JP6770649B2 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。

従来から、外光反射による悪影響を抑制するために、円偏光板が有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、「有機ＥＬ表示装置」ともいう。）に使用されている。
一方、近年、有機ＥＬ表示装置のフレキシブル化（屈曲可能化）に対する要望が強まっている。
しかし、有機ＥＬ表示装置を非常に小さい曲率直径で屈曲させると、円偏光板中の位相差フィルムに大きな力（一部には引張力、一部には圧縮力）がかかり、その部分の光学特性が変化してしまう。特許文献１においては、上記のような問題に対して、所定の光学特性を示す位相差フィルムを含み、位相差フィルムの遅相軸方向が表示装置の屈曲方向に対して２０〜７０度の角度を規定するように調整されている円偏光板を提供している。

特開２０１４−１７０２２１号公報

一方、近年、有機ＥＬ表示装置の視認性に関してより一層の向上が求められており、屈曲可能な有機ＥＬ表示装置を屈曲させた際の屈曲部における色味変化のより一層の低減が求められている。
本発明者らは、特許文献１に記載の円偏光板の特性について検討を行ったところ、上記要望を必ずしも満足することができず、さらなる改良が必要であった。

そこで、本発明は、屈曲部における色味変化が低減された有機ＥＬ表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１） 視認側から、円偏光板と、第１密着層と、屈曲可能な有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
円偏光板が、視認側から、直線偏光子と、第２密着層と、λ／４板として機能する位相差層とを含み、
第１密着層の複素弾性率が２．５０×１０⁵Ｐａ以下であり、
第１密着層が、第２密着層よりも厚く、
有機エレクトロルミネッセンス表示装置を屈曲させた際に形成される稜線の延在方向に対して、直線偏光子の吸収軸が０±３０°または９０±３０°の角度に位置する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（２） 位相差層が、逆波長分散性を示す、（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（３） 位相差層が、順波長分散性を示すλ／２板、および、順波長分散性を示すλ／４板を含む、（１）または（２）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（４） λ／２板およびλ／４板の少なくとも一方が液晶化合物を用いて形成された層である、（３）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（５） 位相差層が、逆分散波長特性を示す単層のλ／４板を含む、（１）または（２）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（６） λ／４板が、液晶化合物を用いて形成された層である、（５）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（７） 位相差層が、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションが−１５０〜−１０ｎｍであるポジティブＣプレートをさらに含む、（１）〜（６）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（８） 位相差層の厚みが２０μｍ以下である、（１）〜（７）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。

本発明によれば、屈曲部における色味変化が低減された有機ＥＬ表示装置を提供することを課題とする。

本発明の有機ＥＬ表示装置の一実施態様の断面図である。 直線偏光子の吸収軸の位置を説明するための図である。 有機ＥＬ表示装置の屈曲形態を説明する概略図である。 有機ＥＬ表示装置の屈曲形態を説明する概略図である。 有機ＥＬ表示装置の屈曲形態を説明する概略図である。 有機ＥＬ表示装置の屈曲形態を説明する概略図である。 有機ＥＬ表示装置の屈曲形態を説明する概略図である。

以下、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、角度について「直交」および「平行」とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味するものとし、並びに角度について「同一」および「異なる」は、その差が５°未満であるか否かを基準に判断できる。
また、本明細書では、「可視光」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。

本明細書において「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。
本明細書において、「傾斜角」とは、傾斜した液晶化合物が層平面となす角度を意味し、液晶化合物の屈折率楕円体において最大の屈折率の方向が層平面となす角度のうち、最大の角度を意味する。従って、正の光学的異方性を持つ棒状液晶化合物では、傾斜角は棒状液晶化合物の長軸方向すなわちダイレクター方向と層平面とのなす角度を意味する。また、本発明において、「平均傾斜角」とは、位相差層の上界面での傾斜角から下界面までの傾斜角の平均値を意味する。

本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。例えば、Ｒｅ（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折率（ＮＡＲ−４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、
各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。
また、本明細書において、Ｎｚファクターとは、Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で与えられる値である。

なお、本明細書において、Ｃプレートは以下のように定義する。
Ｃプレートは、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）とネガティブＣプレート（負のＣプレート）との２種があり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＣプレートは式（Ｃ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示し、ネガティブＣプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
式（Ｃ２） ｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０〜１０ｎｍ、好ましくは０〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

本発明の特徴点としては、第１密着層の複素弾性率を所定の範囲に調整する点、第１密着層の厚みと第２密着層の厚みとを所定の関係となるように調整する点、および、有機ＥＬ表示装置を屈曲させた際に形成される稜線の延在方向に対して、直線偏光子の吸収軸が所定の範囲となるように円偏光板を配置している点が挙げられる。上記の特徴点を満たすことにより、有機ＥＬ表示装置を屈曲させた際の屈曲部に、引張力または圧縮力がかかった場合でも、特に直線偏光子の吸収軸の位置がズレにくく、結果として所望の効果が得られると考えられる。

以下に、本発明の有機ＥＬ表示装置の一実施態様について図面を参照して説明する。図１に、本発明の円偏光板の一実施態様の断面図を示す。なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。以下の図も同様である。
有機ＥＬ表示装置１０は、視認側から、円偏光板１２と、第１密着層１４と、有機ＥＬ表示パネル１６とを含み、円偏光板１２は、視認側から直偏偏光子１８と、第２密着層２０と、λ／４板として機能する位相差層２２とを含む。
以下では、まず、有機ＥＬ表示装置に含まれる各部材について詳述する。

＜直線偏光子＞
直線偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、主に、吸収型直線偏光子を利用できる。
吸収型直線偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子および延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで直線偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、および、特許第４７５１４８６号公報に記載の方法が挙げられる。
なかでも、取り扱い性の点から、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ₂−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つが好ましい。）を含む直線偏光子が好ましい。

直線偏光子の厚みは特に制限されないが、取り扱い性に優れると共に、光学特性にも優れる点より、３５μｍ以下が好ましく、１〜２５μｍがより好ましい。上記厚みであれば、有機ＥＬ表示装置の薄型化に対応可能となる。

＜第２密着層＞
第２密着層は、上述した直線偏光子と後述する位相差層との間を密着させる層である。
第２密着層の厚みは、後述する第１密着層の厚みと所定の関係を満たせば特に制限されないが、０．５〜５０μｍが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。

第２密着層は、粘着剤層であっても、接着剤層であってもよい。接着剤層としては、光（例えば、紫外光（ＵＶ））照射または加熱によって硬化する接着剤を硬化させて得られる層であってもよい。

第２密着層の形成方法は特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化型接着剤を用いる場合、直線偏光子上にＵＶ硬化型接着剤を塗布して塗膜を形成して、後述する位相差層を塗膜に貼り合わせた後、ＵＶ照射を行い、塗膜を硬化させて、接着剤層を得る方法が挙げられる。また、粘着剤層を用いる場合、直線偏光子上にシート状の粘着剤層を貼り合わせて、さらに、後述する位相差層を粘着剤層上に貼り合わせる方法が挙げられる。

＜位相差層＞
位相差層は、λ／４板として機能する層である。
λ／４板として機能する層とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する層である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションがＲｅ（λ）＝λ／４（または、この奇数倍）を示す層である。この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ
なかでも、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。

位相差層は、順波長分散性を示しても、逆波長分散性を示してもよいが、本発明の効果がより優れる点で、逆波長分散性を示すことが好ましい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。
なお、位相差層が順波長分散性を示すとは、面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなることを意味する。
また、位相差層が逆波長分散性を示すとは、面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなることを意味する。

位相差層の厚みは特に制限されないが、２００μｍ以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、６０μｍ以下が好ましく、３５μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．５μｍ以上が好ましい。

位相差層は、単層構造であっても、複層構造であってもよい。
位相差層が複層構造である場合、位相差層は、順波長分散性を示すλ／２板、および、順波長分散性を示すλ／４板を含むことが好ましい。
位相差層が上記のようにλ／２板およびλ／４板を含む場合、色味変化がより抑制され、かつ、斜め方向からの視認性がより優れる点で、λ／２板およびλ／４板の一方が棒状液晶化合物を用いて形成された層であり、他方が円盤状液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましい。

λ／２板は、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／２を満たす光学異方性層のことをいう。この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ
なかでも、２２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２９０ｎｍを満たすことがより好ましい。

λ／２板の厚みは、特に制限されないが、薄型化の点から、０．５〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、λ／２板の任意の５点の厚みを測定し、それらを算術平均したものである。

λ／４板の定義は、上述した通りである。
λ／４板の遅相軸とλ／２板の遅相軸とのなす角度θは、６０±１０°の範囲であることが好ましく、６０±８°の範囲であることがより好ましく、６０±５°の範囲であることがさらに好ましい。
なお、上記角度とは、直線偏光子表面の法線方向から視認した際の、λ／４板の遅相軸とλ／２板の遅相軸とのなす角度を意図する。

λ／４板の厚みは、特に制限されないが、薄型化の点から、０．５〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、λ／４板の任意の５点の厚みを測定し、それらを算術平均したものである。

位相差層が単層構造である場合は、逆波長分散性を示す単層のλ／４板から構成されることが好ましい。
単層のλ／４板の厚みの好適範囲は、上述の通りである。

位相差層は、さらに、上述したλ／２板およびλ／４板以外の層を含んでいてもよく、斜め方向の視認性がより向上する点で、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションが−１５０〜−１０ｎｍであるポジティブＣプレートをさらに含んでいてもよい。
上記ポジティブＣプレートの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは、−１５０〜−１０ｎｍが好ましく、−１２０〜−６０ｎｍがより好ましい。
位相差層中におけるポジティブＣプレートの配置位置は特に制限されず、位相差層中の最も直線偏光子側に配置されていてもよく、直線偏光子側とは最も反対側に配置されていてもよい。

上述した直線偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸との関係は特に制限されないが、例えば、位相差層がλ／２板およびλ／４板を含み、円偏光板中において、視認側から偏光子、λ／２板およびλ／４板の順で配置されている場合、直線偏光子の吸収軸とλ／２板の遅相軸とのなす角度は、６７〜８３°が好ましく、７０〜８０°がより好ましい。
なお、上記角度とは、直線偏光子表面の法線方向から視認した際の、直線偏光子の吸収軸とλ／２板の遅相軸とのなす角度を意図する。
また、位相差層が単層のλ／４板より構成される場合、直線偏光子の吸収軸とλ／４板の遅相軸とのなす角度は、３７〜５３°が好ましく、４０〜５０°がより好ましい。
なお、上記角度とは、直線偏光子表面の法線方向から視認した際の、直線偏光子の吸収軸とλ／４板の遅相軸とのなす角度を意図する。

上記λ／４板、λ／２板およびポジティブＣプレートは、液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましい。ただし、上述した面内レタデーションなど所定の特性を満たせば、他の材料で構成されていてもよい。例えば、ポリマーフィルム（特に、延伸処理が施されたポリマーフィルム）から形成されていてもよい。

液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物。ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。なお、２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。

λ／４板、λ／２板およびポジティブＣプレートは、光学特性の温度変化および湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）を用いて形成することがより好ましい。液晶化合物は２種類以上の混合物でもよく、その場合、少なくとも１つが２以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、λ／４板、λ／２板およびポジティブＣプレートは、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）が重合などによって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
上記重合性基の種類は特に制限されず、ラジカル重合またはカチオン重合が可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタアクリロイル基が好ましい。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性基を用いることができ、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などが挙げられる。なかでも、脂環式エーテル基またはビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。

λ／４板、λ／２板およびポジティブＣプレートの形成方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
なかでも、面内レタデーションの制御がしやすい点から、重合性基を有する液晶化合物（以後、単に「重合性液晶化合物」とも称する）を含む組成物（以後、単に「組成物」とも称する）を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させ、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施して、λ／４板、λ／２板またはポジティブＣプレートを形成する方法が好ましい。
以下、上記方法の手順について詳述する。

まず、支持体上に、組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させる。
使用される組成物は、重合性液晶化合物を含む。重合性液晶化合物の定義は、上述した通りである。

組成物中における重合性液晶化合物の含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、９９質量％以下の場合が多い。
なお、組成物中の全固形分には、溶媒は含まれない。

上記組成物には、上述した重合性液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。
組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、および、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
組成物中における重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。

また、組成物には、重合性モノマーが含まれていてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。なかでも、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。また、重合性モノマーとしては、上記の重合性基を有する液晶化合物と共重合性のモノマーが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載の重合性モノマーが挙げられる。
組成物中における重合性モノマーの含有量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましい。

また、組成物には、界面活性剤が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。例えば、特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、および、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。

また、組成物には、溶媒が含まれていてもよい。溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、アミド（例：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例：ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例：ピリジン）、炭化水素（例：ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例：クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例：アセトン、メチルエチルケトン）、および、エーテル（例：テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が挙げられる。なお、２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

また、組成物には、垂直配向剤、および、水平配向剤などの各種配向制御剤が含まれていてもよい。これらの配向制御剤は、界面側において液晶化合物を水平または垂直に配向制御可能な化合物である。
さらに、組成物には、上記成分以外に、紫外線吸収剤、密着改良剤、可塑剤、および、ポリマーなどが含まれていてもよい。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン誘導体、サリチル酸エステル誘導体、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、および、アクリロニトリル誘導体が挙げられる。

使用される支持体は、組成物を塗布するための基材として機能を有する部材である。支持体は、組成物を塗布および硬化させた後に剥離される仮支持体であってもよい。
支持体（仮支持体）としては、プラスチックフィルムの他、ガラス基板を用いてもよい。プラスチックフィルムを構成する材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース誘導体、シリコーン樹脂、および、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などが挙げられる。
支持体の厚みは、５〜１０００μｍ程度であればよく、１０〜２５０μｍが好ましく、１５〜９０μｍがより好ましい。

なお、必要に応じて、支持体上には、配向膜を配置してもよい。
配向膜は、一般的には、ポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマーとしては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手できる。利用されるポリマーは、ポリビニルアルコール、ポリイミド、または、その誘導体が好ましい。ポリマーの側鎖には、アミド基、スルホキシド基、ヘテロ環基、脂環基、芳香環基、非芳香族炭化水素基、アルキルハライド基、エステル基、ケトン基、エーテル基、および、重合性基などの置換基が含まれていてもよい。
配向膜を形成するための組成物（配向膜形成用組成物）には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、および、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
配向膜形成用組成物中における重合開始剤の含有量は、配向膜形成用組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がより好ましい。
なお、耐久性の観点から、液晶化合物を塗布する前に上記配向膜に架橋処理を施してもよい。架橋方法は、反応の形式に応じて選択され、例えば、熱架橋、および、光架橋が挙げられる。
また、上記配向膜には、公知のラビング処理が施されることが好ましい。
本発明においては、配向膜の形成時に配向膜表面に接触しないことで面状悪化を防ぐことが可能となる理由から、配向膜としては光配向膜を利用することも好ましい。光配向膜としては、特開２０１５−２２７９４７号公報の段落００２２〜００２９に記載の光配向膜が挙げられる。
配向膜の厚みは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０１〜１μｍがより好ましい。

組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法が挙げられる。

次に、支持体上に形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物を配向させる。
配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０〜１５０℃が好ましく、加熱時間としては１０秒間〜５分間が好ましい。

次に、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す。
重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ²の照射量が好ましい。

また、位相差層は、λ／２板、λ／４板およびポジティブＣプレートを密着させるための密着層（例えば、粘着剤層および接着剤層）を含んでいてもよい。なお、密着層を含まず、各光学異方性層の表面に直接に光学異方性層を形成して複層構造にしてもよい。

（その他の層）
また、円偏光板は、直線偏光子の表面上に、偏光子保護フィルムを有していてもよい。偏光子保護フィルムは、直線偏光子の片面上にのみ配置されていてもよいし、直線偏光子の両面上に配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体またはハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用でき、例えば、上述した多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用でき、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）、熱可塑性ノルボルネン樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートンなど）、アクリル樹脂、および、ポリエステル樹脂が挙げられる。
偏光子保護フィルムの厚みは特に制限されないが、有機ＥＬ表示装置の薄型化の点から、４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、５μｍ以上の場合が多い。

また、各層の間の密着性担保のために、各層の間に粘着剤層または接着剤層を配置してもよい。さらに、各層の間に透明支持体を配置してもよい。

円偏光板の厚み（全体厚み）は特に制限されないが、薄型化の点からは、１００μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、通常、２０μｍ以上の場合が多い。
円偏光板の厚みは、接触式膜厚測定計（アンリツ製）を用いて行いて測定を行い、厚みを等間隔に５点測定した値の平均値を用いる。

＜第１密着層＞
第１密着層は、上述した円偏光板と後述する有機ＥＬ表示パネルとを貼り合わせるために用いられる層である。円偏光板と有機ＥＬ表示パネルとの間に、バリアフィルム、タッチパネル、および、ハードコート層などのその他の層が含まれる場合、第１密着層は、円偏光板側に配置されている密着層を指す。
第１密着層の複素弾性率が２．５０×１０⁵Ｐａ以下であり、屈曲部における色味変化がより低減される点、および／または、折り曲げ時にクラックまたは剥離の発生がより抑制される点で、１．５０×１０⁵Ｐａ以下が好ましく、１．００×１０⁵Ｐａ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、取り扱い性の点で、０．１０×１０⁵Ｐａ以上が好ましい。
第１密着層の複素弾性率の測定方法としては、幅０．５ｍｍ、長さ１０ｍｍ、厚み１．５ｍｍの第１密着層の試料を取付冶具にセットし、２５℃湿度６０％で１時間以上調湿する。その後、その環境（２５℃湿度６０％）にて、動的粘弾性測定装置（ＤＶＡ−２２５：アイティー計測制御（株）製）で、周波数１Ｈｚ、歪み０．１％にてせん断変形させて測定する。なお、上記厚みの第１密着層を作製する際には、厚み１．５ｍｍのサンプルを直接製造してもよいし、厚み１．５ｍｍ未満の厚みのシートを複数枚重ねてサンプルを製造してもよい。得られた貯蔵弾性率および損失弾性率から、以下式に基づいて、複素弾性率を算出する。
式：複素弾性率＝｛（貯蔵弾性率）²＋（損失弾性率）²｝^0.5

第１密着層は、第２密着層よりも厚い。つまり、第１密着層の厚みは、第２密着層の厚みより大きい。
第１密着層と第２密着層との厚み差（第１密着層の厚み−第２密着層の厚み）は特に制限されないが、屈曲部における色味変化がより低減される点で、０．５μｍ以上が好ましく、２０μｍ以上がより好ましい。上記厚み差の上限は特に制限されないが、２００μｍ以下の場合が多い。

第１密着層の厚みは、上述した第２密着層の厚みと所定の関係を満たせば特に制限されないが、屈曲部における色味変化がより低減される点で、２００μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましく、５０μｍ以下がさらに好ましく、３０μｍ以下が特に好ましい。下限は特に制限されないが、１０μｍ以上の場合が多い。

第１密着層は、粘着剤層であっても、接着剤層であってもよい。接着剤層としては、光（例えば、紫外光（ＵＶ））照射または加熱によって硬化する接着剤を硬化させて得られる層であってもよい。

第１密着層の形成方法は特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化型接着剤を用いる場合、直線偏光子上にＵＶ硬化型接着剤を塗布して塗膜を形成して、後述する位相差層を塗膜に貼り合わせた後、ＵＶ照射を行い、塗膜を硬化させて、接着剤層を得る方法が挙げられる。また、粘着剤層を用いる場合、直線偏光子上にシート状の粘着剤層を貼り合わせて、さらに、後述する位相差層を粘着剤層上に貼り合わせる方法が挙げられる。

＜有機ＥＬ表示パネル＞
有機ＥＬ表示パネルは、屈曲可能なパネルである。なお、通常、屈曲可能な有機ＥＬ表示パネルは、特定の方向に屈曲可能な場合が多い。
このような有機ＥＬ表示パネルとしては、公知の構成の有機ＥＬ表示パネルを用いることができ、通常、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる構造を有する。

＜有機ＥＬ表示装置＞
有機ＥＬ表示装置は、円偏光板と、第１密着層と、屈曲可能な有機エレクトロルミネッセンス表示パネルとを有する。なお、円偏光板上、または、円偏光板と有機ＥＬ表示パネルとの間に、バリアフィルム、タッチパネル、および、ハードコート層などのその他の層が含まれていてもよい。
有機ＥＬ表示装置において、直線偏光子の吸収軸は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置を屈曲させた際に形成される稜線の延在方向（以後、単に「稜線方向」ともいう）に対して、０±３０°または９０±３０°の角度で配置される。つまり、直線偏光子は、上記関係が満たされるように有機ＥＬ表示装置内に配置される。
なかでも、屈曲部における色味変化がより低減される点で、直線偏光子の吸収軸は、稜線方向に対して、０±２０°または９０±２０°が好ましく、０±１０°または９０±１０°がより好ましい。
なお、上記角度位置は、円偏光板の直線偏光子側の表面の法線方向から円偏光板を観察した際に、稜線方向を基準に時計回り方向を正の値で表す。

上記稜線方向に関して、図２を用いてより詳細に説明する。図２において、有機ＥＬ表示装置が屈曲された態様の一例を示す。図２に示すように、有機ＥＬ表示装置１００は、平面部３０と、平面部３０と直線状の屈曲開始線Ｌ（境界線）を介して（隔てて）連なる屈曲部３２とを少なくとも有する。図２においては、稜線方向とは、有機ＥＬ表示装置１００の屈曲部３２の稜線Ｒが延在する方向（図２中のｘ方向）に該当する。つまり、稜線方向とは、有機ＥＬ表示装置１００を屈曲部にて屈曲させた際に、屈曲部に形成される稜線（山部の峰から峰に続く線）が延在する方向を意図する。図２においては、稜線Ｒの延在する方向は、直線状の屈曲開始線Ｌと平行な方向（図２中のｘ方向）に該当するともいえる。
なお、直線状の屈曲開始線Ｌは、平面部３０の端部に位置し、屈曲が始まる位置を表す。
図２に示すように、稜線Ｒが延在する方向に対する、直線偏光子の吸収軸Ａの角度とは、図２中の角度αで表される位置を表す。なお、図２においては、角度αが略９０°の態様を示すが、上述したように、直線偏光子の吸収軸は、稜線方向を基準にして、０±３０°または９０±３０°の角度に位置する。
言い換えれば、直線偏光子の吸収軸と稜線方向とのなす角は、０〜３０°または６０〜１２０°である。

また、後述する図３Ａ〜図３Ｄに示すように、本発明の有機ＥＬ表示装置としては、屈曲した状態の有機ＥＬ表示装置（屈曲が固定された表示装置）も含む。

有機ＥＬ表示装置の少なくとも一部は、曲率直径が１０ｍｍ以下で屈曲されるのが好ましく、８ｍｍ以下で屈曲されるのがより好ましい。曲率直径を小さくすることで色味変化は大きくなるが、このような非常に小さい曲率直径で屈曲した状態の有機ＥＬ表示装置においても、色味変化が低減されている。
有機ＥＬ表示装置は、任意の適切な部分で屈曲される。例えば、表示装置は、折り畳み式の表示装置のように中央部で屈曲されていてもよく（例えば、図３Ａおよび図３Ｂ）、デザイン性と表示画面を最大限に確保するという観点から端部で屈曲されていてもよい（例えば、図３Ｃおよび図３Ｄ）。さらに、図３Ａ〜図３Ｄに示すように、有機ＥＬ表示装置は、その長手方向に沿って屈曲されていてもよく、その短手方向に沿って屈曲されていてもよい。用途に応じて表示装置の特定部分が（例えば、四隅の一部または全部が斜め方向に）屈曲されていればよいことは言うまでもない。

図３Ａ〜図３Ｄに示すように、直線偏光子の吸収軸は、稜線方向に対して、所定の角度αを規定するよう調整されている。角度αは、０±３０°または９０±３０°の角度である。

また、図３Ａ〜図３Ｄにおいては一箇所で折れ曲がる態様について説明したが、上記要件を満たす態様であれば、二か所以上で折れ曲がる態様であってもよい。例えば、図３Ｅに示すように、二か所で折れ曲がる態様であってもよい。
なお、図３Ａ〜図３Ｅ中において、Ｒは稜線を表し、Ａは直線偏光子の吸収軸を表す。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜実施例１＞
（配向膜Ａの形成）
長尺状のセルロースアシレートフィルム（ＴＤ８０ＵＬ、富士フイルム社製）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、フィルムに対して、純水を３ｍｌ／ｍ²で塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム（厚み：８０μｍ）を作製した。

アルカリ溶液の組成
──────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
──────────────────────────────────

セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液Ａを＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。次に、塗膜を６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥して、配向膜Ａ（厚み：０．５μｍ）を得た。

配向膜塗布液Ａの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記ポリビニルアルコール−１ １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製） ０．１７５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

ポリビニルアルコール−１

（光学異方性層Ａ（λ／２板に該当）の形成）
上記作製した配向膜Ａに連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度を７２．５°とした（フィルム幅方向を０°、フィルム長手方向を９０°とし、配向膜Ａ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は−１７．５°）。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層Ａ塗布液を上記作製した配向膜Ａ上に＃４．８のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、配向膜Ａ上の塗膜を、１３０℃の温風で９０秒間、続いて、１００℃の温風で６０秒間加熱し、８０℃にて３００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ（紫外線）照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層Ａを得た。光学異方性層Ａの厚みは２．０μｍであった。ディスコティック液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルム幅方向を０°（フィルム長手方向を９０°、光学異方性層Ａ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表す。）とすると、−１７．５°であった。光学異方性層Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは２４０ｎｍであり、光学異方性層Ａは順波長分散性を示す。

光学異方性層Ａ塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
５質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

ディスコティック液晶−１

ディスコティック液晶−２

配向膜界面配向剤−１

含フッ素化合物（Ｆ−１）

含フッ素化合物（Ｆ−２）

含フッ素化合物（Ｆ−３）

（光学異方性層Ｂ（λ／４板に該当）の形成）
上記作製した配向膜Ａに連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度を７７．５°とした（フィルム幅方向を０°、フィルム長手方向を９０°とし、配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１２．５°）。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層Ｂ塗布液を上記作製した配向膜Ａ上に＃２．８のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、配向膜Ａ上の塗膜を、１３０℃の温風で９０秒間、続いて、１００℃の温風で６０秒間加熱し、８０℃にて３００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ（紫外線）照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層Ｂを形成した。光学異方性層Ｂの厚みは１．０μｍであった。ディスコティック液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム幅方向を０°（フィルム長手方向を９０°、光学異方性層Ｂ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表す。）とすると、−７７．５°であった。光学異方性層Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１２０ｎｍであり、光学異方性層Ｂは順波長分散性を示す。

光学異方性層Ｂ塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ０．６質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．１質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
１０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ５質量部
メチルエチルケトン ３５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｘの作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色した。次いで、染色したＰＶＡフィルムをホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒間浸漬している間に元の長さの１０倍に縦延伸した後、得られたフィルムを５０℃で４分間乾燥させて、厚み８μｍの直線偏光子を得た。
市販のセルロースアシレートフィルム「ＴＪ２５」（富士フイルム社製）を準備し、４．５モル／リットルで３７℃の水酸化ナトリウム水溶液中にセルロースアシレートフィルムを浸漬し、その後、セルロースアシレートフィルム上の水酸化ナトリウムを水で十分に洗い流した。その後、得られたセルロースアシレートフィルムを０．０５モル／リットルの希硫酸水溶液に３０秒間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。その後、得られたセルロースアシレートフィルムを７０℃で１５秒間乾燥させ、偏光子保護フィルム（厚み：２５μｍ）を作製した。

上記で作製した直線偏光子の片面に、上記で作製した偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤で貼り合わせて、直線偏光子と、直線偏光子の片面に配置された偏光子保護フィルムとを含む偏光板（厚み：３３μｍ）を作製した。

上記作製した偏光板中の偏光子保護フィルム側とは反対側の直線偏光子の表面上に、特開２０１５−１１０９４号公報の段落０１８４に記載の（接着剤層（２ｂ）に係る活性エネルギー線硬化型接着剤組成物）をＵＶ硬化型接着剤として塗布して、塗膜を形成した。次に、塗膜が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜Ａおよび光学異方性層Ａを有するフィルムとを、塗膜と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、貼り合わせた光学異方性層Ａ側から、５０℃にて８００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ（紫外線）を片面に照射した後、７０℃で３分間熱風乾燥して、密着層（厚み：２μｍ、第２密着層に該当）を形成した。得られた貼合物からセルロースアシレートフィルムおよび配向膜Ａを剥離して、積層体を得た。
さらに、得られた積層体中の光学異方性層Ａ上に、上記ＵＶ硬化型接着剤を塗布して、塗膜を形成した。次に、塗膜が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜Ａおよび光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、塗膜（厚み：２μｍ）と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、上記密着層（厚み：２μｍ、第２密着層に該当）の製造条件と同じ条件にてＵＶ照射、乾燥を行い、得られた貼合物からセルロースアシレートフィルムおよび配向膜Ａを剥離した。
上記手順により、直線偏光子、光学異方性層Ａ（λ／２板）、および、光学異方性層Ｂ（λ／４板）がこの順に配置されている円偏光板Ｘを作製した。なお、直線偏光子側から観察して、直線偏光子の透過軸を基準（０°）に時計回りを正の値で表すと、λ／２板の遅相軸の角度は−１７．５°であり、λ／４板の遅相軸の角度は−７７．５°であった。
つまり、光学異方性層Ａ（λ／２板）の遅相軸と直線偏光子の透過軸とのなす角度は１７．５°であり、光学異方性層Ａ（λ／２板）の遅相軸と光学異方性層Ｂ（λ／４板）の遅相軸とのなす角は６０°であった。

（有機ＥＬ表示装置代替品（評価試料に該当）の作製）
有機ＥＬ表示パネル代替品を以下のようにして作製した。ポリイミドに粘着剤でＰＥＴ（polyethylene terephthalate）フィルムを貼り合わせ、次に、粘着剤を介してＰＥＴフィルムとアルミが隣接するようにして貼り合わせ、アルミ／ＰＥＴフィルム／ポリイミドの構成を有する有機ＥＬ表示パネル代替品を作製した。作製した有機ＥＬ表示パネル代替品の厚みは、１７３μｍであった。
その後、上記作製した円偏光板Ｘを、有機ＥＬ表示パネル代替品のアルミ側に、円偏光板中の直線偏光子が視認側、光学異方性層Ｂが有機ＥＬ表示パネル代替品側になるように、粘着剤層（厚み１００μｍ、複素弾性率１．３７×１０⁵Ｐａ、第１密着層に該当）を介して貼り合わせて、有機ＥＬ表示装置代替品を作製した。
なお、上記で作製した有機ＥＬ表示装置代替品においては、直線偏光子の吸収軸が、有機ＥＬ表示装置代替品を折り曲げた際に形成される稜線の延在方向（以後、単に、「有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向」ともいう。）に対して２５°であった。

（各種評価）
（折り曲げ後の色味評価）
上記作製した有機ＥＬ表示装置代替品を、視認側（円偏光板側）を内側にして曲率直径３ｍｍで屈曲させて固定し、６５℃、湿度９０％の環境で２４時間保持した。その後、有機ＥＬ表示装置代替品を、常温常湿に取り出して、有機ＥＬ表示装置代替品の屈曲を戻し、明光下にて屈曲させていた部分の色味を目視により観察し、上記６５℃、湿度９０％での屈曲処理をしていない状態の有機ＥＬ表示装置代替品と比較した。屈曲前後で色味差が視認されない程「１０」に近く、色味差が視認されるほど「０」に近い数字で評価した。結果を表１に示す。

（折り曲げ後のクラック性／剥離性の評価）
上記屈曲を戻した有機ＥＬ表示装置代替品を観察し、上記６５℃、湿度９０％での屈曲処理をしていない状態の有機ＥＬ表示装置代替品と比較して、下記の基準でクラック性および剥離性を評価した。結果を表１に示す。
Ａ：有機ＥＬ表示装置代替品内にクラックおよび剥離が発生しない。
Ｂ：有機ＥＬ表示装置代替品内の一部にクラックまたは剥離が発生する。
Ｃ：有機ＥＬ表示装置代替品内の大部分にクラックまたは剥離が発生する。

（耐久性評価）
上記作製した有機ＥＬ表示装置代替品を６０℃、湿度９０％の環境下で５００時間保管した後、有機ＥＬ表示装置代替品を常温常湿に取り出して、明光下にて視認性を評価した。上記６０℃、湿度９０％での処理をしていない状態の有機ＥＬ表示装置代替品と比較して、下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
Ａ：耐久性評価前後で差が視認されない。
Ｂ：耐久性評価前後で差が視認されるが、ごくわずか。
Ｃ：耐久性評価前後で差が大きい。

（４５°反射色味の評価）
上記作製した有機ＥＬ表示装置代替品について、明光下にて視認性を評価した。正面および極角４５°から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察し、正面と比較して極角４５°での視認性を下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
Ａ：正面と斜め方向での色味差が視認されるが、ごくわずか。
Ｂ：正面と斜め方向で色味差が視認される。
Ｃ：正面と斜め方向で色味差が大きい。
Ｄ：正面と斜め方向で色味差が非常に大きく、反射光も大きい。

＜実施例２＞
有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向に対する直線偏光子の吸収軸の方向を２５°から１１５°に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例３＞
有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向に対する直線偏光子の吸収軸の方向を２５°から１５°に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例４＞
有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向に対する直線偏光子の吸収軸の方向を２５°から１０５°に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例５＞
有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向に対する直線偏光子の吸収軸の方向を２５°から０°に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例６＞
有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向に対する直線偏光子の吸収軸の方向を２５°から９０°に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例７＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品との間の粘着剤の複素弾性率を１．３７×１０⁵Ｐａから１．９１×１０⁵Ｐａに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例８＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品の間の粘着剤の複素弾性率を１．３７×１０⁵Ｐａから１．９１×１０⁵Ｐａに変更した以外は、実施例５と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例９＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品の間の粘着剤の複素弾性率を１．３７×１０⁵Ｐａから０．５９×１０⁵Ｐａに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例１０＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品の間の粘着剤の複素弾性率を１．３７×１０⁵Ｐａから０．５９×１０⁵Ｐａに変更した以外は、実施例５と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例１１＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品の間の粘着剤の複素弾性率を１．３７×１０⁵Ｐａから０．５９×１０⁵Ｐａに変更した以外は、実施例６と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例１２＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｘ１を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ１（λ／２板に該当）の作製）
光学異方性層Ａ塗布液の代わりに、下記の光学異方性層Ａ１塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ１を作製した。光学異方性層Ａ１の厚みは２．０μｍであった。ディスコティック液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルム幅方向を０°（フィルム長手方向を９０°）とすると、−１７．５°であった。光学異方性層Ａ１の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは２４０ｎｍであり、光学異方性層Ａ１は順波長分散性を示す。

光学異方性層Ａ１塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ２質量部
配向膜界面配向剤−２ ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
５質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

配向膜界面配向剤−２

（光学異方性層Ｂ１（λ／４板に該当）の形成）
光学異方性層Ｂ塗布液の代わりに、下記の光学異方性層Ｂ１塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ｂ１を作製した。光学異方性層Ｂ１の厚みは１．０μｍであった。ディスコティック液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム幅方向を０°（フィルム長手方向を９０°）とすると、−７７．５°であった。光学異方性層Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１２０ｎｍであり、光学異方性層Ｂは順波長分散性を示す。

光学異方性層Ｂ１塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ０．６質量部
配向膜界面配向剤−２ ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．１質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
１０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ５質量部
メチルエチルケトン ３５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｘ１の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ１を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｂ１を用い、それぞれセルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離しないこと以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｘ１を作製した。つまり、円偏光板Ｘ１は、偏光子、密着層、光学異方性層Ａ１（λ／２板）、配向膜Ａ、セルロースアシレートフィルム、密着層、光学異方性層Ｂ１（λ／４板）、配向膜Ａ、セルロースアシレートフィルムがこの順に配置されていた。

＜実施例１３＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｘ２を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（配向膜Ｂの形成）
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液Ｂを＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。次に、塗膜を６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥して、配向膜Ｂ（厚み：０．５μｍ）を得た。

配向膜塗布液Ｂの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記ポリビニルアルコール−２ １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
光重合開始剤（イルガキュア２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．５質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製） ０．１７５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

ポリビニルアルコール−２

（光学異方性層Ａ２（λ／２板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに配向膜Ｂを、上記光学異方性層Ａ塗布液の代わりに、光学異方性層Ａ１塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ２を作製した。

（光学異方性層Ｂ２（λ／４板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに配向膜Ｂを使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ｂ２を作製した。

（円偏光板Ｘ２の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ２を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｂ２を用い、それぞれセルロースアシレートフィルムおよび配向膜Ｂを剥離しないこと以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｘ２を作製した。つまり、円偏光板Ｘ２は、偏光子、密着層、光学異方性層Ａ２（λ／２板）、配向膜Ｂ、セルロースアシレートフィルム、密着層、光学異方性層Ｂ２（λ／４板）、配向膜Ｂ、セルロースアシレートフィルムがこの順に配置されていた。

＜実施例１４＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｘ３を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ３（λ／２板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに配向膜Ｂを、上記光学異方性層Ａ塗布液の代わりに、下記光学異方性層Ａ２塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ３を作製した。

光学異方性層Ａ２塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ２質量部
配向膜界面配向剤−２ ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
５質量部
重合性化合物−１ ０．５質量部
紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ１５７７ＦＦ、ＢＡＳＦ社製） ５質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

重合性化合物−１

（円偏光板Ｘ３の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ３を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｂ２を用い、それぞれセルロースアシレートフィルムおよび配向膜Ｂを剥離しないこと以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｘ３を作製した。つまり、円偏光板Ｘ２は、偏光子、密着層、光学異方性層Ａ３（λ／２板）、配向膜Ｂ、セルロースアシレートフィルム、密着層、光学異方性層Ｂ２（λ／４板）、配向膜Ｂ、セルロースアシレートフィルムがこの順に配置されていた。

＜実施例１５＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｘ４を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ４（λ／２板に該当）の作製）
光学異方性層Ａ４の遅相軸方向を−１７．５°から１７．５°となるように変更した以外は、実施例１と同様の手順にて、光学異方性層Ａ４を作製した。

（円偏光板Ｘ４の作製）
上記作製した光学異方性層Ａ４のセルロースアシレートフィルムと反対側の光学異方性層Ａ４側の表面上に、上記ＵＶ硬化型接着剤を塗布して、塗膜を形成した。次に、塗膜が配置された光学異方性層Ａ４と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜Ａおよび光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、塗膜と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、貼り合わせた光学異方性層Ｂ側から、５０℃にて８００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ（紫外線）を片面に照射した後、７０℃で３分間熱風乾燥して、密着層を形成した。得られた貼合物から光学異方性層Ａ４側のセルロースアシレートフィルムおよび配向膜Ａを剥離して、積層体を得た。
さらに、上記作製した偏光板中の偏光子保護フィルム側とは反対側の偏光子の表面上に、上記ＵＶ硬化型接着剤を塗布して、塗膜を形成した。次に、塗膜が配置された偏光板と、上記作製した光学異方性層Ａ４、密着層、光学異方性層Ｂ、配向膜Ａ、および、セルロースアシレートフィルムを有する積層体とを、塗膜（厚み：２μｍ）と光学異方性層Ａ４とが密着するように、貼り合せた。その後、上記条件と同様の条件でＵＶ照射、乾燥を行い、得られた貼合物からセルロースアシレートフィルムおよび配向膜Ａを剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層Ａ４（λ／２板）、および、光学異方性層Ｂ（λ／４板）がこの順に配置されている円偏光板Ｘ４を作製した。なお、偏光子側から観察して、偏光子の透過軸を基準（０°）に時計回りを正の値で表すと、λ／２板の遅相軸の角度は−１７．５°であり、λ／４板の遅相軸の角度は−７７．５°であった。
つまり、光学異方性層Ａ４（λ／２板）の遅相軸と偏光子の透過軸とのなす角度は１７．５°であり、光学異方性層Ａ４（λ／２板）の遅相軸と光学異方性層Ｂ（λ／４板）の遅相軸とのなす角は６０°であった。

＜実施例１６＞
偏光子と偏光子の片面に配置された偏光子保護フィルムとを含む偏光板から、偏光子と偏光子の両面に配置された偏光子保護フィルムとを含む偏光板に変更した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例１７＞
（折り曲げ後の色味評価）における屈曲方向として、視認側（円偏光板側）を屈曲の内側から外側に変更した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例１８＞
（折り曲げ後の色味評価）における曲率直径を３ｍｍから１ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例１９＞
（折り曲げ後の色味評価）における曲率直径を３ｍｍから１０ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例２０＞
第２密着層としてＵＶ硬化型接着剤層の代わりに、粘着剤層（厚み：１３μｍ）を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例２１＞
光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの間に、ＵＶ硬化型接着剤層の代わりに、粘着剤層（厚み：１３μｍ）を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例２２＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品との間の粘着剤層の厚みを１００μｍから２５μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例２３＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品の間の粘着剤層の厚みを１００μｍから５０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例２４＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品の間の粘着剤層の厚みを１００μｍから１５０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例２５＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｃの作製）
実施例１で作製した配向膜Ａに連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度を７７．５°とした（フィルム幅方向を０°、フィルム長手方向を９０°とし、配向膜Ａ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１２．５°）。

下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層Ｃ塗布液を、ラビング処理後の配向膜Ａ上に＃２．８のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、配向膜上の塗膜を、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層Ｃを形成した。光学異方性層Ｃの厚みは１．０μｍであった。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム幅方向を０°（フィルム長手方向を９０°、光学異方性層Ｃ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表す。）とすると、−７７．５°であった。光学異方性層Ｃの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１１６ｎｍであり、光学異方性層Ｃは順波長分散性を示す。

光学異方性層Ｃ塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・棒状液晶化合物の混合物（Ａ） １００質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ６質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２５質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．３質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
８質量部
・メチルエチルケトン ３３７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｙの作製）
上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃを用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、円偏光板Ｙを作製した。

＜実施例２６＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｚを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｄの作製）
実施例１で作製した配向膜Ａに連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度を１７．５°とした（フィルム幅方向を０°、フィルム長手方向を９０°とし、配向膜Ａ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は７２．５°）。

下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層Ｄ塗布液を、ラビング処理後の配向膜Ａ上に＃４．８のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、配向膜Ａ上の塗膜を、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層Ｄを形成した。光学異方性層Ｄの厚みは２．０μｍであった。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、−１７．５°であった。光学異方性層Ｄの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは２４０ｎｍであり、光学異方性層Ｄは順波長分散性を示す。

光学異方性層Ｄ塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・棒状液晶化合物の混合物（Ａ） １００質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ６質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２５質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．３質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
８質量部
・メチルエチルケトン ２１０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｚの作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｄを用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｚを作製した。

＜実施例２７＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｖを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（円偏光板Ｖの作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｄを用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃを用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｖを作製した。

＜実施例２８＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｗを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｇ（ポジティブＣプレート）の作製）
下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層Ｇ塗布液を、実施例１で作製した配向膜Ａ上に＃５．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、光学異方性層Ｇ塗布液が塗布されたフィルムを６０℃の温風で６０秒間加熱した。その後、得られたフィルムを６０℃にてＵＶ照射を行い、棒状液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｇを作製した。光学異方性層Ｇの厚みは１．０μｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は、−１００ｎｍであった。

光学異方性層Ｇ塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
棒状液晶化合物−１ ８０質量部
棒状液晶化合物−２ ２０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．３質量部
配向膜界面配向剤−１ ０．５５質量部
メチルエチルケトン １９３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［棒状液晶化合物−１］

［棒状液晶化合物−２］

（円偏光板Ｗの作製）
円偏光板Ｘの光学異方性層Ｂ上に、上記ＵＶ硬化型接着剤を塗布して、塗膜を形成した。次に、塗膜が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜Ａおよび光学異方性層Ｇを有するフィルムとを、塗膜（厚み２μｍ）と光学異方性層Ｇとが密着するように、貼り合せた。その後、貼り合わせた光学異方性層Ｇ側から、５０℃にて８００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ（紫外線）を片面に照射した後、７０℃で３分間熱風乾燥して、密着層を形成した。その後、得られた貼合物からセルロースアシレートフィルムおよび配向膜Ａを剥離し、円偏光板Ｗを作製した。

＜実施例２９＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ１を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。
（配向膜Ｃの形成）
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液Ｃを＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。次に、塗膜を６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥して、配向膜Ｃ（厚み：０．５μｍ）を得た。

配向膜塗布液Ｃの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記ポリビニルアルコール−３ １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製） ０．１７５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

ポリビニルアルコール−３

（光学異方性層Ａ５（λ／２板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに配向膜Ｃを使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ５を作製した。

（光学異方性層Ｃ１（λ／４板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに配向膜Ｃを使用した以外は、実施例２５と同様の手順に従って、光学異方性層Ｃ１を作製した。

（円偏光板Ｙ１の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ５を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃ１を用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ１を作製した。

＜実施例３０＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ２を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（配向膜Ｄの形成）
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液Ｄを＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。次に、塗膜を６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥して、配向膜Ｄ（厚み：０．５μｍ）を得た。

配向膜塗布液Ｄの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記ポリビニルアルコール−４ １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製） ０．１７５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

ポリビニルアルコール−４

（光学異方性層Ａ６（λ／２板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに配向膜Ｄを使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ６を作製した。

（光学異方性層Ｃ２（λ／４板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに配向膜Ｄを使用した以外は、実施例２５と同様の手順に従って、光学異方性層Ｃ２を作製した。

（円偏光板Ｙ２の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ６を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃ２を用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ２を作製した。

＜実施例３１＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ３を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（配向膜Ｅの形成）
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液Ｅを＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。次に、塗膜を６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥して、配向膜Ｅ（厚み：０．５μｍ）を得た。

配向膜塗布液Ｅの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記ポリビニルアルコール−５ １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製） ０．１７５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

ポリビニルアルコール−５

（光学異方性層Ａ７（λ／２板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに配向膜Ｅを使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、
光学異方性層Ａ７を作製した。

（光学異方性層Ｃ３（λ／４板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに配向膜Ｅを使用した以外は、実施例２５と同様の手順に従って、光学異方性層Ｃ３を作製した。

（円偏光板Ｙ３の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ７を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃ３を用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ３を作製した。

＜実施例３２＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ４を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ８（λ／２板に該当）の作製）
上記光学異方性層Ａ塗布液の代わりに、光学異方性層Ａ３塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ８を作製した。

光学異方性層Ａ３塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
５質量部
重合性化合物−１ ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｙ４の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ８を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃを用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ４を作製した。

＜実施例３３＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ５を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ９（λ／２板に該当）の作製）
上記光学異方性層Ａ塗布液の代わりに、光学異方性層Ａ４塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ９を作製した。

光学異方性層Ａ４塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
５質量部
ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｙ５の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ９を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃを用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ５を作製した。

＜実施例３４＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ６を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ１０（λ／２板に該当）の作製）
上記配向膜Ａの代わりに上記配向膜Ｃを、光学異方性層Ａ塗布液の代わりに光学異方性層Ａ３塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ１０を作製した。

（円偏光板Ｙ６の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ１０を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃ１を用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ６を作製した。

＜実施例３５＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ７を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ１１（λ／２板に該当）の作製）
上記光学異方性層Ａ塗布液の代わりに、光学異方性層Ａ５塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ１１を作製した。

光学異方性層Ａ５塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
５質量部
重合性化合物−１ ０．５質量部
紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ１５７７ＦＦ、ＢＡＳＦ社製） ５質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｙ７の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ１１を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃを用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ７を作製した。

＜実施例３６＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ８を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ１２（λ／２板に該当）の作製）
上記光学異方性層Ａ塗布液の代わりに、光学異方性層Ａ６塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ１２を作製した。

光学異方性層Ａ６塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
５質量部
重合性化合物−１ ０．５質量部
紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９ＦＦ、ＢＡＳＦ社製） ５質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｙ８の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ１２を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃを用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ８を作製した。

＜実施例３７＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ９を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ１３（λ／２板に該当）の作製）
上記光学異方性層Ａ塗布液の代わりに、光学異方性層Ａ７塗布液を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ１３を作製した。

光学異方性層Ａ７塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．０５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３） ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
５質量部
重合性化合物−１ ０．５質量部
紫外線吸収剤（アデカスタブＬＡ−Ｆ７０、ＡＤＥＫＡ社製 ５質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｙ９の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ１３を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃを用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ９を作製した。

＜実施例３８＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ１０を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｃ４（λ／４板に該当）の作製）
上記光学異方性層Ｃ塗布液の代わりに、光学異方性層Ｃ１塗布液を使用した以外は、実施例２５と同様の手順に従って、光学異方性層Ｃ４を作製した。

光学異方性層Ｃ１塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・棒状液晶化合物の混合物（Ａ） ８０質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ６質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２５質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．３質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
８質量部
・重合性化合物−２ ２０質量部
・メチルエチルケトン ３３７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［重合性化合物−２］

（円偏光板Ｙ１０の作製）
上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃ４を用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ１０を作製した。

＜実施例３９＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ１１を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｃ５（λ／４板に該当）の作製）
上記光学異方性層Ｃ塗布液の代わりに、光学異方性層Ｃ２塗布液を使用した以外は、実施例２５と同様の手順に従って、光学異方性層Ｃ５を作製した。

光学異方性層Ｃ２塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・棒状液晶化合物の混合物（Ａ） １００質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ６質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２５質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．３質量部
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート ８質量部
・メチルエチルケトン ３３７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｙ１１の作製）
上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃ５を用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ１１を作製した。

＜実施例４０＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｙ１２を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｃ６（λ／４板に該当）の作製）
上記光学異方性層Ｃ塗布液の代わりに、光学異方性層Ｃ３塗布液を使用した以外は、実施例２５と同様の手順に従って、光学異方性層Ｃ６を作製した。

光学異方性層Ｃ３塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・棒状液晶化合物の混合物（Ａ） ８０質量部
・棒状液晶化合物−２ ２０質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ６質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−１） ０．２５質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．３質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
８質量部
・メチルエチルケトン ３３７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（円偏光板Ｙ１２の作製）
上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｃ６を用いた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｙ１２を作製した。

＜実施例４１＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｐを使用し、直線偏光子の吸収軸と光学異方性層Ｅの遅相軸との角度関係を表１のようにした以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｅの作製）
実施例１で作製した配向膜Ａに連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度を４５°とした（フィルム幅方向を０°、フィルム長手方向を９０°とし、配向膜Ａ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は−４５°）。
ラビング処理した配向膜Ａ上に、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層Ｅ塗布液をバーコーターを用いて塗布した。次いで、ホットプレート上で９０℃まで加熱した後、６０℃に冷却することで配向を安定化させた。その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）にて５００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ（紫外線）を照射して、その配向状態を固定化することにより光学異方性層Ｅを形成した。形成された光学異方性層Ｅは、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行に棒状液晶化合物が配向していた。光学異方性層Ｅの厚さは２．０μｍであった。光学異方性層Ｅの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１３８ｎｍであり、光学異方性層Ｅは逆波長分散性を示す。

光学異方性層Ｅ塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
棒状液晶化合物−３ ４３．７５質量部
棒状液晶化合物−４ ４３．７５質量部
重合性化合物−２ １２．５０質量部
重合開始剤−１（オキシム型） ３質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２） ０．２質量部
メチルエチルケトン ２１９質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［棒状液晶化合物−３］

［棒状液晶化合物−４］

［重合開始剤−１］

（円偏光板Ｐの作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｅを用い、上記光学異方性層Ｂを用いなかった以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｐを作製した。なお、偏光子側から観察して、偏光子の透過軸を基準（０°）に時計周りを正の値で表すと、光学異方性層Ｅの遅相軸の角度は−４５°であった。

＜実施例４２＞
円偏光板Ｘの代わりに、円偏光板Ｐを使用した以外は、実施例２と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例４３＞
円偏光板Ｘの代わりに、円偏光板Ｐを使用した以外は、実施例３と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例４４＞
円偏光板Ｘの代わりに、円偏光板Ｐを使用した以外は、実施例４と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例４５＞
円偏光板Ｘの代わりに、円偏光板Ｐを使用した以外は、実施例５と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例４６＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｑを使用した以外は、実施例５と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（円偏光板Ｑの作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｅに用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｇを用い、直線偏光子の吸収軸と光学異方性層Ｅの遅相軸との角度関係を表１のようにした以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｑを作製した。

＜実施例４７＞
円偏光板Ｘの代わりに、円偏光板Ｐを使用した以外は、実施例７と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例４８＞
円偏光板Ｘの代わりに、円偏光板Ｐを使用した以外は、実施例８と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例４９＞
円偏光板Ｘの代わりに、円偏光板Ｐを使用した以外は、実施例９と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例５０＞
円偏光板Ｘの代わりに、円偏光板Ｐを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例５１＞
円偏光板Ｘの代わりに、円偏光板Ｑを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜実施例５２＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｑ１を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光配向膜の形成）
長尺状のセルロースアシレートフィルム（ＺＲＤ４０、富士フイルム社製）の片側の面に、特開２０１２−１５５３０８号公報の実施例３の記載を参考に作製した光配向用塗布液１を２番手のバーを用いて塗布した。塗布後、乾燥により溶剤を除去し、光異性化組成物層１を形成した。
得られた光異性化組成物層１に対して偏光紫外線を照射（１８０ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。

（光学異方性層Ｅ１の作製）
配向膜の代わりに、光配向膜を使用した以外は、光学異方性層Ｅの作製手順と同様の手順に従って、光学異方性層Ｅ１を作製した。

（円偏光板Ｑ１の作製）
光学異方性層Ｅの代わりに光学異方性層Ｅ１を用い、セルロースアシレートフィルムおよび光配向膜を剥離しないこと以外は、円偏光板Ｑと同様の手順に従って、円偏光板Ｑ１を作製した。

＜実施例５３＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｒを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｆの作製）
実施例１で作製した配向膜Ａに連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度を４５°とした（フィルム幅方向を０°、フィルム長手方向を９０°とし、配向膜Ａ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は−４５°）。
その後、特開２０１６−４０６０３号公報の実施例欄に記載の液晶硬化膜形成用組成物（Ａ−１）を用いた態様と同様の手順に従って、光学異方性層Ｆ（厚み：２．０μｍ）を作製した。光学異方性層Ｆの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４３ｎｍであり、光学異方性層Ｆは逆波長分散性を示す。

（円偏光板Ｒの作製）
次に、光学異方性層Ｅの代わりに光学異方性層Ｆを用いた以外は、円偏光板Ｐと同様の手順に従って、円偏光板Ｒを作製した。

＜実施例５４＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｓを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（円偏光板Ｓの作製）
光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｆを用い、光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｇを用い、直線偏光子の吸収軸と光学異方性層Ｆの遅相軸との角度関係を表１のようにした以外は、円偏光板Ｘと同様の手順に従って、円偏光板Ｓを作製した。

＜実施例５５＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｔを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｈの作製）
特開２０１５−２１２３６８号公報の実施例欄に記載の実施例３と同様の手順に従って、光学異方性層Ｈ（厚み：４６μｍ）を作製した。光学異方性層Ｈの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４５ｎｍであり、光学異方性層Ｈは逆波長分散性を示す。

（円偏光板Ｔの作製）
次に、光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｈを用い、光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｇを用い、直線偏光子の吸収軸と光学異方性層Ｈの遅相軸との角度関係を表１のようにした以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｔを作製した。

＜実施例５６＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｋを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｋの作製）
特開２０１５−２１２３６８号公報の実施例欄に記載の実施例５と同様の手順に従って、光学異方性層Ｋ（厚み：４４μｍ）を作製した。光学異方性層Ｋの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１３８ｎｍであり、光学異方性層Ｋは逆波長分散性を示す。

（円偏光板Ｋの作製）
次に、光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｋを用い、光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｇを用い、直線偏光子の吸収軸と光学異方性層Ｋの遅相軸との角度関係を表１のようにした以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｋを作製した。

＜実施例５７＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｏを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｍの作製）
特開２０１５−２１２３６８号公報の実施例欄に記載の比較例１３と同様の手順に従って、光学異方性層Ｍ（厚み：５４μｍ）を作製した。光学異方性層Ｍの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４５ｎｍであり、光学異方性層Ｍは逆波長分散性を示す。

（円偏光板Ｏの作製）
次に、光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｍを用い、光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｇを用い、直線偏光子の吸収軸と光学異方性層Ｍの遅相軸との角度関係を表１のようにした以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｏを作製した。

＜実施例５８＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｕを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ｉ（λ／２板に該当）の作製）
特開２０１６−２１２１７１号公報の実施例欄に記載の実施例５と同様の手順に従って、光学異方性層Ｉ（厚み：２８μｍ）を作製した。光学異方性層Ｉの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは２６０ｎｍであり、光学異方性層Ｉは順波長分散性を示す。

（光学異方性層Ｊ（λ／４板に該当）の作製）
また、特開２０１６−２１２１７１号公報の実施例欄に記載の実施例５と同様の手順に従って、光学異方性層Ｊ（厚み：２２μｍ）を作製した。光学異方性層Ｊの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１３０ｎｍであり、光学異方性層Ｊは順波長分散性を示す。

（円偏光板Ｕの作製）
次に、光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｉを用い、光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｊを用いた以外は、円偏光板Ｗの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｕを作製した。

＜実施例５９＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｌを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（円偏光板Ｌの作製）
光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｊを用いた以外は、円偏光板Ｗの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｌを作製した。

＜実施例６０＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｍを使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（円偏光板Ｍの作製）
光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ｉを用いた以外は、円偏光板Ｗの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｍを作製した。

＜実施例６１＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｘ５を使用した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（配向膜Ｂ１の形成）
実施例１３で作製した配向膜Ｂに、配向膜側から、１０５℃にてＬＥＤランプ（日機装（株）製、λ＝２８５ｎｍ）を用いて８．５ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ（紫外線）を片面に照射して、配向膜Ｂ１（厚み：０．５μｍ）を得た。

（光学異方性層Ａ１４（λ／２板に該当）の作製）
上記配向膜Ｂの代わりに配向膜Ｂ１を使用した以外は、実施例１４と同様の手順に従って、光学異方性層Ａ１４を作製した。

（円偏光板Ｘ５の作製）
上記光学異方性層Ａの代わりに光学異方性層Ａ１４を用い、上記光学異方性層Ｂの代わりに光学異方性層Ｂ２を用い、それぞれセルロースアシレートフィルムおよび配向膜Ｂ１、配向膜Ｂを剥離しないこと以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｘ５を作製した。つまり、円偏光板Ｘ５は、偏光子、密着層、光学異方性層Ａ１４（λ／２板）、配向膜Ｂ１、セルロースアシレートフィルム、密着層、光学異方性層Ｂ２（λ／４板）、配向膜Ｂ、セルロースアシレートフィルムがこの順に配置されていた。

＜比較例１＞
有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向に対する直線偏光子の吸収軸の方向を２５°から４５°に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜比較例２＞
有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向に対する直線偏光子の吸収軸の方向を２５°から１３５°に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜比較例３＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品の間の粘着剤の複素弾性率を１．３７×１０⁵Ｐ
ａから４．４７×１０⁵Ｐａに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機Ｅ
Ｌ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜比較例４＞
有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向に対する直線偏光子の吸収軸の方向を２５°から４５°に変更した以外は、実施例４１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜比較例５＞
有機ＥＬ表示装置代替品の稜線方向に対する直線偏光子の吸収軸の方向を０°から４５°に変更した以外は、実施例４６と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜比較例６＞
円偏光板と有機ＥＬ表示パネル代替品の間の粘着剤の複素弾性率を１．３７×１０⁵Ｐａから４．４７×１０⁵Ｐａに変更した以外は、実施例４１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

＜比較例７＞
円偏光板Ｘの代わりに、以下の手順に従って作製した円偏光板Ｎを使用し、円偏光板Ｎと有機ＥＬ表示パネル代替品との間の粘着剤層の厚みを５０μｍにした以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置代替品を作製し、各種評価を実施した。結果を表１に示す。

（円偏光板Ｎの作製）
ＵＶ硬化型接着剤の代わりに、偏光子と光学異方性層Ａとの間を厚み５０μｍの粘着剤層を用いて貼り合わせた以外は、円偏光板Ｘの作製手順と同様の手順に従って、円偏光板Ｎを作製した。

表１中、「条件」欄は、第１密着層が第２密着層よりも厚い場合を「Ａ」、第１密着層の厚みが第２密着層の厚み以下の場合「Ｂ」とする。
表１中、「液晶Ａ」〜「液晶Ｇ」は、それぞれ光学異方性層Ａ〜光学異方性層Ｇを意図する。「延伸Ｈ」〜「延伸Ｋ」は、それぞれ光学異方性層Ｈ〜光学異方性層Ｋを意図する。
表１中、「偏光子吸収軸角度（°）」は、有機ＥＬ表示装置代替品を屈曲させた際に形成される稜線の延在方向に対する直線偏光子の吸収軸の角度位置を表す。
表１中、「位相差層（１）の角度（°）」、「位相差層（２）の角度（°）」は、直線偏光子の透過軸を基準（０°）に反時計回りを正の値で表したときの位相差層の角度位置を表す。

上記表１に示す結果より、本発明の有機ＥＬ表示装置であれば、所望の効果が得られることが分かる。
なかでも、実施例１〜６の比較より、偏光子吸収軸角度が０±２０°または９０±２０°（好ましくは、０±１０°または９０±１０°）の場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例７〜１１の比較より、粘着剤層の複素弾性率が１．５０×１０⁵Ｐａ以下（好ましくは、１．００×１０⁵Ｐａ以下）の場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例２２〜２４の比較より、第１密着層の厚みが１００μｍ以下（好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下）の場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例２５〜２７の比較より、λ／４板およびλ／２板の一方が棒状液晶化合物から形成された層であり、他方が円盤状液晶化合物から形成された層である場合、より効果が優れることが確認された。
また、上記実施例より、円偏光板の厚みが６０μｍ以下、または、位相差層の厚みが２０μｍ以下の場合、より効果が優れることが確認された。

１０，１００ 有機ＥＬ表示装置
１２ 円偏光板
１４ 第１密着層
１６ 有機ＥＬ表示パネル
１８ 直線偏光子
２０ 第２密着層
２２ λ／４板として機能する位相差層
３０ 平面部
２４ 屈曲部

Claims (8)

1. 視認側から、円偏光板と、第１密着層と、屈曲可能な有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
   前記円偏光板が、視認側から、直線偏光子と、第２密着層と、λ／４板として機能する位相差層とを含み、
   前記第１密着層の複素弾性率が２．５０×１０⁵Ｐａ以下であり、
   前記第１密着層が、前記第２密着層よりも厚く、
   前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置を屈曲させた際に形成される稜線の延在方向に対して、直線偏光子の吸収軸が０±３０°または９０±３０°の角度に位置する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
2. 前記位相差層が、逆波長分散性を示す、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
3. 前記位相差層が、順波長分散性を示すλ／２板、および、順波長分散性を示すλ／４板を含む、請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
4. 前記λ／２板および前記λ／４板の少なくとも一方が液晶化合物を用いて形成された層である、請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
5. 前記位相差層が、逆分散波長特性を示す単層のλ／４板を含む、請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
6. 前記λ／４板が、液晶化合物を用いて形成された層である、請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
7. 前記位相差層が、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションが−１５０〜−１０ｎｍであるポジティブＣプレートをさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
8. 前記位相差層の厚みが２０μｍ以下である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。