JP2003033931A - セルロースアシレートフイルム及び製膜方法 - Google Patents
セルロースアシレートフイルム及び製膜方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 製膜されたフイルム中の残留溶剤量を、規定
値内に収めることで、フイルムの熱収縮を起こりにくく
する。 【解決手段】 酢酸メチル８０重量部，アセトン１０重
量部，エタノール１０重量部の混合溶液にセルロースト
リアセテートなどを溶解してドープを調整した。ドープ
を流延ダイ２２から流延バンド上に流延した。バンドゾ
ーン１１で、１２０℃で１０分間、ローラ２６で搬送し
ながら乾燥した。さらに、乾燥ゾーン１２で１４５℃，
１５分間乾燥してセルロースアセテートフイルムを得
た。このフイルムの残留溶剤量は、０．４重量％，熱収
縮率は、０．４％であり、製品に使用できる規定値に収
まった。回収された溶剤３１，３７を更にドープの調整
に使用しても、同様の結果が得られた。
値内に収めることで、フイルムの熱収縮を起こりにくく
する。 【解決手段】 酢酸メチル８０重量部，アセトン１０重
量部，エタノール１０重量部の混合溶液にセルロースト
リアセテートなどを溶解してドープを調整した。ドープ
を流延ダイ２２から流延バンド上に流延した。バンドゾ
ーン１１で、１２０℃で１０分間、ローラ２６で搬送し
ながら乾燥した。さらに、乾燥ゾーン１２で１４５℃，
１５分間乾燥してセルロースアセテートフイルムを得
た。このフイルムの残留溶剤量は、０．４重量％，熱収
縮率は、０．４％であり、製品に使用できる規定値に収
まった。回収された溶剤３１，３７を更にドープの調整
に使用しても、同様の結果が得られた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、セルロースアシレ
ートフイルム及びこのセルロースアシレートフイルムか
ら製造された偏光板，液晶表示装置並びに製膜方法に関
する。
ートフイルム及びこのセルロースアシレートフイルムか
ら製造された偏光板，液晶表示装置並びに製膜方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】セルロースアシレート、特に５７．５な
いし６２．５％の平均酢化度を有するセルロースアセテ
ートは、その強靭性と難燃性から、フイルムの形状にし
て写真感光材料の支持体として利用されている。セルロ
ースアシレートフイルムは、光学的等方性に優れている
ことから、近年市場の拡大している液晶表示装置の偏光
板の保護フイルムおよびカラーフィルターの用途に適し
ている。
いし６２．５％の平均酢化度を有するセルロースアセテ
ートは、その強靭性と難燃性から、フイルムの形状にし
て写真感光材料の支持体として利用されている。セルロ
ースアシレートフイルムは、光学的等方性に優れている
ことから、近年市場の拡大している液晶表示装置の偏光
板の保護フイルムおよびカラーフィルターの用途に適し
ている。
【０００３】一般に、セルロースアシレートフイルムの
製造方法は、溶液製膜法により行なわれている。溶液製
膜法は、メルトキャスト法などの他の製造方法と比較し
て、光学的性質や物性が優れたフイルムを製造すること
ができる。溶液製膜法は、始めに、セルロースアシレー
トを溶剤中に溶解した溶液（以下、ドープと称する）を
調整する。次に、ドープを、ドラムやスチールバンドな
どの支持体上に流延した後、溶剤を蒸発させて、フイル
ムを形成する方法である。特に、セルロースアシレート
を原料に使用した場合、そのドープの調製には、塩化メ
チレンなどのハロゲン化炭化水素などが溶剤として用い
られている。
製造方法は、溶液製膜法により行なわれている。溶液製
膜法は、メルトキャスト法などの他の製造方法と比較し
て、光学的性質や物性が優れたフイルムを製造すること
ができる。溶液製膜法は、始めに、セルロースアシレー
トを溶剤中に溶解した溶液（以下、ドープと称する）を
調整する。次に、ドープを、ドラムやスチールバンドな
どの支持体上に流延した後、溶剤を蒸発させて、フイル
ムを形成する方法である。特に、セルロースアシレート
を原料に使用した場合、そのドープの調製には、塩化メ
チレンなどのハロゲン化炭化水素などが溶剤として用い
られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
塩化メチレンなどハロゲン化炭化水素は、その揮発性有
機物として環境上大きな問題となり、使用量の減少が求
められている。そこで、酢酸メチル，ケトン類など代替
溶剤を用いて極低温または高温で、セルロースアシレー
トを溶解する方法が提案されている。さらに、セルロー
スアシレートを溶解する際に、高圧下で行う方法も提案
されている。また、環状エーテルなどの代替溶剤で製膜
することも提案されているが、その引火性や分解性など
のために実用プロセスとしては問題が多い。
塩化メチレンなどハロゲン化炭化水素は、その揮発性有
機物として環境上大きな問題となり、使用量の減少が求
められている。そこで、酢酸メチル，ケトン類など代替
溶剤を用いて極低温または高温で、セルロースアシレー
トを溶解する方法が提案されている。さらに、セルロー
スアシレートを溶解する際に、高圧下で行う方法も提案
されている。また、環状エーテルなどの代替溶剤で製膜
することも提案されているが、その引火性や分解性など
のために実用プロセスとしては問題が多い。
【０００５】ケトン類などを代替溶剤にする場合には、
最終製品の熱収縮などの性能を規定値以内にする必要が
ある。例えば、残存溶剤量が多いと、熱収縮が起こり易
く、製品の品質に問題が生じる。また、フイルムに残存
している溶剤が、完全に揮発して、フイルムが乾固する
と、フイルムに柔軟性が無くなり、裂けたり切れやすく
なる。
最終製品の熱収縮などの性能を規定値以内にする必要が
ある。例えば、残存溶剤量が多いと、熱収縮が起こり易
く、製品の品質に問題が生じる。また、フイルムに残存
している溶剤が、完全に揮発して、フイルムが乾固する
と、フイルムに柔軟性が無くなり、裂けたり切れやすく
なる。
【０００６】さらには、酢酸メチルなどから分解される
酢酸などの酸成分が、フイルムに残留した場合には、耐
久性を著しく損ねる問題をも生じる。また、乾燥工程な
どで蒸発した酸分には製造装置の腐食などを引き起こす
問題も生じる。
酢酸などの酸成分が、フイルムに残留した場合には、耐
久性を著しく損ねる問題をも生じる。また、乾燥工程な
どで蒸発した酸分には製造装置の腐食などを引き起こす
問題も生じる。
【０００７】本発明は、製膜されたフイルム中の残留溶
剤量を規定値内に収めることで、フイルムの熱収縮が起
こりにくいセルロースアシレートフイルム及びこのフイ
ルムを用いた偏光板，液晶表示装置並びにそのフイルム
の溶液製膜方法を提供することを目的とする。
剤量を規定値内に収めることで、フイルムの熱収縮が起
こりにくいセルロースアシレートフイルム及びこのフイ
ルムを用いた偏光板，液晶表示装置並びにそのフイルム
の溶液製膜方法を提供することを目的とする。
【０００８】また、本発明は、溶剤を回収した後に再利
用することにより、その使用量を減らしたセルロースア
シレートフイルムの製膜方法及びその製膜方法により得
られるフイルム並びにこのフイルムを用いた偏光板，液
晶表示装置を提供することを目的とする。
用することにより、その使用量を減らしたセルロースア
シレートフイルムの製膜方法及びその製膜方法により得
られるフイルム並びにこのフイルムを用いた偏光板，液
晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のセルロースアシレートフイルムは、ケトン
類，エステル類のうちの少なくとも１つを主溶剤として
製膜したセルロースアシレートフイルムにおいて、溶剤
乾燥後の溶剤合計残留量が０．１ないし０．６重量％と
している。また、前記溶剤合計残留量は、０．１ないし
０．４重量％であることがより好ましい。
に、本発明のセルロースアシレートフイルムは、ケトン
類，エステル類のうちの少なくとも１つを主溶剤として
製膜したセルロースアシレートフイルムにおいて、溶剤
乾燥後の溶剤合計残留量が０．１ないし０．６重量％と
している。また、前記溶剤合計残留量は、０．１ないし
０．４重量％であることがより好ましい。
【００１０】合計残留溶剤量が０．６重量％を超える
と、高温条件下においてセルロースアシレートフイルム
の大幅な収縮が起こる。このようなセルロースアシレー
トフイルムを用いて偏光板保護膜を製造すると、その偏
光板保護膜が高温条件下で大幅に収縮するため液晶表示
装置に反りが生じ、画像に問題（例えば、画像の周囲の
色相が変化する額縁ムラ）が発生する。また、液晶表示
装置の製造においても若干の温度変化は避けられないた
め、温度変化に伴う偏光板保護膜の寸法の変化を吸収す
るように比較的軟らかい粘着剤を使用する必要がある。
しかし、軟らかい粘着剤を使用すると、液晶表示装置の
裁断時に、粘着剤が切断面からはみ出す問題が生じる。
以上の問題を回避するため、偏光板保護膜には、透明性
と低複屈折率に加えて、温度変化に対する寸度安定性も
要求されるようになった。そこで、偏光板保護膜に用い
られるセルロースアシレートフイルムの溶剤合計残留量
が０．１ないし０．６重量％であることが好ましい。
と、高温条件下においてセルロースアシレートフイルム
の大幅な収縮が起こる。このようなセルロースアシレー
トフイルムを用いて偏光板保護膜を製造すると、その偏
光板保護膜が高温条件下で大幅に収縮するため液晶表示
装置に反りが生じ、画像に問題（例えば、画像の周囲の
色相が変化する額縁ムラ）が発生する。また、液晶表示
装置の製造においても若干の温度変化は避けられないた
め、温度変化に伴う偏光板保護膜の寸法の変化を吸収す
るように比較的軟らかい粘着剤を使用する必要がある。
しかし、軟らかい粘着剤を使用すると、液晶表示装置の
裁断時に、粘着剤が切断面からはみ出す問題が生じる。
以上の問題を回避するため、偏光板保護膜には、透明性
と低複屈折率に加えて、温度変化に対する寸度安定性も
要求されるようになった。そこで、偏光板保護膜に用い
られるセルロースアシレートフイルムの溶剤合計残留量
が０．１ないし０．６重量％であることが好ましい。
【００１１】ケトン類とエステル類とを溶剤として製膜
したセルロースアシレートフイルムにおいて、前記ケト
ン類の溶剤残留量が０ないし０．３重量％であることが
好ましい。ケトン類の溶剤残留量が０．３重量％を超え
ると、偏光素子の変色を起こし、フイルムから偏光板を
作成した際に、偏光板の性能上致命的な問題になる。
したセルロースアシレートフイルムにおいて、前記ケト
ン類の溶剤残留量が０ないし０．３重量％であることが
好ましい。ケトン類の溶剤残留量が０．３重量％を超え
ると、偏光素子の変色を起こし、フイルムから偏光板を
作成した際に、偏光板の性能上致命的な問題になる。
【００１２】本発明のセルロースアシレートフイルム
は、遊離酸分の残留量が５００ｐｐｍ以下であることが
好ましい。また、セルロースアシレートフイルムのカル
ボン酸の残留量が５００ｐｐｍ以下であることが好まし
い。前記カルボン酸は、酢酸であっても良い。カルボン
酸などの遊離酸の残留量が５００ｐｐｍを超えると、セ
ルロースアシレートフイルムの加水分解が促進され、こ
のフイルムを用いた偏光板は、高温高湿化において変
色、変形が起こり性能上致命的な問題になる。
は、遊離酸分の残留量が５００ｐｐｍ以下であることが
好ましい。また、セルロースアシレートフイルムのカル
ボン酸の残留量が５００ｐｐｍ以下であることが好まし
い。前記カルボン酸は、酢酸であっても良い。カルボン
酸などの遊離酸の残留量が５００ｐｐｍを超えると、セ
ルロースアシレートフイルムの加水分解が促進され、こ
のフイルムを用いた偏光板は、高温高湿化において変
色、変形が起こり性能上致命的な問題になる。
【００１３】また、使用溶剤中の８０重量％以上が製膜
工程において回収再使用された溶剤であることが好まし
い。この場合において、前記使用溶剤中の酢酸の残留量
が１０ｐｐｍ以下であることが好ましい。
工程において回収再使用された溶剤であることが好まし
い。この場合において、前記使用溶剤中の酢酸の残留量
が１０ｐｐｍ以下であることが好ましい。
【００１４】一般的に、溶液製膜法においては、多量の
有機溶剤を使用するが、乾燥後の溶剤ガスを大気排出す
ることは環境汚染につながり、好ましくない。また、新
規原料の購入も必要になり、原料コストも増大にもつな
がる。溶液製膜工程からの溶剤排出ガスの８０％は、１
０００ｐｐｍを超える高濃度ガスであり、溶剤回収は比
較的容易である。また、残り２０％も１０００ｐｐｍ未
満の希薄ガスとなるが、回収可能である。溶剤回収方法
には、冷却凝縮回収や、活性炭、ゼオライト、シリカゲ
ルなどの吸着材による回収方法がある。また、希薄ガス
に対しては、燃焼による無害化も用いられる。
有機溶剤を使用するが、乾燥後の溶剤ガスを大気排出す
ることは環境汚染につながり、好ましくない。また、新
規原料の購入も必要になり、原料コストも増大にもつな
がる。溶液製膜工程からの溶剤排出ガスの８０％は、１
０００ｐｐｍを超える高濃度ガスであり、溶剤回収は比
較的容易である。また、残り２０％も１０００ｐｐｍ未
満の希薄ガスとなるが、回収可能である。溶剤回収方法
には、冷却凝縮回収や、活性炭、ゼオライト、シリカゲ
ルなどの吸着材による回収方法がある。また、希薄ガス
に対しては、燃焼による無害化も用いられる。
【００１５】また、使用溶剤中の酢酸などの遊離酸残留
量が１００ｐｐｍを超えると、セルロースアシレートを
溶解する工程において、６０〜２００℃の高温を受けた
り、タンク内に１時間ないし１５０時間といった長期間
保管されることにより、溶剤およびセルロースアシレー
トの加水分解やエステル交換が促進され、フイルムの物
理特性や光学特性を損なうことになる。
量が１００ｐｐｍを超えると、セルロースアシレートを
溶解する工程において、６０〜２００℃の高温を受けた
り、タンク内に１時間ないし１５０時間といった長期間
保管されることにより、溶剤およびセルロースアシレー
トの加水分解やエステル交換が促進され、フイルムの物
理特性や光学特性を損なうことになる。
【００１６】また、本発明のセルロースアシレートが、
セルロースアセテートであることが好ましい。そのセル
ロースアセテートの酢化度が５７．５ないし６２．５％
であることがより好ましい。
セルロースアセテートであることが好ましい。そのセル
ロースアセテートの酢化度が５７．５ないし６２．５％
であることがより好ましい。
【００１７】前記セルロースアシレートを溶解する主溶
剤が、酢酸メチル，アセトン，ジオキソランのうちの少
なくとも１つであることが好ましい。また、この溶剤に
は、さらに、炭素数１ないし６のアルコール，ケトン，
エステル，エーテルのうち少なくとも１つを補助溶剤と
して含むものが好ましい。
剤が、酢酸メチル，アセトン，ジオキソランのうちの少
なくとも１つであることが好ましい。また、この溶剤に
は、さらに、炭素数１ないし６のアルコール，ケトン，
エステル，エーテルのうち少なくとも１つを補助溶剤と
して含むものが好ましい。
【００１８】前記セルロースアシレートを溶解する際
に、前記セルロースアシレートに対して疎水性可塑剤を
１ないし２０重量％を含むものが好ましい。また、前記
セルロースアシレートに対して紫外線吸収剤を０．１な
いし５重量％を含むものも好ましい。
に、前記セルロースアシレートに対して疎水性可塑剤を
１ないし２０重量％を含むものが好ましい。また、前記
セルロースアシレートに対して紫外線吸収剤を０．１な
いし５重量％を含むものも好ましい。
【００１９】また、本発明には、前記セルロースアシレ
ートフイルムを溶液製膜法により製造する製膜方法も含
まれる。そして、前記溶剤量が２００ないし１０重量％
のときには、フイルム温度０をないし１３０℃として１
ないし２０分間乾燥することが好ましい。また、前記溶
剤量が１０重量％以下のときには、フイルム温度を１０
０ないし１４５℃として１ないし１２０分間乾燥するこ
とが好ましい。
ートフイルムを溶液製膜法により製造する製膜方法も含
まれる。そして、前記溶剤量が２００ないし１０重量％
のときには、フイルム温度０をないし１３０℃として１
ないし２０分間乾燥することが好ましい。また、前記溶
剤量が１０重量％以下のときには、フイルム温度を１０
０ないし１４５℃として１ないし１２０分間乾燥するこ
とが好ましい。
【００２０】前記溶剤量が、２００ないし１０重量％の
ときは、乾燥のためフイルム温度を１３０℃を超える高
温まで上昇させると、急激な溶剤蒸発によりフイルム内
に気泡が発生し、フイルム搬送不安定および製品品質の
悪化をもたらす。また、０℃未満では、乾燥が非常に遅
く生産効率を著しく悪化させる。前記溶剤量が１０重量
％以下のときは、フイルム温度を１００℃以上にし乾燥
を促進することが生産効率上好ましい。また、フイルム
温度が１４５℃を超えると、フイルムが軟化し、安定な
ハンドリングが不可能になるため好ましくない。
ときは、乾燥のためフイルム温度を１３０℃を超える高
温まで上昇させると、急激な溶剤蒸発によりフイルム内
に気泡が発生し、フイルム搬送不安定および製品品質の
悪化をもたらす。また、０℃未満では、乾燥が非常に遅
く生産効率を著しく悪化させる。前記溶剤量が１０重量
％以下のときは、フイルム温度を１００℃以上にし乾燥
を促進することが生産効率上好ましい。また、フイルム
温度が１４５℃を超えると、フイルムが軟化し、安定な
ハンドリングが不可能になるため好ましくない。
【００２１】前記いずれかの製膜方法において、流延工
程で少なくとも１種類のセルロースアシレートを含む２
種類以上のセルロースアシレート溶液を共流延する製膜
方法も本発明に含まれる。
程で少なくとも１種類のセルロースアシレートを含む２
種類以上のセルロースアシレート溶液を共流延する製膜
方法も本発明に含まれる。
【００２２】前記いずれかの溶液製膜方法により製造さ
れたセルロースアシレートフイルムを用いて構成された
偏光板または液晶表示装置も本発明には含まれる。
れたセルロースアシレートフイルムを用いて構成された
偏光板または液晶表示装置も本発明には含まれる。
【００２３】
【発明の実施の形態】［セルロースアシレート］本発明
は、セルロースアシレートが使用され、特に、セルロー
スアセテートを使用することが好ましい。このセルロー
スアセテートは、その平均酢化度が５７．５ないし６
２．５％のセルロースアセテートを使用することができ
る。また、酢化度とは、セルロース単位重量当りの結合
酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−
９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるア
セチル化度の測定および計算に従う。本発明では、セル
ロースアシレート粒子を使用し、使用する粒子の９０重
量％以上が０．１ないし４ｍｍの粒子径、好ましくは１
ないし４ｍｍを有する。また、好ましくは９５重量％以
上、より好ましくは９７重量％以上、さらに好ましくは
９８重量％以上、最も好ましくは９９重量％以上の粒子
が０．１ないし４ｍｍの粒子径を有する。さらに、使用
する粒子の５０重量％以上が２ないし３ｍｍの粒子径を
有することが好ましい。より好ましくは７０重量％以
上、さらに好ましくは８０重量％以上、最も好ましくは
９０重量％以上の粒子が２ないし３ｍｍの粒子径を有す
る。セルロースアシレートの粒子形状は、なるべく球形
に近い形状を有することが好ましい。
は、セルロースアシレートが使用され、特に、セルロー
スアセテートを使用することが好ましい。このセルロー
スアセテートは、その平均酢化度が５７．５ないし６
２．５％のセルロースアセテートを使用することができ
る。また、酢化度とは、セルロース単位重量当りの結合
酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−
９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるア
セチル化度の測定および計算に従う。本発明では、セル
ロースアシレート粒子を使用し、使用する粒子の９０重
量％以上が０．１ないし４ｍｍの粒子径、好ましくは１
ないし４ｍｍを有する。また、好ましくは９５重量％以
上、より好ましくは９７重量％以上、さらに好ましくは
９８重量％以上、最も好ましくは９９重量％以上の粒子
が０．１ないし４ｍｍの粒子径を有する。さらに、使用
する粒子の５０重量％以上が２ないし３ｍｍの粒子径を
有することが好ましい。より好ましくは７０重量％以
上、さらに好ましくは８０重量％以上、最も好ましくは
９０重量％以上の粒子が２ないし３ｍｍの粒子径を有す
る。セルロースアシレートの粒子形状は、なるべく球形
に近い形状を有することが好ましい。
【００２４】［溶剤］本発明に用いる溶剤としては、エ
ステル，ケトン，エーテルなどがある。溶剤は、市販品
の純度であれば、特に制限される要因はない。溶剤は、
単独（１００重量％）で使用しても良いし、炭素数１な
いし６のアルコール，ケトン，エステル，エーテルを混
合して使用するものでもよい。使用できる溶剤の例に
は、エステル類（例えば、酢酸メチル，メチルホルメー
ト，エチルアセテート，アミルアセテート，ブチルアセ
テートなど）、ケトン類（例えば、アセトン，メチルエ
チルケトン，シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例
えば、ジオキサン，ジオキソラン，テトラヒドロフラ
ン，ジエチルエーテル，メチル−ｔ−ブチルエーテルな
ど）である。
ステル，ケトン，エーテルなどがある。溶剤は、市販品
の純度であれば、特に制限される要因はない。溶剤は、
単独（１００重量％）で使用しても良いし、炭素数１な
いし６のアルコール，ケトン，エステル，エーテルを混
合して使用するものでもよい。使用できる溶剤の例に
は、エステル類（例えば、酢酸メチル，メチルホルメー
ト，エチルアセテート，アミルアセテート，ブチルアセ
テートなど）、ケトン類（例えば、アセトン，メチルエ
チルケトン，シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例
えば、ジオキサン，ジオキソラン，テトラヒドロフラ
ン，ジエチルエーテル，メチル−ｔ−ブチルエーテルな
ど）である。
【００２５】［添加剤］本発明で用いる添加剤として
は、可塑剤，紫外線吸収剤などがある。可塑剤として
は、リン酸エステル系（例えば、トリフェニルホスフェ
ート，トリクレジルホスフェート，クレジルジフェニル
ホスフェート，オクチルジフェニルホスフェート，ジフ
ェニルビフェニルホスフェート，トリオクチルホスフェ
ート，トリブチルホスフェートなど）、フタル酸エステ
ル系（例えば、ジエチルフタレート，ジメトキシエチル
フタレート，ジメチルフタレート，ジオクチルフタレー
トなど）、グリコール酸エステル系（例えば、トリアセ
チン，トリブチリン，ブチルフタリルブチルグリコレー
ト，エチルフタリルエチルグリコレート，メチルフタリ
ルエチルグリコレート，ブチルフタリルブチルグリコレ
ートなど）およびその他の可塑剤を用いることができ
る。これら添加剤は単独使用または併用してよい。さら
に、特開平１１−８０３８１号公報、同１１−１２４４
４５号公報、同１１−２４８９４０号公報に記載されて
いる可塑剤も添加することができる。望ましくは、疎水
性可塑剤を、１ないし２０重量％をフイルム中に含むよ
うに調製することが望ましい。
は、可塑剤，紫外線吸収剤などがある。可塑剤として
は、リン酸エステル系（例えば、トリフェニルホスフェ
ート，トリクレジルホスフェート，クレジルジフェニル
ホスフェート，オクチルジフェニルホスフェート，ジフ
ェニルビフェニルホスフェート，トリオクチルホスフェ
ート，トリブチルホスフェートなど）、フタル酸エステ
ル系（例えば、ジエチルフタレート，ジメトキシエチル
フタレート，ジメチルフタレート，ジオクチルフタレー
トなど）、グリコール酸エステル系（例えば、トリアセ
チン，トリブチリン，ブチルフタリルブチルグリコレー
ト，エチルフタリルエチルグリコレート，メチルフタリ
ルエチルグリコレート，ブチルフタリルブチルグリコレ
ートなど）およびその他の可塑剤を用いることができ
る。これら添加剤は単独使用または併用してよい。さら
に、特開平１１−８０３８１号公報、同１１−１２４４
４５号公報、同１１−２４８９４０号公報に記載されて
いる可塑剤も添加することができる。望ましくは、疎水
性可塑剤を、１ないし２０重量％をフイルム中に含むよ
うに調製することが望ましい。
【００２６】ドープには、紫外線吸収剤を添加すること
もできる。特に、好ましくは一種または二種以上の紫外
線吸収剤を含有することである。液晶用紫外線吸収剤
は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の
紫外線の吸収能に優れ、かつ、液晶表示性の観点から、
波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ま
しい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物，ベンゾ
トリアゾール系化合物，サリチル酸エステル系化合物，
ベンゾフェノン系化合物，シアノアクリレート系化合
物，ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。特に好ま
しい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物やベ
ンゾフェノン系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾ
ール系化合物は、セルロースエステルに対する不要な着
色が少ないことから、好ましい。さらには、特開平８−
２９６１９号公報に記載されているベンゾトリアゾール
系の紫外線吸収剤、あるいは同８−２３９５０９号公報
に記載されている紫外線吸収剤も添加することができ
る。その他、公知の紫外線吸収剤を添加しても良い。
もできる。特に、好ましくは一種または二種以上の紫外
線吸収剤を含有することである。液晶用紫外線吸収剤
は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の
紫外線の吸収能に優れ、かつ、液晶表示性の観点から、
波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ま
しい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物，ベンゾ
トリアゾール系化合物，サリチル酸エステル系化合物，
ベンゾフェノン系化合物，シアノアクリレート系化合
物，ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。特に好ま
しい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物やベ
ンゾフェノン系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾ
ール系化合物は、セルロースエステルに対する不要な着
色が少ないことから、好ましい。さらには、特開平８−
２９６１９号公報に記載されているベンゾトリアゾール
系の紫外線吸収剤、あるいは同８−２３９５０９号公報
に記載されている紫外線吸収剤も添加することができ
る。その他、公知の紫外線吸収剤を添加しても良い。
【００２７】好ましい紫外線防止剤として、２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール，ペンタエリスリ
チル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］と、ト
リエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート］と、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート］と、２，４−ビス−（ｎ−オク
チルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジンと、
２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート］と、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
と、Ｎ，Ｎ´−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）
と、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼンと、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト
などが挙げられる。特に、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾールと、ペンタエリスリチル−テトラキ
ス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート］と、トリエチレングリ
コール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］が最も
好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ´−ビス［３−（３，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオニル］ヒドラジンなどのヒドラジン系化合物の金
属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）フォスファイトなどのリン系加工安定剤を併用
してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースア
シレートに対して重量割合で０．１ないし５重量％が好
ましい。
−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール，ペンタエリスリ
チル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］と、ト
リエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート］と、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート］と、２，４−ビス−（ｎ−オク
チルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジンと、
２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート］と、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
と、Ｎ，Ｎ´−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）
と、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼンと、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト
などが挙げられる。特に、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾールと、ペンタエリスリチル−テトラキ
ス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート］と、トリエチレングリ
コール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］が最も
好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ´−ビス［３−（３，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオニル］ヒドラジンなどのヒドラジン系化合物の金
属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）フォスファイトなどのリン系加工安定剤を併用
してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースア
シレートに対して重量割合で０．１ないし５重量％が好
ましい。
【００２８】さらにドープには、必要に応じて種々の添
加剤、例えば、離型剤，剥離促進剤，フッ素系界面活性
剤などを溶液の調整前から調整後のいずれかの段階で添
加してもよい。
加剤、例えば、離型剤，剥離促進剤，フッ素系界面活性
剤などを溶液の調整前から調整後のいずれかの段階で添
加してもよい。
【００２９】［溶液製膜工程］溶液製膜法によるフイル
ムの製膜について、図１を参照して説明する。フイルム
製膜装置１０は、バンドゾーン１１と乾燥ゾーン１２と
から構成されている。ドープを均一に撹拌する撹拌機１
３は、送液器１４とフィルタ１５とを介してフイルム製
膜装置１０に接続している。また、撹拌機１３には、撹
拌棒１６が取り付けられ、撹拌棒１６が回転すること
で、ドープを均一にする。前記セルロースアシレート粒
子と溶剤とを混合し、セルロースアシレート粒子を溶剤
により膨潤させ、ドープを作成する。ドープには、疎水
性可塑剤及び紫外線吸収剤などの添加剤を混合すること
もできる。始めに、ドープを撹拌機１３に注入し、撹拌
棒１６を回転させることで、ドープを均一にしている。
ムの製膜について、図１を参照して説明する。フイルム
製膜装置１０は、バンドゾーン１１と乾燥ゾーン１２と
から構成されている。ドープを均一に撹拌する撹拌機１
３は、送液器１４とフィルタ１５とを介してフイルム製
膜装置１０に接続している。また、撹拌機１３には、撹
拌棒１６が取り付けられ、撹拌棒１６が回転すること
で、ドープを均一にする。前記セルロースアシレート粒
子と溶剤とを混合し、セルロースアシレート粒子を溶剤
により膨潤させ、ドープを作成する。ドープには、疎水
性可塑剤及び紫外線吸収剤などの添加剤を混合すること
もできる。始めに、ドープを撹拌機１３に注入し、撹拌
棒１６を回転させることで、ドープを均一にしている。
【００３０】本発明において、ドープを調整する溶剤に
は、市販品の溶剤に、フイルム製膜装置１０から回収さ
れた溶剤を混合して使用することが出来る。溶剤の回収
については、後述する。この場合、使用する溶剤の８０
重量％以上が、回収溶剤であることが、コスト低減の面
から好ましい。
は、市販品の溶剤に、フイルム製膜装置１０から回収さ
れた溶剤を混合して使用することが出来る。溶剤の回収
については、後述する。この場合、使用する溶剤の８０
重量％以上が、回収溶剤であることが、コスト低減の面
から好ましい。
【００３１】図１において、製膜装置１０のバンドゾー
ン１１には、ローラ２０，２１に掛け渡された流延バン
ド２２が設けられており、この流延バンド２２は、図示
しない駆動装置により回転駆動される。流延バンド２２
の上には、ドープを流延するための流延ダイ２３が設け
られている。流延ダイ２３から、前記ドープを流延バン
ド２２上に流延する。ドープは流延バンド２２に伴い、
移動しながら徐々に乾燥し、フイルム２４が形成され
る。この時、ドープの溶剤は、揮発してガスとなって凝
縮器３０に送り出される。ガスは、凝縮器３０で、凝縮
液化され、液体は、回収溶剤３１として回収される。ま
た、液化しなかったガスは、加熱器３２に送られ、加熱
されて再度バンドゾーン１１に送られる。流延バンド２
２上のフイルム２４は、ローラ２５によって剥ぎ取れ
ら、他の複数ローラ２６に巻き掛けられながら、乾燥ゾ
ーン１２に送られる。
ン１１には、ローラ２０，２１に掛け渡された流延バン
ド２２が設けられており、この流延バンド２２は、図示
しない駆動装置により回転駆動される。流延バンド２２
の上には、ドープを流延するための流延ダイ２３が設け
られている。流延ダイ２３から、前記ドープを流延バン
ド２２上に流延する。ドープは流延バンド２２に伴い、
移動しながら徐々に乾燥し、フイルム２４が形成され
る。この時、ドープの溶剤は、揮発してガスとなって凝
縮器３０に送り出される。ガスは、凝縮器３０で、凝縮
液化され、液体は、回収溶剤３１として回収される。ま
た、液化しなかったガスは、加熱器３２に送られ、加熱
されて再度バンドゾーン１１に送られる。流延バンド２
２上のフイルム２４は、ローラ２５によって剥ぎ取れ
ら、他の複数ローラ２６に巻き掛けられながら、乾燥ゾ
ーン１２に送られる。
【００３２】バンドゾーン１１内は、溶剤の揮発を促進
するため加熱しておくことが好ましい。フイルム２４中
の溶剤量がセルロースアシレートに対して２００ないし
１０重量％であるときには、フイルムの温度を０ないし
１３０℃として１ないし２０分間乾燥する。この条件範
囲を外れて、溶剤の揮発がゆっくり行なわれるとコスト
の面から不利になる。また、急激に溶剤が揮発される
と、フイルム２４が変形，変質するために好ましくな
い。なお、フイルムの温度は、応答の速い熱電対などを
用いた接触式の温度計あるいは、赤外線を検知する非接
触式の温度計など公知の温度計を用いて測定できる。
するため加熱しておくことが好ましい。フイルム２４中
の溶剤量がセルロースアシレートに対して２００ないし
１０重量％であるときには、フイルムの温度を０ないし
１３０℃として１ないし２０分間乾燥する。この条件範
囲を外れて、溶剤の揮発がゆっくり行なわれるとコスト
の面から不利になる。また、急激に溶剤が揮発される
と、フイルム２４が変形，変質するために好ましくな
い。なお、フイルムの温度は、応答の速い熱電対などを
用いた接触式の温度計あるいは、赤外線を検知する非接
触式の温度計など公知の温度計を用いて測定できる。
【００３３】図１の乾燥ゾーン１２内で、フイルム２４
は、複数のローラ２７に巻き掛けられ乾燥される。乾燥
ゾーン１２内で、フイルム２４中の溶剤量がセルロース
アシレートに対して１０重量％以下のときに、フイルム
２４の温度が、１００ないし１４５℃になるように調整
され、１ないし１２０分間乾燥する。したがって、フイ
ルム２４に残存している溶剤が徐々に揮発して、フイル
ム２４は乾燥し、溶剤乾燥後の溶剤合計残留量が０．１
ないし０．６重量％になる。
は、複数のローラ２７に巻き掛けられ乾燥される。乾燥
ゾーン１２内で、フイルム２４中の溶剤量がセルロース
アシレートに対して１０重量％以下のときに、フイルム
２４の温度が、１００ないし１４５℃になるように調整
され、１ないし１２０分間乾燥する。したがって、フイ
ルム２４に残存している溶剤が徐々に揮発して、フイル
ム２４は乾燥し、溶剤乾燥後の溶剤合計残留量が０．１
ないし０．６重量％になる。
【００３４】フイルム２４中に残存溶剤量が多いと、偏
光板などに使用している際に、熱収縮し形状が変化し、
好ましくない。また、残存溶剤量が少なすぎると、フイ
ルムの柔軟性が失われフイルムが裂けたり、切れやすく
なるなどの弊害が生じる。このため、溶剤の合計残留量
が０．１ないし０．６重量％であることが好ましい。よ
り好ましくは、０．１ないし０．４重量％であり、最も
好ましくは、０．２ないし０．４重量％である。また、
ドープを調製した溶剤に、ケトン類、エステル類を使用
した場合、ケトン類の溶剤残留量が０．３重量％以下で
あることが好ましい。さらに、ドープを調整した溶剤
に、シクロヘキサノンなどの環状ケトン類を使用した場
合、その残存溶剤量は、０．２重量％以下であることが
好ましい。
光板などに使用している際に、熱収縮し形状が変化し、
好ましくない。また、残存溶剤量が少なすぎると、フイ
ルムの柔軟性が失われフイルムが裂けたり、切れやすく
なるなどの弊害が生じる。このため、溶剤の合計残留量
が０．１ないし０．６重量％であることが好ましい。よ
り好ましくは、０．１ないし０．４重量％であり、最も
好ましくは、０．２ないし０．４重量％である。また、
ドープを調製した溶剤に、ケトン類、エステル類を使用
した場合、ケトン類の溶剤残留量が０．３重量％以下で
あることが好ましい。さらに、ドープを調整した溶剤
に、シクロヘキサノンなどの環状ケトン類を使用した場
合、その残存溶剤量は、０．２重量％以下であることが
好ましい。
【００３５】さらに、フイルム２４中の酸分の残存量
が、５００ｐｐｍ以下であることが好ましい。酸分は、
ドープを調整した溶剤にエステル類を使用した場合に、
エステルが分解したものである。例えば、酢酸エチルを
ドープの調整用の溶媒として使用した場合、分解して発
生する酢酸の残存量も５００ｐｐｍ以下であることが好
ましい。
が、５００ｐｐｍ以下であることが好ましい。酸分は、
ドープを調整した溶剤にエステル類を使用した場合に、
エステルが分解したものである。例えば、酢酸エチルを
ドープの調整用の溶媒として使用した場合、分解して発
生する酢酸の残存量も５００ｐｐｍ以下であることが好
ましい。
【００３６】この揮発した溶剤を含んだガスは吸着層３
３によって吸着される。また、吸着されないガス成分
は、加熱器３４によって加熱され、再度乾燥ゾーン１２
に、乾燥風として送り出される。また、吸着層３３に吸
着されたガスは、脱着ガス３５によって、脱着し、凝縮
器３６へ送り出される。凝縮器３６では、吸着物は、凝
縮液化し、液体は回収溶剤３７として、回収される。ま
た、液化しないガス成分は、加熱器３４に送り出され、
再度加熱され、乾燥ゾーン１２に乾燥風として送り出さ
れる。最後に、フイルム２４は、リコイラ２８によって
巻き取られる。このフイルム２４から、偏光板または液
晶表示装置を製造することができる。
３によって吸着される。また、吸着されないガス成分
は、加熱器３４によって加熱され、再度乾燥ゾーン１２
に、乾燥風として送り出される。また、吸着層３３に吸
着されたガスは、脱着ガス３５によって、脱着し、凝縮
器３６へ送り出される。凝縮器３６では、吸着物は、凝
縮液化し、液体は回収溶剤３７として、回収される。ま
た、液化しないガス成分は、加熱器３４に送り出され、
再度加熱され、乾燥ゾーン１２に乾燥風として送り出さ
れる。最後に、フイルム２４は、リコイラ２８によって
巻き取られる。このフイルム２４から、偏光板または液
晶表示装置を製造することができる。
【００３７】本発明において前記回収溶剤３１，３７
は、ドープの調整に再使用することが出来る。例えば、
ドープ調整用の溶剤に酢酸エステルを使用した場合、前
記溶液製膜法において吸着層３３で分解物として酢酸が
生成する。しかしながら、ドープの溶媒に微量の酢酸が
含まれていても、本発明の溶液製膜法には使用が可能で
ある。この場合において、酢酸の量はドープを調整する
溶剤の１００ｐｐｍ以下であることが好ましい。
は、ドープの調整に再使用することが出来る。例えば、
ドープ調整用の溶剤に酢酸エステルを使用した場合、前
記溶液製膜法において吸着層３３で分解物として酢酸が
生成する。しかしながら、ドープの溶媒に微量の酢酸が
含まれていても、本発明の溶液製膜法には使用が可能で
ある。この場合において、酢酸の量はドープを調整する
溶剤の１００ｐｐｍ以下であることが好ましい。
【００３８】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。また、実施
例１において、詳細に説明し、その他の実施例及び比較
例については、実施例１と異なる点についてのみを説明
し、同じ点については省略した。フイルムの評価方法、
各実施例及び比較例のフイルム製膜方法について説明し
た後にフイルムの評価結果を表１から表４に示す。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。また、実施
例１において、詳細に説明し、その他の実施例及び比較
例については、実施例１と異なる点についてのみを説明
し、同じ点については省略した。フイルムの評価方法、
各実施例及び比較例のフイルム製膜方法について説明し
た後にフイルムの評価結果を表１から表４に示す。
【００３９】［熱収縮測定方法］ポリビニルアルコール
を延伸してヨウ素を吸着させた偏光素子の両面にセルロ
ーストリアセテートフイルムをポリビニルアルコール系
接着剤により貼合して、偏光板サンプルを作製した。偏
光板サンプルの両辺に沿って、６ｍｍφの穴を１００ｍ
ｍ間隔に開け、間隔の原寸（Ｌ１）を測定した。偏光板
サンプルを９０℃，５％ＲＨにて１２０時間、加熱し、
熱収縮させた。加熱後、偏光板サンプルの穴間隔の寸法
（Ｌ２）を測定した。偏光板サンプルの熱収縮率は、次
式に基づいて、決定した。 熱収縮率＝｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１００ （％） 熱収縮率が０．５％以下（○）、０．５〜０．６％
（△）、０．７％以上（×）として評価した。
を延伸してヨウ素を吸着させた偏光素子の両面にセルロ
ーストリアセテートフイルムをポリビニルアルコール系
接着剤により貼合して、偏光板サンプルを作製した。偏
光板サンプルの両辺に沿って、６ｍｍφの穴を１００ｍ
ｍ間隔に開け、間隔の原寸（Ｌ１）を測定した。偏光板
サンプルを９０℃，５％ＲＨにて１２０時間、加熱し、
熱収縮させた。加熱後、偏光板サンプルの穴間隔の寸法
（Ｌ２）を測定した。偏光板サンプルの熱収縮率は、次
式に基づいて、決定した。 熱収縮率＝｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１００ （％） 熱収縮率が０．５％以下（○）、０．５〜０．６％
（△）、０．７％以上（×）として評価した。
【００４０】［偏光板の耐久性の評価方法］前記偏光板
サンプルから、偏光度の評価を行った。偏光板サンプル
を６０℃，９０％ＲＨの雰囲気下で５００時間暴露し
た。外観を目視検査し、異常なし（○）、変色や変形が
見られる（×）として評価した。
サンプルから、偏光度の評価を行った。偏光板サンプル
を６０℃，９０％ＲＨの雰囲気下で５００時間暴露し
た。外観を目視検査し、異常なし（○）、変色や変形が
見られる（×）として評価した。
【００４１】［酸分測定方法］フイルムをメチレンクロ
ライドにて溶解したのち、メタノールを加え、再沈殿を
行った。上澄み液を分離し、ＪＩＳ Ｋ１６００ ３．
６に従い、酸分を測定した。
ライドにて溶解したのち、メタノールを加え、再沈殿を
行った。上澄み液を分離し、ＪＩＳ Ｋ１６００ ３．
６に従い、酸分を測定した。
【００４２】［遊離酢酸量測定方法］フイルムをメチレ
ンクロライドにて溶解したのち、メタノールを加え、再
沈殿を行った。上澄み液を分離し、ガスクロマトグラフ
ィーにより測定した。
ンクロライドにて溶解したのち、メタノールを加え、再
沈殿を行った。上澄み液を分離し、ガスクロマトグラフ
ィーにより測定した。
【００４３】［実施例１］酢酸メチル８０重量部、エタ
ノール１５重量部、ブタノール５重量部の混合溶剤にセ
ルローストリアセテート（酢化度５９．５％）１８．５
重量部、トリフェニルホスフェート（以下、ＴＰＰと称
する）１．５重量部を加え、膨潤させた。その後に−７
０℃に冷却し、さらに窒素雰囲気に置換したオートクレ
ーブ内に導入し１６０℃、２．０ＭＰａで１０分間溶解
し、濾過した後に５０℃のドープとし、流延バンド上に
流延した。流延は、乾燥後のフイルム厚みが８０μｍに
なるように行なった。フイルムを流延バンドから剥ぎ取
り、１２０℃にて１０分間乾燥し、さらに１４５℃にて
１５分間乾燥して、残留溶剤量０．４重量％のフイルム
を得た。
ノール１５重量部、ブタノール５重量部の混合溶剤にセ
ルローストリアセテート（酢化度５９．５％）１８．５
重量部、トリフェニルホスフェート（以下、ＴＰＰと称
する）１．５重量部を加え、膨潤させた。その後に−７
０℃に冷却し、さらに窒素雰囲気に置換したオートクレ
ーブ内に導入し１６０℃、２．０ＭＰａで１０分間溶解
し、濾過した後に５０℃のドープとし、流延バンド上に
流延した。流延は、乾燥後のフイルム厚みが８０μｍに
なるように行なった。フイルムを流延バンドから剥ぎ取
り、１２０℃にて１０分間乾燥し、さらに１４５℃にて
１５分間乾燥して、残留溶剤量０．４重量％のフイルム
を得た。
【００４４】［実施例２］実施例１と同じ条件でドープ
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後に１
２０℃にて１０分間乾燥し、さらに１４０℃にて１５分
間乾燥し、残留溶剤量０．６重量％のフイルムを得た。
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後に１
２０℃にて１０分間乾燥し、さらに１４０℃にて１５分
間乾燥し、残留溶剤量０．６重量％のフイルムを得た。
【００４５】［実施例３］酢酸メチル７０重量部、アセ
トン１５重量部、エタノール１５重量部の混合溶剤にセ
ルローストリアセテート（酢化度６０％）２５重量部、
ＴＰＰ１．５重量部を加え、膨潤させた。その後に窒素
雰囲気に置換したオートクレーブ内に導入し１８０℃、
２．０ＭＰａで１０分間溶解し、濾過した後に５０℃の
ドープとし、流延バンド上に流延した。流延は、乾燥後
のフイルム厚みが８０μｍになるように行なった。フイ
ルムを流延バンドから剥ぎ取り、１２０℃にて５分乾燥
し、さらに１４５℃にて１５分乾燥して、アセトン残留
量0 ．2 重量％のフイルムを得た。また、前述した方法
でフイルム中の酸分および酢酸量を測定したところ、い
ずれも１００ｐｐｍであった。
トン１５重量部、エタノール１５重量部の混合溶剤にセ
ルローストリアセテート（酢化度６０％）２５重量部、
ＴＰＰ１．５重量部を加え、膨潤させた。その後に窒素
雰囲気に置換したオートクレーブ内に導入し１８０℃、
２．０ＭＰａで１０分間溶解し、濾過した後に５０℃の
ドープとし、流延バンド上に流延した。流延は、乾燥後
のフイルム厚みが８０μｍになるように行なった。フイ
ルムを流延バンドから剥ぎ取り、１２０℃にて５分乾燥
し、さらに１４５℃にて１５分乾燥して、アセトン残留
量0 ．2 重量％のフイルムを得た。また、前述した方法
でフイルム中の酸分および酢酸量を測定したところ、い
ずれも１００ｐｐｍであった。
【００４６】［実施例４］酢酸メチル７０重量部、シク
ロペンタノン１５重量部、エタノール１５重量部の混合
溶剤にセルローストリアセテート（酢化度６１％）２５
重量部、ＴＰＰ１．５重量部を加え、膨潤させた。その
後に窒素雰囲気に置換したオートクレーブ内に導入し１
８０℃、１．５ＭＰａで１０分間溶解し、濾過した後に
５０℃のドープとし、流延バンド上に流延した。流延
は、乾燥後のフイルム厚みが８０μｍになるように行な
った。フイルムを流延バンドから剥ぎ取り、１２０℃に
て１０分乾燥し、さらに１４５℃にて１２０分乾燥し、
シクロペンタノン残留量０．２重量％のフイルムを得
た。また、前述した方法でフイルム中の酸分および酢酸
量を測定したところ、いずれも１００ｐｐｍであった。
ロペンタノン１５重量部、エタノール１５重量部の混合
溶剤にセルローストリアセテート（酢化度６１％）２５
重量部、ＴＰＰ１．５重量部を加え、膨潤させた。その
後に窒素雰囲気に置換したオートクレーブ内に導入し１
８０℃、１．５ＭＰａで１０分間溶解し、濾過した後に
５０℃のドープとし、流延バンド上に流延した。流延
は、乾燥後のフイルム厚みが８０μｍになるように行な
った。フイルムを流延バンドから剥ぎ取り、１２０℃に
て１０分乾燥し、さらに１４５℃にて１２０分乾燥し、
シクロペンタノン残留量０．２重量％のフイルムを得
た。また、前述した方法でフイルム中の酸分および酢酸
量を測定したところ、いずれも１００ｐｐｍであった。
【００４７】［実施例５］酢酸メチル７０重量部、アセ
トン１５重量部、エタノール１５重量部の混合溶剤にセ
ルローストリアセテート（酢化度６０％）２５重量部、
ＴＰＰ１．５重量部を加え、膨潤させた。その後に窒素
雰囲気に置換したオートクレーブ内に導入し１８０℃、
２．０ＭＰａで１５時間溶解し、濾過した後に５０℃の
ドープとし、流延バンド上に流延した。フイルムを流延
バンドから剥ぎ取り、１２０℃にて５分乾燥し、さらに
１４５℃にて１５分乾燥したところ、アセトン残留量は
０．２重量％であった。また、前述した方法でフイルム
中の酸分および酢酸量を測定したところ、いずれも５０
０ｐｐｍであった。
トン１５重量部、エタノール１５重量部の混合溶剤にセ
ルローストリアセテート（酢化度６０％）２５重量部、
ＴＰＰ１．５重量部を加え、膨潤させた。その後に窒素
雰囲気に置換したオートクレーブ内に導入し１８０℃、
２．０ＭＰａで１５時間溶解し、濾過した後に５０℃の
ドープとし、流延バンド上に流延した。フイルムを流延
バンドから剥ぎ取り、１２０℃にて５分乾燥し、さらに
１４５℃にて１５分乾燥したところ、アセトン残留量は
０．２重量％であった。また、前述した方法でフイルム
中の酸分および酢酸量を測定したところ、いずれも５０
０ｐｐｍであった。
【００４８】［実施例６］酢酸１４３ｐｐｍを含む酢酸
メチルを用いた。この際には、混合溶剤中の酢酸量は、
１００ｐｐｍであった。そして、実施例３と同じ条件で
フイルムを得た。また、前述した方法でフイルム中の酸
分および酢酸量を測定したところ、いずれも４００ｐｐ
ｍであった。
メチルを用いた。この際には、混合溶剤中の酢酸量は、
１００ｐｐｍであった。そして、実施例３と同じ条件で
フイルムを得た。また、前述した方法でフイルム中の酸
分および酢酸量を測定したところ、いずれも４００ｐｐ
ｍであった。
【００４９】［実施例７］アセトン６５重量部、シクロ
ペンタノン２０重量部、エタノール１０重量部、ブタノ
ール５重量部の混合溶剤にセルローストリアセテート
（酢化度５９．５％）２０重量部、可塑剤Ａ（ジトリメ
チロールプロパンテトラアセテート）１．２重量部、可
塑剤Ｂ（ＴＰＰ）１．２重量部、ＵＶ剤ａ：（２，４−
ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５
−トリアジン０．２重量部、ＵＶ剤ｂ：２（２' −ヒド
ロキシ−３' ，５' −ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）
−５−クロルベンゾトリアゾール０．２重量部、ＵＶ剤
ｃ：（２（２' −ヒドロキシ−３' ，５' −ジ−ｔｅｒ
ｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール
０．２重量部、離型剤ａ：Ｃ12Ｈ25ＯＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−
Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）2 ０．０２重量部、離型剤ｂ：
クエン酸０．０２重量部、微粒子（シリカ（粒径２０ｎ
ｍ）、モース硬度約７）０．０５重量部、を加え、膨潤
させた。その後に−８０℃に冷却し、５０℃に加温した
後に、濾過を行い、ドープとして流延バンド上に流延し
た。流延は、乾燥後の厚みが８０μｍになるように行っ
た。フイルムをバンドから剥ぎ取り、１２５℃にて１５
分乾燥し、さらに１４５℃にて１２０分乾燥して、残留
溶剤量０．４重量％（アセトン残留量は０．１重量％、
シクロペンタノン残留量０．２重量％、その他の溶剤の
残留量０．１重量％）のフイルムを得た。
ペンタノン２０重量部、エタノール１０重量部、ブタノ
ール５重量部の混合溶剤にセルローストリアセテート
（酢化度５９．５％）２０重量部、可塑剤Ａ（ジトリメ
チロールプロパンテトラアセテート）１．２重量部、可
塑剤Ｂ（ＴＰＰ）１．２重量部、ＵＶ剤ａ：（２，４−
ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５
−トリアジン０．２重量部、ＵＶ剤ｂ：２（２' −ヒド
ロキシ−３' ，５' −ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）
−５−クロルベンゾトリアゾール０．２重量部、ＵＶ剤
ｃ：（２（２' −ヒドロキシ−３' ，５' −ジ−ｔｅｒ
ｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール
０．２重量部、離型剤ａ：Ｃ12Ｈ25ＯＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−
Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）2 ０．０２重量部、離型剤ｂ：
クエン酸０．０２重量部、微粒子（シリカ（粒径２０ｎ
ｍ）、モース硬度約７）０．０５重量部、を加え、膨潤
させた。その後に−８０℃に冷却し、５０℃に加温した
後に、濾過を行い、ドープとして流延バンド上に流延し
た。流延は、乾燥後の厚みが８０μｍになるように行っ
た。フイルムをバンドから剥ぎ取り、１２５℃にて１５
分乾燥し、さらに１４５℃にて１２０分乾燥して、残留
溶剤量０．４重量％（アセトン残留量は０．１重量％、
シクロペンタノン残留量０．２重量％、その他の溶剤の
残留量０．１重量％）のフイルムを得た。
【００５０】［比較例１］実施例１と同じ条件でドープ
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後に１
２０℃にて１０分間乾燥し、さらに１３０℃にて１５分
間乾燥し、残留溶剤量０．８重量％のフイルムを得た。
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後に１
２０℃にて１０分間乾燥し、さらに１３０℃にて１５分
間乾燥し、残留溶剤量０．８重量％のフイルムを得た。
【００５１】［比較例２］実施例３と同じ条件でドープ
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後に１
２０℃にて５分乾燥し、さらに１４５℃にて１0 分乾燥
し、残留溶剤量０．３重量％のフイルムを得た。
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後に１
２０℃にて５分乾燥し、さらに１４５℃にて１0 分乾燥
し、残留溶剤量０．３重量％のフイルムを得た。
【００５２】［比較例３］実施例４と同じ条件でドープ
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後に１
２０℃にて１０分乾燥し、さらに１４５℃にて６０分乾
燥し、残留溶剤量０．３重量％のフイルムを得た。
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後に１
２０℃にて１０分乾燥し、さらに１４５℃にて６０分乾
燥し、残留溶剤量０．３重量％のフイルムを得た。
【００５３】［比較例４］酢酸メチル７０重量部、アセ
トン１５重量部、エタノール１５重量部の混合溶剤にセ
ルローストリアセテート（酢化度６１％）２５重量部、
ＴＰＰ１．５重量部を加え、膨潤させた。その後に窒素
雰囲気に置換したオートクレーブ内に導入し１８０℃、
２．０ＭＰａで１８時間溶解し、濾過した後に５０℃の
ドープとし、流延バンド上に流延した。フイルムを流延
バンドから剥ぎ取り、１２０℃にて５分乾燥し、さらに
１４５℃にて１２０分乾燥し、残留溶剤量０．２重量％
のフイルムを得た。また、前述した方法でフイルム中の
酸分および酢酸量を測定したところ、いずれも６００ｐ
ｐｍであった。
トン１５重量部、エタノール１５重量部の混合溶剤にセ
ルローストリアセテート（酢化度６１％）２５重量部、
ＴＰＰ１．５重量部を加え、膨潤させた。その後に窒素
雰囲気に置換したオートクレーブ内に導入し１８０℃、
２．０ＭＰａで１８時間溶解し、濾過した後に５０℃の
ドープとし、流延バンド上に流延した。フイルムを流延
バンドから剥ぎ取り、１２０℃にて５分乾燥し、さらに
１４５℃にて１２０分乾燥し、残留溶剤量０．２重量％
のフイルムを得た。また、前述した方法でフイルム中の
酸分および酢酸量を測定したところ、いずれも６００ｐ
ｐｍであった。
【００５４】［比較例５］酢酸２１４ｐｐｍを含む酢酸
メチルを用いた。この際の混合溶剤中の酢酸量は１５０
ｐｐｍであった。そして、比較例３と同じ条件でフイル
ムを得た。また、前述した方法でフイルム中の酸分およ
び酢酸量を測定したところ、いずれも７００ｐｐｍであ
った。
メチルを用いた。この際の混合溶剤中の酢酸量は１５０
ｐｐｍであった。そして、比較例３と同じ条件でフイル
ムを得た。また、前述した方法でフイルム中の酸分およ
び酢酸量を測定したところ、いずれも７００ｐｐｍであ
った。
【００５５】［比較例６］実施例１と同じ条件でドープ
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後にフ
イルム温度１４０℃で２５分間乾燥し、さらに１５０℃
にて１８０分乾燥した。結果は、始めの乾燥にてフイル
ム上に気泡の発生が見られ、また次の乾燥ではフイルム
が大きくたるみ保持できなかった。
を流延し、流延バンドからフイルムを剥ぎ取った後にフ
イルム温度１４０℃で２５分間乾燥し、さらに１５０℃
にて１８０分乾燥した。結果は、始めの乾燥にてフイル
ム上に気泡の発生が見られ、また次の乾燥ではフイルム
が大きくたるみ保持できなかった。
【００５６】
【表１】
【００５７】表１から、フイルム中の残留溶剤量が多く
なると熱収縮率が大きくなるためフイルムの品質は悪化
することが分かる。残存溶剤量は、０．６重量％以下で
あればフイルムとして用いることができる。より好まし
くは、０．４重量％以下である。
なると熱収縮率が大きくなるためフイルムの品質は悪化
することが分かる。残存溶剤量は、０．６重量％以下で
あればフイルムとして用いることができる。より好まし
くは、０．４重量％以下である。
【００５８】
【表２】
【００５９】表２から、アセトン残留量が０．２重量％
以下のフイルムを用いて偏光板を作成すれば、その偏光
板の耐久性は良好であることが分かる。
以下のフイルムを用いて偏光板を作成すれば、その偏光
板の耐久性は良好であることが分かる。
【００６０】
【表３】
【００６１】表３から、環状ケトン類であるシクロペン
タノン残留量が０．２重量％以下のフイルムを用いて偏
光板を作成すれば、耐久性が良好な偏光板が得られるこ
とが分かる。
タノン残留量が０．２重量％以下のフイルムを用いて偏
光板を作成すれば、耐久性が良好な偏光板が得られるこ
とが分かる。
【００６２】
【表４】
【００６３】表４から、フイルム中の酸分（遊離酸
分）、酢酸量が５００ｐｐｍ以下のフイルムから構成さ
れた偏光板は耐久性が良好（○）なものが得られること
が分かる。
分）、酢酸量が５００ｐｐｍ以下のフイルムから構成さ
れた偏光板は耐久性が良好（○）なものが得られること
が分かる。
【００６４】
【発明の効果】本発明では、ケトン類，エステル類のう
ちの少なくとも１つを主溶剤として製膜したセルロース
アシレートフイルムにおいて、溶剤乾燥後の溶剤合計残
留量を０．１ないし０．６重量％にしたから、熱収縮の
発生が少ないフイルムを得ることができる。しかも、環
境上問題になっている塩化メチレンや、実用プロセスで
は問題が多い環状エーテルを用いることなく、セルロー
スアシレートフイルムを製造することができる。
ちの少なくとも１つを主溶剤として製膜したセルロース
アシレートフイルムにおいて、溶剤乾燥後の溶剤合計残
留量を０．１ないし０．６重量％にしたから、熱収縮の
発生が少ないフイルムを得ることができる。しかも、環
境上問題になっている塩化メチレンや、実用プロセスで
は問題が多い環状エーテルを用いることなく、セルロー
スアシレートフイルムを製造することができる。
【００６５】セルロースアシレートフイルムを溶液製膜
法により製膜し、溶剤量が２００ないし１０重量％の範
囲であるときに、フイルム温度を０ないし１３０℃とし
て１ないし２０分間乾燥したから、溶剤乾燥後の溶剤合
計残留量を０．１ないし０．６重量％にすることができ
る。さらに、溶剤量が１０重量％以下のときに、フイル
ム温度を１００ないし１４５℃として１ないし１２０分
間乾燥することにより、溶剤乾燥後の溶剤合計残留量を
より一層効率よく０．１ないし０．６重量％にすること
ができる。
法により製膜し、溶剤量が２００ないし１０重量％の範
囲であるときに、フイルム温度を０ないし１３０℃とし
て１ないし２０分間乾燥したから、溶剤乾燥後の溶剤合
計残留量を０．１ないし０．６重量％にすることができ
る。さらに、溶剤量が１０重量％以下のときに、フイル
ム温度を１００ないし１４５℃として１ないし１２０分
間乾燥することにより、溶剤乾燥後の溶剤合計残留量を
より一層効率よく０．１ないし０．６重量％にすること
ができる。
【図１】本発明に係る溶液製膜方法を説明するための概
略図である。
略図である。
【符号の説明】
１０ フイルム製膜装置
１１ バンドゾーン
１２ 乾燥ゾーン
１３ 撹拌機
１４ ポンプ
１５ フィルタ
１６ 撹拌棒
２０，２１ ローラ
２２ 流延バンド
２３ 流延ダイ
２４ フイルム
２５，２６，２７ パスローラ
２８ リコイラ
３０，３６ 凝縮器
３１，３７ 回収溶剤
３２，３４ 加熱器
３３ 吸着層
３５ 脱着ガス
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０８Ｌ 1:10 Ｃ０８Ｌ 1:10
Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA27 BB18 BB33 BB43
BC22
4F071 AA09 AC07 AC10 AE19 AF29
AF31 AF35 BA02 BB02 BC01
4F205 AA01 AA50 AB07 AC05A
AG01 AH78 AR06 GA07 GB01
GC06 GE22 GF03 GF24 GN19
GN22 GW16
Claims (20)
- 【請求項１】 ケトン類，エステル類のうちの少なくと
も１つを主溶剤として製膜したセルロースアシレートフ
イルムにおいて、 溶剤乾燥後の溶剤合計残留量が０．１ないし０．６重量
％であることを特徴とするセルロースアシレートフイル
ム。 - 【請求項２】 ケトン類，エステル類のうちの少なくと
も１つを主溶剤として製膜したセルロースアシレートフ
イルムにおいて、 溶剤乾燥後の溶剤合計残留量が０．１ないし０．４重量
％であることを特徴とするセルロースアシレートフイル
ム。 - 【請求項３】 ケトン類とエステル類を溶剤として製膜
したセルロースアシレートフイルムにおいて、 前記ケトン類の溶剤残留量が０ないし０．３重量％であ
ることを特徴とするセルロースアシレートフイルム。 - 【請求項４】 遊離酸分の残留量が５００ｐｐｍ以下で
あることを特徴とするセルロースアシレートフイルム。 - 【請求項５】 カルボン酸の残留量が５００ｐｐｍ以下
であることを特徴とするセルロースアシレートフイル
ム。 - 【請求項６】 前記カルボン酸が酢酸であることを特徴
とする請求項５に記載のセルロースアシレートフイル
ム。 - 【請求項７】 使用溶剤中の８０重量％以上が製膜工程
において回収再使用された溶剤であることを特徴とする
請求項１ないし６のいずれか１つに記載のセルロースア
シレートフイルム。 - 【請求項８】 前記使用溶剤中の酢酸の残留量が１００
ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項７に記載のセ
ルロースアシレートフイルム。 - 【請求項９】 前記セルロースアシレートがセルロース
アセテートであることを特徴とする請求項１ないし８の
いずれか１つに記載のセルロースアシレートフイルム。 - 【請求項１０】 前記セルロースアセテートの酢化度が
５７．５ないし６２．５％であることを特徴とする請求
項９に記載のセルロースアシレートフイルム。 - 【請求項１１】 前記セルロースアシレートを溶解する
主溶剤が、酢酸メチル，アセトン，ジオキソランのうち
の少なくとも１つであることを特徴とする請求項１ない
し１０のいずれか１つに記載のセルロースアシレートフ
イルム。 - 【請求項１２】 前記セルロースアシレートを溶解する
際の補助溶剤として、炭素数１ないし６のアルコール，
ケトン，エステル，エーテルのうち少なくとも１つを含
むことを特徴とする請求項１１に記載のセルロースアシ
レートフイルム。 - 【請求項１３】 前記セルロースアシレートを溶解する
際に、前記セルロースアシレートに対して疎水性可塑剤
を１ないし２０重量％を含むことを特徴とする請求項１
ないし１２のいずれか１つに記載のセルロースアシレー
トフイルム。 - 【請求項１４】 前記セルロースアシレートを溶解する
際に、前記セルロースアシレートに対して紫外線吸収剤
を０．１ないし５重量％を含むことを特徴とする請求項
１ないし１３のいずれか１つに記載のセルロースアシレ
ートフイルム。 - 【請求項１５】 請求項１ないし１４のいずれか１つに
記載のセルロースアシレートフイルムを、溶液製膜法に
より製造することを特徴とする製膜方法。 - 【請求項１６】 前記溶剤量が２００ないし１０重量％
の範囲であるときに、フイルム温度を０ないし１３０℃
として１ないし２０分間乾燥することを特徴とする請求
項１５に記載の製膜方法。 - 【請求項１７】 前記溶剤量が１０重量％以下のとき
に、フイルム温度を１００ないし１４５℃として１ない
し１２０分間乾燥することを特徴とする請求項１５また
は１６に記載の製膜方法。 - 【請求項１８】 前記製膜方法において、流延工程で少
なくとも１種類のセルロースアシレートを含む２種類以
上のセルロースアシレート溶液を共流延することを特徴
とする請求項１５ないし１７のいずれか１つに記載の製
膜方法。 - 【請求項１９】 請求項１５ないし１８のいずれか１つ
に記載の製膜方法により製造されたセルロースアシレー
トフイルムを用いて構成されたことを特徴とする偏光
板。 - 【請求項２０】 請求項１５ないし１８のいずれか１つ
に記載の製膜方法により製造されたセルロースアシレー
トフイルムを用いて構成されたことを特徴とする液晶表
示装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001225440A JP2003033931A (ja) | 2001-07-26 | 2001-07-26 | セルロースアシレートフイルム及び製膜方法 |
| EP02016373A EP1279696A1 (en) | 2001-07-26 | 2002-07-25 | Cellulose acylate film and method for its production |
| US10/202,882 US6773497B2 (en) | 2001-07-26 | 2002-07-26 | Cellulose acylate film and method of producing thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001225440A JP2003033931A (ja) | 2001-07-26 | 2001-07-26 | セルロースアシレートフイルム及び製膜方法 |
Publications (1)
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