７５】特に架橋剤は偏光子のポリビニルアルコー
ルフィルムとの接着を促進する上で好ましい。この様な
架橋剤としては、例えば多価のエポキシ化合物、アジリ
ジン化合物、イソシアナート化合物や、明礬、硼素化合
物などが挙げられる。

【００７６】本発明に係る保護フィルムの処理面と、偏
光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては例え
ばポリビニルアルコール、ポリビニルブチラールなどの
ポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート
などビニル系ラテックス等が挙げられる。

【００７７】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳しく説明する
が、本発明の態様がこれに限定されるものではない。

【００７８】実施例１ 表１に示すように紫外線吸収性ポリマーを添加し、下記
ドープ組成物を調製した。

【００７９】 セルローストリアセテート（酢化度61.0％）100重量部 トリフェニルホスフェート 12重量部 紫外線吸収性ポリマー（表１に示す） 8重量部 メチレンクロライド 430重量部 メタノール 90重量部 上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温し
ながら撹拌して完全に溶解した。

【００８０】次に、このドープを濾過し、冷却して33℃
に保ち二つのドラムに貼られた回転する長さ６ｍ（有効
長5.5ｍ）のエンドレスステンレスバンド上に均一に流
延し、剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させた処でステ
ンレスバンドから剥離した後、多数のロールで搬送させ
ながら乾燥を終了させ、膜厚80μmのフィルムを得た。

【００８１】更に上記フィルムを、60℃で濃度８wt％の
水酸化ナトリウム水溶液に５分間浸漬した後、水洗して
鹸化処理層を形成した。

【００８２】このようにして得られたセルローストリア
セテートフィルムを、各々10cm平方の大きさに切り取
り、80℃・90％RHの高温・高湿雰囲気下に1000時間放置
した後、分光光度計を用いて分光吸収特性を測定し、波
長320nm及び400nmにおける25℃・56％RH雰囲気下に放置
した試料と比較し、その変化度を評価した。

【００８３】次に、上記セルローストリアセテートフィ
ルムを保護膜とし、以下の方法で作った偏光フィルムの
両面にアクリル系接着剤で接着させ偏光板を作成した。

【００８４】（偏光板フィルムの作り方）厚さ120μmの
ポリビニルアルコールフィルムを沃素１重量部、沃化カ
リウム２重量部、硼酸４重量部を含む水溶液に浸漬し、
50℃で４倍に延伸し偏光フィルムを得る。

【００８５】《偏光板の耐湿熱試験》上記方法で作成し
た偏光板を各々５cm×７cmのサイズに切断した。得られ
た切断片を各々６cm×８cmのガラス板の中央部にアクリ
ル系粘着剤で仮粘着し、次いでこれらを押圧して各片と
ガラス板の間の気泡を完全に除去するようにして各切断
片をガラス板に貼着した。

【００８６】こうして作成した試験片を、80℃・95％RH
にセットした恒温恒湿オーブン内に互いに重ならないよ
うに垂直に配して支持枠に1000時間固定した後、各片に
ついて下記の測定を行った。

【００８７】(Ａ)保護フィルム単体と偏光板の透過率変
化度 (Ｂ)偏光膜と保護フィルムの接着性 (Ｃ)偏光度の変化度 保護フィルム単体と偏光板の透過率変化度の評価は、前
記サンプルを80℃・90%RHの高温高湿雰囲気下に1000時
間放置後、分光光度計を用いて320〜400nmの分光吸収特
性と500〜600nmの分光吸収特性を測定し、25℃・56％RH
雰囲気下における分光吸収特性との変化度ΔＴ（％）を
評価した。

【００８８】 ○・・・変化度２％以下 △・・・ 〃 ２〜５％ ×・・・ 〃 ５〜11％ ××・・ 〜 11％ 偏光膜と保護フィルムの接着性の評価は、高温高湿処理
後、目視により観察を行い偏光膜と保護フィルムの間の
剥離状態を評価した。

【００８９】 ○・・・膜の浮き上がり部分が周辺１mm以下 △・・・膜の浮き上がり部分が周辺１〜５mmの範囲 ×・・・膜の浮き上がり部分が周辺５mm以上 偏光度の評価は、400〜700nmの領域における値を、平行
時と直行時との透過の平均値から下記式に基づき算出
し、25℃・56％RH雰囲気下における偏光度の変化度を評
価した。ただし、透過率は43％に補正した。

【００９０】 Ｐ＝［(Ｈ₀−Ｈ₉₀）／（Ｈ₀＋Ｈ₉₀)］×100 式中、Ｐは偏光度、Ｈ₀は平均平行透過率、Ｈ₉₀は平均
直行透過率を示す。

【００９１】 ○・・・湿熱処理前の測定値（43％）との差が±２％以
内 △・・・湿熱処理前の測定値（43％）との差が±２〜５
％ ×・・・湿熱処理前の測定値（43％）との差が±５〜11
％ ××・・湿熱処理前の測定値（43％）との差が±11％以
上 実施例２ 下記ドープ組成物を実施例１と同様の方法で調製した。

【００９２】 セルローストリアセテート（酢化度61.0％）100重量部 トリフェニルホスフェート 12重量部 紫外線吸収性ポリマー（表１に示す） 10重量部 メチレンクロライド 550重量部 メタノール 30重量部 n-ブタノール 60重量部 次に、このドープを濾過し、冷却して33℃に保ち二つの
ドラムに貼られた回転する長さ６ｍのエンドレスステン
レスバンド上にに位置した図１に記載の第１流延口から
均一に流延し、次いで第２流延口から実施例１に記載の
ドープを仕上がり膜厚80μmに対し、それぞれ80％、20
％に寄与するよう流延溶液量を調整して流延した後、ス
テンレスバンドから剥離可能になるまで溶媒を蒸発させ
た後、ステンレスバンドから剥離し、多数のロールで搬
送させながら乾燥を終了させ、膜厚80μmのフィルムを
得た。

【００９３】更に実施例１と同様にして偏光板を作成
し、保護フィルム単体の紫外線吸収特性、偏光板の紫外
線吸収特性並びに偏光フィルムとセルローストリアセテ
ート保護フィルムとの間の剥離性を評価した。

【００９４】更に実施例２で作成したセルローストリア
セテートフィルムの片面に、下記組成物から成る塗布液
を25cc／m²になるようにダブルロールコーターを用いて
塗布した後、90℃で５分間乾燥して接着層を有する保護
フィルムを得た。

【００９５】 例示共重合体（1） 10重量部 水 20重量部 メタノール 400重量部 アセトン 600重量部 この保護フィルムの接着層面が粘着剤面となるよう実施
例１と同様の方法で偏光板を作成した。

【００９６】偏光板を80℃・90％RHの高温・高湿雰囲気
下に1000時間放置し、その分光吸収特性の変化度及び偏
光フィルムとセルローストリアセテート保護フィルムと
の間の剥離の有無を評価した。

【００９７】比較例１ 紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系の下記化合物を添
加し、下記のドープ組成物を調製し、実施例１と同じ方
法で膜厚80μmのフィルムを得た。

【００９８】 セルローストリアセテート（酢化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 15重量部 ＵＶ−１（2,2′-ジヒドロキシ-4,4′-ジメトキシ 10重量部 ベンゾフェノン） メチレンクロライド 430重量部 メタノール 90重量部 次いで、上記フィルムを60℃で８wt％濃度の水酸化ナト
リウム水溶液に５分間浸漬した後、水洗して鹸化処理層
を形成した。

【００９９】この保護フィルムを用いて実施例１と同様
の方法で偏光板を作成した。

【０１００】

【０１０１】比較例２ 比較例１において鹸化処理を除いた他は全く同様にして
膜厚80μmの保護フィルムを作成し、それを用いて偏光
板を作成した。

【０１０２】実施例１〜比較例２で作成した偏光板につ
いての各特性の評価結果を併せて表１に示す。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】上記結果から明らかなように、本発明に係
る保護フィルムを接着した偏光板は、比較の保護フィル
ムを接着した偏光板に比べて透過率損失が少なく、分光
吸収特性、色相において優れている。

【０１０５】

【発明の効果】本発明により、透過率損失が少なく、紫
外線吸収特性、分光吸収特性及び色相いずれにも優れ、
しかも高温・高湿条件下でも光学特性の劣化が少ない偏
光板用保護フィルムを提供できた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のセルロースエステルフィルムの製造に
用いられる二つの流延口を有する製膜装置の断面図

【符号の説明】

１ 第１流延口 ２ エンドレスステンレスベルト ３ 第２流延口 ４ 剥離位置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−219703（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−88066（ＪＰ，Ａ) 実開 昭60−38411（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭61−98301（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 5/30 G02B 5/22

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 セルロースエステルフィルムに下記一般
   式（１）で示される紫外線吸収基から選ばれる少なくと
   も一つを有する単量体の繰り返し単位から誘導される重
   合体を含有することを特徴とする偏光板用保護フィル
   ム。【化１】 〔式中、Ｒ21〜Ｒ28は各々、水素原子、ハロゲン原子、
   アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキ
   シ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルアルコキシ
   基、アミノ基、カルバモイル基又はニトロ基を表す。た
   だしＲ21〜Ｒ28の中の少なくとも一つは重合性基と結合
   する。〕
2. 【請求項２】 前記重合体を０．２〜３ｇ／ｍ２含有す
   ることを特徴とする請求項１記載の偏光板用保護フィル
   ム。