JP3218170U - シリコンウエハーの載置装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】引っ掻き傷を回避して歩留まりを向上させるシリコンウエハーの載置装置を提供する。
【解決手段】載置装置は、平行に対向設置される第１、第２固定板１ａ、１ｂと、平行に対向設置され、夫々の第１端が第１固定板に固定連結され且つ夫々の第２端が第２固定板に固定連結されると共に、円柱状の本体と半球状の端部を備える複数の位置制限柱２１が夫々設置される第１、第２の上部固定ロッド２と、第１、第２上部固定ロッドの下に平行に設置され、第１端が第１固定板に固定連結され、第２端が第２固定板に固定連結される下部固定ロッド３とを備える。シリコンウエハーの両側辺は、それぞれ第１、第２上部固定ロッドにおける隣接する２つの位置制限柱の間から挿入し、且つ、シリコンウエハーの底辺は、下部固定ロッドに受け止められる。
【選択図】図１

Description

本開示は、太陽電池の技術分野に関し、例えばシリコンウエハーの載置装置に関する。
シリコンをベースとして製造される太陽電池、例えば通常の電池、真性薄層を持つヘテロ接合（Ｈｅｔｅｒｏｊｕｎｃｔｉｏｎ ｗｉｔｈ Ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ Ｔｈｉｎ ｌａｙｅｒ、ＨＩＴ）電池、バックコンタクト（Ｉｎｔｅｒｄｉｇｉｔａｔｅｄ Ｂａｃｋ Ｃｏｎｔａｃｔ、ＩＢＣ）電池、ＰＥＲＬ（Ｐａｓｓｉｖａｔｅｄ ｅｍｉｔｔｅｒ ａｎｄ ｒｅａｒ ｌｏｃａｌｌｙ ｄｉｆｆｕｓｅｄ）電池、裏面電極型構造のヘテロ接合（Ｈｅｔｅｒｏｊｕｎｃｔｉｏｎ Ｂａｃｋ Ｃｏｎｔａｃｔ、ＨＢＣ）電池及びＰＥＲＣ（Ｐａｓｓｉｖａｔｅｄ Ｅｍｉｔｔｅｒ ａｎｄ Ｒｅａｒ Ｃｏｎｔａｃｔ）電池等は、構造上にいずれも結晶シリコンを含む。シリコンウエハーがパッシベーションされる前の、シリコンウエハーの洗浄、テクスチャ形成、乾燥などのプロセスにおけるシリコンウエハーの歩留まりは、電池の生産ラインの全体のコスト低下、歩留まりを確保する基礎である。シリコンウエハー表面の清潔度の向上も、電池セルの効率の向上を確保するための必要前提である。そのため、電池の製造工程において、シリコンウエハーを載置する工具の設計と選択が特に重要である。
従来技術では、結晶シリコンを量産する生産ラインにおいて、シリコンウエハーのテクスチャ形成や洗浄用のシリコンウエハーを載置する装置に、シリコンウエハー位置制限ロッドが設置され、当該シリコンウエハー位置制限ロッドは一般的に歯状であり、シリコンウエハーを取り扱うと、シリコンウエハー表面が歯状の先端に傷つけられやすく、後続のプロセスに影響を与え、効率の低下と外観の不良を起こす。
シリコンウエハーを載置する装置に支持ロッドが更に設置され、支持ロッドが適切に設計されないと、シリコンウエハーのテクスチャ形成、洗浄及び乾燥のデッドスペースを形成しやすく、例えば、シリコンウエハーの縁部にテクスチャ形成不良、洗浄不良又はウォーターマークの発生などの現象が現れる。
本願は、シリコンウエハーの引っ掻き傷を回避して歩留まりを向上させるシリコンウエハーの載置装置を提供することを目的とする。
本願は、
第１固定板及び第２固定板を含む一対の固定板と、
第１端が前記第１固定板に固定連結され、第２端が前記第２固定板に固定連結され、円柱状の本体と半球状の端部を含む複数の位置制限柱が設置された上部固定ロッドと、
第１端が前記第１固定板に固定連結され、第２端が前記第２固定板に固定連結された下部固定ロッドと、
を備えるシリコンウエハーの載置装置を提供する。
一実施例において、前記下部固定ロッドに複数の位置制限溝が設置される。
一実施例において、前記下部固定ロッドは、横板と、前記横板にそれぞれ鉛直固定された複数の係止板とを含み、前記複数の係止板において隣接する係止板同士の間に、それぞれ位置制限溝が形成される。
一実施例において、前記下部固定ロッドは、板体と、複数の位置制限突起とを含み、前記複数の位置制限突起は、前記板体に設置され、前記複数の位置制限突起において隣接する位置制限突起同士の間に、それぞれ位置制限溝が形成される。
一実施例において、各前記位置制限突起が半円柱状である。
一実施例において、前記板体の各前記位置制限溝にオーバーフロー穴が開設される。
一実施例において、前記位置制限柱の数は、１−３００の数値範囲にある。
一実施例において、前記第１固定板及び前記第２固定板に、それぞれ対流穴が設置される。
一実施例において、前記第１固定板及び前記第２固定板に、前記載置装置を取り出しやすくするための工具係合溝が設置される。
本願は、
対向設置される第１固定板及び第２固定板と、
対向設置される第１上部固定ロッド及び第２上部固定ロッドであって、前記第１上部固定ロッドの第１端が前記第１固定板に固定連結され、前記第１上部固定ロッドの第２端が記第２固定板に固定連結され、前記第２上部固定ロッドの第１端が前記第１固定板に固定連結され、前記第２上部固定ロッドの第２端が前記第２固定板に固定連結され、前記第１上部固定ロッド及び前記第２上部固定ロッドのそれぞれに、円柱状の本体と半球状の端部を備える複数の位置制限柱が設置される第１上部固定ロッド及び第２上部固定ロッドと、
前記第１上部固定ロッド及び前記第２上部固定ロッドの下に設置され、第１端が前記第１固定板に固定連結され、第２端が前記第２固定板に固定連結される下部固定ロッドと、を備えるシリコンウエハーの載置装置を更に提供する。
一実施例において、前記シリコンウエハーの両側辺は、それぞれ前記第１上部固定ロッド及び前記第２上部固定ロッドにおける隣接する位置制限柱同士の間から挿入され、且つ前記シリコンウエハーの底辺は、前記下部固定ロッドに受け止められる。
一実施例において、前記下部固定ロッドは、前記第１上部固定ロッド及び前記第２上部固定ロッドに対して平行である。
一実施例において、前記第１上部固定ロッド及び前記第２上部固定ロッドに設置される位置制限柱の数は同じであり、且つ１対１対応で配列される。
一実施例において、前記第１上部固定ロッドは、同側に固定される２つの第１上部固定ロッドを含み、２つの前記第１上部固定ロッドは、鉛直方向に沿って配列され、前記シリコンウエハーの第１側辺を固定するように構成され、前記第２上部固定ロッドは、同側に固定される２つの第２上部固定ロッドを含み、２つの前記第２上部固定ロッドは、鉛直方向に沿って配列され、前記シリコンウエハーの第２側辺を固定するように構成され、且つ、２つの前記第１上部固定ロッドの高さは、それぞれ２つの前記第２上部固定ロッドの高さと１対１対応で同じである。
一実施例において、前記下部固定ロッドに複数の位置制限溝が設置される。
一実施例において、各前記位置制限溝の幅は、前記シリコンウエハーの厚さより大きい。
一実施例において、各前記位置制限溝の幅は、前記シリコンウエハーの厚さの３倍−５倍の範囲にある。
一実施例において、前記下部固定ロッドの形状が円柱状であり、各前記位置制限溝は、前記下部固定ロッドにおいて溝加工することによって形成される。
一実施例において、各前記位置制限溝の長さは、前記下部固定ロッドの直径以下であり、各前記位置制限溝の深さは、前記下部固定ロッドの半径以下である。
一実施例において、前記下部固定ロッドは、板体と複数の位置制限突起を備え、前記複数の位置制限突起が前記板体に設置され、前記複数の位置制限突起において、隣接する位置制限突起同士の間にそれぞれ位置制限溝が形成される。
一実施例において、各前記位置制限突起が半円柱状である。
一実施例において、前記下部固定ロッドの各前記位置制限溝に、オーバーフロー穴が開設される。
一実施例において、前記位置制限柱の数は１−３００の数値範囲にある。
一実施例において、前記第１固定板及び前記第２固定板に、それぞれ対流穴が設置される。
一実施例において、前記第１固定板及び前記第２固定板に、それぞれ前記載置装置を取り出しやすくするための工具係合溝が設置される。
前記第１上部固定ロッドの形状及び前記第２上部固定ロッドの形状は、両方とも円柱状である。
本願に係るシリコンウエハーの載置装置は、位置制限柱の本体を円柱状にするとともに、端部を半球状にすることによって、シリコンウエハーの引っ掻き傷を回避でき、歩留まりを向上させた。
一実施例に係るシリコンウエハーの載置装置の構造平面図である。 図１のＡにおける拡大図である。 他の実施例に係るシリコンウエハーの載置装置の構造平面図である。 一実施例に係るシリコンウエハーの載置装置の斜視図である。 一実施例に係る下部固定ロッドの正面図である。 図５に示す下部固定ロッドの平面図である。 他の実施例に係る下部固定ロッドの正面図である。 図７に示す下部固定ロッドの平面図である。 図５に示す下部固定ロッドにオーバーフロー穴を設けたものの平面図である。 一実施例に係る第１固定板の側面図である。 他の実施例に係るシリコンウエハーの載置装置の構造平面図である。
以下、図面に例示される本願の実施例を説明する。ここで、全ての図面にわたって同じ又は類似の符号は、同じ又は類似の要素、或いは同じ又は類似の機能を有する要素を示す。以下、図面を参照しながら説明する実施例は、例示的なものであり、本願を説明するためのみに用いられ、本願を限定するものとして解釈することはできない。
図１は、一実施例に係るシリコンウエハーの載置装置の構造平面図であり、図２は、図１におけるＡでの拡大図である。
図１に示すように、本実施例は、シリコンウエハーの載置装置を提供する。当該シリコンウエハーの載置装置は、支持構造を提供するための一対の固定板を備える。一対の固定板は、第１固定板１ａと第２固定板１ｂを含む。当該シリコンウエハーの載置装置は、上部固定ロッド２と下部固定ロッド３を更に備える。上部固定ロッド２及び下部固定ロッド３は、両方とも対になって設置してもよく、上部固定ロッド２及び下部固定ロッド３の形状は、両方とも円柱状であってもよい。
図１と図２を同時に参照する。ここで、各上部固定ロッド２の第１端は、第１固定板１ａに固定連結され、各上部固定ロッド２の第２端は、第２固定板１ｂに固定連結され、各上部固定ロッド２に、シリコンウエハーの第１端を位置制限するための複数の位置制限柱２１が設置される。位置制限柱２１は、円柱状の本体と半球状の端部を備える。各下部固定ロッド３の第１端は、第１固定板１ａに固定連結され、各下部固定ロッド３の第２端は、第２固定板１ｂに固定連結される。位置制限柱２１の数は複数である。本実施例において、載置装置全体のサイズに応じて、位置制限柱２１の数を１−３００の数値範囲に設定することができる。
シリコンウエハーを洗浄する際に、シリコンウエハーの第２端は、下部固定ロッド３に配置される。一実施例において、各下部固定ロッド３に、シリコンウエハーの第２端を位置制限するための複数の位置制限溝３１が設置される。このようにして、シリコンウエハーの第２端を位置制限溝３１に配置し、シリコンウエハーの第１端を隣接する位置制限柱２１同士の間に配置できる。位置制限柱２１は、本体が円柱状であるとともに、半球状の端部を備えるような形状であるため、シリコンウエハーの引っ掻き傷を回避することができ、歩留まりが向上する。
位置制限溝３１の構造については様々な態様がある。一実施態様では、下部固定ロッド３は、横板と横板に鉛直固定された複数の係止板を備え、複数の係止板のうちの隣接する係止板同士の間に、それぞれ位置制限溝が形成される。
図２を参照し、一実施形態として、複数の位置制限突起３２を設置することによって上記位置制限溝３１を形成してもよい。一実施例において、位置制限溝３１は、円柱状の下部固定ロッド３において溝加工し、複数の位置制限突起３２及び位置制限溝３１を形成する。位置制限溝３１の長さは、下部固定ロッド３の直径以下であり、位置制限溝３１の深さは、下部固定ロッド３の半径以下かつ５ｍｍ以上である。
一実施例において、下部固定ロッド３は、板体と複数の位置制限突起３２を備え、複数の位置制限突起３２が板体に設置され、複数の位置制限突起３２において隣接する位置制限突起３２同士の間に、それぞれ位置制限溝３１が形成される。
シリコンウエハーの引っ掻き傷を更に回避するために、一実施例において、上記位置制限突起３２を半円柱状にする。位置制限突起３２は、他の形状であってもよく、面取りすればシリコンウエハーの引っ掻き傷を回避できることは理解されるであろう。
上記実施例を基に、本実施例に係るシリコンウエハーの載置装置において、板体の各位置制限溝３１に、オーバーフロー穴３３が開設される。オーバーフロー穴３３を設置することで、液体又はガスの流れを強化し、シリコンウエハーの洗浄、テクスチャ形成または乾燥に現れたデッドスペースによるシリコンウエハーの洗浄不良を減少することができる。また、加工手順が完了すると、取出装置は、位置制限溝の液溜めを回避し、溶液の排除を加速できる。更に、シリコンウエハーを当該洗浄装置とともに洗浄溶液に入れると、溶液には、オーバーフロー穴３３によって気泡が発生し、溶液における空気が、シリコンウエハーが配置される位置制限溝３１に流れることで、シリコンウエハーが位置制限溝３１において左右に揺動する。従来技術においてシリコンウエハーが静止状態であることに比べて、洗浄装置（又は洗浄バスケット）の痕跡が残留するような現象を回避した。
引き続き図１を参照し、一実施例において、第１固定板１ａ及び第２固定板１ｂに、それぞれ液体やガスの流れを強化し、溶液又はガスの均一性を向上させ、洗浄、テクスチャ形成、乾燥の効果の向上に寄与する対流穴４が設置される。
一実施例において、第１固定板１ａ及び第２固定板１ｂに工具係合溝１１が設置される。第１固定板１ａの上端及び第２固定板１ｂの上端に、当該洗浄装置を取り出しやすくするための工具係合溝１１がそれぞれ設置される。
図３は、本実施例に係る他のシリコンウエハーの載置装置の構造平面図であり、図４は、図３に示すシリコンウエハーの載置装置の斜視図である。図４において、第１固定板１ａ、第２固定板１ｂ、第１上部固定ロッド２ａ、第２上部固定ロッド２ｂ及び下部固定ロッド３のみを示し、図３における位置制限柱２１等の他の構造を示さない。図３と図４を参照し、本実施例に係るシリコンウエハーの載置装置は、対向設置される第１固定板１ａ及び第２固定板１ｂと、対向設置される第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂであって、第１上部固定ロッド２ａの第１端が第１固定板１ａに固定連結され、第１上部固定ロッド２ａの第２端が第２固定板１ｂに固定連結され、第２上部固定ロッド２ｂの第１端が第１固定板１ａに固定連結され、第２上部固定ロッド２ｂの第２端が第２固定板１ｂに固定連結され、第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂのそれぞれに、円柱状の本体と半球状の端部を備える複数の位置制限柱２１が設置される第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂと、第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂの下に設置され、第１端が第１固定板１ａに固定連結され、第２端が第２固定板１ｂに固定連結される下部固定ロッド３（図１において２つの下部固定ロッド３を例とする）と備える。
一実施例において、シリコンウエハーの両側辺は、それぞれ第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂにおける隣接する位置制限柱２１同士の間から挿入し、且つシリコンウエハーの底辺は、下部固定ロッド３に受け止められる。
一実施例において、第１上部固定ロッド２ａと第２上部固定ロッド２ｂとは平行に設置され、下部固定ロッド３は、第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂに対して平行に設置されるとともに、第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂの下に位置される。
一実施例において、第１固定板１ａ及び第２固定板１ｂの形状は、第１上部固定ロッド２ａ、第２上部固定ロッド２ｂ及び下部固定ロッド３を支持できれば、任意の形状であってもよい。例えば、第１固定板１ａ及び第２固定板１ｂの形状は、両方とも直方体又は円柱体等の形状であってもよい。
一実施例において、第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂに設置される位置制限柱２１の数は同じであり、且つ１対１対応で配列される。
一実施例において、第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂの構造では、第１上部固定ロッド２ａにおける位置制限柱２１を有する側の向きは、第２上部固定ロッド２ｂにおける位置制限柱２１を有する側の向きと異なること以外、同じである。
一実施例において、第１上部固定ロッド２ａの数は、１つ又は複数であってもよく、第２上部固定ロッド２ｂの数は、１つ又は複数であってもよい。
一実施例において、第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂの数は、同じである。例えば、第１上部固定ロッド２ａは、同側に固定される２つの第１上部固定ロッド２ａを含む。２つの第１上部固定ロッド２ａは、鉛直方向に沿って配列される。第２上部固定ロッド２ｂは、同側に固定される２つの第２上部固定ロッド２ｂを含む。２つの第２上部固定ロッド２ｂは、鉛直方向に沿って配列される。さらに、シリコンウエハーをより安定に固定するように、２つの第１上部固定ロッド２ａによってシリコンウエハーの第１側を固定し、２つの第２上部固定ロッド２ｂによってシリコンウエハーの第２側を固定する。
一実施例において、２つの第１上部固定ロッド２ａの高さは、２つの第２上部固定ロッド２ｂの高さと同じであり、且つそれぞれ一対一に対応してもよい。
一実施例において、１つ又は複数の下部固定ロッド３によってシリコンウエハーの底辺を受け止めるように、下部固定ロッド３の数は、１つ又は複数であってもよい。
シリコンウエハーを載置する際に、シリコンウエハーの第１側辺は、第１上部固定ロッド２ａにおける隣接する位置制限柱２１同士の間に配置され、第１側辺と対向するシリコンウエハーの第２側辺は、第２上部固定ロッド２ｂにおける隣接する位置制限柱２１同士の間に配置される。さらに、第１上部固定ロッド２ａ及び第２上部固定ロッド２ｂによって、シリコンウエハーの第１側辺及び第２側辺を固定する。第１側辺及び第２側辺にそれぞれ隣接するシリコンウエハーの底辺は、下部固定ロッド３に配置される。さらに、下部固定ロッド３でシリコンウエハーの底辺を受け止めることによって、シリコンウエハーの載置を実現する。
位置制限柱２１の本体の形状が円柱状であり、且つ端部の形状が半球状であるため、載置装置によるシリコンウエハーへの引っ掻き傷を回避することができ、歩留まりが向上する。
一実施例において、位置制限柱２１の数は、載置装置全体のサイズに応じて設置してもよく、載置のシリコンウエハーの数は、位置制限柱２１の数によって決められる。一実施例において、位置制限柱２１の数は、１−３００の数値範囲にある。
一実施例において、下部固定ロッド３に複数の位置制限溝３１が設置される。シリコンウエハーの底辺は、位置制限溝３１に配置される。
一実施例において、シリコンウエハーの位置制限溝３１からの脱落を回避するように、各位置制限溝３１の深さを５ｍｍ以上にする。
一実施例において、各位置制限溝３１の幅は、シリコンウエハーの厚さより大きい。
一実施例において、各位置制限溝３１の幅は、シリコンウエハーの厚さの３倍−５倍の範囲にある。
位置制限溝３１の実施形態は、様々である。以下、例を挙げて説明する。
図５と図６を参照し、図５は本実施例に係る下部固定ロッドの正面図であり、図６は、図５に示す下部固定ロッドの平面図である。一実施例において、下部固定ロッド３の形状が円柱状であり、各位置制限溝３１は、下部固定ロッド３１において溝加工することによって形成され、隣接する位置制限溝３１同士の間に１つの位置制限突起３２が形成される。
一実施例において、各位置制限溝３１の長さは、下部固定ロッド３の直径以下であり、各位置制限溝３１の深さは、下部固定ロッド３の半径以下である。
図７と図８を参照し、図７は、本実施例に係る他の下部固定ロッドの正面図であり、図８は、図７に示す下部固定ロッドの平面図である。一実施例において、下部固定ロッド３は、板体３４と複数の位置制限突起３２を備え、複数の位置制限突起３２が板体３４に設置され、複数の位置制限突起３２において隣接する位置制限突起３２同士の間に、それぞれ位置制限溝３１が形成される。
一実施例において、位置制限突起３２の形状が半円柱状である。
一実施例において、下部固定ロッド３の各位置制限溝３１にオーバーフロー穴３３が開設される。例えば、図５に示す下部固定３の各位置制限溝３１にオーバーフロー穴３３が開設され、オーバーフロー穴３３の平面図は、図９に示すようである。オーバーフロー穴３３を設置することで、液体又はガスの流れを強化し、シリコンウエハーの洗浄、テクスチャ形成または乾燥に現れたデッドスペースによるシリコンウエハーの洗浄不良を減少することができる。また、加工手順が完了すると、取出装置は、位置制限溝の液溜めを回避し、溶液の排除を加速できる。更に、シリコンウエハーを当該洗浄装置とともに洗浄溶液に入れると、溶液には、オーバーフロー穴３３によって気泡が発生し、溶液における空気が、シリコンウエハーが配置される位置制限溝３１に流れることで、シリコンウエハーが位置制限溝３１において左右に揺動する。従来技術においてシリコンウエハーが静止状態であることに比べて、洗浄の痕跡が残留するような現象を回避した。
図１０を参照し、図１０は、本実施例に係る第１固定板の側面図である。第２固定板の側面図は第１固定板の側面図と同じである。一実施例において、第１固定板１ａ及び第２固定板１ｂに、それぞれ対流穴４が設置される。
一実施例において、第１固定板１ａ及び第２固定板１ｂに、それぞれ複数の対流穴４が設置される。
一実施例において、対流穴４の形状及び位置は任意設定してもよい。例えば、対流穴４の横断面は、円形、正方形又は三角形等の形状であってもよい。
一実施例において、第１固定板１ａ及び第２固定板上１ｂに、それぞれ載置装置を取り出しやすくするための工具係合溝が設置される。
一実施例において、工具係合溝は、第１固定板１ａの頂上部及び第２固定板２ａの頂上部にそれぞれ設置され、又は、第１固定板１ａにおいて第１上部固定ロッド２ａの第１端に繋がる側面と対向する側面、及び第２固定板１ｂにおいて第１上部固定ロッド２ａの第２端に繋がる側面と対向する側面にそれぞれ設置されてもよい。
一実施例において、第１固定板１ａにおける工具係合溝の高さは、第２固定板１ｂにおける工具係合溝の高さと一致する。
一実施例において、第１上部固定ロッド２ａの形状及び第２上部固定ロッド２ｂの形状は、それぞれ円柱状である。
図１１を参照し、図１１は、本実施例に係る他のシリコンウエハーの載置装置の構造平面図である。一実施例において、シリコンウエハーをより確実に固定するために、載置装置は、押えロッド５を更に含んでもよい。押えロッド５の第１端が第１固定板１ａに固定連結され、押えロッド５の第２端が第２固定板１ｂに固定連結され、押え板５は、シリコンウエハーの底辺と対向するシリコンウエハーの頂辺を固定するように構成される。
一実施例において、押えロッド５に複数の位置制限溝３１が設置され、シリコンウエハーの第４側は、押えロッド５の位置制限溝３１に配置される。
以上、図面に示す実施例に基づいて本願の構造、特徴及び効果を説明したが、本願の実施例に過ぎない。
１ａ 第１固定板
１ｂ 第２固定板
１１ 工具係合溝
２ 上部固定ロッド
２ａ 第１上部固定ロッド
２ｂ 第２上部固定ロッド
２１ 位置制限柱
３ 下部固定ロッド
３１ 位置制限溝
３２ 位置制限突起
３３ オーバーフロー穴
３４ 板体
４ 対流穴
５ 押えロッド

Claims (15)

  1. 対向設置される第１固定板及び第２固定板と、
    対向設置される第１上部固定ロッド及び第２上部固定ロッドであって、前記第１上部固定ロッドの第１端が前記第１固定板に固定連結され、前記第１上部固定ロッドの第２端が前記第２固定板に固定連結され、前記第２上部固定ロッドの第１端が前記第１固定板に固定連結され、前記第２上部固定ロッドの第２端が前記第２固定板に固定連結され、前記第１上部固定ロッド及び前記第２上部固定ロッドのそれぞれに、円柱状の本体と半球状の端部を備える複数の位置制限柱が設置される第１上部固定ロッド及び第２上部固定ロッドと、
    前記第１上部固定ロッド及び前記第２上部固定ロッドの下に設置され、第１端が前記第１固定板に固定連結され、第２端が前記第２固定板に固定連結される下部固定ロッドと、を備える、シリコンウエハーの載置装置。
  2. 前記第１上部固定ロッド及び前記第２上部固定ロッドに設置される位置制限柱の数は同じであり、且つ１対１対応で配列される、請求項１に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  3. 前記第１上部固定ロッドは、同側に固定される２つの第１上部固定ロッドを含み、２つの前記第１上部固定ロッドは、鉛直方向に沿って配列され、前記シリコンウエハーの第１側辺を固定するように構成され、前記第２上部固定ロッドは、同側に固定される２つの第２上部固定ロッドを含み、２つの前記第２上部固定ロッドは、鉛直方向に沿って配列され、前記シリコンウエハーの第２側辺を固定するように構成され、且つ、２つの前記第１上部固定ロッドの高さは、それぞれ２つの前記第２上部固定ロッドの高さと１対１対応で同じである、請求項１又は２に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  4. 前記下部固定ロッドに複数の位置制限溝が設置される、請求項１、２又は３に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  5. 各前記位置制限溝の幅は、前記シリコンウエハーの厚さより大きい、請求項４に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  6. 各前記位置制限溝の幅は、前記シリコンウエハーの厚さの３倍−５倍の範囲にある、請求項５に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  7. 前記下部固定ロッドの形状が円柱状であり、各前記位置制限溝は、前記下部固定ロッドにおいて溝加工することによって形成される、請求項４、５又は６に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  8. 各前記位置制限溝の長さは、前記下部固定ロッドの直径以下であり、各前記位置制限溝の深さは、前記下部固定ロッドの半径以下である、請求項７に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  9. 前記下部固定ロッドは、板体と複数の位置制限突起を備え、前記複数の位置制限突起が前記板体に設置され、前記複数の位置制限突起において、隣接する位置制限突起同士の間にそれぞれ位置制限溝が形成される、請求項４、５又は６に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  10. 各前記位置制限突起が半円柱状である、請求項９に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  11. 前記下部固定ロッドの各前記位置制限溝に、オーバーフロー穴が開設される、請求項４から１０のいずれか１項に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  12. 前記位置制限柱の数は１−３００の数値範囲にある、請求項１から１１のいずれか１項に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  13. 前記第１固定板及び前記第２固定板に、それぞれ対流穴が設置される、請求項１から１２のいずれか１項に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  14. 前記第１固定板及び前記第２固定板に、それぞれ前記載置装置を取り出しやすくするための工具係合溝が設置される、請求項１から１３のいずれか１項に記載のシリコンウエハーの載置装置。
  15. 前記第１上部固定ロッドの形状及び前記第２上部固定ロッドの形状は、両方とも円柱状である、請求項１から１４のいずれか１項に記載のシリコンウエハーの載置装置。
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