JPH08171016A - 偏光板の製造方法 - Google Patents

偏光板の製造方法

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JPH08171016A
JPH08171016A JP6333773A JP33377394A JPH08171016A JP H08171016 A JPH08171016 A JP H08171016A JP 6333773 A JP6333773 A JP 6333773A JP 33377394 A JP33377394 A JP 33377394A JP H08171016 A JPH08171016 A JP H08171016A
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JP
Japan
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film
hard coat
polarizing
coat layer
polarizing plate
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JP6333773A
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English (en)
Inventor
Yasuo Nakai
康夫 中井
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 PVA系樹脂からなる偏光膜に、ハードコー
ト層を設けたTACフィルムを保護層として貼り合わせ
てなる偏光板の製造において、TACフィルム面と偏光
膜との接着性を強化するために、TACフィルムにケン
化処理を施しても、ヘイズ値などその光学特性が損なわ
れることもなく、各種耐性と共に光学特性に優れた偏光
板の製造方法を提供すること。 【構成】 製造工程として、TACフィルムをケン化処
理した後、該フィルムの少なくとも一方の面にハードコ
ート層を積層し、その後、一軸延伸の施されたPVAま
たはその誘導体樹脂からなる偏光膜の両面に、前記フィ
ルムを保護層として貼り合わせる偏光板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は偏光板の製造方法に係
り、特に、表面保護フィルムのケン化処理を行っても光
学特性の変化しない偏光板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、偏光板は、延伸配向した偏光膜基
材フィルムにヨウ素や二色性染料を吸着させ偏光能を有
する偏光膜を作成した後、その両面に保護膜を形成させ
た構成のものが一般的である。偏光膜基材フィルムとし
ては主にポリビニルアルコール(以下PVAと略す)ま
たはその誘導体のフィルムが用いられ、保護膜としては
セルロースアセテート系樹脂(主にトリアセチルセルロ
ース)やアクリル系樹脂の実質的に無配向の膜状物が使
用されている。そして、保護膜の形成は、フィルム状物
の貼合、溶液状物の塗布のほか、袋状物に密封するよう
な形式でも行われている。
【0003】このようにして製造される偏光板は、液晶
表示用部材を中心に装飾用部材、その他で反射光の除去
用途に利用されており、特に偏光膜にPVA−ヨウ素系
を用い、保護膜にトリアセチルセルロースフィルム(以
下TACフィルムと表示する)を用いた偏光板は、優れ
た光学特性を有し、広い波長範囲で高い偏光率を示すと
共に、明るさ、コントラストにも優れていることから多
用されている。また、このような偏光板は、表面の耐擦
傷性や耐薬品性などを更に向上させるため、少なくとも
外側に用いる保護膜フィルム例えばTACフィルムの上
には、更にハードコート層を設けることが行われてい
る。そして、このような偏光板の製造方法は、通常、T
ACフィルムにハードコート用塗料を塗布、乾燥して、
ハードコート層を形成した後、このフィルムをアルカリ
によりケン化処理し、その後PVA系偏光膜の両面に、
前記TACフィルムをハードコート面を外側にして貼り
合わせる方法で製造されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
製造方法では、TACフィルムのケン化処理後ヘイズ値
が上がり、特に、ハードコート層に滑剤、艶消し剤など
が添加されている場合、光学特性が変化するという問題
がある。この原因については、種々考えられるが、ケン
化処理の際、アルカリによりハードコート層が部分的に
溶解するなど侵され、また、滑剤、艶消し剤などが溶
解、或いは、塗膜からの脱落を起こすなどして表面状態
が変化するために生じるものと推定される。
【0005】従って、本発明の目的は、上記のような問
題点を解決し、PVA系の偏光膜の両面に、ハードコー
ト層を設けたTACフィルムを貼り合わせてなる偏光板
の製造において、TACフィルムと偏光膜との接着性を
向上させるため、TACフィルムにケン化処理を施して
も、ヘイズ値の上昇などその光学特性が損なわれること
のない偏光板の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明のかかる目的は、
以下の本発明により達成される。即ち、本請求項1の発
明は、トリアセチルセルロースフィルムをケン化処理し
た後、該フィルムの少なくとも一方の面にハードコート
層を積層し、その後、一軸延伸の施されたポリビニルア
ルコールまたはその誘導体からなる偏光膜の両面に前記
フィルムを積層することを特徴とする偏光板の製造方法
からなる。
【0007】本発明において保護層に使用するトリアセ
チルセルロースフィルム(TACフィルム)は、特に限
定はされないが、通常、キャスト法で製造したものが多
く、リン酸エステルなどの可塑剤を3〜10重量%程度
含有し、また、紫外線吸収剤が添加される場合もある。
厚さについても特に限定はなく、例えば、液晶ディスプ
レイ用偏光フィルム等の表面保護膜として用いる場合
は、80μm程度が一般的である。
【0008】尚、TACフィルムを偏光膜に積層する
際、一般的には接着剤を用いるが、TACフィルムと接
着剤の接着性を向上させるために、TACフィルム面を
前処理として、アルカリ水溶液でケン化することが好ま
しい。具体的には、室温乃至80℃に加熱した水酸化カ
リウム若しくは水酸化ナトリウムなどの1.5〜2規定
程度の水溶液中に10秒〜3分間程度TACフィルムを
浸漬し、その後水洗、乾燥することにより、ケン化処理
が行える。このようなケン化処理は、従来、TACフィ
ルムの片面にハードコート層を設けた後に行われてき
た。しかし、この方法では、前記したように、ヘイズ値
の上昇などTACフィルムの光学特性が変化するため、
本発明ではハードコート層を設ける前にケン化処理を行
うものである。
【0009】本発明において、ハードコート層に使用す
る樹脂は、各種のアクリル系樹脂やシロキサン系樹脂な
ど従来公知のハードコート用樹脂であれば何でもよい。
また、これらの硬化方法についてもUV(紫外線)硬
化、EB(電子線)硬化、熱硬化などいずれの方法も利
用できる。只、作業性の点ではUV、EBを硬化手段に
使用できる電離放射線硬化型樹脂を使用するのが簡便で
ある。このような樹脂は、通常、分子中に重合性不飽和
結合又はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマ
ー、及び/又はモノマーを適宜混合した組成物であり、
例えば、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレ
ート、エポキシアクリレート等の各種アクリレート樹
脂、シロキサン等の珪素樹脂、そして、ポリエステル、
エポキシ樹脂等の組成物が挙げられる。
【0010】これらの電離放射線硬化型樹脂の組成物を
紫外線で反応、硬化させる場合には、光重合開始剤とし
て、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベ
ンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テ
トラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン
類より適宜選定し、更に、必要に応じて、光増感剤とし
て、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−
ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
【0011】このような樹脂組成物を塗布して形成する
ハードコート層の塗布量は、滑り性、艶消し性などを付
与するために添加する無機及び/又は有機の粒子の径と
も関係するが、3〜30g/m2 の範囲が好ましく、4
〜20g/m2 の範囲が更に好ましい。3g/m2 以下
では充分な耐擦傷性、滑り性が得にくくなると共に粒子
の保持性が低下するため好ましくない。また、30g/
2 以上はその必要性がなく、むしろヘイズの上昇や光
線透過率の低下の傾向がみられ、コスト面でも不利であ
る。
【0012】ハードコート層に添加される前記の無機及
び/又は有機の粒子は、ハードコート層の形成に際して
皮膜表面に出現し、接触するTACフィルム面、或い
は、ハードコート面などとの接触面積を減少させて滑り
性を付与するためのものである。従って、無機では、シ
リカ、アルミナなどが比較的透明性を損なうことも少な
く好ましい。また、有機では、アクリル樹脂、スチレン
樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート、ナイロンなど
の粒子を使用できる。これらの粒子の平均粒子径は1〜
10μm程度の範囲が好ましく、その添加量は用途など
によっても異なるが必要最小限とすべきである。
【0013】また、本発明の実施に当たって使用される
偏光膜は、特に限定はなく、従来公知の偏光膜は何でも
使用できる。特に、一軸延伸の施されたポリビニルアル
コール、または、その誘導体からなるものは好ましく用
いられる。例えば、ポリビニルアルコールフィルム、ま
たは、これを部分ホルマール化したフィルムなどの親水
性を有するフィルムにヨウ素及び/又は二色性染料を吸
着配向させたフィルムなどが代表的なものとして挙げら
れる。これらの偏光膜の厚さは、通常10〜80μm程
度が一般的である。
【0014】
【作用】本発明の偏光板の製造方法は、偏光膜の保護層
として用いるTACフィルムをケン化処理した後、該フ
ィルムの少なくとも一方の面にハードコート層を積層
し、その後、偏光膜の両面に前記フィルムを積層して製
造するものである。このような製造方法を採ることによ
り、TACフィルムをケン化処理する際、TACフィル
ム単体に処理が行えるので、ハードコート層がアルカリ
等処理液の影響を受けず、ヘイズ値など保護層の光学特
性が損なわれることがない。また、TACフィルムのケ
ン化処理面は接着剤との接着性が向上するため、偏光膜
と保護層とを強固に接着できる。
【0015】
【実施例】以下に、実施例、比較例を挙げて本発明を更
に詳細に説明する。 〔実施例1〕厚さ80μmのTACフィルム〔FTUV
80 富士写真フィルム(株)製〕を下記の条件でケン
化処理し、次に、このTACフィルムの一方の面に、下
記組成のハードコート剤を熱風乾燥装置と紫外線照射装
置を備えたロールコーターにより、乾燥・硬化後の塗布
量が8g/m2 となるように塗布し、熱風乾燥により溶
剤を除去し、次いで紫外線照射装置(出力160W/cm
の高圧水銀ランプ2灯式、距離10cm)をラインスピ
ード20m/min で通して塗膜を硬化させてハードコー
ト層を積層した。その後、ヨウ素を吸着させ、延伸配向
したポリビニルアルコールフィルム(厚さ30μm)を
偏光膜として、その両面にポリビニルアルコール系接着
剤を用いて、前記ハードコート層を積層したTACフィ
ルムのケン化処理面を接着面として、貼り合わせて実施
例1の偏光板を作成した。
【0016】ケン化処理条件 処理溶液:2NのKOH水溶液を使用。 処理温度:60℃ 浸漬時間:90 sec間 浸漬 洗浄方法:流水にて洗浄 乾燥条件:60℃,60 sec間 熱風乾燥
【0017】 ハードコート剤の組成 紫外線硬化型樹脂 ペンタエリスリトールトリアクリレート 100重量部 光重合開始剤 イルガキュアー184(チバガイギー社製) 5重量部 アクリルビーズ(平均粒子径5μm) 5重量部 希釈溶剤(トルエン) 120重量部
【0018】〔比較例1〕実施例1の偏光板の製造方法
において、TACフィルムのケン化処理工程とハードコ
ート層の積層工程との順序のみを入れ換えて、即ち、T
ACフィルムに先にハードコート層を積層し、その後で
ケン化処理を行う方法で、その他は総て実施例1と同様
にして、比較例1の偏光板を作成した。
【0019】〔評価および結果〕尚、以上のように作成
した実施例1および比較例1の偏光板の評価について
は、偏光膜に貼り合わせる前の保護層フィルム、即ち、
TACフィルムにケン化処理とハードコート層の積層を
行った段階のフィルムについて、下記の方法で全光線透
過率(%)、ヘイズ(%)を測定し、その結果を表1に
示した。
【0020】(1)全光線透過率(%)の測定 JIS K−7105に準拠し、東洋精機(株)製 直
読式ヘイズメーターにて測定。 (2)ヘイズ〔曇度〕(%)の測定 JIS K−7105に準拠し、東洋精機(株)製 直
読式ヘイズメーターにて測定。
【0021】
【表1】 評価結果
【0022】表1に示した結果から明らかなように、実
施例1の保護層フィルムは、そのケン化処理前後で全光
線透過率およびヘイズ値に殆ど変化がなく、ハードコー
ト層を積層した後の光学特性も、全光線透過率が87.
5%、ヘイズ値が8.5%と良好な値を示した。これに
対して、比較例1の保護層フィルムは、ハードコート層
を積層した後のケン化処理前後において、その光学特性
の低下が認められ、ハードコート、ケン化後の全光線透
過率が87.7%、ヘイズ値が10.4%となり、実施
例1の保護層フィルムと比較して光学特性の劣るもので
あった。
【0023】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の偏
光板の製造方法によれば、保護層を構成するTACフィ
ルムのケン化処理において、ハードコート層は何ら影響
を受けないため、全光線透過率やヘイズ値等の光学特性
の低下を最小限に抑えることができる。また、ケン化処
理により保護層のTACフィルム面と偏光膜とを強固に
接着できるようになる。従って、広い波長範囲で高い偏
光率を有し、明るさ、コントラストなどの光学特性に優
れると共に、表面の耐擦傷性、耐薬品性、その他耐久性
など、性能に優れた偏光板の製造が可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08J 7/00 CEP A // C08L 1:12

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 トリアセチルセルロースフィルムをケン
    化処理した後、該フィルムの少なくとも一方の面にハー
    ドコート層を積層し、その後、一軸延伸の施されたポリ
    ビニルアルコールまたはその誘導体からなる偏光膜の両
    面に前記フィルムを積層することを特徴とする偏光板の
    製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100385720B1 (ko) * 1999-04-30 2003-05-27 주식회사 엘지화학 재박리성이 우수한 광학용 아크릴계 감압 점착제 조성물 및 그를이용한 라미네이트
JP2005122040A (ja) * 2003-10-20 2005-05-12 Nitto Denko Corp 直線偏光分離フィルム、直線偏光分離積層フィルム、バックライトシステム、液晶表示装置
WO2007013304A1 (ja) * 2005-07-29 2007-02-01 Shoko Nose 偏光板製造用保護フィルムのケン化処理方法と装置及び保護フィルム

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Effective date: 20031118