JP2003146704A - 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置 - Google Patents

情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置

Info

Publication number
JP2003146704A
JP2003146704A JP2001345181A JP2001345181A JP2003146704A JP 2003146704 A JP2003146704 A JP 2003146704A JP 2001345181 A JP2001345181 A JP 2001345181A JP 2001345181 A JP2001345181 A JP 2001345181A JP 2003146704 A JP2003146704 A JP 2003146704A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
chemical strengthening
information recording
recording medium
nickel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001345181A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Hashimoto
潤一 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority to JP2001345181A priority Critical patent/JP2003146704A/ja
Priority to US10/288,077 priority patent/US20030090005A1/en
Priority to MYPI20024191A priority patent/MY129803A/en
Publication of JP2003146704A publication Critical patent/JP2003146704A/ja
Priority to US11/425,904 priority patent/US20060230788A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B11/00Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
    • G11B11/10Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
    • G11B11/10582Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐食性に優れるとともに、溶接等の加工性に
優れ、かつ耐熱性を向上させることができる情報記録媒
体用ガラス基板の化学強化処理装置を提供する。 【解決手段】 化学強化処理装置11は、化学強化槽1
2と、その中の化学強化塩の溶融液19中に浸漬される
ケージ13と、ガラス基板を保持しケージ13に収容さ
れるホルダーとから構成されている。これら化学強化槽
12、ケージ13及びホルダーは、ニッケル系合金によ
って形成されている。ニッケル系合金としてはインコネ
ル、ハステロイ等が挙げられるが、インコネルが最も好
ましい。そして、ガラス基板が溶融液中に浸漬されるこ
とにより、ガラス基板中のリチウムイオン又はナトリウ
ムイオンがそれよりイオン半径の大きいカリウムイオン
に置き換えられて圧縮応力層が形成され、ガラス基板の
化学強化処理が行われるようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク等
の磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等として
使用される情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装
置に関するものである。さらに詳しくは、ガラス基板の
化学強化工程において、硝酸カリウムなどの化学強化塩
の溶融液が収容される化学強化槽、溶融液中に浸漬され
ガラス基板が保持されるホルダー、そのホルダーが収容
されるケージなどの材質に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、情報技術(IT)の進歩は著し
く、磁気ディスク等の各種情報記録媒体の開発が盛んに
行われている。そして、例えばハードディスク(HD
D)用のガラス基板においては、電子製品の機能向上に
伴って高い表面平滑性と高い強度が要求されている。そ
のような要求を満たすために、ガラス基板表面に化学強
化処理を施すことが行われている。
【0003】この化学強化処理は、一般に複数のガラス
基板をホルダー内に保持し、そのホルダーを複数のケー
ジ内に収容した状態で、化学強化槽に収容された硝酸カ
リウムなどの化学強化塩の加熱溶融液中に浸漬されるこ
とにより行われる。このとき、ガラス中に含まれるナト
リウムなどのイオンがそれより大きなイオン半径を有す
るカリウムなどのイオンに置換されることにより、ガラ
ス基板の表面に圧縮応力層が形成されて強化される。そ
の後、精密研磨工程、水洗工程、乾燥工程等を経て目的
とする磁気記録媒体等に用いられるガラス基板が製造さ
れる。
【0004】前記化学強化塩の溶融液に触れる化学強化
槽、ホルダー及びケージは、耐食性、や耐熱性が良好で
あるとともに、熱膨張率が小さいことなどの性能が要求
される。このため、それらの装置の材質として、一般に
マルテンサイト系又はオーステナイト系のステンレス合
金が知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、マルテンサ
イト系又はオーステナイト系のステンレス合金は、硝酸
カリウムなどの化学強化塩の高温溶融液に長時間接触し
ているとステンレス合金中の鉄やクロムが酸化されて腐
食が発生する場合が見られる。その場合、腐食による錆
がガラス基板表面に付着し、そのような付着物がその後
の洗浄で取り除けないときにはガラス基板の品質を低下
させるという問題があった。
【0006】また、ステンレス合金は、各装置を加工す
るためにアーク溶接を行う場合、その溶接の熱により鉄
分が溶出し、その鉄分による錆が発生するおそれがあ
る。加えて、化学強化処理は350〜400℃という高
温で数時間行われるが、ステンレス合金はそのような高
温時における耐熱性が充分ではないという問題があっ
た。
【0007】本発明は、このような従来技術に存在する
問題点に着目してなされたものである。その目的とする
ところは、耐食性に優れるとともに、溶接等の加工性に
優れ、かつ耐熱性を向上させることができる情報記録媒
体用ガラス基板の化学強化処理装置を提供することにあ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1に記載の発明の情報記録媒体用ガラス基
板の化学強化処理装置は、情報記録媒体用のガラス基板
を複数枚保持する保持部材と、化学強化塩が加熱溶融さ
れた溶融液が収容され、保持部材が溶融液中に浸漬され
ることによりガラス基板中の一部のイオンがそれよりイ
オン半径の大きい化学強化塩のイオンによって置き換え
られてガラス基板の化学強化処理を行うための化学強化
槽とより構成され、これら保持部材及び化学強化槽の少
なくとも1つがニッケル系合金によって形成されている
ことを特徴とするものである。
【0009】請求項2に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の化学強化処理装置は、請求項1に記載の発明
において、前記ニッケル系合金は、ニッケル60重量%
以上、クロム5〜30重量%及び鉄7重量%以下の量で
含有するものである。
【0010】請求項3に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の化学強化処理装置は、請求項1又は請求項2
に記載の発明において、前記ニッケル系合金はインコネ
ルであるものである。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した実施形
態について図面に従って詳細に説明する。まず、磁気デ
ィスク等の情報記録媒体用ガラス基板の製造装置は、表
面研磨処理装置、化学強化処理装置及び水洗処理装置等
を備えている。そして、これらの装置を用い、シート状
に形成されたガラス素板の表面研磨処理、化学強化処理
及び水洗処理等を施すことにより情報記録媒体用のガラ
ス基板が得られる。
【0012】ガラス素板はシート状のガラスであれば、
どのような製造方法によって製造されたものであっても
よい。例えば、酸化スズ等の溶融金属上で所定の厚みに
成形されるフロート法によって製造されたガラス、重力
を利用したダウンドロー法によって製造されたガラス、
インゴットガラスをリドロー法でシート状にしたガラ
ス、金型上に落されたガラスをプレスして成形されたガ
ラス等であってもよい。
【0013】ガラス素板としては、二酸化珪素(SiO
2)、酸化ナトリウム(Na2O)及び酸化カルシウム
(CaO)を主成分としたソーダライムガラス、二酸化
珪素、アルミナ(Al23)、酸化ナトリウム及び酸化
リチウム(Li2O)を主成分としたアルミノシリケー
トガラス、その他ボロシリケートガラス、酸化リチウム
−二酸化珪素系ガラス、酸化リチウム−アルミナ−二酸
化珪素系ガラス等のガラスが使用される。また、その他
の成分として酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化チタ
ン(TiO2)、酸化ストロンチウム(SrO)等を含
有する化学強化用ガラスも使用される。ガラス素板は超
硬合金又はダイヤモンドを用いて円盤状(ドーナツ状)
に切断される。その大きさは、情報記録用のディスクと
して2インチ、2.5インチ、3インチなどの大きさに
対応して設定される。
【0014】表面研磨処理はガラス基板の周面の研磨、
記録面のラッピング研磨、精密研磨などから構成され
る。精密研磨は通常複数回に分けて順に研磨精度を高め
るように行われる。水洗処理は複数回行われ、加熱水を
使用したり、超音波を照射したりして行われる。
【0015】図1及び図2に示すように、化学強化槽1
2には化学強化塩が加熱溶融されて形成された溶融液1
9が収容されている。その溶融液19中には、図3に示
す保持部材としての化学強化用ホルダー(以下、単にホ
ルダーともいう)14が複数収容された同じく保持部材
としての化学強化用ケージ(以下、単にケージともい
う)13が浸漬されるようになっている。化学強化処理
装置11は、これら化学強化槽12、ホルダー14、ケ
ージ13、その他付帯装置などより構成されている。
【0016】化学強化槽12は、四隅に脚部15を備え
た四角箱状をなす化学強化槽本体16と、その化学強化
槽本体16の上部位置に設けられた予熱・冷却部17と
より構成されている。化学強化槽本体16の側壁及び底
壁には、加熱装置としてのシーズヒータ18が複数設け
られている。これらのシーズヒータ18により化学強化
塩の溶融液19が、好ましくはガラスの歪点より50〜
150℃低い温度に加熱される。この加熱温度は、さら
に好ましくは溶融液19自体の温度として350〜40
0℃である。加熱温度は勿論ガラス転移点より低い温度
である。ガラスの歪点より150℃低い温度からさらに
低温の場合、ガラス基板の化学強化が充分に行われず、
ガラスの歪点より50℃低い温度からさらに高温の場
合、ガラス基板に歪みが発生するおそれがあって好まし
くない。
【0017】化学強化槽本体16内の下部には、前記ケ
ージ13を載せるための受け枠23が設けられている。
さらに、化学強化槽本体16の底壁には、化学強化塩の
溶融液を排出するための付帯装置としての排出管24が
取付けられている。
【0018】次に、円盤状をなす多数枚のガラス基板を
保持する化学強化用のホルダーについて説明する。図3
に示すように、ホルダー14を構成するホルダー本体2
5は、左右一対の四角板状をなす側板26が複数の連結
板27により一定間隔になるように連結されて構成され
ている。両側板26にはそれぞれ複数のスリット28が
互いに対向するように設けられ、それらスリット28に
はガラス基板29を支持する板状の支持部材30の両端
が挿入係止されている。
【0019】この支持部材30はガラス基板29の中心
を通る水平線上の前後に一対及び底部に1個の合計3箇
所に配置され、そのような構成が前後に2列設けられて
いる。また、支持部材30は長さ方向に波状に形成され
るとともに、幅方向に湾曲形成され、その膨出部31が
ガラス基板29を支持する側に膨らんでいる。そして、
多数のガラス基板29は支持部材30の波状をなす部分
の溝部32に支持されるようになっている。そして例え
ば、1列に50枚のガラス基板29が支持されると、化
学強化用のホルダー14の1個について100枚のガラ
ス基板29が保持される。
【0020】続いて、化学強化用のホルダー14を収容
するケージ13について説明する。図4に示すように、
ケージ13を構成するケージ本体33は縦方向及び横方
向に延びる枠体34を接合することによって四角箱状に
形成されている。そして、前記ホルダー14が横方向に
延びる図示しない連結枠により並べて収容されるように
なっている。従って、例えば1個のケージ13に48個
のホルダー14が収容されると、ケージ13の1個につ
いて4800枚のガラス基板29が収容される。
【0021】図1に示すように、ケージ13を化学強化
槽12内の溶融液19中に降ろして浸漬させるようにな
っている。この場合、ケージ13を予熱・冷却部17で
予熱してから化学強化槽12内の溶融液19中に降ろし
て浸漬させるようにしてもよい。そして、ケージ13を
高温に加熱された溶融液19中に所定時間浸漬しておく
ことにより、ホルダー14に保持された多数のガラス基
板29表面が化学強化処理される。
【0022】すなわち、化学強化塩は硝酸カリウムと硝
酸ナトリウムとの粉末状の混合物よりなり、予め図示し
ない化学強化塩溶融槽で加熱溶融され、その溶融液が化
学強化槽12に貯留される。そして、ガラス基板29が
各化学強化槽12中の溶融液19中に浸漬され、ガラス
中のナトリウムイオン(Na+)及びリチウムイオン
(Li+)がそれらよりイオン半径の大きいカリウムイ
オン(K+)又はナトリウムイオン(Na+)に置き換え
られる(イオン交換される)。これにより、ガラス基板
29表面に圧縮応力層が形成され、ガラス基板29表面
が強化されるようになっている。
【0023】表面に化学強化処理が施されたガラス基板
29は、ガラス基板29の取扱い時の機械的な衝撃やガ
ラス基板29表面に磁性膜を形成する際に受ける熱衝撃
に耐えることができ、ハードディスクドライブに組み込
まれた後の長期間にわたる使用での信頼性を高めること
ができる。
【0024】前記化学強化用のホルダー14、化学強化
用のケージ13及び化学強化槽12は、耐食性に優れる
とともに、溶接等の加工性に優れ、かつ耐熱性を向上さ
せることができる点から、いずれもニッケル系合金によ
って形成されている。ニッケル系合金のうち、耐食性、
加工性及び耐熱性をバランス良く向上させることができ
る点から、ニッケル60重量%以上、クロム5〜30重
量%及び鉄7重量%以下の含有量を有するニッケル系合
金が好ましい。そのようなニッケル合金としては、イン
コネル(クロム15〜23重量%、モリブデン10重量
%以下、鉄2〜7重量%、ニオブとタンタルの合計量4
重量%以下、残りがニッケル)、ハステロイB(モリブ
デン28重量%、鉄5重量%以下、残りがニッケル)、
ハステロイC(クロム16〜22重量%、モリブデン1
3〜16重量%、タングステン4重量%以下、鉄5重量
%以下、残りがニッケル)等が挙げられる。
【0025】ニッケル系合金の中でも耐食性、加工性及
び耐熱性を最も高めることができる点から、インコネル
が最も好ましい。インコネルとしては、例えば大同イン
コアロイ(株)製のインコネルアロイ625(クロム2
0〜23重量%、モリブデン8〜10重量%、鉄2〜7
重量%、ニオブとタンタルの合計量3.15〜4.15
重量%、ニッケル58重量%以上)、三菱マテリアル
(株)製のMA625(クロム21.5重量%、モリブ
デン8〜10重量%、鉄2〜7重量%、ニオブとタンタ
ルの合計量4重量%以下、ニッケル58重量%以上)が
挙げられる。インコネルはニッケルを主成分としている
ので、鉄を主成分としているステンレス鋼に比べて硝酸
などの強酸に対する耐酸性や耐アルカリ性に示される耐
食性や耐酸化性に優れている。また、インコネルは引張
強さ、耐力、靭性などの機械的強度も良好である。従っ
て、この実施形態では化学強化用のホルダー14、ケー
ジ13及び化学強化槽12は、インコネルで形成されて
いる。
【0026】このようにして化学強化処理されたガラス
基板29は、精密研磨処理、水洗処理、さらに乾燥処理
が施される。その後、ガラス基板29の記録面に下地
膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜等が形成され、情報記録媒
体用のガラス基板29が製造される。
【0027】次に、上述したガラス基板29の化学強化
処理装置11を用いた化学強化処理方法について説明す
る。さて、図2に示すように、多数枚のガラス基板29
が保持されたホルダー14がケージ13に収容されて図
示しない搬送装置で保持される。一方、化学強化槽12
はシーズヒータ18により、化学強化塩の溶融液19が
ガラスの歪点より50〜150℃低い温度に加熱され
る。次いでケージ13は、化学強化槽12の予熱・冷却
部17まで降ろされて予熱され、その後さらに降ろされ
て化学強化槽本体16の溶融液19中に浸漬される。
【0028】その浸漬状態で数時間、例えば3〜5時間
保持されることにより、ガラス基板29中のナトリウム
イオン及びリチウムイオンがそれらよりイオン半径の大
きいカリウムイオンにイオン又はナトリウムイオンに交
換される。具体的には、ガラス基板29中のリチウムイ
オンがカリウムイオン又はナトリウムイオンにイオン交
換され、ナトリウムイオンがカリウムイオンに交換され
る。このため、ガラス基板29表面に100〜200μ
m程度の深さで圧縮応力層が形成され、ガラス基板29
表面が化学的に強化される。
【0029】ガラス基板29に対する化学強化処理が行
われた後、ホルダー14を収容したケージ13が引き上
げられ、予熱・冷却部17で冷却される。化学強化槽1
2では、このような化学強化処理が新たなガラス基板2
9について繰返して行われる。その後、化学強化槽12
内の溶融液19が排出管24から排出される。
【0030】実施形態の化学強化処理装置11におい
て、化学強化用のホルダー14、ケージ13及び化学強
化槽12は全てインコネルで形成されている。このた
め、各装置が複数種の硝酸塩からなる溶融液中に長時間
接触しても腐食に対して充分に耐え得ることができる。
これは、インコネルなどのニッケル系合金ではその表面
に緻密な不動体層が形成され、腐食の進行が阻止される
ことに基づくものと考えられる。しかも、溶融液が高温
であっても、その高温に対して充分に耐え得ることがで
きる。また、これらの各装置をアーク溶接等によって加
工する場合に容易に加工を行うことができる。
【0031】以上の実施形態により発揮される効果を以
下にまとめて説明する。 ・ 実施形態で説明した情報記録媒体用ガラス基板の化
学強化処理装置11では、化学強化槽12及び保持部材
としての化学強化用のホルダー14及びケージ13がい
ずれもニッケル系合金であるインコネルで形成されてい
る。このため、硝酸カリウム、硝酸ナトリウムなどの化
学強化塩の溶融液19に対する耐食性に優れるととも
に、各装置をアーク溶接等によって加工するときの加工
性に優れ、しかも化学強化時の高温における耐熱性にも
優れている。
【0032】・ また、これらの装置をニッケル60重
量%以上、クロム5〜30重量%及び鉄7重量%以下の
含有量を有するニッケル系合金で形成することにより、
耐食性、加工性及び耐熱性をバランス良く向上させるこ
とができる。
【0033】・ さらに、これらの装置をインコネルで
構成することにより、耐食性、加工性及び耐熱性に優れ
るうえに、耐酸化性及び機械的強度にも優れている。 ・ 従来のステンレス合金は鉄やクロムが酸化されて腐
食が発生し、腐食による錆がガラス基板表面に付着する
のに対し、ニッケル系合金は耐食性に優れているため、
そのような腐食による錆の発生を抑制することができ
る。従って、ガラス基板の品質を向上させることができ
る。
【0034】・ 化学強化処理装置11を構成する化学
強化槽12、ホルダー14及びケージ13が寿命の長い
ものとなり、生産性の向上に貢献することができる。な
お、本実施形態は、次のように変更して具体化すること
も可能である。
【0035】・ 前記実施形態では化学強化用のホルダ
ー14、ケージ13及び化学強化槽12の全てをニッケ
ル系合金であるインコネルで構成したが、各装置のいず
れか1つ又は2つ以上の装置をニッケル系合金で構成し
てもよい。
【0036】・ 化学強化槽12をニッケル系合金の薄
板で形成し、そのような薄板で形成された化学強化槽の
外側に薄板を保持するように鉄等の金属製容器又は金属
製枠体を設けてもよい。このように構成した場合、ニッ
ケル系合金の使用量を節約でき、製造コストを低減させ
ることができる。
【0037】・ 化学強化処理装置11の付帯装置、例
えば化学強化槽12の底部の排出管24、図示しない溶
融液19の供給管などをニッケル系合金で構成してもよ
い。 ・ 化学強化用のホルダー14をケージ13に収容する
ことなく、直接化学強化槽12の溶融液19中に浸漬し
てもよい。
【0038】・ ホルダー14の側板26にU字状又は
V字状の切欠きを設けたり、任意形状の貫通孔を設けて
もよい。この場合、側板26の部分を通って溶融液19
を流通させることができ、化学強化を効率良く行うこと
ができる。
【0039】次に、上記実施形態から把握できる技術的
思想について以下に追記する。 (1) 前記インコネルは、ニッケル58重量%以上、
クロム20〜23重量%及び鉄5重量%以下の量で含有
するものである請求項3に記載の情報記録媒体用ガラス
基板の化学強化処理装置。このように構成した場合、請
求項3の効果を最も有効に発揮することができる。 (2) ニッケル系合金はハステロイである請求項1か
ら請求項3のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラ
ス基板の化学強化処理装置。このように構成した場合、
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の発明の効
果を有効に発揮することができる。 (3) 化学強化塩の溶融液が接触する化学強化槽の付
帯装置がニッケル系合金によって形成されている請求項
1から請求項3のいずれか一項に記載の情報記録媒体用
ガラス基板の化学強化処理装置。このように構成した場
合、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の発明
の効果に加え、耐食性をより向上させることができる。
【0040】
【発明の効果】この発明は、以上のように構成されてい
るため、次のような効果を奏する。請求項1に記載の発
明の情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置によ
れば、耐食性に優れるとともに、溶接等の加工性に優
れ、かつ耐熱性を向上させることができる。
【0041】請求項2に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の化学強化処理装置によれば、請求項1に記載
の発明の効果に加え、耐食性、加工性及び耐熱性をバラ
ンス良く向上させることができる。
【0042】請求項3に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の化学強化処理装置によれば、請求項1又は請
求項2に記載の発明の効果に加え、耐食性、加工性及び
耐熱性を最も高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施形態における情報記録媒体用ガラス基板
の化学強化処理装置を示す断面図。
【図2】 化学強化処理装置を示す斜視図。
【図3】 複数のガラス基板を保持するホルダーを示す
斜視図。
【図4】 複数のホルダーを収容したケージを示す斜視
図。
【符号の説明】
11…化学強化処理装置、12…化学強化槽、13…保
持部材としての化学強化用ケージ、14…保持部材とし
ての化学強化用ホルダー、19…化学強化塩の溶融液、
29…ガラス基板。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 情報記録媒体用のガラス基板を複数枚保
    持する保持部材と、化学強化塩が加熱溶融された溶融液
    が収容され、保持部材が溶融液中に浸漬されることによ
    りガラス基板中の一部のイオンがそれよりイオン半径の
    大きい化学強化塩のイオンによって置き換えられてガラ
    ス基板の化学強化処理を行うための化学強化槽とより構
    成され、これら保持部材及び化学強化槽の少なくとも1
    つがニッケル系合金によって形成されていることを特徴
    とする情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置。
  2. 【請求項2】 前記ニッケル系合金は、ニッケル60重
    量%以上、クロム5〜30重量%及び鉄7重量%以下の
    量で含有するものである請求項1に記載の情報記録媒体
    用ガラス基板の化学強化処理装置。
  3. 【請求項3】 前記ニッケル系合金はインコネルである
    請求項1又は請求項2に記載の情報記録媒体用ガラス基
    板の化学強化処理装置。
JP2001345181A 2001-11-09 2001-11-09 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置 Pending JP2003146704A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001345181A JP2003146704A (ja) 2001-11-09 2001-11-09 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置
US10/288,077 US20030090005A1 (en) 2001-11-09 2002-11-05 Chemical strengthening treatment unit for applying chemical strengthening treatment to glass substrates used in information recording media applications
MYPI20024191A MY129803A (en) 2001-11-09 2002-11-08 Chemical strengthening treatment unit for applying chemical strengthening treatment to glass substrates used in information recording media applications
US11/425,904 US20060230788A1 (en) 2001-11-09 2006-06-22 Chemical strengthening treatment unit for applying chemical strengthening treatment to glass substrates used in information recording media application

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001345181A JP2003146704A (ja) 2001-11-09 2001-11-09 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003146704A true JP2003146704A (ja) 2003-05-21

Family

ID=19158568

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001345181A Pending JP2003146704A (ja) 2001-11-09 2001-11-09 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置

Country Status (3)

Country Link
US (2) US20030090005A1 (ja)
JP (1) JP2003146704A (ja)
MY (1) MY129803A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008127235A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Konica Minolta Opto Inc 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体
JP2009087408A (ja) * 2007-09-27 2009-04-23 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法
JP2015063433A (ja) * 2013-09-26 2015-04-09 旭硝子株式会社 冷却槽

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5622069B2 (ja) * 2009-01-21 2014-11-12 日本電気硝子株式会社 強化ガラス、強化用ガラス及び強化ガラスの製造方法
CN101921054A (zh) * 2010-09-09 2010-12-22 浙江大学 一种用于玻璃的化学钢化增强的熔盐及其应用工艺
CN103253858A (zh) * 2013-05-15 2013-08-21 苏州海寅光电科技有限公司 一种超薄玻璃强化工艺方法
CN112062480A (zh) * 2020-09-11 2020-12-11 河南卓金光电科技股份有限公司 一种超薄大板面玻璃的表面强化处理方法
KR20220106900A (ko) * 2021-01-22 2022-08-01 삼성디스플레이 주식회사 기판 적재용 카세트 및 이를 이용한 기판 처리 방법

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4279947A (en) * 1975-11-25 1981-07-21 Motorola, Inc. Deposition of silicon nitride
US4053294A (en) * 1976-05-19 1977-10-11 California Quartzware Corporation Low stress semiconductor wafer carrier and method of manufacture
US4149868A (en) * 1978-02-24 1979-04-17 American Optical Corporation Process for producing opthalmic lenses with gradated photochromic behavior
US5294240A (en) * 1992-09-01 1994-03-15 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of forming waveguides with ion exchange of halogen ions
US5709598A (en) * 1993-06-02 1998-01-20 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Abrasive tape and method of producing the same
US5429251A (en) * 1993-09-22 1995-07-04 Legacy Systems, Inc. Semiconductor wafer end effector
JP2609815B2 (ja) * 1994-07-22 1997-05-14 九州日本電気株式会社 ウェット処理装置
US6041938A (en) * 1996-08-29 2000-03-28 Scp Global Technologies Compliant process cassette
US6156121A (en) * 1996-12-19 2000-12-05 Tokyo Electron Limited Wafer boat and film formation method
US5972460A (en) * 1996-12-26 1999-10-26 Hoya Corporation Information recording medium
MY123825A (en) * 1996-12-30 2006-06-30 Hoya Corp Process for producing glass substrate for information recording medium and process for producing recording medium using said glass substrate.
US6430965B2 (en) * 1996-12-30 2002-08-13 Hoya Corporation Process for producing glass substrate for information recording medium and process for producing recording medium using said glass substrate
US6309595B1 (en) * 1997-04-30 2001-10-30 The Altalgroup, Inc Titanium crystal and titanium
EP0884934B1 (en) * 1997-06-10 2005-02-16 Canon Kabushiki Kaisha Substrate and method for producing it
DE69838575T2 (de) * 1997-11-28 2008-07-24 Maizuru Corp. Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Eisenmaterial und Salzbadofen dafür verwendet
JPH11238728A (ja) * 1997-12-16 1999-08-31 Fujitsu Ltd 半導体デバイスの製造の際に使用される熱処理治具及びその製造法
KR20000002833A (ko) * 1998-06-23 2000-01-15 윤종용 반도체 웨이퍼 보트
US6039187A (en) * 1998-08-17 2000-03-21 Micron Technology, Inc. Off center three point carrier for wet processing semiconductor substrates
JP2001143246A (ja) * 1999-11-16 2001-05-25 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用基板およびその製造方法、ならびにそれを用いた情報記録媒体および情報記録装置
JP2002150547A (ja) * 2000-11-06 2002-05-24 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2002324830A (ja) * 2001-02-20 2002-11-08 Mitsubishi Electric Corp 基板熱処理用保持具、基板熱処理装置、半導体装置の製造方法、基板熱処理用保持具の製造方法及び基板熱処理用保持具の構造決定方法
JP4274708B2 (ja) * 2001-05-14 2009-06-10 Hoya株式会社 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008127235A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Konica Minolta Opto Inc 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体
JP2009087408A (ja) * 2007-09-27 2009-04-23 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法
JP2015063433A (ja) * 2013-09-26 2015-04-09 旭硝子株式会社 冷却槽

Also Published As

Publication number Publication date
US20060230788A1 (en) 2006-10-19
MY129803A (en) 2007-04-30
US20030090005A1 (en) 2003-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20060230788A1 (en) Chemical strengthening treatment unit for applying chemical strengthening treatment to glass substrates used in information recording media application
JP4752966B2 (ja) データ記憶媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板
JP5964921B2 (ja) 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体
JP4213077B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法並びに情報記録媒体およびその製造方法
JP7135024B2 (ja) 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ
JP2003201148A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化用ホルダー
US7601446B2 (en) Substrate for information recording medium, information recording medium and method for manufacturing same
JP2003146705A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理方法
JP7328313B2 (ja) 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置
US20110151282A1 (en) Method for manufacturing glass substrate for data storage medium and glass substrate
JPWO2008068997A1 (ja) 記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板、記録媒体及び保持治具
WO2013035840A1 (ja) 携帯機器用カバーガラスの製造方法
CN113423670B (zh) 可离子交换的含锂铝硅酸盐玻璃
WO2004039738A1 (ja) 化学強化用ガラス、情報記録媒体用基板、情報記録媒体及び情報記録媒体の製造方法
US10766806B2 (en) Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium, and magnetic disk
JP2023166439A (ja) 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置
WO2003102928A1 (fr) Substrat pour support d'enregistrement d'information, support d'enregistrement d'information et procede de production de ce dernier
JP3920625B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化用ホルダー及びそれに用いられる支持部材
CN115432941A (zh) 玻璃强化熔融盐和玻璃强化方法
JP3679981B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板の化学強化装置
JP2003151125A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の洗浄用ホルダー
JP2005187239A (ja) ガラス基板およびガラス基板の製造方法、並びに、磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法
JP2008204521A (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および化学強化装置
JP2003137606A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置及び化学強化処理方法
JP2003146703A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びそれに使用する化学強化用ホルダー

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20040301

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040416

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20040908

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041020

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060913

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070116

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070319

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070508