JPS6340285B2 - - Google Patents
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- JPS6340285B2 JPS6340285B2 JP2592683A JP2592683A JPS6340285B2 JP S6340285 B2 JPS6340285 B2 JP S6340285B2 JP 2592683 A JP2592683 A JP 2592683A JP 2592683 A JP2592683 A JP 2592683A JP S6340285 B2 JPS6340285 B2 JP S6340285B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は耐久性、熱安定性及び耐スクラツチ性
に優れる偏光板に関するものである。 偏光板は、一般に偏光フイルムの表面に透明な
プラスチツク層を形成させてなるものが汎用され
ており、その使用分野も従来の電卓や時計などの
小型品から、自動車用メーター、計器といつた大
型品へ拡大されつつある。 かかる使用分野の拡大に伴ない、偏光板に要求
される耐久性及び熱安定性などの特性もより高い
ものが要望されている。 一方、大型化に伴ない偏光板自体の耐スクラツ
チ性が要望されている。これは偏光板の製造工程
中や実装時に、偏光板表面にキズが入ると製品歩
留りが著しく低下すると共に、表示装置の外観や
光学特性を低下させるためである。 本発明の偏光板はかかる要望に従つて開発され
たものであつて、その要旨とするところは、偏光
フイルムの表面に無延伸又は一方向のみに延伸し
てなるプラスチツク層を形成してなる偏光基材の
該プラスチツク層面に、紫外線硬化型ポリエステ
ルアクリレート系樹脂にシリカゾルを含む組成物
からなる硬化皮膜層を形成してなることである。 本発明の偏光板によれば、偏光基材のプラスチ
ツク層面に紫外線硬化型ポリエステルアクリレー
ト系樹脂にシリカゾルを含む組成物からなる硬化
皮膜層が形成されているので、表面硬度が大きく
耐スクラツチ性にすぐれ、しかも良好な耐久性及
び熱安定性を有するという特徴を有する。 本発明に使用される紫外線硬化型ポリエステル
アクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリ
オールと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ートの如き水酸基を有するアクリレート又はメタ
クリレート系モノマーを反応させることによつて
得られ、かかる樹脂を用いることにより、組成物
の紫外線硬化を可能とし、しかもこれによつて表
面硬度の大きい耐スクラツチ性にすぐれる硬化皮
膜層が得られることが見い出された。 本発明に使用されるシリカゾルは、非晶質で多
孔性のものであり、コロイド状に分散するもので
ある。粒子径としては30mμ以下、好ましくは平
均粒子径5〜25mμであり、その屈折率は約
1.46、見掛け比重は約0.836程度のものである。 紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂
とシリカゾルとの割合は、樹脂100重量部に対し
て、シリカゾルが0.1〜35重量部となるように配
合するのが望ましいものである。シリカゾルが
0.1重量部以下では硬化皮膜層の表面硬度が小さ
く、35重量部以上では光学特性を低下させるので
好ましくないものである。 紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂
とシリカゾルとの組成物には、ポリイソシアネー
ト化合物の如き架橋成分のほかに、皮膜形成性向
上や塗工時の粘度調整を目的として、エチル(メ
タ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリ
レート、ブチル(メタ)アクリレートの如きアル
キル(メタ)アクリレート、スチレン、(メタ)
アクリロニトリル、酢酸ビニルの如きビニルエス
テルモノマー、(メタ)アクリレート、グリシジ
ルメタクリレートの如き官能性モノマーなどのモ
ノマーを添加することができ、その範囲は1〜40
重量%とされるものである。 さらに前記組成物には、染料、顔料、帯電防止
剤などの配合剤を添加でき、また前記樹脂の光重
合開始剤が配合される。 該開始剤としては、アセトフエノン、ベンゾフ
エノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン
などの群から選ばれたものが例示でき、また光増
感剤としてアミン、尿素系化合物などを、熱重合
開始剤としてイミダゾール化合物、過酸化物など
を併用することもできる。 このように配合された組成物は、単独或いは該
組成物が塗布硬化される後記プラスチツク層に対
して不活性な有機溶剤に、固形分濃度で20〜95重
量%となるように希釈され、スピンナーコート、
グラビアコータ、リバースコータ、スプレコー
タ、スロツトオリフイスコータなどの一般の塗工
法にて、1〜30g/m2(固形分)となるように塗
布し、乾燥後紫外線硬化されるものである。 かかる組成物からなる硬化皮膜層が形成される
偏光基材は、偏光フイルムの両面又は片面に、塗
設又は貼り合せなどの手段によつて形成した無延
伸又は一方向のみに延伸してなるプラスチツク層
とから構成される。 従つて、本発明の偏光板には例えば第1〜3図
に図示した形状のものが包含される。 第1図においては、1は偏光フイルム、2はプ
ラスチツク層、3は前記組成物からなる硬化皮膜
層である。 第2図は、層2,2′及び3,3′がフイルム1
の両面に夫々形成されたものである。 第3図は、偏光板をプラスチツク液晶セルの基
板として用いる場合の実例を示すもので、硬化皮
膜からなる層3′の表面にパターン状の透明導電
膜4が形成されたものであり、層3′はキズなど
による膜4の断線を防止する。 前記偏光フイルムとしては、ポリビニルアルコ
ール系フイルム、部分ホルマール化ポリビニルア
ルコール系フイルム、エチレン−酢酸ビニル共重
合体系ケン化フイルムの如き親水性高分子系フイ
ルムに沃素及び/又は二色性染料を吸着配向せし
めた沃素及び/又は二色性染料系偏光フイルム、
ポリビニルアルコール系フイルムを脱水処理する
か、或いはポリ塩化ビニルフイルムを脱塩酸処理
するかしてポリエンを配向せしめたポリエン系偏
光フイルムなどが挙げられ、これらは通常10〜
80μmの厚みを有するものが使用される。 偏光フイルムの片面又は両面に形成される無延
伸又は一方向のみに延伸してなるプラスチツク層
(厚さは約10〜2000μmが好ましい)は、ポリア
クリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂の如き塗布硬
化後の樹脂を塗布硬化させるか、ポリエステルフ
イルム、ポリカーポネートフイルム、ポリスルホ
ンフイルム、ポリエーテルフイルム、トリメチル
ペンテンフイルム、ポリエーテルケトンフイル
ム、(メタ)アクリロニトリルフイルムなどの光
学的透明性にすぐれる無延伸又は一方向のみに延
伸してなるプラスチツクフイルムをポリエステル
系接着剤、ポリアクリル系接着剤、ポリウレタン
系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤の如き光学的
透明性にすぐれる接着剤或いは溶着などの接着手
段を用いて貼り合せるかして構成される。しかし
て、該プラスチツク層に耐薬品性などを望む場合
には、縦軸又は横軸方向のみに少なくとも5%、
好ましくは50〜800%延伸し、100〜230℃で5〜
60分間熱処理してなるポリエステルフイルムが好
ましいものである。 このような偏光フイルムとプラスチツク層とか
ら構成される偏光基材において、前記組成物が塗
布硬化されるプラスチツク層面には、プラスチツ
ク基材の材質に応じてアルカリ処理、コロナ処
理、スパツタ処理などの表面処理や、シランカツ
プリング剤の塗布或いはSi蒸着などによる表面改
質処理を行うことは、プラスチツク層と組成物か
らなる硬化皮膜層との接着性向上の点から好まし
いことである。 このようにして得られた偏光板は、硬化皮膜層
の硬度が高いので良好な耐スクラツチ性を有し、
またポリエステルアクリレート系樹脂にて皮膜が
構成されているので耐久性や熱安定性にすぐれる
という特徴を有する。 以下本発明の実施例を示す。 実施例 厚さ50μmの沃素系偏光フイルムの両面に、厚
さ100μmの一軸延伸(延伸率300%)したポリエ
ステルフイルムをポリエステル系接着剤にて接着
して偏光基板を作成した。 この基板の一方のフイルム面に、第1表に示す
組成物をスピンナーコータによりライン速度10
m/分で塗布し、100℃で3分間乾燥後、オゾン
タイプ高圧水銀灯(80W/cm、15cm集光型)2灯
で紫外線照射を行い、平均塗膜厚みが4μmの硬
化皮膜層を有する偏光板を得た。 各偏光板の皮膜層面の表面硬度をJISK5401塗
膜用鉛筆ひつかき試験機で測定した結果、参考例
の皮膜形成前の表面硬度がHであつたのに対し、
本実施例は各れも2〜4Hの硬度を有するもので
あつた。 第1表に組成物(単位重量部)及び測定結果を
示す。第1表中の光透過率及び偏光度は常法によ
り測定した。 【表】
に優れる偏光板に関するものである。 偏光板は、一般に偏光フイルムの表面に透明な
プラスチツク層を形成させてなるものが汎用され
ており、その使用分野も従来の電卓や時計などの
小型品から、自動車用メーター、計器といつた大
型品へ拡大されつつある。 かかる使用分野の拡大に伴ない、偏光板に要求
される耐久性及び熱安定性などの特性もより高い
ものが要望されている。 一方、大型化に伴ない偏光板自体の耐スクラツ
チ性が要望されている。これは偏光板の製造工程
中や実装時に、偏光板表面にキズが入ると製品歩
留りが著しく低下すると共に、表示装置の外観や
光学特性を低下させるためである。 本発明の偏光板はかかる要望に従つて開発され
たものであつて、その要旨とするところは、偏光
フイルムの表面に無延伸又は一方向のみに延伸し
てなるプラスチツク層を形成してなる偏光基材の
該プラスチツク層面に、紫外線硬化型ポリエステ
ルアクリレート系樹脂にシリカゾルを含む組成物
からなる硬化皮膜層を形成してなることである。 本発明の偏光板によれば、偏光基材のプラスチ
ツク層面に紫外線硬化型ポリエステルアクリレー
ト系樹脂にシリカゾルを含む組成物からなる硬化
皮膜層が形成されているので、表面硬度が大きく
耐スクラツチ性にすぐれ、しかも良好な耐久性及
び熱安定性を有するという特徴を有する。 本発明に使用される紫外線硬化型ポリエステル
アクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリ
オールと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ートの如き水酸基を有するアクリレート又はメタ
クリレート系モノマーを反応させることによつて
得られ、かかる樹脂を用いることにより、組成物
の紫外線硬化を可能とし、しかもこれによつて表
面硬度の大きい耐スクラツチ性にすぐれる硬化皮
膜層が得られることが見い出された。 本発明に使用されるシリカゾルは、非晶質で多
孔性のものであり、コロイド状に分散するもので
ある。粒子径としては30mμ以下、好ましくは平
均粒子径5〜25mμであり、その屈折率は約
1.46、見掛け比重は約0.836程度のものである。 紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂
とシリカゾルとの割合は、樹脂100重量部に対し
て、シリカゾルが0.1〜35重量部となるように配
合するのが望ましいものである。シリカゾルが
0.1重量部以下では硬化皮膜層の表面硬度が小さ
く、35重量部以上では光学特性を低下させるので
好ましくないものである。 紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂
とシリカゾルとの組成物には、ポリイソシアネー
ト化合物の如き架橋成分のほかに、皮膜形成性向
上や塗工時の粘度調整を目的として、エチル(メ
タ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリ
レート、ブチル(メタ)アクリレートの如きアル
キル(メタ)アクリレート、スチレン、(メタ)
アクリロニトリル、酢酸ビニルの如きビニルエス
テルモノマー、(メタ)アクリレート、グリシジ
ルメタクリレートの如き官能性モノマーなどのモ
ノマーを添加することができ、その範囲は1〜40
重量%とされるものである。 さらに前記組成物には、染料、顔料、帯電防止
剤などの配合剤を添加でき、また前記樹脂の光重
合開始剤が配合される。 該開始剤としては、アセトフエノン、ベンゾフ
エノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン
などの群から選ばれたものが例示でき、また光増
感剤としてアミン、尿素系化合物などを、熱重合
開始剤としてイミダゾール化合物、過酸化物など
を併用することもできる。 このように配合された組成物は、単独或いは該
組成物が塗布硬化される後記プラスチツク層に対
して不活性な有機溶剤に、固形分濃度で20〜95重
量%となるように希釈され、スピンナーコート、
グラビアコータ、リバースコータ、スプレコー
タ、スロツトオリフイスコータなどの一般の塗工
法にて、1〜30g/m2(固形分)となるように塗
布し、乾燥後紫外線硬化されるものである。 かかる組成物からなる硬化皮膜層が形成される
偏光基材は、偏光フイルムの両面又は片面に、塗
設又は貼り合せなどの手段によつて形成した無延
伸又は一方向のみに延伸してなるプラスチツク層
とから構成される。 従つて、本発明の偏光板には例えば第1〜3図
に図示した形状のものが包含される。 第1図においては、1は偏光フイルム、2はプ
ラスチツク層、3は前記組成物からなる硬化皮膜
層である。 第2図は、層2,2′及び3,3′がフイルム1
の両面に夫々形成されたものである。 第3図は、偏光板をプラスチツク液晶セルの基
板として用いる場合の実例を示すもので、硬化皮
膜からなる層3′の表面にパターン状の透明導電
膜4が形成されたものであり、層3′はキズなど
による膜4の断線を防止する。 前記偏光フイルムとしては、ポリビニルアルコ
ール系フイルム、部分ホルマール化ポリビニルア
ルコール系フイルム、エチレン−酢酸ビニル共重
合体系ケン化フイルムの如き親水性高分子系フイ
ルムに沃素及び/又は二色性染料を吸着配向せし
めた沃素及び/又は二色性染料系偏光フイルム、
ポリビニルアルコール系フイルムを脱水処理する
か、或いはポリ塩化ビニルフイルムを脱塩酸処理
するかしてポリエンを配向せしめたポリエン系偏
光フイルムなどが挙げられ、これらは通常10〜
80μmの厚みを有するものが使用される。 偏光フイルムの片面又は両面に形成される無延
伸又は一方向のみに延伸してなるプラスチツク層
(厚さは約10〜2000μmが好ましい)は、ポリア
クリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂の如き塗布硬
化後の樹脂を塗布硬化させるか、ポリエステルフ
イルム、ポリカーポネートフイルム、ポリスルホ
ンフイルム、ポリエーテルフイルム、トリメチル
ペンテンフイルム、ポリエーテルケトンフイル
ム、(メタ)アクリロニトリルフイルムなどの光
学的透明性にすぐれる無延伸又は一方向のみに延
伸してなるプラスチツクフイルムをポリエステル
系接着剤、ポリアクリル系接着剤、ポリウレタン
系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤の如き光学的
透明性にすぐれる接着剤或いは溶着などの接着手
段を用いて貼り合せるかして構成される。しかし
て、該プラスチツク層に耐薬品性などを望む場合
には、縦軸又は横軸方向のみに少なくとも5%、
好ましくは50〜800%延伸し、100〜230℃で5〜
60分間熱処理してなるポリエステルフイルムが好
ましいものである。 このような偏光フイルムとプラスチツク層とか
ら構成される偏光基材において、前記組成物が塗
布硬化されるプラスチツク層面には、プラスチツ
ク基材の材質に応じてアルカリ処理、コロナ処
理、スパツタ処理などの表面処理や、シランカツ
プリング剤の塗布或いはSi蒸着などによる表面改
質処理を行うことは、プラスチツク層と組成物か
らなる硬化皮膜層との接着性向上の点から好まし
いことである。 このようにして得られた偏光板は、硬化皮膜層
の硬度が高いので良好な耐スクラツチ性を有し、
またポリエステルアクリレート系樹脂にて皮膜が
構成されているので耐久性や熱安定性にすぐれる
という特徴を有する。 以下本発明の実施例を示す。 実施例 厚さ50μmの沃素系偏光フイルムの両面に、厚
さ100μmの一軸延伸(延伸率300%)したポリエ
ステルフイルムをポリエステル系接着剤にて接着
して偏光基板を作成した。 この基板の一方のフイルム面に、第1表に示す
組成物をスピンナーコータによりライン速度10
m/分で塗布し、100℃で3分間乾燥後、オゾン
タイプ高圧水銀灯(80W/cm、15cm集光型)2灯
で紫外線照射を行い、平均塗膜厚みが4μmの硬
化皮膜層を有する偏光板を得た。 各偏光板の皮膜層面の表面硬度をJISK5401塗
膜用鉛筆ひつかき試験機で測定した結果、参考例
の皮膜形成前の表面硬度がHであつたのに対し、
本実施例は各れも2〜4Hの硬度を有するもので
あつた。 第1表に組成物(単位重量部)及び測定結果を
示す。第1表中の光透過率及び偏光度は常法によ
り測定した。 【表】
第1〜3図は本発明の偏光板の実例を示す部分
拡大側面図である。 3……硬化皮膜層。
拡大側面図である。 3……硬化皮膜層。
Claims (1)
- 1 偏光フイルムの表面に無延伸又は一方向のみ
に延伸してなるプラスチツク層を形成してなる偏
光基材の該プラスチツク層面に、紫外線硬化型ポ
リエステルアクリレート系樹脂にシリカゾルを含
む組成物からなる硬化皮膜層を形成してなること
を特徴とする偏光板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2592683A JPS59151112A (ja) | 1983-02-17 | 1983-02-17 | 偏光板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2592683A JPS59151112A (ja) | 1983-02-17 | 1983-02-17 | 偏光板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59151112A JPS59151112A (ja) | 1984-08-29 |
JPS6340285B2 true JPS6340285B2 (ja) | 1988-08-10 |
Family
ID=12179375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2592683A Granted JPS59151112A (ja) | 1983-02-17 | 1983-02-17 | 偏光板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59151112A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3822361B2 (ja) * | 1998-07-10 | 2006-09-20 | 株式会社日立製作所 | 配光制御素子およびこれを備えた表示装置 |
EP2233605B1 (en) | 2000-12-12 | 2012-09-26 | Konica Corporation | Optical film comprising an anti-reflection layer |
WO2007026593A1 (ja) | 2005-08-30 | 2007-03-08 | Konica Minolta Opto, Inc. | 液晶表示装置 |
US20090252893A1 (en) | 2005-08-31 | 2009-10-08 | Koji Ozaki | Plasma discharge treatment apparatus, and method of manufacturing gas barrier film |
US20150177433A1 (en) | 2012-07-13 | 2015-06-25 | Konica Minolta, Inc. | Infrared shielding film |
EP2881769A4 (en) | 2012-08-06 | 2016-03-09 | Konica Minolta Inc | LIGHT REFLECTIVE FILM AND LIGHT REFLECTOR MADE THEREFROM |
CN104558449B (zh) * | 2014-12-30 | 2019-02-19 | 北京金汇利应用化工制品有限公司 | 一种高耐性有机无机复合改性水性丙烯酸树脂的制备方法 |
-
1983
- 1983-02-17 JP JP2592683A patent/JPS59151112A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59151112A (ja) | 1984-08-29 |
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