JP3341134B2 - セルロースエステルフィルム - Google Patents
セルロースエステルフィルムInfo
- Publication number
- JP3341134B2 JP3341134B2 JP16222594A JP16222594A JP3341134B2 JP 3341134 B2 JP3341134 B2 JP 3341134B2 JP 16222594 A JP16222594 A JP 16222594A JP 16222594 A JP16222594 A JP 16222594A JP 3341134 B2 JP3341134 B2 JP 3341134B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- group
- film
- parts
- cellulose ester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、セルロースエステルフ
ィルムに関し、詳しくは液晶表示装置の偏光板に使用さ
れているセルロースエステルフィルム自体の耐久性及
び、液晶物質の保護のためにＵＶ(紫外線)吸収性能を付
与した偏光板用保護フィルムに関するものである。
ィルムに関し、詳しくは液晶表示装置の偏光板に使用さ
れているセルロースエステルフィルム自体の耐久性及
び、液晶物質の保護のためにＵＶ(紫外線)吸収性能を付
与した偏光板用保護フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】セルロースエステルフィルムは、透明性
が優れ、かつ屈折率の異方性の小さな膜を容易に作製す
ることが出来るため偏光板用の保護フィルムなどの光学
的用途に広く使用されている。
が優れ、かつ屈折率の異方性の小さな膜を容易に作製す
ることが出来るため偏光板用の保護フィルムなどの光学
的用途に広く使用されている。
【０００３】しかしながらセルロースエステルフィルム
は、紫外線に長時間暴露されると黄変するという該フィ
ルム固有の欠点を有している。
は、紫外線に長時間暴露されると黄変するという該フィ
ルム固有の欠点を有している。
【０００４】このため従来より、予めセルロースエステ
ル溶液中にＵＶ吸収剤を混入し、この溶液を用いてキャ
ステングフィルムとする方法、或は特開昭61-98301号に
記載されているようなＵＶ吸収剤溶液を、セルロースエ
ステルフィルム上に塗布あるいは浸漬してＵＶ吸収性を
付与し黄変を防止することが開示されている。
ル溶液中にＵＶ吸収剤を混入し、この溶液を用いてキャ
ステングフィルムとする方法、或は特開昭61-98301号に
記載されているようなＵＶ吸収剤溶液を、セルロースエ
ステルフィルム上に塗布あるいは浸漬してＵＶ吸収性を
付与し黄変を防止することが開示されている。
【０００５】また、皮膜の柔軟性、耐湿性などの向上の
ために、予めセルロースエステル溶液中にリン酸エステ
ル系等の可塑剤を添加することは通常行われていること
である。
ために、予めセルロースエステル溶液中にリン酸エステ
ル系等の可塑剤を添加することは通常行われていること
である。
【０００６】一般に自動車などの計器表示に用いられる
液晶表示の場合、偏光板は過酷な耐湿性及び耐熱性が要
求される。
液晶表示の場合、偏光板は過酷な耐湿性及び耐熱性が要
求される。
【０００７】しかしながら、使用環境の厳しい高温高湿
の条件下、例えば80℃，90％ＲＨの雰囲気下に1000時間
程度経時した場合、前記の方法で製造されたフィルムで
は、ＵＶ吸収剤が均一に分散含有されたものであるため
ブリード現象により、光学特性が劣化し、黄変してＵＶ
吸収性能が著しく劣化し、又偏光膜への保護フィルムの
接着力が著しく弱まり、ひいては剥離が生ずるという問
題があった。また分光吸収測定では主に250〜400nmの波
長に異常な吸収ピークが見られ、これらの改善が強く望
まれていた。
の条件下、例えば80℃，90％ＲＨの雰囲気下に1000時間
程度経時した場合、前記の方法で製造されたフィルムで
は、ＵＶ吸収剤が均一に分散含有されたものであるため
ブリード現象により、光学特性が劣化し、黄変してＵＶ
吸収性能が著しく劣化し、又偏光膜への保護フィルムの
接着力が著しく弱まり、ひいては剥離が生ずるという問
題があった。また分光吸収測定では主に250〜400nmの波
長に異常な吸収ピークが見られ、これらの改善が強く望
まれていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、高温高湿下での過酷な条件に長時間曝されてもＵＶ
吸収能が劣化したり、着色したり、偏光膜と保護フィル
ムの剥離をきたす恐れの全くない偏光板用保護フィルム
としてのセルロースエステルフィルムを提供することで
ある。
は、高温高湿下での過酷な条件に長時間曝されてもＵＶ
吸収能が劣化したり、着色したり、偏光膜と保護フィル
ムの剥離をきたす恐れの全くない偏光板用保護フィルム
としてのセルロースエステルフィルムを提供することで
ある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は以
下の方法により達成されることを見出し本発明を成すに
至った。
下の方法により達成されることを見出し本発明を成すに
至った。
【００１０】即ち、下記一般式〔１〕で示されるベンゾ
トリアゾール系化合物の少なくとも１種及びセルロース
エステルに対する可塑剤の量が20重量％以内であり、且
つその可塑剤のうち、リン酸エステル系可塑剤の含有量
が40重量％以下の可塑剤を含有することを特徴とするセ
ルロースエステルフィルムである。
トリアゾール系化合物の少なくとも１種及びセルロース
エステルに対する可塑剤の量が20重量％以内であり、且
つその可塑剤のうち、リン酸エステル系可塑剤の含有量
が40重量％以下の可塑剤を含有することを特徴とするセ
ルロースエステルフィルムである。
【００１１】
【化２】
【００１２】式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同じ
か又は異ってもよく、水素原子、ハロゲン原子（塩素、
臭素、沃素、フッ素）、ニトロ基、ヒドロキシル基、ア
ルキル基（例えば、メチル、エチル、n-プロピル、iso-
プロピル、アミノプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、te
rt-ブチル、クロロブチル、n-アミル、iso-アミル、ヘ
キシル、オクチル、ノニル、ステアリルアミドブチル、
デシル、ドデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、シク
ロヘキシル、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロ
ピルなど）、アルケニル基（例えば、ビニル、アリル、
メタアリル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニ
ル、オクタデセニルなど）、アリール基（例えばフェニ
ル、4-メチルフェニル、4-エトキシフェニル、2-ヘキソ
キシフェニル、3-ヘキソキシフェニルなど）、アルコキ
シ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、クロロブトキシ、デコキシ、ジアミノフェノキ
シ、エトキシ、ペンタデコキシ、オクタデコキシな
ど）、アシルオキシ基（例えば、カルボメトキシ、カル
ボブトキシ、カルボヘキソキシ、カルボペンタデコキシ
など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、4-メ
チルフェノキシ、2-プロピルフェノキシ、3-アミルフェ
ノキシなど）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、
エチルチオ、t-ブチルチオ、t-オクチルチオ、ベンジル
チオなど）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、
メチルフェニルチオ、エチルフェニルチオ、メトキシフ
ェニルチオ、エトキシフェニルチオ、ナフチルチオな
ど）、モノ又はジアルキルアミノ基（例えば、N-エチル
アミノ、N-t-オクチルアミノ、N,N-ジエチルアミノ、N,
N-ジ-t-ブチルアミノなど）、アシルアミノ基（例え
ば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、メタンスルホ
ニルアミノなど）、酸素又は窒素を含む５又は６員の複
素環基（例えば、ピペリジノ、モルホリノ、ピロリジ
ノ、ピペラジノなど）を示し、Ｒ4とＲ5は閉環して炭素
原子からなる５又は６員環を形成してもよい。
か又は異ってもよく、水素原子、ハロゲン原子（塩素、
臭素、沃素、フッ素）、ニトロ基、ヒドロキシル基、ア
ルキル基（例えば、メチル、エチル、n-プロピル、iso-
プロピル、アミノプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、te
rt-ブチル、クロロブチル、n-アミル、iso-アミル、ヘ
キシル、オクチル、ノニル、ステアリルアミドブチル、
デシル、ドデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、シク
ロヘキシル、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロ
ピルなど）、アルケニル基（例えば、ビニル、アリル、
メタアリル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニ
ル、オクタデセニルなど）、アリール基（例えばフェニ
ル、4-メチルフェニル、4-エトキシフェニル、2-ヘキソ
キシフェニル、3-ヘキソキシフェニルなど）、アルコキ
シ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、クロロブトキシ、デコキシ、ジアミノフェノキ
シ、エトキシ、ペンタデコキシ、オクタデコキシな
ど）、アシルオキシ基（例えば、カルボメトキシ、カル
ボブトキシ、カルボヘキソキシ、カルボペンタデコキシ
など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、4-メ
チルフェノキシ、2-プロピルフェノキシ、3-アミルフェ
ノキシなど）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、
エチルチオ、t-ブチルチオ、t-オクチルチオ、ベンジル
チオなど）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、
メチルフェニルチオ、エチルフェニルチオ、メトキシフ
ェニルチオ、エトキシフェニルチオ、ナフチルチオな
ど）、モノ又はジアルキルアミノ基（例えば、N-エチル
アミノ、N-t-オクチルアミノ、N,N-ジエチルアミノ、N,
N-ジ-t-ブチルアミノなど）、アシルアミノ基（例え
ば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、メタンスルホ
ニルアミノなど）、酸素又は窒素を含む５又は６員の複
素環基（例えば、ピペリジノ、モルホリノ、ピロリジ
ノ、ピペラジノなど）を示し、Ｒ4とＲ5は閉環して炭素
原子からなる５又は６員環を形成してもよい。
【００１３】一般式〔１〕において、Ｒ1〜Ｒ5で示され
る置換基は、炭素数５〜36が好ましく、アルキル基は炭
素数１〜18であることが好ましい。
る置換基は、炭素数５〜36が好ましく、アルキル基は炭
素数１〜18であることが好ましい。
【００１４】上記一般式で表される化合物例を以下に示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１５】（１−１） 2-(2′-ヒドロキシ-5′-t-ブ
チルフェニル)-ベンゾトリアゾール （１−２） 2-(2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-t-ブチル
フェニル)-ベンゾトリアゾール （１−３） 2-(2′-ヒドロキシ-3′-t-ブチル-5′-メ
チルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール （１−４） 2-(2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-t-ブチル
フェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール （１−５） 2-(2′-ヒドロキシ-5′-イソオクチルフェ
ニル)-ベンゾトリアゾール （１−６） 2-(2′-ヒドロキシ-5′-n-オクチルフェニ
ル)-ベンゾトリアゾール （１−７） 2-(2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-t-アミル
フェニル)-ベンゾトリアゾール （１−８） 2-(2′-ヒドロキシ-5′-ドデシルフェニ
ル)-ベンゾトリアゾール （１−９） 2-(2′-ヒドロキシ-5′-ヘキサデシルフェ
ニル)-ベンゾトリアゾール （１−10） 2-(2′-ヒドロキシ-3′-t-アミル-5′-ベ
ンゾフェニル)-ベンゾトリアゾール なお、本発明においては上記の化合物を含めて本発明と
同一の出願人による特開昭60-128434号公報第10頁〜第1
2頁に記載されている化合物例の（IV-1）〜（IV-39）を
用いることが出来る。
チルフェニル)-ベンゾトリアゾール （１−２） 2-(2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-t-ブチル
フェニル)-ベンゾトリアゾール （１−３） 2-(2′-ヒドロキシ-3′-t-ブチル-5′-メ
チルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール （１−４） 2-(2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-t-ブチル
フェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール （１−５） 2-(2′-ヒドロキシ-5′-イソオクチルフェ
ニル)-ベンゾトリアゾール （１−６） 2-(2′-ヒドロキシ-5′-n-オクチルフェニ
ル)-ベンゾトリアゾール （１−７） 2-(2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-t-アミル
フェニル)-ベンゾトリアゾール （１−８） 2-(2′-ヒドロキシ-5′-ドデシルフェニ
ル)-ベンゾトリアゾール （１−９） 2-(2′-ヒドロキシ-5′-ヘキサデシルフェ
ニル)-ベンゾトリアゾール （１−10） 2-(2′-ヒドロキシ-3′-t-アミル-5′-ベ
ンゾフェニル)-ベンゾトリアゾール なお、本発明においては上記の化合物を含めて本発明と
同一の出願人による特開昭60-128434号公報第10頁〜第1
2頁に記載されている化合物例の（IV-1）〜（IV-39）を
用いることが出来る。
【００１６】本発明に係るベンゾトリアゾール系化合物
は単独或いは２種以上併用して用いても良い。
は単独或いは２種以上併用して用いても良い。
【００１７】本発明に用いられる上記のベンゾトリアゾ
ール系化合物は、例えば特公昭44-29620号に記載の方
法、又はそれに準じた方法により容易に合成することが
出来る。
ール系化合物は、例えば特公昭44-29620号に記載の方
法、又はそれに準じた方法により容易に合成することが
出来る。
【００１８】これらのベンゾトリアゾール化合物の使用
量は、化合物の種類使用条件等により一様ではないが、
セルロースエステルフィルム１m2当たり0.1〜５ｇが好
ましく、特に0.2〜２ｇが好ましい。添加方法として
は、予め有機溶剤（例えばメタノール、メチレンクロラ
イドなど）に溶解したものを本発明に係るセルロースト
リアセテートなどのドープ組成中に添加してもよく、直
接添加してもよい。
量は、化合物の種類使用条件等により一様ではないが、
セルロースエステルフィルム１m2当たり0.1〜５ｇが好
ましく、特に0.2〜２ｇが好ましい。添加方法として
は、予め有機溶剤（例えばメタノール、メチレンクロラ
イドなど）に溶解したものを本発明に係るセルロースト
リアセテートなどのドープ組成中に添加してもよく、直
接添加してもよい。
【００１９】本発明に係る可塑剤としては、ジメチルフ
タレート、ジエチレンフタレート、ジブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジメトキシエチルフタレー
ト等のフタル酸エステル系、エチルフタリルエチレング
リコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、エチ
ルグリコールジブチレート、エチレングリコールジプロ
ピオネート等のグリコール酸エステル系、ジアセチレ
ン、トリアセチン、グリセリン誘導体等を挙げることが
できる。またリン酸エステル系可塑剤としては、トリフ
ェニルホスフェート、トリクレジルフォスフェート等を
挙げることができる。
タレート、ジエチレンフタレート、ジブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジメトキシエチルフタレー
ト等のフタル酸エステル系、エチルフタリルエチレング
リコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、エチ
ルグリコールジブチレート、エチレングリコールジプロ
ピオネート等のグリコール酸エステル系、ジアセチレ
ン、トリアセチン、グリセリン誘導体等を挙げることが
できる。またリン酸エステル系可塑剤としては、トリフ
ェニルホスフェート、トリクレジルフォスフェート等を
挙げることができる。
【００２０】これらの可塑剤の使用量は、セルロースエ
ステルに対して重量比で５〜20％を用いることが好まし
い。又リン酸エステル系可塑剤の含有量が全可塑剤の40
％以上になると、高温、高湿の条件下に長時間おかれる
と、分光吸収特性の低下等の性能の劣化が起こり、好ま
しくない。
ステルに対して重量比で５〜20％を用いることが好まし
い。又リン酸エステル系可塑剤の含有量が全可塑剤の40
％以上になると、高温、高湿の条件下に長時間おかれる
と、分光吸収特性の低下等の性能の劣化が起こり、好ま
しくない。
【００２１】本発明に係るセルロースエステルフィルム
としては、セルロースドアセテート、セルロースジアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、セルロース
アセテートプロピオネートなどが挙げられ、特に重合度
250〜400、結合酢酸量が54〜62％のセルローストリアセ
テートが好ましい。
としては、セルロースドアセテート、セルロースジアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、セルロース
アセテートプロピオネートなどが挙げられ、特に重合度
250〜400、結合酢酸量が54〜62％のセルローストリアセ
テートが好ましい。
【００２２】本発明に係るセルロースエステルフィルム
の溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、n-プ
ロピルアルコール、iso-プロピルアルコール、n-ブタノ
ールなどの低級アルコール類、シクロヘキサンジオキサ
ン類、メチレンクロライドのような低級脂肪族炭化水素
塩化物類などを用いることができる。
の溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、n-プ
ロピルアルコール、iso-プロピルアルコール、n-ブタノ
ールなどの低級アルコール類、シクロヘキサンジオキサ
ン類、メチレンクロライドのような低級脂肪族炭化水素
塩化物類などを用いることができる。
【００２３】溶剤比率としては例えば、メチレンクロラ
イド70〜95重量％、その他の溶剤は30〜５重量％が好ま
しい。又セルロースエステルの濃度は10〜50重量％が好
ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の沸点
以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好ましく
例えば60℃以上、80〜110℃の範囲に設定するのが好適
である。又、圧力は設定温度において、溶剤が沸騰しな
いように定められる。
イド70〜95重量％、その他の溶剤は30〜５重量％が好ま
しい。又セルロースエステルの濃度は10〜50重量％が好
ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の沸点
以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好ましく
例えば60℃以上、80〜110℃の範囲に設定するのが好適
である。又、圧力は設定温度において、溶剤が沸騰しな
いように定められる。
【００２４】溶解後は冷却しながら容器から取り出す
か、または容器からポンプ等で抜きだして熱交換器など
で冷却し、これを製膜に供する。
か、または容器からポンプ等で抜きだして熱交換器など
で冷却し、これを製膜に供する。
【００２５】本発明に於けるセルロースエステルフィル
ムの製造方法は特に制限はなく、当業界で一般に用いら
れている方法でよく、例えば米国特許2,492,978号、同
2,739,070号、同2,739,069号、同2,492,977号、同2,33
6,310号、同2,367,603号、同2,492,978号、同2,607,704
号、英国特許64071号、同735892号、特公昭45-9074号、
同49-4554号、同49-5614号、同60-27562号、同61-39890
号、同62-4208号等に記載の方法を参考にすることがで
きる。
ムの製造方法は特に制限はなく、当業界で一般に用いら
れている方法でよく、例えば米国特許2,492,978号、同
2,739,070号、同2,739,069号、同2,492,977号、同2,33
6,310号、同2,367,603号、同2,492,978号、同2,607,704
号、英国特許64071号、同735892号、特公昭45-9074号、
同49-4554号、同49-5614号、同60-27562号、同61-39890
号、同62-4208号等に記載の方法を参考にすることがで
きる。
【００２６】本発明に係るセルロースエステルフィルム
の厚さは、10〜500μmで特に30〜200μmであることが好
ましい。
の厚さは、10〜500μmで特に30〜200μmであることが好
ましい。
【００２７】また本発明に係るセルロースエステルフィ
ルムには、他に必要ならマット剤として酸化硅素のよう
な微粒子などを加えても支障はない。
ルムには、他に必要ならマット剤として酸化硅素のよう
な微粒子などを加えても支障はない。
【００２８】
【実施例】以下、本発明を実施例にて具体的に説明する
が、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
が、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
【００２９】実施例１ 表１に示すＵＶ吸収剤を添加し、下記のドープ組成物を
調製した。
調製した。
【００３０】 セルローストリアセテート（酸化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 3重量部 エチルフタリルエチルグリコレート 12重量部 例示化合物１−３ 1重量部 例示化合物１−７ 1重量部 メチレンクロライド 430重量部 メタノール 90重量部 上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温し
撹伴しながら完全に溶解した。
撹伴しながら完全に溶解した。
【００３１】次にこのドープを濾過し、冷却して33℃に
保ち２つのドラムにはられた回転する長さ６ｍ（有効長
5.5ｍ）のエンドレスステンレスバンド上に均一に流延
し、剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、
ステンレスバンド上から剥離後、多数のロールで搬送さ
せながら乾燥を終了させ膜厚80μmのフィルムを得た。
保ち２つのドラムにはられた回転する長さ６ｍ（有効長
5.5ｍ）のエンドレスステンレスバンド上に均一に流延
し、剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、
ステンレスバンド上から剥離後、多数のロールで搬送さ
せながら乾燥を終了させ膜厚80μmのフィルムを得た。
【００３２】上記で作成したセルローストリアセテート
フィルムを保護膜とし、その一部を下記の方法でアルカ
リケン化処理して、表面を親水性化処理した後、下記の
方法で作った偏光膜フィルムをポリビニールアルコール
系接着剤で貼合せて偏光板を作成した。
フィルムを保護膜とし、その一部を下記の方法でアルカ
リケン化処理して、表面を親水性化処理した後、下記の
方法で作った偏光膜フィルムをポリビニールアルコール
系接着剤で貼合せて偏光板を作成した。
【００３３】−セルロースアセテートフィルムのアルカ
リケン化処理−上記で作成した80μmのセルロースより
アセテートフィルム（ＴＡＣフィルム）の一部を２Ｎ60
℃の水酸化ナトリウム水溶液に３分間浸漬し、さらに水
洗乾燥して表面を親水性化したセルローストリアセテー
トフィルムを得た。
リケン化処理−上記で作成した80μmのセルロースより
アセテートフィルム（ＴＡＣフィルム）の一部を２Ｎ60
℃の水酸化ナトリウム水溶液に３分間浸漬し、さらに水
洗乾燥して表面を親水性化したセルローストリアセテー
トフィルムを得た。
【００３４】−偏光膜フィルムの作り方− 厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを沃素１重
量部、沃化カリウム２重量部、ホウ酸４重量部を含む水
溶液に浸積し50℃で４倍に延伸し偏光膜フィルムを得
た。
量部、沃化カリウム２重量部、ホウ酸４重量部を含む水
溶液に浸積し50℃で４倍に延伸し偏光膜フィルムを得
た。
【００３５】−偏光板の作成− 前記アルカリケン化処理したセルローストリアセテ
ートフィルムを18cm×５cmサイズに裁断し、ガラス板上
に配置する。
ートフィルムを18cm×５cmサイズに裁断し、ガラス板上
に配置する。
【００３６】 前記偏光膜フィルムをのフィルム試
料と同一サイズに裁断し、固形分２重量％のポリビニル
アルコール接着剤溶液槽中に１〜２秒間浸漬する（両
面）。
料と同一サイズに裁断し、固形分２重量％のポリビニル
アルコール接着剤溶液槽中に１〜２秒間浸漬する（両
面）。
【００３７】 の偏光膜フィルムに着いた過剰の接
着剤を軽く取り除き、のフィルム試料の上に乗せる。
着剤を軽く取り除き、のフィルム試料の上に乗せる。
【００３８】 と同一サイズの前記アルカリケン化
処理したセルローストリアセテートフィルムをのフィ
ルム試料の接着剤面とが接するようにして重ね合わせ
る。
処理したセルローストリアセテートフィルムをのフィ
ルム試料の接着剤面とが接するようにして重ね合わせ
る。
【００３９】 ハンドローラーを用いての端部から
過剰の接着剤、気泡を取り除き、貼り合わせる。このロ
ーラーの圧力は約２〜３kg／cm2、ローラースピードは
約２ｍ／minである。
過剰の接着剤、気泡を取り除き、貼り合わせる。このロ
ーラーの圧力は約２〜３kg／cm2、ローラースピードは
約２ｍ／minである。
【００４０】 で得た３枚重ねの試料を80℃の乾燥
器中に入れて約10分間放置する。
器中に入れて約10分間放置する。
【００４１】〔評価方法〕接着性 初期接着性：前記、偏光板を片刃を用いて５cm×５cm四
方に裁断した時、接着面の端部に浮きがないとかを評価
する。
方に裁断した時、接着面の端部に浮きがないとかを評価
する。
【００４２】○：接着面の浮きが全くない △：僅かに（２mm以内）に浮きがおこる ×：３mm以上浮きがおこる 高温高湿耐久性：前記、偏光板を片刃を用いて５cm×５
cm四方に裁断した試料を作成し、この試料を80℃90％Ｒ
Ｈの条件下に1000時間放置した後、接着面の端部に浮き
がないかを評価する。
cm四方に裁断した試料を作成し、この試料を80℃90％Ｒ
Ｈの条件下に1000時間放置した後、接着面の端部に浮き
がないかを評価する。
【００４３】○：接着面の浮きが全くない △：僅かに（２mm以内）に浮きがおこる ×：３mm以上浮きがおこる 透過率変化度の評価 前記作成したセルローストリアセテートフィルムを80℃
90％ＲＨの高温、高湿の条件下で密閉容器に封入し、同
温度で1000時間放置後、分光光度計を用いて250〜600nm
の分光吸収特性を測定し、23℃55％ＲＨ条件下に同様に
放置された前記作成したセルローストリアセテートフィ
ルムに於ける分光吸収特性との250〜350nmの範囲の最大
変化度ΔＴ1（％）及び400〜600nmの範囲の最大変化度
ΔＴ2（％）を評価した。
90％ＲＨの高温、高湿の条件下で密閉容器に封入し、同
温度で1000時間放置後、分光光度計を用いて250〜600nm
の分光吸収特性を測定し、23℃55％ＲＨ条件下に同様に
放置された前記作成したセルローストリアセテートフィ
ルムに於ける分光吸収特性との250〜350nmの範囲の最大
変化度ΔＴ1（％）及び400〜600nmの範囲の最大変化度
ΔＴ2（％）を評価した。
【００４４】○ ：変化度 ２％以下 △ ：変化度 ２〜10％ × ：変化度 11〜20％ ××：変化度 20％以上 フィルムの変質評価 前記作成したセルローストリアセテートフィルムを15cm
×10cmの大きさに裁断し、80℃90％ＲＨの空気に置換さ
れた容量1000mlのビンに入れて密封し80℃90％ＲＨの高
温・高湿の条件下に1000時間放置後、着色、クラック等
のおかされを評価した。
×10cmの大きさに裁断し、80℃90％ＲＨの空気に置換さ
れた容量1000mlのビンに入れて密封し80℃90％ＲＨの高
温・高湿の条件下に1000時間放置後、着色、クラック等
のおかされを評価した。
【００４５】○：殆ど変化なし透明シート状 △：茶色の着色がおこるシート状 ×：茶色に着色、折り曲げると粉状になる 実施例２ 下記のドープ組成物を実施例１と同様な方法で調整し
た。
た。
【００４６】 セルローストリアセテート（酸化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 4重量部 エチルフタリルエチルグリコレート 9重量部 例示化合物１−３ 1.5重量部 メチレンクロライド 550重量部 メタノール 30重量部 n-ブタノール 60重量部 次にこのドープを濾過し、冷却して33℃に保ち２つのド
ラムにはられた回転する長さ６ｍのエンドレスステンレ
スバンド上に位置した図２に記載した第一流延口から均
一に流延し、ついで第二流延口から実施例２に記載した
ドープを仕上がり膜厚80μmに対し、それぞれ80％、20
％に寄与するよう流延溶液量を調整して流延した後、ス
テンレスバンド上から剥離可能になるまで溶媒を蒸発
後、ステンレスバンドから剥離し、多数のロールで搬送
させながら乾燥を終了させ膜厚80μmのフィルムを得
た。
ラムにはられた回転する長さ６ｍのエンドレスステンレ
スバンド上に位置した図２に記載した第一流延口から均
一に流延し、ついで第二流延口から実施例２に記載した
ドープを仕上がり膜厚80μmに対し、それぞれ80％、20
％に寄与するよう流延溶液量を調整して流延した後、ス
テンレスバンド上から剥離可能になるまで溶媒を蒸発
後、ステンレスバンドから剥離し、多数のロールで搬送
させながら乾燥を終了させ膜厚80μmのフィルムを得
た。
【００４７】このようにして得られたセルローストリア
セテートフィルムを、実施例１と同様な方法で評価し
た。
セテートフィルムを、実施例１と同様な方法で評価し
た。
【００４８】評価結果を表１に示した。
【００４９】実施例３ 下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同様な方法で
膜厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを得
た。
膜厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを得
た。
【００５０】 セルローストリアセテート（酸化度61.0％） 100重量部 エチルフタリルエチルグリコレート 12重量部 例示化合物１−５ 2重量部 メチレンクロライド 430重量部 メタノール 90重量部 このようにして得られたセルロースアセテートフィルム
を実施例１と同様な方法で評価した。
を実施例１と同様な方法で評価した。
【００５１】評価結果を表１に示した。
【００５２】比較例１ 下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方法で膜
厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを得た。
厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを得た。
【００５３】 セルローストリアセテート（酸化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 8重量部 エチルフタリルエチルグリコレート 6重量部 例示化合物１−３ 1重量部 例示化合物１−７ 1重量部 メチレンクロライド 430重量部 メタノール 90重量部 このようにして得られたセルローストリアセテートフィ
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。
【００５４】評価結果を表１に示した。
【００５５】比較例２ 紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系の下記化合物を添
加し、下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方
法で膜厚80μmのトリアセテートフィルムを得た。
加し、下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方
法で膜厚80μmのトリアセテートフィルムを得た。
【００５６】 セルローストリアセテート（酸化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 4重量部 エチルフタリルエチルグリコレート 9重量部 紫外線吸収剤（下記化合物２−１） 1.1重量部 メチレンクロライド 430重量部 メタノール 90重量部 このようにして得られたセルローストリアセテートフィ
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
【００５７】比較例３ 紫外線吸収剤としてはベンゾフェノン系の下記化合物を
添加し、下記ドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方
法で膜厚80μmのトリアセテートフィルムを得た。
添加し、下記ドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方
法で膜厚80μmのトリアセテートフィルムを得た。
【００５８】 セルローストリアセテート（酸化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 13重量部 紫外線吸収剤（下記化合物２−２） 1.2重量部 メチレンクロライド 430重量部 メタノール 90重量部 このようにして得られたセルローストリアセテートフィ
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
【００５９】比較例４ 下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方法で膜
厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを得た。
厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを得た。
【００６０】 セルローストリアセテート（酢化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 9重量部 エチルフタリルエチレングリコレート 16.5重量部 例示化合物１−５ 1.6重量部 メチレンクロライド 430重量部 メタノール 90重量部 このようにして得られたセルローストリアセテートフィ
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
【００６１】比較例５ 下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方法で膜
厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを得た。
厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを得た。
【００６２】 セルローストリアセテート（酢化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 20重量部 エチルフタリルエチルグリコレート 10重量部 例示化合物１−５ 2重量部 メチレンクロライド 430重量部 メタノール 90重量部 このようにして得られたセルローストリアセテートフィ
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
【００６３】比較例６ 紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系の下記化合物を添
加し、下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方
法で膜厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを
得た。
加し、下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方
法で膜厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを
得た。
【００６４】 セルローストリアセテート（酢化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 9重量部 エチルフタリルエチルグリコレート 16重量部 例示化合物（下記化合物２−１） 1.5重量部 このようにして得られたセルローストリアセテートフィ
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
ルムを実施例１と同様な方法で評価した。評価結果を表
１に示した。
【００６５】比較例７ 紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系の下記化合物を添
加し、下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方
法で膜厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを
得た。
加し、下記のドープ組成物を調整し、実施例１と同じ方
法で膜厚80μmのセルローストリアセテートフィルムを
得た。
【００６６】 セルローストリアセテート（酢化度61.0％） 100重量部 トリフェニルホスフェート 22重量部 例示化合物（下記化合物２−１） 1.5重量部 このようにして得られたセルローストリアセテートフィ
ルムを実施例１と同じ方法で評価した。評価結果を表１
に示した。
ルムを実施例１と同じ方法で評価した。評価結果を表１
に示した。
【００６７】
【化３】
【００６８】分光吸収特性の一部を図１に示した。
【００６９】図中（１）は実施例１の試料を23℃、55％
ＲＨで1000時間放置後の，（２）は実施例１の試料を80
℃、90％ＲＨで1000時間放置後の，（３）は比較例１の
試料を23℃、55℃ＲＨで1000時間放置後の，（４）は比
較例１の試料を80℃、90℃ＲＨで1000時間放置後のフィ
ルムの分光吸収特性である。
ＲＨで1000時間放置後の，（２）は実施例１の試料を80
℃、90％ＲＨで1000時間放置後の，（３）は比較例１の
試料を23℃、55℃ＲＨで1000時間放置後の，（４）は比
較例１の試料を80℃、90℃ＲＨで1000時間放置後のフィ
ルムの分光吸収特性である。
【００７０】
【表１】
【００７１】表から判るように、本発明の方法によって
得られたセルロースエステルフィルムは苛酷な条件下に
おいても着色したりフィルム変形がなく、かつ偏光板と
しても苛酷な雰囲気下に長時間おかれても偏光膜フィル
ムとの接着性の劣化がないことが判る。
得られたセルロースエステルフィルムは苛酷な条件下に
おいても着色したりフィルム変形がなく、かつ偏光板と
しても苛酷な雰囲気下に長時間おかれても偏光膜フィル
ムとの接着性の劣化がないことが判る。
【００７２】
【発明の効果】本発明の方法によると、苛酷な高温、高
湿条件下に長時間放置されても、（１）ＵＶ吸収性能が
劣化しない、（２）分光吸収特性の劣化がない、（３）
変色、クラック等の変質が起こらない、（４）偏光膜と
保護フィルムとの接着性の劣化がない等の高耐久性を有
した偏光板用保護フィルムとして優れたセルロースエス
テルフィルムが得られた。
湿条件下に長時間放置されても、（１）ＵＶ吸収性能が
劣化しない、（２）分光吸収特性の劣化がない、（３）
変色、クラック等の変質が起こらない、（４）偏光膜と
保護フィルムとの接着性の劣化がない等の高耐久性を有
した偏光板用保護フィルムとして優れたセルロースエス
テルフィルムが得られた。
【図１】常温及び高湿、高温条件下に1000時間放置後の
フィルムの分光吸収特性を示す図。
フィルムの分光吸収特性を示す図。
【図２】実施例２で用いた製膜機の断面図。
１ 第一流延口 ２ エンドレスステンレスバンド ３ 第二流延口 ４ 剥離位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−130226（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−148430（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−123807（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−235819（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 5/30
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式〔１〕で示されるベンゾトリ
アゾール系化合物の少なくとも１種及びセルロースエス
テルに対する可塑剤の量が20重量％以内であり、且つそ
の可塑剤の内、リン酸エステル系可塑剤の含有量が40重
量％以下の可塑剤を含有することを特徴とするセルロー
スエステルフィルム。 【化１】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同じか又は異な
ってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒド
ロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、
アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、モノ又はジアルキルア
ミノ基、アシルアミノ基又は５〜６員の複素環基を表
し、Ｒ4とＲ5は閉環して５〜６員の炭素環を形成しても
よい。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16222594A JP3341134B2 (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | セルロースエステルフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16222594A JP3341134B2 (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | セルロースエステルフィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0829619A JPH0829619A (ja) | 1996-02-02 |
| JP3341134B2 true JP3341134B2 (ja) | 2002-11-05 |
Family
ID=15750355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16222594A Expired - Lifetime JP3341134B2 (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | セルロースエステルフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3341134B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3994617B2 (ja) * | 2000-03-28 | 2007-10-24 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP4513181B2 (ja) * | 2000-07-19 | 2010-07-28 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 光学フィルム、偏光板及び表示装置 |
| JP4686846B2 (ja) * | 2000-11-07 | 2011-05-25 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 偏光板用保護フィルム及びそれを用いた偏光板並びに表示装置 |
| JP2003026668A (ja) * | 2001-05-07 | 2003-01-29 | Konica Corp | ベンゾトリアゾール、紫外線吸収剤、光学フィルム、その製造方法、及びそれを用いた偏光板、並びに表示装置 |
| JP2003033931A (ja) | 2001-07-26 | 2003-02-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | セルロースアシレートフイルム及び製膜方法 |
| JP5588626B2 (ja) | 2008-08-04 | 2014-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムおよび液晶表示装置 |
| JP2014185286A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Nitto Denko Corp | ベンゾトリアゾール構造を有する発色団およびそれを用いた波長変換発光媒体 |
-
1994
- 1994-07-14 JP JP16222594A patent/JP3341134B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0829619A (ja) | 1996-02-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3358029B2 (ja) | 偏光板用保護フィルム | |
| US7569259B2 (en) | Plasticizer, cellulose ester film, polarizing plate, and liquid crystal display | |
| JP4965563B2 (ja) | 架橋性セルロースエステル組成物およびそれから形成されるフィルム | |
| JPH0996722A (ja) | 偏光板保護膜 | |
| JP2008513836A (ja) | 偏光板に有用な相溶性可塑剤化合物 | |
| JP2003177235A (ja) | Ｕｖフィルター素子 | |
| JP4084431B2 (ja) | 光学用フィルムおよびそれを用いた偏光フィルム | |
| JP2002146044A (ja) | セルロースエステルフィルム及び偏光板用保護フィルム | |
| JPH10237186A (ja) | セルロースエステルフィルム及びその製造方法 | |
| JP3341134B2 (ja) | セルロースエステルフィルム | |
| JP4251736B2 (ja) | セルロースエステルフィルム | |
| KR101634026B1 (ko) | 편광판 및 이것을 사용한 표시 장치 | |
| JPH1192574A (ja) | セルロースエステルフイルム及びその製造方法 | |
| JP2002179819A (ja) | セルロースエステルフィルム、セルロースエステルフィルムの製造方法、光学素子、偏光板用保護フィルム、偏光板、表示装置 | |
| JP3985845B2 (ja) | 光学フィルム、偏光板および液晶表示装置 | |
| JP2001122980A (ja) | セルロースエステルフィルム、偏光板用保護フィルム及び液晶表示用部材 | |
| JPH10152568A (ja) | セルロースエステルフィルム及び液晶表示用部材 | |
| JP4265775B2 (ja) | 光学フィルム用添加剤、それを含む光学フィルム、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 | |
| JP3517788B2 (ja) | セルロースエステルフィルム | |
| JP2001187825A (ja) | セルロースエステルフィルム、光学フィルムおよびその製造方法 | |
| JP2008144174A (ja) | 光学フイルムおよびその製造方法 | |
| US20020160172A1 (en) | Protective film of a polarizing plate | |
| JP3326607B2 (ja) | セルロースエステルフィルム | |
| JP2000009931A (ja) | 偏光板用保護フィルム | |
| JP2001154017A (ja) | 光学フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070823 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080823 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090823 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090823 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100823 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100823 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110823 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110823 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120823 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130823 Year of fee payment: 11 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |