JP2022107643A - 光学積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】非常に薄く、かつ、屈曲可能または折りたたみ可能な有機ＥＬ表示装置にも好適に適用され得る光学積層体を提供すること。【解決手段】本発明の光学積層体は、有機エレクトロルミネセンス表示装置に用いられる。この光学積層体は、表面保護層と偏光子と光学補償層とをこの順に備え、該表面保護層が可撓性であり、有機エレクトロルミネセンス表示装置のカバーガラスを代替する機能を有し、かつ、偏光子の保護層として機能する。表面保護層は、表面側から順にハードコート層と樹脂フィルムとを含み、曲率半径３ｍｍ以下２０万回折り曲げ可能な屈曲性を有し、曲率半径１ｍｍで１８０°の折り曲げを繰り返した後に折れ痕がつくまでの繰り返し回数が１００００回以上という復元性を有し、かつ、表面保護層の視認側表面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である。【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体に関する。

近年、スマートフォンに代表されるスマートデバイス、またデジタルサイネージやウィンドウディスプレイなどの表示装置が強い外光の下使用される機会が増加している。それに伴い、表示装置自体または表示装置に用いられるタッチパネル部やガラス基板、金属配線等の反射体による外光反射や背景の映り込み等の問題が生じている。特に、近年実用化されてきている有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置は、反射性の高い金属層を有するため、外光反射や背景の映り込み等の問題を生じやすい。そこで、位相差フィルム（代表的にはλ／４板）を有する円偏光板を視認側に反射防止フィルムとして設けることにより、これらの問題を防ぐことが知られている。

ところで、有機ＥＬ表示装置の薄型化が継続して要望されている。さらに、近年、有機ＥＬ表示装置のフレキシブル化・屈曲可能化に対する要望が強まっている。

特開２０１０－１３９５４８号公報 特開２００３－２０７６４０号公報 特開２００４－２２６８４２号公報 特許第３８１５７９０号

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、非常に薄く、かつ、屈曲可能または折りたたみ可能な有機ＥＬ表示装置にも好適に適用され得る光学積層体を提供することにある。

本発明の光学積層体は、有機エレクトロルミネセンス表示装置に用いられる。この光学積層体は、表面保護層と偏光子と光学補償層とをこの順に備え、該表面保護層が可撓性であり、有機エレクトロルミネセンス表示装置のカバーガラスを代替する機能を有し、かつ、偏光子の保護層として機能する。該表面保護層は、表面側から順にハードコート層と樹脂フィルムとを含み、曲率半径３ｍｍ以下２０万回折り曲げ可能な屈曲性を有し、曲率半径１ｍｍで１８０°の折り曲げを繰り返した後に折れ痕がつくまでの繰り返し回数が１００００回以上という復元性を有し、かつ、該表面保護層の視認側表面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である。

本発明の実施形態によれば、有機ＥＬ表示装置用光学積層体において、カバーガラスを代替する機能を有し、かつ、偏光子の保護層として機能する表面保護層を用いることにより、非常に薄く、かつ、屈曲可能または折りたたみ可能な有機ＥＬ表示装置にも好適に適用され得る光学積層体が得られ得る。

本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。 本発明の別の実施形態による光学積層体の概略断面図である。 本発明の１つの実施形態による有機ＥＬ表示装置の概略断面図である。 本発明の１つの実施形態による有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬ素子の概略断面図である。 実施例および比較例における耐屈曲性評価に用いた試験機の概略図である。

以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定したフィルムの面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（４５０）」は、２３℃における波長４５０ｎｍの光で測定したフィルムの面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（４５０）」は、２３℃における波長４５０ｎｍの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）液晶化合物の配向固化層
「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。
（６）角度
本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。

Ａ．光学積層体の全体構成
本発明の実施形態による光学積層体は、画像表示装置（例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置）、好ましくは屈曲可能（ベンダブル）な画像表示装置、より好ましくは屈曲可能な有機ＥＬ表示装置、さらに好ましくは折りたたみ可能（フォルダブル）な有機ＥＬ表示装置に用いられる。以下、簡単のため、光学積層体が屈曲可能または折りたたみ可能な有機ＥＬ表示装置に適用される場合について説明するが、光学積層体が液晶表示装置にも同様に適用され得ることは当業者に自明である。

図１は、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。本実施形態の光学積層体１００は、表面保護層１０と偏光子２０と光学補償層３０とをこの順に備える。表面保護層１０は可撓性である。さらに、表面保護層１０は、有機ＥＬ表示装置のカバーガラスを代替する機能を有し、かつ、偏光子２０の保護層として機能する。加えて、詳細は後述するように、表面保護層は、従来のカバーガラスに比べて格段に薄い。したがって、本発明の実施形態においては、表面保護層自体が薄いこと、および、偏光子の外側保護フィルムを省略することができることにより、有機ＥＬ表示装置の顕著な薄型化に貢献することができる。有機ＥＬ表示装置の薄型化は、デザインの選択幅を広げるので、商業的な価値が大きい。さらに、有機ＥＬ表示装置の薄型化と表面保護層が可撓性を有することとの相乗的な効果により、好ましくは屈曲可能な（より好ましくは折りたたみ可能な）有機ＥＬ表示装置を実現することができる。図示例では、表面保護層１０は、表面側から順にハードコート層１１と樹脂フィルム１２とを含む。樹脂フィルムの構成に応じて、ハードコート層は省略されてもよく、樹脂フィルムの両側にハードコート層が形成されてもよい。表面保護層１０は、好ましくは、曲率半径３ｍｍで２０万回折り曲げ可能な屈曲性を有する。表面保護層がこのような屈曲性を有することにより、光学積層体を有機ＥＬ表示装置に適用した場合に屈曲可能または折り畳み可能な有機ＥＬ表示装置を実現することができる。さらに、表面保護層１０の視認側表面（ハードコート層表面または樹脂フィルム表面）は、好ましくは、２Ｈ以上の鉛筆硬度と１０００ｇ荷重で３００回往復摩擦しても傷を生じない耐擦傷性とを有する。表面保護層がこのような表面特性を有することにより、表面保護層が有機ＥＬ表示装置のカバーガラスの代替として良好に機能し得る。

本実施形態においては、光学補償層３０は、位相差フィルムで構成されている。この場合、当該位相差フィルムは、偏光子の保護層（内側保護層）としても機能し得る。その結果、光学積層体（結果として、有機ＥＬ表示装置）のさらなる薄型化に貢献し得る。なお、必要に応じて、偏光子と位相差フィルムとの間に内側保護層（内側保護フィルム）が配置されてもよい。位相差フィルムの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍであり、かつ、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）の関係を満たす。位相差フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは３５°～５５°である。

図２は、本発明の別の実施形態による光学積層体の概略断面図である。本実施形態の光学積層体１０１においては、光学補償層３０は、液晶化合物の配向固化層（以下、単に液晶配向固化層と称する）の積層構造を有する。液晶化合物を用いることにより、得られる光学補償層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための光学補償層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、光学積層体（結果として、有機ＥＬ表示装置）のさらなる薄型化を実現することができる。具体的には、光学補償層３０は、偏光子２０の側から順に第１の液晶配向固化層３１と第２の液晶配向固化層３２とを有する。第１の液晶配向固化層３１の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１８０ｎｍ～３２０ｎｍであり、第２の液晶配向固化層３２の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍである。１つの実施形態においては、第１の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは１０°～２０°であり、第２の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは６５°～８５°である。別の実施形態においては、第１の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは６５°～８５°であり、第２の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは１０°～２０°である。図２の実施形態においても、必要に応じて、偏光子と第１の液晶配向固化層との間に内側保護層（内側保護フィルム）が配置されてもよい。

図１および図２のいずれの実施形態においても、光学補償層３０の偏光子２０と反対側に導電層（図示せず）が設けられてもよい。このような導電層を設けることにより、光学積層体は、表示セル（有機ＥＬセル）と偏光子との間にタッチセンサが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置に適用され得る。

図１および図２のいずれの実施形態においても、光学積層体の周縁部（より具体的には、有機ＥＬ表示装置のベゼルに対応する位置）に印刷層（図示せず）が形成されてもよい。印刷層は、表面保護層１０の偏光子２０側（実質的には、樹脂フィルム１２の偏光子２０側）に形成されてもよく、光学補償層３０の偏光子２０と反対側に形成されてもよい。印刷層が光学補償層３０の偏光子２０と反対側に形成され、かつ、導電層および印刷層の両方が形成される場合には、代表的には、光学補償層と導電層との間に印刷層が形成され得る。

１つの実施形態においては、本発明の光学積層体は長尺状である。長尺状の光学積層体は、例えば、ロール状に巻回されて保管および／または運搬され得る。

本発明の光学積層体の総厚みは、代表的には３０μｍ～３００μｍであり、好ましくは４０μｍ～２５０μｍである。これは、カバーガラスと円偏光板とを用いる従来の構成におけるカバーガラスと円偏光板との合計厚み（代表的には８００μｍ）に比べて格段に薄い。したがって、本発明の光学積層体は、有機ＥＬ表示装置の顕著な薄型化に貢献することができ、さらには屈曲可能なまたは折りたたみ可能な有機ＥＬ表示装置を実現することができる。

上記の実施形態は適宜組み合わせてもよく、上記の実施形態における構成要素に当業界で自明の改変を加えてもよく、上記の実施形態における構成を光学的に等価な構成に置き換えてもよい。

以下、光学積層体の構成要素について説明する。

Ｂ．表面保護層
Ｂ－１．表面保護層の特性
上記のとおり、表面保護層１０は、有機ＥＬ表示装置のカバーガラスを代替する機能を有し、かつ、偏光子２０の保護層として機能する。以下、表面保護層の特性についての説明における「表面保護層」は、樹脂フィルム単独の場合には樹脂フィルムを、ハードコート層と樹脂フィルムとを含む場合にはこれらの積層体を意味する。表面保護層は、曲率半径３ｍｍ以下（例えば、３ｍｍ、２ｍｍ、１ｍｍ）で好ましくは２０万回、より好ましくは３０万回、さらに好ましくは５０万回折り曲げ可能な屈曲性を有する。表面保護層がこのような屈曲性を有することにより、光学積層体を有機ＥＬ表示装置に適用した場合に屈曲可能または折り畳み可能な有機ＥＬ表示装置を実現することができる。表面保護層が樹脂フィルムの片側にハードコート層を有する場合、屈曲性の試験は、ハードコート層を内側にして折り曲げて行われる。屈曲性は、マンドリルを挟んで片側のチャックが１８０°折り曲げを繰り返す耐折試験機にて測定され得る。

表面保護層は、好ましくは、折り曲げ後の復元性を有する。折り曲げ後の復元性とは、折り曲げた後に折れ痕が残ることなく元の状態に戻ることをいう。折り曲げ後の復元性は、例えば表面保護層（樹脂フィルムまたは積層体）を曲率半径１ｍｍで１８０°の折り曲げを繰り返した後に折れ痕がつくまでの繰り返し回数で評価され得る。表面保護層は、好ましくは、当該条件で１００００回以上という復元性を有する。

表面保護層の視認側表面（ハードコート層表面または樹脂フィルム表面）は、好ましくは２Ｈ以上、より好ましくは３Ｈ以上、さらに好ましくは４Ｈ以上、特に好ましくは５Ｈ以上の鉛筆硬度を有する。さらに、当該視認側表面は、１０００ｇ荷重で好ましくは３００回、より好ましくは５００回、さらに好ましくは１０００回往復摩擦しても傷を生じない耐擦傷性を有する。鉛筆硬度および耐擦傷性がこのような範囲であれば、表面保護層がカバーガラスの代替として良好に機能し得る。鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ ５４００－５－４に準じて測定され得る。また、耐擦傷性は、スチールウール＃００００を用いて所定荷重（例えば、５００ｇ／ｃｍ^２、１０００ｇ／ｃｍ^２）で表面を所定の回数往復した際の傷の状態にて評価され得る。

表面保護層の光線透過率は、好ましくは９１％以上であり、より好ましくは９３％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。表面保護層のヘイズは、好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは０．４％以下であり、さらに好ましくは０．３％以下である。表面保護層の光線透過率および／またはヘイズがこのような範囲であれば、光学積層体が有機ＥＬ表示装置に適用された場合に良好な視認性を実現することができる。

Ｂ－２．ハードコート層
ハードコート層１１は、上記のとおり、樹脂フィルム１２の構成に応じて、樹脂フィルムの片側（代表的には、表面側）に形成されてもよく、樹脂フィルムの両側に形成されてもよく、省略されてもよい。

ハードコート層は、上記Ｂ－１項に記載の特性を満足し得る任意の適切な材料で構成され得る。構成材料の具体例としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、活性エネルギー線硬化型樹脂（例えば、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂）、二液混合型樹脂などが挙げられる。紫外線硬化型樹脂が好ましい。簡単な加工操作にて効率よくハードコート層を形成することができるからである。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種樹脂が挙げられる。これらは、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等を含む。好ましくは、アクリル系樹脂である。紫外線硬化型アクリル系樹脂は、紫外線重合官能基を好ましくは２個以上、より好ましくは３～６個有するモノマー成分およびオリゴマー成分を含む。代表的には、紫外線硬化型樹脂には、光重合開始剤が配合されている。硬化方式は、ラジカル重合方式であってもよく、カチオン重合方式であってもよい。１つの実施形態においては、上記構成材料にシリカ粒子やかご状シルセスキオキサン化合物などを配合した有機無機ハイブリッド材料を用いてもよい。ハードコート層の構成材料および形成方法は、例えば特開２０１１－２３７７８９号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。

ハードコート層は、上記構成材料にスライドリング材料を配合して形成されてもよい。スライドリング材料を配合することにより、良好な可撓性が付与され得る。スライドリング材料の代表例としてはポリロタキサンが挙げられる。ポリロタキサンは、代表的には、直鎖状のポリエチレングリコール（ＰＥＧ）主鎖をシクロデキストリン（ＣＤ）環状分子がスライドする構造を有する。ＰＥＧ主鎖の両末端はアダマンタンアミンで修飾され、ＣＤ環状分子の脱落が防止される。本発明に用いられるポリロタキサンにおいては、ＣＤ環状分子は化学修飾されて活性エネルギー線重合性基が付与されている。スライドリング材料を用いる場合、上記ハードコート層構成材料としては、ラジカル重合性基を有するラジカル重合性モノマーが好ましく用いられる。ラジカル重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。ポリロタキサンとの相溶性に優れ、かつ、多様な材料選択が可能となるからである。ポリロタキサン（実質的には、ＣＤ環状分子の重合性基）とハードコート層構成材料の活性エネルギー線硬化性成分とが反応して硬化すると、硬化後においても架橋点が可動であるハードコート層が得られる。その結果、折り曲げ時の応力を緩和することができ、折り曲げ耐久性が向上する。ポリロタキサンおよび硬化メカニズムは、例えば特開２０１５－１５５５３０号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。

ハードコート層は、上記構成材料にナノファイバーおよび／またはナノクリスタルを配合して形成されてもよい。ナノファイバーの代表例としては、セルロースナノファイバー、キチンナノファイバー、キトサンナノファイバーが挙げられる。これらを配合することにより、優れた透明性を維持しつつ、可撓性、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐摩耗性に優れたハードコート層が得られ得る。ナノファイバーおよび／またはナノクリスタル（組み合わせて用いる場合にはその合計）は、ハードコート層全体に対して好ましくは０．１重量％～４０重量％の割合で配合され得る。ナノファイバーは、平均繊維径が例えば１ｎｍ～１００ｎｍであり、平均繊維長が例えば１０ｎｍ～１０００ｎｍである。ナノファイバーを含むハードコート層は、例えば特開２０１２－１３１２０１号公報、特開２０１２－１７１１７１号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。

ハードコート層の厚みは、好ましくは１μｍ～２０μｍであり、より好ましくは２μｍ～１５μｍである。厚みが小さすぎると、硬度が不十分であったり、折り曲げ等に起因する寸法変化の抑制効果が不十分である場合がある。厚みが大きすぎると、屈曲性および／または折りたたみ性に悪影響を及ぼす場合がある。

Ｂ－３．樹脂フィルム
樹脂フィルムは、上記Ｂ－１項に記載の特性を満足し得る任意の適切な材料で構成され得る。構成材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。好ましくは、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂である。耐久性に優れるからである。

樹脂フィルムは、上記構成材料に微粒子を配合してもよい。より具体的には、樹脂フィルムは、上記構成材料のマトリックス中にナノメートルオーダーの微粒子が分散した、いわゆるナノコンポジットフィルムであってもよい。このような構成であれば、非常に優れた硬度および耐擦傷性が付与されるので、ハードコート層が省略され得る。微粒子の平均粒子径は、例えば１ｎｍ～１００ｎｍ程度である。微粒子は、代表的には無機酸化物で構成されている。好ましくは、微粒子は、所定の官能基で表面が修飾されている。微粒子を構成する無機酸化物としては、例えば、酸化ジルコニウム、イットリア添加酸化ジルコニウム、ジルコン酸鉛、チタン酸ストロンチウム、チタン酸スズ、酸化スズ、酸化ビスマス、酸化ニオブ、酸化タンタル、タンタル酸カリウム、酸化タングステン、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化ガリウム等、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウムが挙げられる。

樹脂フィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ～１００μｍであり、より好ましくは１０μｍ～８０μｍである。このような厚みであれば、薄型化、ハンドリング性、機械的強度のバランスに優れる。

Ｃ．偏光子
偏光子２０としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。

単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。

上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３～７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。

積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。

偏光子の厚みは、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ～１２μｍであり、さらに好ましくは３μｍ～１０μｍであり、特に好ましくは３μｍ～８μｍである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。さらに、偏光子の厚みがこのような範囲であれば、光学積層体（結果として、有機ＥＬ表示装置）の薄型化に貢献し得る。

偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは４３．０％～４６．０％であり、より好ましくは４４．５％～４６．０％である。偏光子の偏光度は、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。

Ｄ．光学補償層
Ｄ－１．位相差フィルムで構成される光学補償層
図１に示すように光学補償層が位相差フィルムで構成される場合、当該位相差フィルムは、いわゆるλ／４板として機能し得る。位相差フィルムの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍ、より好ましくは１３５ｎｍ～１５５ｎｍである。

位相差フィルムは、上述のとおり、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）の関係を満たす。すなわち、位相差フィルムは、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散の波長依存性を示す。位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．８以上１．０未満であり、より好ましくは０．８～０．９５である。Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（６５０）は、好ましくは０．８以上１．０未満であり、より好ましくは０．８～０．９７である。

位相差フィルムは、代表的には屈折率特性がｎｘ＞ｎｙの関係を示し、遅相軸を有する。位相差フィルム３０の遅相軸と偏光子２０の吸収軸とのなす角度は、上記のとおり３５°～５５°であり、より好ましくは３８°～５２°であり、さらに好ましくは４２°～４８°であり、特に好ましくは約４５°である。当該角度がこのような範囲であれば、位相差フィルムをλ／４板とすることにより、非常に優れた円偏光特性（結果として、非常に優れた反射防止特性）を有する光学積層体が得られ得る。

位相差フィルムは、ｎｘ＞ｎｙの関係を有する限り、任意の適切な屈折率楕円体を示す。好ましくは、位相差フィルムの屈折率楕円体は、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示す。なお、ここで「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。位相差フィルムのＮｚ係数は、好ましくは０．９～２であり、より好ましくは０．９～１．５であり、さらに好ましくは０．９～１．３である。このような関係を満たすことにより、光学積層体を有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。

位相差フィルムは、その光弾性係数の絶対値が、好ましくは２×１０^－１２（ｍ^２／Ｎ）以上であり、より好ましくは１０×１０^－１２（ｍ^２／Ｎ）～１００×１０^－１２（ｍ^２／Ｎ）であり、さらに好ましくは２０×１０^－１２（ｍ^２／Ｎ）～４０×１０^－１２（ｍ^２／Ｎ）である。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、小さい厚みでも十分な位相差を確保しつつ有機ＥＬ表示装置の屈曲性を維持することができ、さらに、屈曲時の応力による位相差変化（結果として、有機ＥＬ表示装置の色変化）をより抑制することができる。

位相差フィルムの厚みは、好ましくは１μｍ～７０μｍであり、より好ましくは１μｍ～２０μｍであり、さらに好ましくは１μｍ～１０μｍである。本発明の光学積層体は、所望の光学特性を維持しつつ従来のλ／４板よりも厚みが薄いフィルムを用いることができるので、光学積層体（結果として、有機ＥＬ表示装置）の薄型化に貢献することができる。

位相差フィルムは、上記のような特性を満足し得る任意の適切な樹脂で形成される。位相差フィルムを形成する樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、シクロオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、セルロースエステル系樹脂等が挙げられる。好ましくは、ポリカーボネート樹脂である。

上記ポリカーボネート樹脂としては、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切なポリカーボネート樹脂を用いることができる。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジオール、脂環式ジメタノール、ジ、トリまたはポリエチレングリコール、ならびに、アルキレングリコールまたはスピログリコールからなる群から選択される少なくとも１つのジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、を含む。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジメタノールに由来する構造単位ならびに／あるいはジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含み；さらに好ましくは、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、ジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含む。ポリカーボネート樹脂は、必要に応じてその他のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。なお、本発明に好適に用いられ得るポリカーボネート樹脂の詳細は、例えば、特開２０１４－１０２９１号公報、特開２０１４－２６２６６号公報に記載されており、当該記載は本明細書に参考として援用される。

ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、１１０℃以上２５０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１２０℃以上２３０℃以下である。ガラス転移温度が過度に低いと耐熱性が悪くなる傾向にあり、フィルム成形後に寸法変化を起こす可能性があり、又、得られる有機ＥＬ表示装置の画像品質を下げる場合がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、又フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１（１９８７）に準じて求められる。

前記ポリカーボネート樹脂の分子量は、還元粘度で表すことができる。還元粘度は、溶媒として塩化メチレンを用い、ポリカーボネート濃度を０．６ｇ／ｄＬに精密に調製し、温度２０．０℃±０．１℃でウベローデ粘度管を用いて測定される。還元粘度の下限は、通常０．３０ｄＬ／ｇが好ましく、より好ましは０．３５ｄＬ／ｇ以上である。還元粘度の上限は、通常１．２０ｄＬ／ｇが好ましく、より好ましくは１．００ｄＬ／ｇ、更に好ましくは０．８０ｄＬ／ｇである。還元粘度が前記下限値より小さいと成形品の機械的強度が小さくなるという問題が生じる場合がある。一方、還元粘度が前記上限値より大きいと、成形する際の流動性が低下し、生産性や成形性が低下するという問題が生じる場合がある。

位相差フィルムは、例えば、上記ポリカーボネート系樹脂から形成されたフィルムを延伸することにより得られる。ポリカーボネート系樹脂からフィルムを形成する方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。具体例としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。押出成形法またはキャスト塗工法が好ましい。得られるフィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、位相差フィルムに所望される特性等に応じて適宜設定され得る。

樹脂フィルム（未延伸フィルム）の厚みは、得られる位相差フィルムの所望の厚み、所望の光学特性、後述の延伸条件などに応じて、任意の適切な値に設定され得る。好ましくは５０μｍ～３００μｍである。

上記延伸は、任意の適切な延伸方法、延伸条件（例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向）が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮などの様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、長さ方向、幅方向、厚さ方向、斜め方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。

上記延伸方法、延伸条件を適宜選択することにより、上記所望の光学特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数）を有する位相差フィルムを得ることができる。

１つの実施形態においては、位相差フィルムは、樹脂フィルムを一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することにより作製される。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向（横方向）に延伸する方法が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは１．１倍～３．５倍である。

別の実施形態においては、位相差フィルムは、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して所定の角度の方向に連続的に斜め延伸することにより作製され得る。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して所定の角度の配向角（所定の角度の方向に遅相軸）を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールトゥロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。なお、上記所定の角度は、光学積層体において偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とがなす角度であり得る。当該角度は、上記のとおり、好ましくは３５°～５５°であり、より好ましくは３８°～５２°であり、さらに好ましくは４２°～４８°であり、特に好ましくは約４５°である。

斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および／または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。

上記延伸機において左右の速度をそれぞれ適切に制御することにより、上記所望の面内位相差を有し、かつ、上記所望の方向に遅相軸を有する位相差フィルム（実質的には、長尺状の位相差フィルム）が得られ得る。

斜め延伸の方法としては、例えば、特開昭５０－８３４８２号公報、特開平２－１１３９２０号公報、特開平３－１８２７０１号公報、特開２０００－９９１２号公報、特開２００２－８６５５４号公報、特開２００２－２２９４４号公報等に記載の方法が挙げられる。

上記フィルムの延伸温度は、位相差フィルムに所望される面内位相差値および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくはＴｇ－３０℃～Ｔｇ＋３０℃、さらに好ましくはＴｇ－１５℃～Ｔｇ＋１５℃、最も好ましくはＴｇ－１０℃～Ｔｇ＋１０℃である。このような温度で延伸することにより、本発明において適切な特性を有する位相差フィルムが得られ得る。なお、Ｔｇは、フィルムの構成材料のガラス転移温度である。

ポリカーボネート系樹脂フィルムとして市販のフィルムを用いてもよい。市販品の具体例としては、帝人社製の商品名「ピュアエースＷＲ－Ｓ」、「ピュアエースＷＲ－Ｗ」、「ピュアエースＷＲ－Ｍ」、日東電工社製の商品名「ＮＲＦ」が挙げられる。市販のフィルムをそのまま用いてもよく、市販のフィルムを目的に応じて２次加工（例えば、延伸処理、表面処理）して用いてもよい。

Ｄ－２．液晶配向固化層の積層体で構成される光学補償層
Ｄ－２－１．第１の液晶配向固化層
第１の液晶配向固化層３１は、いわゆるλ／２板として機能し得る。第１の液晶配向固化層をいわゆるλ／２板とし、後述の第２の液晶配向固化層をいわゆるλ／４板とし、これらの遅相軸を偏光子の吸収軸に対して所定の方向に設定することにより、広帯域において優れた円偏光特性を有する光学積層体が得られ得る。第１の液晶配向固化層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１８０ｎｍ～３２０ｎｍであり、より好ましくは２００ｎｍ～２９０ｎｍであり、さらに好ましくは２３０ｎｍ～２８０ｎｍである。

第１の液晶配向固化層の屈折率楕円体は、代表的にはｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を示す。第１の液晶配向固化層３１の遅相軸と偏光子２０の吸収軸とのなす角度は、上記のとおり好ましくは１０°～２０°であり、より好ましくは１３°～１７°であり、さらに好ましくは約１５°である。第１の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度がこのような範囲であれば、第１の液晶配向固化層および第２の液晶配向固化層の面内位相差をそれぞれ所定の範囲に設定し、第２の液晶配向固化層の遅相軸を偏光子の吸収軸に対して後述のような所定の角度で配置することにより、広帯域において非常に優れた円偏光特性（結果として、非常に優れた反射防止特性）を有する光学積層体が得られ得る。

第１の液晶配向固化層の厚みは、好ましくは１μｍ～７μｍであり、より好ましくは１．５μｍ～２．５μｍである。上記のとおり、液晶化合物を用いることにより、得られる光学補償層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための層厚みを格段に小さくすることができる。したがって、樹脂フィルムよりも格段に薄い厚みで樹脂フィルムと同等の面内位相差を実現することができる。

本実施形態においては、第１の液晶配向固化層は、代表的には、棒状の液晶化合物が所定の方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。液晶化合物の配向方向に遅相軸が発現し得る。液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。

液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋（すなわち、硬化）させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された第１の液晶配向固化層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第１の液晶配向固化層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた層となる。

液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０℃～１２０℃であり、さらに好ましくは５０℃～１００℃であり、最も好ましくは６０℃～９０℃である。

上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２－５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ－Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ－Ｓｉｌｌｉｃｏｎ－ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。

第１の液晶配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。このような配向処理を用いることにより、長尺状の基材の長尺方向に対して所定の方向に液晶化合物を配向させることができ、結果として、形成される液晶配向固化層の所定方向に遅相軸を発現させることができる。例えば、長尺状の基材上に長尺方向に対して１５°の方向に遅相軸を有する液晶配向固化層を形成することができる。このような液晶配向固化層は、斜め方向に遅相軸を有することが所望される場合であっても、ロールトゥロールを用いて積層することができるので、光学積層体の生産性が格段に向上し得る。１つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された配向固化層は、偏光子の表面に転写され得る。別の実施形態においては、基材は内側保護層（内側保護フィルム）であり得る。この場合には転写工程が省略され、配向固化層の形成から連続してロールトゥロールにより積層が行われ得る。

上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。

液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。

配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。

液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６－１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。

Ｄ－２－２．第２の液晶配向固化層
第２の液晶配向固化層３２は、いわゆるλ／４板として機能し得る。第２の液晶配向固化層をいわゆるλ／４板とし、第１の液晶配向固化層を上記のようにいわゆるλ／２板とし、これらの遅相軸を偏光子の吸収軸に対して所定の方向に設定することにより、広帯域において優れた円偏光特性を有する光学積層体が得られ得る。第２の液晶配向固化層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、上記のとおり好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍであり、より好ましくは１１０ｎｍ～１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ～１６０ｎｍである。

第２の液晶配向固化層の屈折率楕円体は、代表的にはｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を示す。第２の液晶配向固化層３２の遅相軸と偏光子２０の吸収軸とのなす角度は、上記のとおり好ましくは６５°～８５°であり、より好ましくは７２°～７８°であり、さらに好ましくは約７５°である。第２の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度がこのような範囲であれば、第１の液晶配向固化層および第２の液晶配向固化層の面内位相差をそれぞれ所定の範囲に設定し、第１の液晶配向固化層の遅相軸を偏光子の吸収軸に対して上記のような所定の角度で配置することにより、広帯域において非常に優れた円偏光特性（結果として、非常に優れた反射防止特性）を有する光学積層体が得られ得る。

第２の液晶配向固化層の厚みは、好ましくは０．５μｍ～２μｍであり、より好ましくは１μｍ～１．５μｍである。

第２の液晶配向固化層の構成材料、特性、製造方法等は、第１の液晶配向固化層に関して上記Ｄ－２－１項で説明したとおりである。

第１の液晶配向固化層３１の遅相軸と偏光子２０の吸収軸とのなす角度が約１５°であり、第２の液晶配向固化層３２の遅相軸と偏光子２０の吸収軸とのなす角度が約１５°である実施形態について説明したが、上記Ａ項で説明したとおり、この軸角度の関係は逆であってもよい。具体的には、第１の液晶配向固化層３１の遅相軸と偏光子２０の吸収軸とのなす角度は、好ましくは６５°～８５°、より好ましくは７２°～７８°、さらに好ましくは約７５°であってもよく；この場合、第２の液晶配向固化層３２の遅相軸と偏光子２０の吸収軸とのなす角度は、好ましくは１０°～２０°、より好ましくは１３°～１７°、さらに好ましくは約１５°であり得る。

Ｅ．導電層
導電層（図示せず）は、代表的には透明である（すなわち、導電層は透明導電層である）。光学補償層の偏光子と反対側に導電層を形成することにより、光学積層体は、表示セル（有機ＥＬセル）と偏光子との間にタッチセンサが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置に適用され得る。

導電層は、単独で光学積層体の構成層とされてもよく、基材との積層体（基材付導電層）として光学補償層に積層されてもよい。導電層単独で構成される場合には、導電層は、当該導電層が形成された基材から光学補償層に転写され得る。

導電層は、必要に応じてパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。結果として、電極が形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサ電極として機能し得る。パターンの形状はタッチパネル（例えば、静電容量方式タッチパネル）として良好に動作するパターンが好ましい。具体例としては、特表２０１１－５１１３５７号公報、特開２０１０－１６４９３８号公報、特開２００８－３１０５５０号公報、特表２００３－５１１７９９号公報、特表２０１０－５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。

導電層の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。例えば、後述の導電性ナノワイヤを用いれば、開口部が形成された透明導電層を形成することができ、光透過率の高い透明導電層を得ることができる。

導電層の密度は、好ましくは１．０ｇ／ｃｍ^３～１０．５ｇ／ｃｍ^３であり、より好ましくは１．３ｇ／ｃｍ^３～３．０ｇ／ｃｍ^３である。

導電層の表面抵抗値は、好ましくは０．１Ω／□～１０００Ω／□であり、より好ましくは０．５Ω／□～５００Ω／□であり、さらに好ましくは１Ω／□～２５０Ω／□である。

導電層の代表例としては、金属酸化物を含む導電層、導電性ナノワイヤを含む導電層、金属メッシュを含む導電層が挙げられる。好ましくは、導電性ナノワイヤを含む導電層または金属メッシュを含む導電層である。耐屈曲性に優れ、屈曲しても導電性が失われ難いので、良好に折り曲げ可能な導電層が形成され得るからである。

金属酸化物を含む導電層は、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム－スズ複合酸化物、スズ－アンチモン複合酸化物、亜鉛－アルミニウム複合酸化物、インジウム－亜鉛複合酸化物が挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム－スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。

導電性ナノワイヤを含む導電層は、導電性ナノワイヤを溶剤に分散させた分散液（導電性ナノワイヤ分散液）を、任意の適切な基材上に塗布した後、塗布層を乾燥させて、形成することができる。導電性ナノワイヤとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な導電性ナノワイヤが用いられ得る。導電性ナノワイヤとは、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。導電性ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。導電性ナノワイヤを含む導電層は、上記のとおり耐屈曲性に優れる。また、導電性ナノワイヤを含む導電層は、導電性ナノワイヤ同士が隙間を形成して網の目状となることにより、少量の導電性ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい導電層を得ることができる。さらに、導電性ナノワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い導電層を得ることができる。導電性ナノワイヤとしては、例えば、金属により構成される金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブを含む導電性ナノワイヤ等が挙げられる。

導電性ナノワイヤの太さｄと長さＬとの比（アスペクト比：Ｌ／ｄ）は、好ましくは１０～１００，０００であり、より好ましくは５０～１００，０００であり、さらに好ましくは１００～１０，０００である。このようにアスペクト比の大きい導電性ナノワイヤを用いれば、導電性ナノワイヤが良好に交差して、少量の導電性ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い導電層を得ることができる。なお、本明細書において、「導電性ナノワイヤの太さ」とは、導電性ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。導電性ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって確認することができる。

導電性ナノワイヤの太さは、好ましくは５００ｎｍ未満であり、より好ましくは２００ｎｍ未満であり、さらに好ましくは１ｎｍ～１００ｎｍであり、特に好ましくは１ｎｍ～５０ｎｍである。このような範囲であれば、光透過率の高い導電層を形成することができる。導電性ナノワイヤの長さは、好ましくは２．５μｍ～１０００μｍであり、より好ましくは１０μｍ～５００μｍであり、さらに好ましくは２０μｍ～１００μｍである。このような範囲であれば、導電性の高い導電層を得ることができる。

導電性ナノワイヤ（金属ナノワイヤ）を構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。金属ナノワイヤは、好ましくは、金、白金、銀および銅からなる群より選ばれた１種以上の金属により構成される。なかでも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅または金であり、より好ましくは銀である。また、上記金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。

カーボンナノチューブとしては、任意の適切なカーボンナノチューブが用いられ得る。例えば、いわゆる多層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、単層カーボンナノチューブ等が用いられる。なかでも、導電性が高い点から、単層カーボンナノチューブが好ましく用いられる。

金属メッシュとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な金属メッシュが用いられ得る。例えば、フィルム基材上に設けられた金属配線層が網目状にパターン形成されたものを用いることができる。

導電性ナノワイヤおよび金属メッシュの詳細は、例えば、特開２０１４－１１３７０５号公報および特開２０１４－２１９６６７号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。

導電層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ～１０μｍであり、より好ましくは０．０５μｍ～３μｍであり、さらに好ましくは０．１μｍ～１μｍである。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる導電層を得ることができる。なお、導電層が金属酸化物を含む場合、導電層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ～０．０５μｍである。

Ｆ．印刷層
印刷層は、上記のとおり、光学積層体の周縁部、より具体的には平面視で有機ＥＬ表示装置のベゼルに対応する位置に形成されている。これも上記のとおり、印刷層は、表面保護層１０の偏光子２０側（実質的には、樹脂フィルム１２の偏光子２０側）に形成されてもよく、光学補償層３０の偏光子２０と反対側に形成されてもよい。印刷層は、所定のデザインが施された意匠層であってもよく、ベタの着色層であってもよい。印刷層は、好ましくはベタの着色層であり、より好ましくは黒色の着色層である。黒色の着色層をベゼルに対応する位置に形成することにより、非表示領域を隠蔽することができるので、本実施形態の光学積層体を用いれば、ベゼルを用いない有機ＥＬ表示装置を実現することができる。その結果、最表面に段差のない、きわめて優れた外観を有する有機ＥＬ表示装置を提供することができる。さらに、印刷層を光学補償層に形成する場合には以下の利点が得られる：すなわち、このような構成であれば、印刷層は必然的に偏光子の下側（有機ＥＬ表示装置側）に配置されることとなり、その結果、印刷層の界面の反射光が偏光子により軽減される。したがって、さらに優れた外観を有する有機ＥＬ表示装置を実現することができる。

印刷層は、任意の適切なインキまたは塗料を用いた任意の適切な印刷法により形成することができる。印刷法の具体例としては、グラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリーン印刷、転写シートからの転写印刷が挙げられる。

使用されるインキまたは塗料は、代表的には、バインダーと着色剤と溶媒と必要に応じて用いられ得る任意の適切な添加剤とを含む。バインダーとしては、塩素化ポリオレフィン（例えば、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン）、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、セルロース系樹脂が挙げられる。バインダー樹脂は、単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。１つの実施形態においては、バインダー樹脂は熱重合性樹脂である。熱重合性樹脂は、光重合性樹脂に比べて使用量が少なくてすむので、着色剤の使用量（着色層における着色剤含有量）を増大させることができる。その結果、特に黒色の着色層を形成する場合に、全光線透過率が非常に小さく、優れた隠蔽性を有する着色層を形成することができる。１つの実施形態においては、バインダー樹脂はアクリル系樹脂であり、好ましくは多官能モノマー（例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート）を共重合成分として含むアクリル系樹脂である。多官能モノマーを共重合成分として含むアクリル系樹脂を用いることにより、適切な弾性率を有する着色層が形成され得るので、位相差フィルムをロール形状とする場合にブロッキングを良好に防止することができる。加えて、印刷層の厚みによる段差も形成され、当該段差がブロッキング防止に効果的に機能し得る。

着色剤としては、目的に応じて任意の適切な着色剤が用いられ得る。着色剤の具体例としては、チタン白、亜鉛華、カーボンブラック、鉄黒、弁柄、クロムバーミリオン、群青、コバルトブルー、黄鉛、チタンイエロー等の無機顔料；フタロシアニンブルー、インダスレンブルー、イソインドリノンイエロー、ベンジジンイエロー、キナクリドンレッド、ポリアゾレッド、ペリレンレッド、アニリンブラック等の有機顔料または染料；アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料；二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢顔料（パール顔料）が挙げられる。黒色の着色層を形成する場合には、カーボンブラック、鉄黒、アニリンブラックが好適に用いられる。この場合、着色剤は併用することが好ましい。可視光を広範囲かつ均等に吸収し、色付きのない（すなわち、真っ黒な）着色層を形成し得るからである。例えば、上記の着色剤に加えて、アゾ化合物および／またはキノン化合物が用いられ得る。１つの実施形態においては、着色剤は、主成分としてのカーボンブラックとその他の着色剤（例えば、アゾ化合物および／またはキノン化合物）とを含む。このような構成によれば、色つきがなく、かつ、経時安定性に優れた着色層を形成し得る。黒色の着色層を形成する場合には、着色剤は、バインダー樹脂１００重量部に対して、好ましくは５０重量部～２００重量部の割合で用いられ得る。この場合、着色剤中のカーボンブラックの含有割合は、好ましくは８０％～１００％である。このような割合で着色剤（特にカーボンブラック）を用いることにより、全光線透過率が非常に小さく、かつ、経時安定性に優れた着色層を形成することができる。

印刷層の厚みは、好ましくは３μｍ～５μｍである。さらに、印刷層は、厚み３μｍ～５μｍにおける全光線透過率が好ましくは０．０１％以下であり、より好ましくは０．００８％以下である。全光線透過率がこのような範囲であれば、ベゼルを用いることなく有機ＥＬ表示装置の非表示領域を良好に隠蔽することができる。

Ｇ．内側保護層（内側保護フィルム）
内側保護層（内側保護フィルム：図示せず）を設ける場合には、当該内側保護フィルムは、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ～１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－１０ｎｍ～＋１０ｎｍであることをいう。

内側保護フィルムの厚みは、好ましくは２０μｍ～２００μｍ、より好ましくは３０μｍ～１００μｍ、さらに好ましくは３５μｍ～９５μｍである。

内側保護フィルムは、上記所望の特性が得られる限り任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。

Ｈ．粘着剤層または接着剤層
本発明の光学積層体を構成する各層の積層には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が用いられる。より具体的には、表面保護層と偏光子とは、粘着剤層または接着剤層を介して積層されている。これらの積層以外の積層には、代表的には粘着剤層が用いられ得る。以下、便宜上、表面保護層と偏光子との積層に用いられる粘着剤層を単に粘着剤層と称し、これら以外の積層に用いられる粘着剤層を他の粘着剤層と称する。

粘着剤層を構成する粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ウレタン系粘着剤、フッ素系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤が挙げられる。粘着剤は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。透明性、加工性、耐久性などの点から、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。

粘着剤層の厚みは、代表的には１０μｍ～２５０μｍであり、好ましくは１０μｍ～１５０μｍである。粘着剤層は、単一層であってもよく、積層構造を有していてもよい。

粘着剤層の貯蔵弾性率（Ｇ’）は、２５℃において、好ましくは０．０１（ＭＰａ）～１．００（ＭＰａ）であり、より好ましくは０．０５（ＭＰａ）～０．５０（ＭＰａ）である。粘着剤層の貯蔵弾性率がこのような範囲であれば、非常に優れた屈曲性を有する光学積層体が得られ得る。結果として、屈曲可能または折りたたみ可能な有機ＥＬ表示装置を実現することができる。

接着剤層を構成する接着剤としては、任意の適切な形態の接着剤が採用され得る。具体例としては、水性接着剤、溶剤型接着剤、エマルション系接着剤、無溶剤型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、電子線硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、可視光線硬化型接着剤が挙げられる。水性接着剤および活性エネルギー線硬化型接着剤が好適に用いられ得る。水性接着剤の具体例としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステルが挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。また、カチオン重合硬化型接着剤としてエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。

接着剤層の貯蔵弾性率は、７０℃以下の領域で好ましくは１．０×１０^６Ｐａ以上であり、より好ましくは１．０×１０^７Ｐａ以上である。接着剤層の貯蔵弾性率の上限は、例えば１．０×１０^１０Ｐａである。接着剤層の貯蔵弾性率は光学積層体にヒートサイクル（－４０℃から８０℃など）をかけた際の偏光子クラックに影響し、貯蔵弾性率が低い場合、偏光子クラックの不具合が発生しやすい。高い貯蔵弾性率を有する温度領域は、より好ましくは８０℃以下であり、さらに好ましくは９０℃以下である。

接着剤層の厚みは、代表的には０．０１μｍ～７μｍであり、好ましくは０．０１μｍ～５μｍである。

他の粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。光学補償層（存在する場合には導電層）の外側に設けられる他の粘着剤層の表面には、光学積層体が使用に供されるまで、セパレーターが貼り合わされていることが好ましい。

Ｉ．有機ＥＬ表示装置
本発明の光学積層体が適用され得る画像表示装置の一例として、有機ＥＬ表示装置について説明する。なお、本発明の光学積層体は、上記のとおり液晶表示装置にも適用され得る。図３は、本発明の１つの実施形態による有機ＥＬ表示装置の概略断面図である。有機ＥＬ表示装置３００は、有機ＥＬ素子（有機ＥＬ表示セル）２００と、有機ＥＬ素子２００の視認側に光学積層体１００または１０１を備える。光学積層体は、上記Ａ項～Ｈ項に記載した本発明の光学積層体である。光学積層体は、光学補償層が有機ＥＬ素子側となるように（表面保護層が視認側となるように）積層されている。なお、光学積層体は、上記の光学積層体１００または１０１に限られず、図示していない本発明のさらに別の実施形態による光学積層体であってもよい。

有機ＥＬ表示装置は、好ましくは屈曲可能である。上記の本発明の光学積層体と後述の屈曲可能な有機ＥＬ素子とを組み合わせることにより、屈曲可能な有機ＥＬ表示装置が実現され得る。より詳細には、有機ＥＬ表示装置の少なくとも一部は、曲率半径が好ましくは１０ｍｍ以下で、より好ましくは８ｍｍ以下で屈曲可能である。有機ＥＬ表示装置は、任意の適切な部分で屈曲可能である。例えば、有機ＥＬ表示装置は、折り畳み式の表示装置のように中央部で屈曲可能であってもよく、デザイン性と表示画面を最大限に確保するという観点から端部で屈曲可能であってもよい。さらに、有機ＥＬ表示装置は、その長手方向に沿って屈曲可能であってもよく、その短手方向に沿って屈曲可能であってもよい。用途に応じて有機ＥＬ表示装置の特定部分が屈曲可能（例えば、四隅の一部または全部が斜め方向に屈曲可能）であればよいことは言うまでもない。

光学積層体１００を用いる場合（光学補償層が位相差フィルム３０で構成される場合）には、位相差フィルム３０の遅相軸方向が有機ＥＬ表示装置の屈曲方向に対して好ましくは２０°～７０°、より好ましくは３０°～６０°、さらに好ましくは４０°～５０°、特に好ましくは４５°近傍となるように、光学積層体１００が配置され得る。光学積層体１０１を用いる場合（光学補償層が第１の液晶配向固化層３１と第２の液晶配向固化層３２との積層構造を有する場合）には、第１の液晶配向固化層３１の遅相軸方向が有機ＥＬ表示装置の屈曲方向に対して好ましくは１０°～２０°、より好ましくは１１°～１９°、さらに好ましくは１２°～１８°、特に好ましくは１５°近傍となるように、光学積層体１０１が配置され得る。この場合、第２の液晶配向固化層３２の遅相軸方向は、有機ＥＬ表示装置の屈曲方向に対して好ましくは７０°～８０°、より好ましくは７１°～７９°、さらに好ましくは７２°～７８°、特に好ましくは７５°近傍となる。なお、第１の液晶配向固化層３１および第２の液晶配向固化層３２は非常に薄く屈曲の影響が少ないので、軸角度の調整は位相差フィルムの場合ほど厳密でなくてもよい。いずれの実施形態においても、光学補償層の遅相軸方向と有機ＥＬ表示装置の屈曲方向との関係を調整することにより、屈曲による色変化が抑制された屈曲可能な有機ＥＬ表示装置を得ることができる。１つの実施形態においては、有機ＥＬ表示装置３００（または有機ＥＬ素子２００）の屈曲方向は、長手方向または長手方向に直交する方向（短手方向）である。このような実施形態においては、光学積層体の偏光子２０の吸収軸を長手方向（または短手方向）に対して直交または平行に設定すれば、有機ＥＬ素子に積層される際、光学補償層の遅相軸を位置合わせする必要はなく、偏光子の吸収軸方向を位置合わせすればよい。このようにすれば、ロールトゥロールによる製造が可能となる。

Ｊ．有機ＥＬ素子
有機ＥＬ素子２００としては、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切な有機ＥＬ素子を採用することができる。図４は、本発明に用いられる有機ＥＬ素子の一形態を説明する概略断面図である。有機ＥＬ素子２００は、代表的には、基板２１０と、第１電極２２０と、有機ＥＬ層２３０と、第２電極２４０と、これらを覆う封止層２５０とを有する。有機ＥＬ素子２００は、必要に応じて、任意の適切な層をさらに有し得る。例えば、基板上に平坦化層（図示せず）を設けてもよく、第１電極と第２電極との間に短絡を防止するための絶縁層（図示せず）を設けてもよい。

基板２１０は、上記所定の曲率半径で屈曲可能である限りにおいて任意の適切な材料で構成され得る。基板２１０は、代表的には、可撓性を有する材料で構成される。可撓性を有する基板を用いれば、上記の本発明の効果に加えて、長尺状の光学積層体を用いる場合には、有機ＥＬ表示装置をいわゆるロールトゥロールプロセスで製造できるので、低コストおよび大量生産を実現し得る。さらに、基板２１０は、好ましくはバリア性を有する材料で構成される。このような基板は、有機ＥＬ層２３０を酸素や水分から保護し得る。バリア性および可撓性を有する材料の具体例としては、可撓性を付与した薄ガラス、バリア性を付与した熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂フィルム、合金、金属が挙げられる。熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体樹脂が挙げられる。合金としては、例えば、ステンレス、３６アロイ、４２アロイが挙げられる。金属としては、例えば、銅、ニッケル、鉄、アルミニウム、チタンが挙げられる。基板の厚みは、好ましくは５μｍ～５００μｍであり、より好ましくは５μｍ～３００μｍであり、さらに好ましくは１０μｍ～２００μｍである。このような厚みであれば、有機ＥＬ表示装置を上記所定の曲率半径で屈曲可能とすることができ、ならびに、可撓性、取り扱い性および機械的強度のバランスに優れる。また、有機ＥＬ素子をロールトゥロールプロセスに好適に用いることができる。

第１電極２２０は、代表的には陽極として機能し得る。この場合、第１電極を構成する材料としては、正孔注入性を容易にするという観点から、仕事関数の大きい材料が好ましい。このような材料の具体例としては、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物（ＩＴＳＯ）、酸化タングステンを含むインジウム酸化物（ＩＷＯ）、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物（ＩＷＺＯ）、酸化チタンを含むインジウム酸化物（ＩＴｉＯ）、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物（ＩＴＴｉＯ）、モリブテンを含む酸化インジウムスズ（ＩＴＭＯ）などの透明導電性材料；ならびに、金、銀、白金などの金属およびそれらの合金が挙げられる。

有機ＥＬ層２３０は、種々の有機薄膜を含む積層体である。図示例では、有機ＥＬ層２３０は、正孔注入性有機材料（例えば、トリフェニルアミン誘導体）からなり、陽極からの正孔注入効率を向上させるべく設けられた正孔注入層２３０ａと、例えば銅フタロシアニンからなる正孔輸送層２３０ｂと、発光性有機物質（例えば、アントラセン、ビス〔Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニル〕ベンジジン、Ｎ，Ｎ´－ジフェニル－Ｎ－Ｎ－ビス（１－ナフチル）－１，１´－（ビフェニル）－４，４´－ジアミン（ＮＰＢ））からなる発光層２３０ｃと、例えば８－キノリノールアルミニウム錯体からなる電子輸送層２３０ｄと、電子注入性材料（例えば、ペリレン誘導体、フッ化リチウム）からなり、陰極からの電子注入効率を向上させるべく設けられた電子注入層２３０ｅと、を有する。有機ＥＬ層２３０は、図示例に限定されず、発光層２３０ｃにおいて電子と正孔とが再結合して発光を生じさせ得る任意の適切な組み合わせが採用され得る。有機ＥＬ層２３０の厚みは、できる限り薄いことが好ましい。発光した光を可能な限り透過させることが好ましいからである。有機ＥＬ層２３０は、例えば５ｎｍ～２００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ程度のきわめて薄い積層体で構成され得る。

第２電極２４０は、代表的には陰極として機能し得る。この場合、第２電極を構成する材料としては、電子注入を容易にして発光効率を上げるという観点から、仕事関数の小さい材料が好ましい。このような材料の具体例としては、アルミニウム、マグネシウムおよびこれらの合金が挙げられる。

封止層２５０は、任意の適切な材料で構成される。封止層２５は、好ましくは、バリア性および透明性に優れた材料で構成される。封止層を構成する材料の代表例としては、エポキシ樹脂、ポリ尿素が挙げられる。１つの実施形態においては、封止層２５０は、エポキシ樹脂（代表的には、エポキシ樹脂接着剤）を塗工し、その上にバリア性シートを貼り付けて形成してもよい。

有機ＥＬ素子２００は、好ましくは、ロールトゥロールプロセスで連続的に製造され得る。有機ＥＬ素子２００は、例えば２０１２－１６９２３６号公報に記載の手順に準じた手順で製造され得る。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。さらに、有機ＥＬ素子２００は、長尺状の光学積層体１００とロールトゥロールプロセスで連続的に積層されて、有機ＥＬ表示装置３００が連続的に製造され得る。

なお、屈曲可能な有機ＥＬ表示装置の詳細は、例えば、特許第４６０１４６３号または特許第４７０７９９６号に記載されている。これらの記載は、参考として本明細書に援用される。

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。

＜実施例１＞
１－１．位相差フィルム１
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。９，９－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＨＥＰＦ）、イソソルビド（ＩＳＢ）、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）、および酢酸マグネシウム４水和物を、モル比率でＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ／ＤＰＣ／酢酸マグネシウム＝０．４３８／０．５３７／０．０２５／１．００５／１．００×１０^－５になるように仕込んだ。反応器内を十分に窒素置換した後（酸素濃度０．０００５～０．００１ｖｏｌ％）、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。
第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、反応液をストランドの形態で抜出し、回転式カッターでペレット化を行い、ＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ＝４３．８／５３．７／２．５［ｍｏｌ％］の共重合組成のポリカーボネート樹脂を得た。このポリカーボネート樹脂の還元粘度は０．４３０ｄＬ／ｇ、ガラス転移温度は１４５℃であった。
得られたポリカーボネート樹脂を８０℃で５時間真空乾燥した後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２４０℃）、Ｔダイ（幅９００ｍｍ、設定温度：２４０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１２５μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。
上記のようにして得られたポリカーボネート樹脂フィルムから幅２５０ｍｍ、長さ２５０ｍｍの試料を切り出した。そして、この試料を、バッチ式二軸延伸装置（ブルックナー社製 商品名「ＫＡＲＯ－ＩＶ」）にて、延伸温度１４５．６℃、延伸倍率２．４倍で固定端一軸横延伸し、厚み５８μｍの位相差フィルム１を作製した。

１－２．偏光子
（偏光子Ａ１の作製）
吸水率０．７５％、Ｔｇ７５℃の非晶質のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート（ＩＰＡ共重合ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ）基材の片面にコロナ処理を施し、このコロナ処理面に、ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（重合度１２００、アセトアセチル変性度４．６％、ケン化度９９．０モル％以上、日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーＺ２００」）を９：１の比で含む水溶液を２５℃で塗布および乾燥して、厚み１１μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１２０℃のオーブン内で周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に２．０倍に自由端一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
次いで、積層体を、液温３０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴に、偏光板が所定の透過率となるようにヨウ素濃度、浸漬時間を調整しながら浸漬させた。本実施例では、水１００重量部に対して、ヨウ素を０．２重量部配合し、ヨウ化カリウムを１．０重量部配合して得られたヨウ素水溶液に６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温３０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を３重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合し、ヨウ化カリウムを５重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
その後、積層体を液温３０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
以上により、厚み５μｍの偏光子Ａ１を含む光学フィルム積層体を得た。

１－３．円偏光板
（保護フィルムＢ１の作製）
保護フィルム（ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル樹脂フィルム：厚み４０μｍ）の片面（偏光子と接着される面）にコロナ処理を施して用いた。
（保護フィルムＢ１へのハードコート処理）
１５官能ウレタンアクリルオリゴマー（新中村化学社製、商品名：ＮＫ オリゴ ＵＡ－５３Ｈ、重量平均分子量：２３００）４０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（大阪有機化学工業社製、商品名：ビスコート＃３００）４０部、４－ヒドロキシブチルアクリレート（４－ＨＢＡ）（大阪有機化学工業社製）１６部、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学社製 商品名：Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ）４部、レベリング剤（ＤＩＣ社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ－４１００）５部、光重合開始剤（チバ・ジャパン社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈してハードコート層形成用組成物を調製した。
保護フィルムＢ１上に、得られたハードコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、当該塗布層を９０℃で１分間加熱した。加熱後の塗布層に高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して厚み５μｍのハードコート層を形成した。
（保護フィルムに適用する接着剤の作製）
Ｎ－ヒドロキシエチルアクリルアミド（ＨＥＡＡ）４０重量部とアクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）６０重量部と光開始剤「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９」（ＢＡＳＦ社製）３重量部を混合し、紫外線硬化型接着剤を調製した。
（偏光板の作製）
上記偏光子Ａ１の片側に上記紫外線硬化型接着剤を介してハードコート層を有する保護フィルムＢ１を貼り合せた。次いで上記偏光子のもう片側に、上記紫外線硬化型接着剤を介して上記位相差フィルムを貼り合せた。ここで、位相差フィルムの遅相軸が偏光子の吸収軸に対して反時計まわりに４５°となるように貼り合せ、円偏光板（光学積層体）を作製した。

１－４．粘着剤
本実施例で使用する粘着層を以下の方法により作製した。
（（メタ）アクリル系ポリマーの調製）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート（ＢＡ）９９重量部、４－ヒドロキシブチルアクリレート（ＨＢＡ）１重量部を含有するモノマー混合物を仕込んだ。さらに、前記モノマー混合物（固形分）１００重量部に対して、重合開始剤として２，２´－アゾビスイソブチロニトリルを０．１重量部を酢酸エチルと共に仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した後、フラスコ内の液温を５５℃付近に保って７時間重合反応を行った。その後、得られた反応液に、酢酸エチルを加えて、固形分濃度３０％に調整した、重量平均分子量１６０万の（メタ）アクリル系ポリマーの溶液を調製した。
（アクリル系粘着剤組成物の調製）
得られた（メタ）アクリル系ポリマー溶液の固形分１００重量部に対して、イソシアネート系架橋剤（商品名：タケネートＤ１１０Ｎ、トリメチロールプロパンキシリレンジイソシアネート、三井化学（株）製）０．２重量部と、シランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ４０３、信越化学工業（株）製）０．０８重量部を配合して、アクリル系粘着剤組成物を調製した。

１－５．光学積層体１の作製
上記アクリル系粘着剤組成物を、シリコーン系剥離剤で処理された厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（セパレータ）の表面に、ファウンテンコータで均一にて塗工し、１５５℃の空気循環式恒温オーブンで２分間乾燥し、セパレータ表面に厚さ２５μｍの粘着剤層を形成した。次いで、上記で得られた円偏光板の位相差フィルム側に上記粘着剤層を介してセパレータを貼り合わせ、当該セパレータを剥離した後ＰＥＴフィルム（厚み３８μｍ：屈曲性有機ＥＬパネルを想定）を貼り合わせ、光学積層体１を作製した。

＜実施例２＞
２－１．透明導電性フィルム１
（硬化樹脂層の形成）
紫外線硬化性樹脂組成物（ＤＩＣ社製 商品名「ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）ＲＳ２９－１２０」）を１００重量部と、最頻粒子径が１．９μｍであるアクリル系球状粒子（綜研化学社製 商品名「ＭＸ－１８０ＴＡ」）を０．００２重量部とを含む、球状粒子入り硬化性樹脂組成物を準備した。準備した球状粒子入り硬化性樹脂組成物を厚みが２３μｍ、幅１５５０ｍｍの長尺状の基材（ポリシクロオレフィンフィルム、日本ゼオン製 商品名「ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）」）の一方の面に塗布し、塗布層を形成した。次いで、塗布層が形成された側から塗布層に紫外線を照射して、厚みが１．０μｍとなるように第２硬化樹脂層を形成した。基材の他方の面に、球状粒子を含まないこと以外は上記と同様の方法で、厚みが１．０μｍとなる様に第１硬化樹脂層を形成した。さらに、第１硬化樹脂層上に、平均粒径が３０ｎｍの酸化ジルコニウム粒子とアクリル系樹脂のバインダーで構成された有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７４１２（登録商標）、固形分：２０％、溶媒：８０％）を塗布して光学調整層を形成し、基材積層体とした。この基材積層体に加熱巻き上げ処理を行い、ロール状に巻かれた基材積層体のロールを作製した。
（透明導電層の形成）
次に、上記ロールから繰り出された基材積層体を、巻き取り式スパッタ装置に投入し、第１硬化樹脂層の表面に、厚みが２７ｎｍの非晶質のインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）層を形成した。その後、該非晶質ＩＴＯ層（透明導電層）が形成された基材積層体を、ロールトゥロール方式で空気循環式オーブンに投入し、１３０℃で９０分間の加熱処理を行い、透明導電層を非晶質から結晶質に転化させ、透明導電層の表面抵抗値が１００Ω／□の透明導電性フィルムを形成し、ロール状に巻かれた透明導電性フィルム１を作製した。

２－２．光学積層体２の作製
実施例１で得た円偏光板の位相差フィルム側に上記粘着剤を介して上記で得た透明導電性フィルム１を貼り合せ、次いでそのＩＴＯ側に上記粘着剤層を介してセパレータを貼り合せ、光学積層体２を作製した。

＜実施例３＞
３－１．透明導電性フィルム２
基材をポリシクロオレフィンフィルムからポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み２３μｍ）に変更したこと以外は透明導電性フィルム１と同様にして作製した。
３－２．光学積層体３の作製
上記偏光子Ａ１の片側に上記紫外線硬化型接着剤を介して保護フィルムＢ１（ハードコート層なし）を貼り合せた。次いで、偏光子Ａ１／保護フィルムＢ１の積層体の保護フィルムＢ１側に上記粘着剤を介して、上記透明導電性フィルム２を貼り合せた。さらに、そのＩＴＯ側にハードコート処理された保護フィルムＢ１を上記粘着剤を介して貼り合せた。さらに、偏光子Ａ１のもう片側に、上記紫外線硬化型接着剤を介して上記位相差フィルムを貼り合せた。ここで、位相差フィルムの遅相軸が偏光子の吸収軸に対して反時計まわりに４５°となるように貼り合せた。このようにして、光学積層体３を作製した。

＜実施例４＞
位相差フィルム１の代わりに偏光子側から順に第１の液晶配向固化層（λ／２板）および第２の液晶配向固化層（λ／４板）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体４を作製した。液晶配向固化層は、以下のようにして作製した。
液晶材料として、ネマチック液晶相を示す重合性液晶材料（ＢＡＳＦ社製：商品名Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２）を用いた。当該重合性液晶材料に対する光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製： 商品名イルガキュア９０７）をトルエンに溶解した。さらに塗工性向上を目的としてＤＩＣ製のメガファックシリーズを得られる液晶層厚みに応じて０．１から０．５％程度加え、液晶塗工液を調製した。配向基材上に、当該液晶塗工液をバーコーターにより塗工した後、９０℃で２分間加熱乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線硬化により配向固定化させた。配向基材上に第２の液晶配向固化層（λ／４板）および第１の液晶配向固化層（λ／２板）をそれぞれ配向基材上に形成した。第１の液晶配向固化層（λ／２板）の厚みは２μｍであり、第２の液晶配向固化層（λ／４板）の厚みは１μｍであった。配向基材は、例えばＰＥＴのように液晶配向固化層を後から転写できるものを使用し、第１の液晶配向固化層（λ／２板）が偏光子Ａ１に隣接するように第１の液晶配向固化層（λ／２板）および第２の液晶配向固化層（λ／４板）を順次転写した。

＜実施例５～１７＞
表１に示す構成としたこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体１と同様の層構成を有する光学積層体を作製した。なお、表１中の保護フィルムＢ２～Ｂ６は以下のとおりである。
・保護フィルムＢ２：ポリアミドフィルム（ユニチカ製 「ユニアミド ＥＸ－２５」、厚み２５μｍ）
・保護フィルムＢ３：透明ポリイミドフィルム（Ｉ.Ｓ.Ｔ製 「トーメッド 」、厚み２５μｍ）
・保護フィルムＢ４：透明ポリイミドフィルム（三菱瓦斯化学製 「ネオプリム Ｌ－ＡＪＦＦ－５０」、厚み５０μｍ）
・保護フィルムＢ５：ポリカーボネートフィルム（三菱エンジニアリングプラスチック製 ユーピロン「ＫＨ３５２０ ＵＲ」、厚み４０μｍ）
・保護フィルムＢ６：ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡製 「コスモシャイン Ａ４１００」、厚み５０μｍ）

＜実施例１８＞
ハードコート層の形成材料を変更したこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体１と同様の層構成を有する光学積層体を作製した。ハードコート層の形成材料は以下のとおりである。
実施例１記載のハードコート層形成用組成物１００部に対してＵＶ硬化型ポリロタキサン（アドバンスト・ソフトマテリアル社製 商品名：セルムスーパーポリマーＳＡ２４０３Ｐ）６部とナノシリカ粒子（日産化学工業社製 商品名：オルガノシリカゾルＭＩＢＫ－ＳＴ（平均粒径 １０～１５ｎｍ））２０部添加したものを混合し、ハードコート層形成用組成物とした。

＜比較例１＞
実施例１記載のハードコート処理された保護フィルムＢ１をそのまま用い、光学積層体５とした。

＜比較例２＞
保護フィルムＢ１の代わりに保護フィルムＢ７（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）：厚み４０μｍ）を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体６を作製した。

＜比較例３＞
Ｃ３－１．偏光子Ａ２（厚さ１２μｍの偏光子）の作製
平均重合度２４００、ケン化度９９．９モル％の厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の温水中に６０秒間浸漬し膨潤させた。次いで、ヨウ素／ヨウ化カリウム（重量比＝０．５／８）の濃度０．３％の水溶液に浸漬し、３．５倍まで延伸させながらフィルムを染色した。その後、６５℃のホウ酸エステル水溶液中で、総延伸倍率が６倍となるように延伸を行った。延伸後に、４０℃のオーブンにて３分間乾燥を行い、ＰＶＡ系偏光子を得た。得られた偏光子の厚みは１２μｍであった。
Ｃ３－２．保護フィルムＢ７
保護フィルムＢ７としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ、厚み４０μｍ）を用いた。
Ｃ３－３．光学積層体６の作製
偏光子Ａ１の代わりに偏光子Ａ２を用い、保護フィルムＢ１の代わりに保護フィルムＢ７を用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体６と同様の層構成を有する光学積層体を作製した。

＜比較例４＞
保護フィルムＢ７にハードコート処理を行わなかったこと以外は比較例３と同様にして、光学積層体６と同様の層構成を有する光学積層体を作製した。

＜比較例５＞
偏光子Ａ２の代わりに偏光子Ａ３（厚さ１８μｍ）を用いたこと以外は比較例３と同様にして、光学積層体６と同様の層構成を有する光学積層体を作製した。

＜比較例６＞
偏光子Ａ２の代わりに偏光子Ａ４（厚さ２３μｍ）を用いたこと以外は比較例３と同様にして、光学積層体６と同様の層構成を有する光学積層体を作製した。

＜評価＞
１．鉛筆硬度
各実施例および各比較例で得られた光学積層体の保護フィルムのハードコート処理面（ハードコート処理されていない場合には保護フィルム表面）について、ＪＩＳ Ｋ ５６００－５－４の鉛筆硬度試験に準じて（但し、荷重５００ｇ）、鉛筆硬度を測定した。
２．耐擦傷性（スチールウール（ＳＷ）評価）
各実施例および各比較例で得られた光学積層体の保護フィルムのハードコート処理面（ハードコート処理されていない場合には保護フィルム表面）について、学振型摩擦堅牢度試験機（テスター産業株式会社製、ＡＢ－３０１）を用いて、５００ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけたスチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）で３００往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。評価基準は以下のとおりである。
○：傷は認められなかった
×：傷を確認した
３．耐屈曲性評価
図５に１８０°耐折性試験機（井元製作所製）の概略図を示す。本装置は、マンドレルを挟んで片側のチャックが１８０°曲げを繰り返す機構となっており、マンドレルの直径により折り曲げ半径（曲率半径）を変えることができる。試験は、各実施例および比較例で得られた光学積層体（３０ｍｍ×１５０ｍｍ）をハードコート側または保護フィルム表面が内曲げになるように装置にセットし、温度２５℃、曲げ角度１７０°、折り曲げ半径１ｍｍ～３ｍｍ、曲げ速度１秒／回、重り１００ｇの条件で曲げの繰り返しを実施した。光学積層体の破断までの回数で耐屈曲性を評価した。破断は目視にて評価した。評価基準は以下のとおりである。
Ａ：１００万回以上でも破断しない
Ｂ：２０万～５０万回で破断
Ｃ：１～１０万回未満で破断
Ｄ：１万回未満で破断

表１から明らかなように、本発明の実施例の光学積層体は、鉛筆硬度、耐擦傷性および耐屈曲性のバランスに優れることがわかる。

本発明の光学積層体は有機ＥＬ表示装置に好適に用いられ、屈曲可能または折り畳み可能な有機ＥＬ表示装置に特に好適に用いられ得る。

１０ 表面保護層
２０ 偏光子
３０ 光学補償層（位相差フィルム）
３１ 第１の液晶配向固化層
３２ 第２の液晶配向固化層
１００ 光学積層体
１０１ 光学積層体
２００ 有機ＥＬ素子
３００ 有機ＥＬ表示装置

Claims (1)

1. 有機エレクトロルミネセンス表示装置に用いられる光学積層体であって、
   表面保護層と偏光子と光学補償層とをこの順に備え、
   該表面保護層が可撓性であり、有機エレクトロルミネセンス表示装置のカバーガラスを代替する機能を有し、かつ、偏光子の保護層として機能し、
   該表面保護層は、表面側から順にハードコート層と樹脂フィルムとを含み、曲率半径３ｍｍ以下２０万回折り曲げ可能な屈曲性を有し、曲率半径１ｍｍで１８０°の折り曲げを繰り返した後に折れ痕がつくまでの繰り返し回数が１００００回以上という復元性を有し、かつ、該表面保護層の視認側表面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、
   光学積層体。
   

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