JP2609815B2 - ウェット処理装置 - Google Patents
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造工程で
用いられるウェット処理装置に関し、特にウェーハを収
納するキャリアの構造に関する。
用いられるウェット処理装置に関し、特にウェーハを収
納するキャリアの構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程では、洗浄やエッ
チング等のウェット処理が行なわれるが、この処理には
薬液を入れる処理槽とウェーハを収納しこの処理槽に入
れるキャリアと、このキャリアを搬送する搬送治具から
なるウェット処理装置が用いられる。以下従来のキャリ
アとして特開昭６１−１７００４３号公報に示されたも
のを図４（ａ），（ｂ）を用いて説明する。
チング等のウェット処理が行なわれるが、この処理には
薬液を入れる処理槽とウェーハを収納しこの処理槽に入
れるキャリアと、このキャリアを搬送する搬送治具から
なるウェット処理装置が用いられる。以下従来のキャリ
アとして特開昭６１−１７００４３号公報に示されたも
のを図４（ａ），（ｂ）を用いて説明する。
【０００３】図４（ａ）に示すように従来のキャリア１
１は、テフロンからなる箱状の容器の長手方向に沿う両
側面に、対向して対をなす多数のガイド１２と溝１３を
設け、更にキャリア１１の長手方向に沿う両端面の上部
の４箇所に搬送治具のアームを係止するための切欠部１
４が設けられた構造となっており、ウェーハ１０は溝１
３内に直立して収納され等間隔に並べられる。
１は、テフロンからなる箱状の容器の長手方向に沿う両
側面に、対向して対をなす多数のガイド１２と溝１３を
設け、更にキャリア１１の長手方向に沿う両端面の上部
の４箇所に搬送治具のアームを係止するための切欠部１
４が設けられた構造となっており、ウェーハ１０は溝１
３内に直立して収納され等間隔に並べられる。
【０００４】このように構成されたキャリア１１は、図
４（ｂ）に示すように、例えば搬送機の先端に設けられ
た支点１６に接続され支点１６を中心に対をなして回動
するアーム１５Ａ，１５Ｂを２対用い、このアームの先
端をキャリア１１の切欠部１４に係止し、例えばエッチ
ング用の処理槽２０Ａ内に搬送されていた。尚、キャリ
ア１１は、搬送機により自動的に搬送される場合の他、
同様のアームを有する搬送治具により作業者により搬送
される場合もある。
４（ｂ）に示すように、例えば搬送機の先端に設けられ
た支点１６に接続され支点１６を中心に対をなして回動
するアーム１５Ａ，１５Ｂを２対用い、このアームの先
端をキャリア１１の切欠部１４に係止し、例えばエッチ
ング用の処理槽２０Ａ内に搬送されていた。尚、キャリ
ア１１は、搬送機により自動的に搬送される場合の他、
同様のアームを有する搬送治具により作業者により搬送
される場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のキャリ
アは、箱状に形成されている為、キャリアの大きさに合
せて処理槽２０Ａの大きさが決められる為、薬液や純水
の使用量が必要以上に多くなるという問題点がある。又
キャリアに溝１３を有する側壁がある為、薬液等の流れ
が悪くなり、ごみの付着の原因となったり、水洗時間を
長く必要とする等の問題点もある。
アは、箱状に形成されている為、キャリアの大きさに合
せて処理槽２０Ａの大きさが決められる為、薬液や純水
の使用量が必要以上に多くなるという問題点がある。又
キャリアに溝１３を有する側壁がある為、薬液等の流れ
が悪くなり、ごみの付着の原因となったり、水洗時間を
長く必要とする等の問題点もある。
【０００６】本発明の目的は、薬液及び純水の使用量が
少く、しかも水洗等の処理時間を短縮できるウェット処
理装置を提供することにある。
少く、しかも水洗等の処理時間を短縮できるウェット処
理装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のウェット処理装
置は、薬液を入れる処理層と、ウェーハを収納するキャ
リアと、このキャリアの上端部を保持して搬送する為の
搬送治具とを有するウェット処理装置において、前記キ
ャリアは、ウェーハの端部を挿入する為の複数の溝を有
する少くとも３本のバーと、ウェーハの下端部の少くと
も３箇所を前記溝に挿入しウェーハを直立させて保持で
きるように前記バーをウェーハの外径にそうように配列
してその両端部を固定し、かつ幅はウェーハの直径より
狭く形成され上端部がウェーハの中心部より下方に位置
する一対の支持板と、この支持板の外側の上端部に設け
られ前記搬送治具を構成するアームの先端のつめを係止
する為の一対の突起部とを含んで構成されることを特徴
とするものである。
置は、薬液を入れる処理層と、ウェーハを収納するキャ
リアと、このキャリアの上端部を保持して搬送する為の
搬送治具とを有するウェット処理装置において、前記キ
ャリアは、ウェーハの端部を挿入する為の複数の溝を有
する少くとも３本のバーと、ウェーハの下端部の少くと
も３箇所を前記溝に挿入しウェーハを直立させて保持で
きるように前記バーをウェーハの外径にそうように配列
してその両端部を固定し、かつ幅はウェーハの直径より
狭く形成され上端部がウェーハの中心部より下方に位置
する一対の支持板と、この支持板の外側の上端部に設け
られ前記搬送治具を構成するアームの先端のつめを係止
する為の一対の突起部とを含んで構成されることを特徴
とするものである。
【０００８】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１（ａ），（ｂ）は本発明の一実施例の
キャリアを説明する為の斜視図及びバー３の長手方向の
断面図、図２はキャリア１を処理槽に入れた場合の構成
図、図３はキャリア１と搬送治具の斜視図である。
て説明する。図１（ａ），（ｂ）は本発明の一実施例の
キャリアを説明する為の斜視図及びバー３の長手方向の
断面図、図２はキャリア１を処理槽に入れた場合の構成
図、図３はキャリア１と搬送治具の斜視図である。
【０００９】図１（ａ），（ｂ）及び図２に示すように
キャリア１は、ウェーハ１０の端部を挿入する為のＹ字
形の溝２が複数設けられたテフロン等からなる４本のバ
ー３と、このバー３の溝２内にウェーハ１０の下端部を
挿入しウェーハ１０を直立させて保持できるようにバー
３をウェーハ１０の外径にそうように配列しその両端部
を保持するウェーハ１０より幅の狭い一対の支持板４
と、この支持板４の外側の上端部に設けられ、搬送治具
を構成するアーム６Ａ，６Ｂの先端に設けられたＬ字形
のつめ７を係止する為の突起部５とから主に構成されて
いる。
キャリア１は、ウェーハ１０の端部を挿入する為のＹ字
形の溝２が複数設けられたテフロン等からなる４本のバ
ー３と、このバー３の溝２内にウェーハ１０の下端部を
挿入しウェーハ１０を直立させて保持できるようにバー
３をウェーハ１０の外径にそうように配列しその両端部
を保持するウェーハ１０より幅の狭い一対の支持板４
と、この支持板４の外側の上端部に設けられ、搬送治具
を構成するアーム６Ａ，６Ｂの先端に設けられたＬ字形
のつめ７を係止する為の突起部５とから主に構成されて
いる。
【００１０】このように構成されたキャリア１にはウェ
ーハ１０が収納され、搬送治具により薬液等で満された
処理槽２０内に搬送される。
ーハ１０が収納され、搬送治具により薬液等で満された
処理槽２０内に搬送される。
【００１１】キャリアを搬送する搬送治具は、例えば図
２及び図３に示したように、２本のアーム６Ａ，６Ｂ及
び６Ｃ，６Ｄがそれぞれ蝶つがい８の部分を支点として
開閉可能に構成され、アーム支持体９により連結された
ものとなっている。アームは常時開となるように蝶つが
いの部分にばねが入っており、キャリアを保持する際
は、アーム６Ａ，６Ｂ及び６Ｃ，６Ｄを手で握って閉
じ、その先端のつめ７を支持板の突起部５の下部に入れ
アームを開とする。この操作によりアームはキャリア１
を保持する為、アーム支持体を持つだけでキャリア１を
搬送できる。尚、キャリアの搬送を自動的に行う場合の
搬送治具としては、アーム支持体９の矢印の位置にモー
タを取り付けて２本のアーム６Ａ，６Ｂ及び６Ｃ，６Ｄ
をそれぞれ自動的に開閉できるようにし、このアーム支
持体９を上下，左右に可動の搬送機に取り付ける。
２及び図３に示したように、２本のアーム６Ａ，６Ｂ及
び６Ｃ，６Ｄがそれぞれ蝶つがい８の部分を支点として
開閉可能に構成され、アーム支持体９により連結された
ものとなっている。アームは常時開となるように蝶つが
いの部分にばねが入っており、キャリアを保持する際
は、アーム６Ａ，６Ｂ及び６Ｃ，６Ｄを手で握って閉
じ、その先端のつめ７を支持板の突起部５の下部に入れ
アームを開とする。この操作によりアームはキャリア１
を保持する為、アーム支持体を持つだけでキャリア１を
搬送できる。尚、キャリアの搬送を自動的に行う場合の
搬送治具としては、アーム支持体９の矢印の位置にモー
タを取り付けて２本のアーム６Ａ，６Ｂ及び６Ｃ，６Ｄ
をそれぞれ自動的に開閉できるようにし、このアーム支
持体９を上下，左右に可動の搬送機に取り付ける。
【００１２】このように本実施例によれば、ウェット処
理装置のキャリア１を溝２の形成されたバー３と突起部
５を有する支持板４とで構成し、しかも支持板４の幅を
ウェーハの幅より狭くしている為、処理槽２０の容積を
小さくできる。従って薬液や純水の使用量を少くでき
る。例えば、８インチのウェーハを処理する場合の処理
槽の容積は、従来４０ｌ必要であったものを３０ｌにで
きる。又キャリアは従来の箱形でない為、水溶液の流れ
が良くなり、水洗時間を従来の約５０〜６０％に短縮で
き、ごみの付着も約１／３に少くできる。
理装置のキャリア１を溝２の形成されたバー３と突起部
５を有する支持板４とで構成し、しかも支持板４の幅を
ウェーハの幅より狭くしている為、処理槽２０の容積を
小さくできる。従って薬液や純水の使用量を少くでき
る。例えば、８インチのウェーハを処理する場合の処理
槽の容積は、従来４０ｌ必要であったものを３０ｌにで
きる。又キャリアは従来の箱形でない為、水溶液の流れ
が良くなり、水洗時間を従来の約５０〜６０％に短縮で
き、ごみの付着も約１／３に少くできる。
【００１３】尚、上記実施例においては４本のバーを用
い、逆台形状の支持板を用いてキャリアを構成した場合
について説明したが、これに限定されるものではない。
バーは３本以上であればよく、支持板は長方形であって
もよい。又支持板の突起部５を突出した形のもので説明
したが、その端部をアームのつめ７の形状に合わせて下
方に曲げておけば、アームによるキャリアの保持をより
完全に行うことができる。
い、逆台形状の支持板を用いてキャリアを構成した場合
について説明したが、これに限定されるものではない。
バーは３本以上であればよく、支持板は長方形であって
もよい。又支持板の突起部５を突出した形のもので説明
したが、その端部をアームのつめ７の形状に合わせて下
方に曲げておけば、アームによるキャリアの保持をより
完全に行うことができる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウェット
処理装置のキャリアを、ウェーハの端部を挿入する溝を
有するバーと、ウェーハの幅より狭い幅の一対の支持板
とで構成することにより、処理槽の容積を小さくできし
かも水溶液の流れを良くできるため、薬液及び純水の使
用量が少く、しかも水洗等の処理時間を短縮できるウェ
ット処理装置が得られる。
処理装置のキャリアを、ウェーハの端部を挿入する溝を
有するバーと、ウェーハの幅より狭い幅の一対の支持板
とで構成することにより、処理槽の容積を小さくできし
かも水溶液の流れを良くできるため、薬液及び純水の使
用量が少く、しかも水洗等の処理時間を短縮できるウェ
ット処理装置が得られる。
【図１】本発明の一実施例のキャリアの斜視図とバーの
断面図。
断面図。
【図２】本発明の一実施例の構成図。
【図３】本発明の一実施例のキャリアと搬送治具との斜
視図。
視図。
【図４】従来のウェット処理装置のキャリアの側面図及
び搬送治具の使用状態を説明する為の構成図。
び搬送治具の使用状態を説明する為の構成図。
１，１１ キャリア ２ 溝 ３ バー ４ 支持板 ５ 突起部 ６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ，１５Ａ，１５Ｂ アーム ７ つめ ８ 蝶つがい ９ アーム支持体 １０ ウェーハ １２ ガイド １３ 溝 １４ 切欠部 １６ 支点 ２０，２０Ａ 処理槽
Claims (2)
- 【請求項１】 薬液を入れる処理層と、ウェーハを収納
するキャリアと、このキャリアの上端部を保持して搬送
する為の搬送治具とを有するウェット処理装置におい
て、前記キャリアは、ウェーハの端部を挿入する為の複
数の溝を有する少くとも３本のバーと、ウェーハの下端
部の少くとも３箇所を前記溝に挿入しウェーハを直立さ
せて保持できるように前記バーをウェーハの外径にそう
ように配列してその両端部を固定し、かつ幅はウェーハ
の直径より狭く形成され上端部がウェーハの中心部より
下方に位置する一対の支持板と、この支持板の外側の上
端部に設けられ前記搬送治具を構成するアームの先端の
つめを係止する為の一対の突起部とを含んで構成される
ことを特徴とするウェット処理装置。 - 【請求項２】 突起部の先端は下方に曲げられている請
求項１記載のウェット処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6170603A JP2609815B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | ウェット処理装置 |
| GB9514921A GB2291740B (en) | 1994-07-22 | 1995-07-20 | Wet processing system |
| US08/504,664 US6099686A (en) | 1994-07-22 | 1995-07-20 | Wet processing system |
| KR1019950021678A KR100193404B1 (ko) | 1994-07-22 | 1995-07-21 | 습식처리시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6170603A JP2609815B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | ウェット処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0837172A JPH0837172A (ja) | 1996-02-06 |
| JP2609815B2 true JP2609815B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=15907919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6170603A Expired - Fee Related JP2609815B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | ウェット処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6099686A (ja) |
| JP (1) | JP2609815B2 (ja) |
| KR (1) | KR100193404B1 (ja) |
| GB (1) | GB2291740B (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3623315B2 (ja) * | 1996-06-06 | 2005-02-23 | 信越半導体株式会社 | 円形薄板状物の支持治具 |
| KR100271772B1 (ko) * | 1998-09-29 | 2001-02-01 | 윤종용 | 반도체 습식 식각설비 |
| US6520191B1 (en) | 1998-10-19 | 2003-02-18 | Memc Electronic Materials, Inc. | Carrier for cleaning silicon wafers |
| JP2000124183A (ja) * | 1998-10-19 | 2000-04-28 | Memc Kk | シリコンウェーハ洗浄用キャリア |
| JP2003146704A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置 |
| KR20050045108A (ko) * | 2003-11-10 | 2005-05-17 | 주식회사 실트론 | 웨이퍼 고정용기 |
| US20100282695A1 (en) * | 2008-11-05 | 2010-11-11 | Mark Sandifer | High strength camfer on quartzware |
| ITMI20110646A1 (it) | 2011-04-15 | 2012-10-16 | St Microelectronics Srl | Apparecchiatura per la lavorazione di wafer semiconduttori, in particolare per realizzare una fase di processo di rimozione di polimeri. |
| CN206961808U (zh) * | 2017-07-14 | 2018-02-02 | 君泰创新（北京）科技有限公司 | 硅片清洗工装 |
| KR20220106900A (ko) * | 2021-01-22 | 2022-08-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 적재용 카세트 및 이를 이용한 기판 처리 방법 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3964957A (en) * | 1973-12-19 | 1976-06-22 | Monsanto Company | Apparatus for processing semiconductor wafers |
| US4515104A (en) * | 1983-05-13 | 1985-05-07 | Asq Boats, Inc. | Contiguous wafer boat |
| JPS61170043A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ウエハキヤリア搬送治具 |
| JP2561104B2 (ja) * | 1987-12-11 | 1996-12-04 | 富士通株式会社 | 半導体基板の湿式処理装置 |
| JP2901098B2 (ja) * | 1991-04-02 | 1999-06-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置および洗浄方法 |
| JP2528111Y2 (ja) * | 1991-12-04 | 1997-03-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | ウエハ保持ホルダ |
| US5301700A (en) * | 1992-03-05 | 1994-04-12 | Tokyo Electron Limited | Washing system |
| JP2888409B2 (ja) * | 1993-12-14 | 1999-05-10 | 信越半導体株式会社 | ウェーハ洗浄槽 |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP6170603A patent/JP2609815B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-07-20 GB GB9514921A patent/GB2291740B/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-20 US US08/504,664 patent/US6099686A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-21 KR KR1019950021678A patent/KR100193404B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6099686A (en) | 2000-08-08 |
| GB2291740A (en) | 1996-01-31 |
| GB9514921D0 (en) | 1995-09-20 |
| GB2291740B (en) | 1998-08-19 |
| JPH0837172A (ja) | 1996-02-06 |
| KR100193404B1 (ko) | 1999-06-15 |
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