JP2023029317A - 光学フィルム、円偏光板、表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、黒表示の表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、いずれの方位角においても黒色の色味づきが抑制される、光学フィルム、円偏光板および表示装置を提供。【解決手段】第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層をこの順に含み、第１光学異方性層は、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層、または、水平配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第２光学異方性層は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第３光学異方性層は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である、光学フィルム。【選択図】なし
Description
本発明は、光学フィルム、円偏光板、および、表示装置に関する。
屈折率異方性を持つ光学異方性層は、表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなどの種々の用途に適用されている。
例えば、特許文献１においては、所定の光学特性を示す２種の光学異方性層を積層した位相差板が開示されている。
例えば、特許文献１においては、所定の光学特性を示す２種の光学異方性層を積層した位相差板が開示されている。
本発明者らは、特許文献１に記載されている光学異方性層を積層させた光学フィルムを偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、表示装置を黒表示にして、表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、方位角によって黒色からの色味づきがあり、改善の余地があることを確認した。
本発明は、上記実情に鑑みて、偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、黒表示の表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、いずれの方位角においても黒色の色味づきが抑制される、光学フィルムを提供することを課題とする。
また、本発明は、円偏光板および表示装置も提供することを課題とする。
また、本発明は、円偏光板および表示装置も提供することを課題とする。
本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
（１） 第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層をこの順に含み、
第１光学異方性層は、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層、または、水平配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
第２光学異方性層は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
第３光学異方性層は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である、光学フィルム。
（２） 第２光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、第２光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比が、１．０２～１．０９である、（１）に記載の光学フィルム。
（３） 第１光学異方性層が、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層であり、
第１光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションの比が、１．０８～１．２５である、（１）または（２）に記載の光学フィルム。
（４） 第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションに対する、第３光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの比が、０．８２～１．１２である、（１）～（３）のいずれかに記載の光学フィルム。
（５） 光学フィルムに含まれる光学異方性層の合計厚みが１０μｍである、（４）に記載の光学フィルム。
（６） （１）～（５）のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを含み、
第１光学異方性層が、第２光学異方性層および第３光学異方性層よりも、偏光子に近い側に配置されている、円偏光板。
（７） 偏光子の視感度補正単体透過率が４２％以上である、（６）に記載の円偏光板。
（８） （１）～（５）のいずれかに記載の光学フィルム、または、（６）または（７）に記載の円偏光板を含む、表示装置。
第１光学異方性層は、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層、または、水平配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
第２光学異方性層は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
第３光学異方性層は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である、光学フィルム。
（２） 第２光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、第２光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比が、１．０２～１．０９である、（１）に記載の光学フィルム。
（３） 第１光学異方性層が、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層であり、
第１光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションの比が、１．０８～１．２５である、（１）または（２）に記載の光学フィルム。
（４） 第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションに対する、第３光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの比が、０．８２～１．１２である、（１）～（３）のいずれかに記載の光学フィルム。
（５） 光学フィルムに含まれる光学異方性層の合計厚みが１０μｍである、（４）に記載の光学フィルム。
（６） （１）～（５）のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを含み、
第１光学異方性層が、第２光学異方性層および第３光学異方性層よりも、偏光子に近い側に配置されている、円偏光板。
（７） 偏光子の視感度補正単体透過率が４２％以上である、（６）に記載の円偏光板。
（８） （１）～（５）のいずれかに記載の光学フィルム、または、（６）または（７）に記載の円偏光板を含む、表示装置。
本発明によれば、偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、黒表示の表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、いずれの方位角においても黒色の色味づきが抑制される、光学フィルムを提供できる。
また、本発明によれば、円偏光板および表示装置も提供できる。
また、本発明によれば、円偏光板および表示装置も提供できる。
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、面内遅相軸および面内進相軸は、特別な断りがなければ、波長５５０ｎｍにおける定義である。つまり、特別な断りがない限り、例えば、面内遅相軸方向という場合、波長５５０ｎｍにおける面内遅相軸の方向を意味する。
なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、面内遅相軸および面内進相軸は、特別な断りがなければ、波長５５０ｎｍにおける定義である。つまり、特別な断りがない限り、例えば、面内遅相軸方向という場合、波長５５０ｎｍにおける面内遅相軸の方向を意味する。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。
本明細書において表記される２価の基（例えば、－Ｏ－ＣＯ－）の結合方向は特に制限されず、例えば、Ｘ－Ｌ－Ｙで表される基においてＬが－Ｏ－ＣＯ－である場合、Ｘ側に結合している位置を＊１、Ｙ側に結合している位置を＊２とすると、Ｌは＊１－Ｏ－ＣＯ－＊２であってもよく、＊１－ＣＯ－Ｏ－＊２であってもよい。
なお、本明細書では、「可視光線」とは、波長４００～７００ｎｍの光を意図する。また、「紫外線」とは、波長１０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の光を意図する。
また、本明細書において、「直交」または「平行」については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±５°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、±３°の範囲内であることが好ましい。
また、本明細書において、「直交」または「平行」については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±５°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、±３°の範囲内であることが好ましい。
本発明の光学フィルムの特徴点としては、所定の光学異方性層を組み合わせて用いる点が挙げられる。
＜光学フィルムの第１実施態様＞
以下、本発明の光学フィルムの第１実施態様について、図面を参照して説明する。図１に、本発明の光学フィルムの第１実施態様の概略断面図を示す。
光学フィルム１０Ａは、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６をこの順に有する。
第１光学異方性層１２Ａは垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層であり、第２光学異方性層１４は厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第３光学異方性層１６は垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面での面内遅相軸とのなす角度は、後述するように、０～２０°の範囲であることが好ましい。
また、後述するように、第１実施態様においては、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である。
以下、各層について詳述する。
以下、本発明の光学フィルムの第１実施態様について、図面を参照して説明する。図１に、本発明の光学フィルムの第１実施態様の概略断面図を示す。
光学フィルム１０Ａは、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６をこの順に有する。
第１光学異方性層１２Ａは垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層であり、第２光学異方性層１４は厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第３光学異方性層１６は垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面での面内遅相軸とのなす角度は、後述するように、０～２０°の範囲であることが好ましい。
また、後述するように、第１実施態様においては、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である。
以下、各層について詳述する。
（第１光学異方性層１２Ａ）
第１光学異方性層１２Ａは、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、本明細書において、「固定した」状態は、液晶化合物の配向が保持された状態である。具体的には、通常、０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。
第１光学異方性層１２Ａは、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、本明細書において、「固定した」状態は、液晶化合物の配向が保持された状態である。具体的には、通常、０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。
第１光学異方性層１２Ａは、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層である。
上記垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層とは、より具体的には、垂直配向し、光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している円盤状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と層の厚み方向とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内がより好ましい。
また、円盤状液晶化合物の光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している状態とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
上記垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層とは、より具体的には、垂直配向し、光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している円盤状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と層の厚み方向とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内がより好ましい。
また、円盤状液晶化合物の光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している状態とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の光学フィルムと偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、黒表示した表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、いずれの方位角においても黒色の色味づきがより抑制される（以下、単に「本発明の効果がより優れる」ともいう。）点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１２０～－６０ｎｍが好ましく、－１１５～－６５ｎｍがより好ましい。
第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１２０～－６０ｎｍが好ましく、－１１５～－６５ｎｍがより好ましい。
円盤状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７、および、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載の化合物が挙げられる。
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７、および、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載の化合物が挙げられる。
円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
本明細書において、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。
本明細書において、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。
第１光学異方性層１２Ａは、垂直配向した、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。
第１光学異方性層１２Ａは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。
第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層１２Ａの波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションの比（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））は、０．８０～１．２５が好ましく、１．０８～１．２５がより好ましい。
第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層１２Ａの波長６５０ｎｍにおける面内レタデーションの比（Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０））は、０．９０～１．２０が好ましく、０．９２～１．００がより好ましい。
第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層１２Ａの波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションの比（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））は、０．８０～１．２５が好ましく、１．０８～１．２５がより好ましい。
第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層１２Ａの波長６５０ｎｍにおける面内レタデーションの比（Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０））は、０．９０～１．２０が好ましく、０．９２～１．００がより好ましい。
第１光学異方性層１２Ａの平均厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
（第２光学異方性層１４）
第２光学異方性層１４は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
第２光学異方性層１４は、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相を固定してなる層であることが好ましい。なお、上記第２光学異方性層１４を形成する際には、棒状液晶化合物と後述するキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。
第２光学異方性層１４は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
第２光学異方性層１４は、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相を固定してなる層であることが好ましい。なお、上記第２光学異方性層１４を形成する際には、棒状液晶化合物と後述するキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。
棒状液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、８０±３０°の範囲内（５０～１１０°の範囲内）が好ましく、８０±２０°の範囲内（６０～１００°の範囲内）がより好ましい。
なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
また、棒状液晶化合物が捩れ配向するとは、第２光学異方性層１４の厚み方向を軸として、第２光学異方性層１４の一方の主表面から他方の主表面までの棒状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、棒状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第２光学異方性層１４の厚み方向の位置によって異なる。
捩れ配向において、棒状液晶化合物の長軸は、第２光学異方性層１４の主面と平行となるように配置される。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第２光学異方性層１４の主面とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内がより好ましい。
なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
また、棒状液晶化合物が捩れ配向するとは、第２光学異方性層１４の厚み方向を軸として、第２光学異方性層１４の一方の主表面から他方の主表面までの棒状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、棒状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第２光学異方性層１４の厚み方向の位置によって異なる。
捩れ配向において、棒状液晶化合物の長軸は、第２光学異方性層１４の主面と平行となるように配置される。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第２光学異方性層１４の主面とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内がより好ましい。
波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性層１４の屈折率異方性Δｎと第２光学異方性層１４の厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面での面内遅相軸とのなす角度は、０～２０°の範囲であることが好ましい。
第２光学異方性層１４の形成に用いられる棒状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１、および、特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載の化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１、および、特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載の化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。
第２光学異方性層１４は、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。
第２光学異方性層１４の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、第２光学異方性層１４の波長４５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．６８～１．２０が好ましく、１．０２～１．０９がより好ましく、１．０４～１．０７がさらに好ましい。
第２光学異方性層１４の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、第２光学異方性層１４の波長６５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．９０～１．２０が好ましく、０．９２～１．００がより好ましい。
第２光学異方性層１４の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、第２光学異方性層１４の波長６５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．９０～１．２０が好ましく、０．９２～１．００がより好ましい。
第２光学異方性層１４の平均厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
上記平均厚みは、第２光学異方性層１４の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
上記平均厚みは、第２光学異方性層１４の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
（第３光学異方性層１６）
第３光学異方性層１６は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、棒状液晶化合物が垂直配向している状態とは、棒状液晶化合物の長軸と第３光学異方性層１６の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第３光学異方性層１６の厚み方向とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内がより好ましい。
第３光学異方性層１６は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、棒状液晶化合物が垂直配向している状態とは、棒状液晶化合物の長軸と第３光学異方性層１６の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第３光学異方性層１６の厚み方向とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内がより好ましい。
第３光学異方性層１６の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１２０～－１０ｎｍが好ましく、－１００～－３０ｎｍがより好ましい。
棒状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
棒状液晶化合物としては、例えば、第２光学異方性層１４で例示した棒状液晶化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。
棒状液晶化合物としては、例えば、第２光学異方性層１４で例示した棒状液晶化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。
第３光学異方性層１６は、垂直配向した、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。
第３光学異方性層１６の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションに対する、第３光学異方性層１６の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの比は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．６８～１．２０が好ましく、０．８２～１．１２がより好ましい。
第３光学異方性層１６の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションに対する、第３光学異方性層１６の波長６５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの比は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．９０～１．２０が好ましく、０．９２～１．００がより好ましい。
第３光学異方性層１６の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションに対する、第３光学異方性層１６の波長６５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの比は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．９０～１．２０が好ましく、０．９２～１．００がより好ましい。
第３光学異方性層１６の平均厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
上記平均厚みは、第３光学異方性層１６の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
上記平均厚みは、第３光学異方性層１６の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
光学フィルム１０Ａにおいては、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である。後述するように、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６は光学異方性層形成用組成物を用いて形成されることが好ましく、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の少なくとも１つは、逆波長分散性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて形成されることがより好ましい。
言い換えれば、第１光学異方性層１２Ａの形成に用いられる円盤状液晶化合物、第２光学異方性層１４の形成に用いられる棒状液晶化合物、および、第３光学異方性層１６の形成に用いられる棒状液晶化合物の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む。
なお、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の各層の形成に複数種の液晶化合物が使用される場合、少なくとも１種が逆波長分散性液晶化合物であればよい。
つまり、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の各層の形成に複数種の液晶化合物が使用される場合、逆波長分散性液晶化合物と、順波長分散性液晶化合物との混合物を使用してもよい。
複数種の液晶化合物を用いる場合、逆波長分散性液晶化合物の含有量は、液晶化合物全質量に対して、１～９０質量％の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、５～５０質量％が好ましく、２０～４０質量％がより好ましい。
言い換えれば、第１光学異方性層１２Ａの形成に用いられる円盤状液晶化合物、第２光学異方性層１４の形成に用いられる棒状液晶化合物、および、第３光学異方性層１６の形成に用いられる棒状液晶化合物の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む。
なお、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の各層の形成に複数種の液晶化合物が使用される場合、少なくとも１種が逆波長分散性液晶化合物であればよい。
つまり、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の各層の形成に複数種の液晶化合物が使用される場合、逆波長分散性液晶化合物と、順波長分散性液晶化合物との混合物を使用してもよい。
複数種の液晶化合物を用いる場合、逆波長分散性液晶化合物の含有量は、液晶化合物全質量に対して、１～９０質量％の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、５～５０質量％が好ましく、２０～４０質量％がより好ましい。
逆波長分散性液晶化合物とは、この液晶化合物を配向（水平配向）させて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値またはＲｔｈ値が高くなるものをいう。
逆波長分散性液晶化合物としては、下記式（ＩＩ）で表される部分構造を有する重合性液晶化合物が好ましい。
＊－Ｄ１－Ａｒ－Ｄ２－＊ ・・・（ＩＩ）
＊－Ｄ１－Ａｒ－Ｄ２－＊ ・・・（ＩＩ）
上記式（ＩＩ）中、Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＮＲ１－ＣＲ２Ｒ３－、または－ＣＯ－ＮＲ１－を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のそれぞれが複数存在する場合には、複数のＲ１、複数のＲ２、複数のＲ３および複数のＲ４はそれぞれ、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ａｒは、式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、＊は、Ｄ１またはＤ２との結合位置を表し、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中の符号の説明は、後述する式（ＩＩＩ）中のＡｒで説明するものと同様である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のそれぞれが複数存在する場合には、複数のＲ１、複数のＲ２、複数のＲ３および複数のＲ４はそれぞれ、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ａｒは、式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、＊は、Ｄ１またはＤ２との結合位置を表し、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中の符号の説明は、後述する式（ＩＩＩ）中のＡｒで説明するものと同様である。
上記式（ＩＩ）で表される部分構造を有する重合性液晶化合物としては、下記式（ＩＩＩ）で表される重合性液晶化合物が好ましい。
下記式（ＩＩＩ）で表される重合性液晶化合物は、液晶性を示す化合物である。
Ｌ１－Ｇ１－Ｄ１－Ａｒ－Ｄ２－Ｇ２－Ｌ２ ・・・（ＩＩＩ）
下記式（ＩＩＩ）で表される重合性液晶化合物は、液晶性を示す化合物である。
Ｌ１－Ｇ１－Ｄ１－Ａｒ－Ｄ２－Ｇ２－Ｌ２ ・・・（ＩＩＩ）
上記式（ＩＩＩ）中、Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＮＲ１－ＣＲ２Ｒ３－、または－ＣＯ－ＮＲ１－を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のそれぞれが複数存在する場合には、複数のＲ１、複数のＲ２、複数のＲ３および複数のＲ４はそれぞれ、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基、または、芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－、または－ＮＨ－で置換されていてもよい。
Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する１価の基を表す。
Ａｒは、式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、＊は、Ｄ１またはＤ２との結合位置を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のそれぞれが複数存在する場合には、複数のＲ１、複数のＲ２、複数のＲ３および複数のＲ４はそれぞれ、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基、または、芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－、または－ＮＨ－で置換されていてもよい。
Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する１価の基を表す。
Ａｒは、式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、＊は、Ｄ１またはＤ２との結合位置を表す。
上記式（Ａｒ－１）中、Ｑ１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ７）－を表し、Ｒ７は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ７が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、および、ナフチル基のアリール基が挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、および、ピリジル基のヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、および、ハロゲン原子が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１～１８のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、および環状のいずれであってもよい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられ、中でも、フッ素原子または塩素原子が好ましい。
Ｒ７が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、および、ナフチル基のアリール基が挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、および、ピリジル基のヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、および、ハロゲン原子が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１～１８のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、および環状のいずれであってもよい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられ、中でも、フッ素原子または塩素原子が好ましい。
また、上記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ８、－ＮＲ９Ｒ１０、または、－ＳＲ１１を表し、Ｒ８～Ｒ１１は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、または１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、またはｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、および、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、および、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、および、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、または１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、またはｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、および、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、および、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、および、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。
また、上記式（Ａｒ－２）および（Ａｒ－３）中、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ１２）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ１２は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ１２が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
Ｒ１２が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－２）中、Ｘは、置換基が結合していてもよい、第１４～１６族の非金属原子を表す。
Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、水素原子または置換基が結合した窒素原子〔＝Ｎ－ＲＮ１，ＲＮ１は水素原子または置換基を表す。〕、水素原子または置換基が結合した炭素原子〔＝Ｃ－（ＲＣ１）２，ＲＣ１は水素原子または置換基を表す。〕が挙げられる。ＲＮ１またはＲＣ１の置換基としては、ＣＮが好ましい。
Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、水素原子または置換基が結合した窒素原子〔＝Ｎ－ＲＮ１，ＲＮ１は水素原子または置換基を表す。〕、水素原子または置換基が結合した炭素原子〔＝Ｃ－（ＲＣ１）２，ＲＣ１は水素原子または置換基を表す。〕が挙げられる。ＲＮ１またはＲＣ１の置換基としては、ＣＮが好ましい。
また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｄ４およびＤ５は、それぞれ独立に、単結合、または、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ１ａＲ２ａ－、－ＣＲ３ａ＝ＣＲ４ａ－、－ＮＲ５ａ－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ１ａ～Ｒ５ａは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
ここで、２価の連結基としては、例えば、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－Ｏ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－Ｏ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＮＲ３ｂ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、および、－ＣＯ－ＮＲ３ｂ－が挙げられる。Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂおよびＲ３ｂは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
ここで、２価の連結基としては、例えば、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－Ｏ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－Ｏ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、－ＮＲ３ｂ－ＣＲ１ｂＲ２ｂ－、および、－ＣＯ－ＮＲ３ｂ－が挙げられる。Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂおよびＲ３ｂは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
また、上記式（Ａｒ－３）中、ＳＰ１およびＳＰ２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｌ３およびＬ４は、それぞれ独立に、１価の有機基を表す。
１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、および、ヘテロアリール基が挙げられる。アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、および、ヘテロアリール基が挙げられる。アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、特許文献１（国際公開第２０１４／０１０３２５号）の［００３９］～［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、特許文献１（国際公開第２０１４／０１０３２５号）の［００３９］～［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
式（ＩＩＩ）で表される液晶化合物の各置換基の定義および好ましい範囲については、特開２０１２－０２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＤ１、Ｄ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｘ１、Ｙ１、Ｑ１、Ｑ２に関する記載をそれぞれＤ１、Ｄ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｑ１、Ｙ１、Ｚ１、およびＺ２について参照でき、特開２００８－１０７７６７号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡ１、Ａ２、およびＸに関する記載をそれぞれＡ１、Ａ２、およびＸについて参照でき、国際公開第２０１３／０１８５２６号に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡｘ、Ａｙ、Ｑ１に関する記載をそれぞれＡｘ、Ａｙ、Ｑ２について参照できる。Ｚ３については特開２０１２－２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＱ１の記載を参照できる。
特に、Ｌ１およびＬ２で示される有機基としては、それぞれ、－Ｄ３－Ｇ３－Ｓｐ－Ｐ３で表される基であることが好ましい。
Ｄ３は、Ｄ１と同義である。
Ｇ３は、単結合、炭素数６～１２の２価の芳香環基若しくは複素環基、または炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＲ７－で置換されていてもよく、ここでＲ７は水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｓｐは、単結合、－（ＣＨ２）ｎ－、－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－（ＣＨ２－Ｏ－）ｎ－、－（ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）ｍ、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ２－Ｏ－）ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）ｍ、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２－Ｏ－）ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）ｍ、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ８）－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ８）－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ８）－（ＣＨ２－Ｏ－）ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ８）－（ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）ｍ、または－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－（ＣＨ２）ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－で表されるスペーサー基を表す。ここで、ｎは２～１２の整数を表し、ｍは２～６の整数を表し、Ｒ８は水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。また、上記各基における－ＣＨ２－の水素原子は、メチル基で置換されていてもよい。
Ｐ３は重合性基を示す。
Ｄ３は、Ｄ１と同義である。
Ｇ３は、単結合、炭素数６～１２の２価の芳香環基若しくは複素環基、または炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＲ７－で置換されていてもよく、ここでＲ７は水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｓｐは、単結合、－（ＣＨ２）ｎ－、－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－（ＣＨ２－Ｏ－）ｎ－、－（ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）ｍ、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ２－Ｏ－）ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）ｍ、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２－Ｏ－）ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）ｍ、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ８）－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ８）－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ８）－（ＣＨ２－Ｏ－）ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ８）－（ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）ｍ、または－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－（ＣＨ２）ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－で表されるスペーサー基を表す。ここで、ｎは２～１２の整数を表し、ｍは２～６の整数を表し、Ｒ８は水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。また、上記各基における－ＣＨ２－の水素原子は、メチル基で置換されていてもよい。
Ｐ３は重合性基を示す。
重合性基は特に制限されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性基が挙げられ、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性基が挙げられ、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
なお、順波長分散性液晶化合物とは、この液晶化合物を配向（水平配向）させて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値またはＲｔｈ値が小さくなるものをいう。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、第２光学異方性層１４が、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましい。
言い換えれば、第２光学異方性層１４は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、棒状液晶化合物は逆波長分散性液晶化合物を含むことが好ましい。
後述するように、光学異方性層形成用組成物を用いて第２光学異方性層１４を形成する場合、逆波長分散性棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて第２光学異方性層１４を形成することが好ましい。
言い換えれば、第２光学異方性層１４は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、棒状液晶化合物は逆波長分散性液晶化合物を含むことが好ましい。
後述するように、光学異方性層形成用組成物を用いて第２光学異方性層１４を形成する場合、逆波長分散性棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて第２光学異方性層１４を形成することが好ましい。
（他の部材）
光学フィルム１０Ａは、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第３光学異方性層１６以外の他の部材を含んでいてもよい。
光学フィルム１０Ａは、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第３光学異方性層１６以外の他の部材を含んでいてもよい。
（第４光学異方性層）
光学フィルム１０Ａは、第１光学異方性層１２Ａの第２光学異方性層１４側とは反対側に、第４光学異方性層を含んでいてもよい。
第４光学異方性層は、水平配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、円盤状液晶化合物が水平配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の主面とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と層の主面とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内がより好ましい。
光学フィルム１０Ａは、第１光学異方性層１２Ａの第２光学異方性層１４側とは反対側に、第４光学異方性層を含んでいてもよい。
第４光学異方性層は、水平配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、円盤状液晶化合物が水平配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の主面とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と層の主面とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内がより好ましい。
第４光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、５～１００ｎｍが好ましく、１０～９０ｎｍがより好ましい。
円盤状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
円盤状液晶化合物としては、例えば、第１光学異方性層１２Ａで例示した円盤状液晶化合物が挙げられる。
円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。
円盤状液晶化合物としては、例えば、第１光学異方性層１２Ａで例示した円盤状液晶化合物が挙げられる。
円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。
第４光学異方性層は、水平配向した、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。
第４光学異方性層の平均厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
なお、上記平均厚みは、第４光学異方性層の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
なお、上記平均厚みは、第４光学異方性層の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
（密着層）
光学フィルム１０Ａは、各光学異方性層間に、密着層を有していてもよい。
密着層としては、公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。
光学フィルム１０Ａは、各光学異方性層間に、密着層を有していてもよい。
密着層としては、公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。
（配向膜）
光学フィルム１０Ａは、配向膜をさらに有していてもよい。配向膜は、各光学異方性層間に配置されていてもよい。
なお、図１に示すように、光学フィルム１０Ａは、各光学異方性層間には、配向膜を有さないことが好ましい。
光学フィルム１０Ａは、配向膜をさらに有していてもよい。配向膜は、各光学異方性層間に配置されていてもよい。
なお、図１に示すように、光学フィルム１０Ａは、各光学異方性層間には、配向膜を有さないことが好ましい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で形成できる。
さらに、電場の付与、磁場の付与、または、光照射（好ましくは偏光）により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
配向膜としては、光配向膜も挙げられる。
配向膜の厚みは、配向機能を発揮することができれば特に制限されないが、０．０１～５．０μｍが好ましく、０．０５～２．０μｍがより好ましく、０．１～０．５μｍがさらに好ましい。
さらに、電場の付与、磁場の付与、または、光照射（好ましくは偏光）により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
配向膜としては、光配向膜も挙げられる。
配向膜の厚みは、配向機能を発揮することができれば特に制限されないが、０．０１～５．０μｍが好ましく、０．０５～２．０μｍがより好ましく、０．１～０．５μｍがさらに好ましい。
（基板）
光学フィルム１０Ａは、基板をさらに有していてもよい。
基板としては、透明基板が好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
基板の厚みは特に制限されないが、１０～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。
光学フィルム１０Ａは、基板をさらに有していてもよい。
基板としては、透明基板が好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
基板の厚みは特に制限されないが、１０～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。
また、基板は複数枚の積層からなっていてもよい。基板はその上に設けられる層との接着を改善するため、基板の表面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。
また、基板の上に、接着剤層（下塗り層）を設けてもよい。
基板は、いわゆる仮支持体であってもよい。例えば、基板上に光学異方性層を製造した後、必要に応じて、基板を光学異方性層から剥離してもよい。
また、基板の上に、接着剤層（下塗り層）を設けてもよい。
基板は、いわゆる仮支持体であってもよい。例えば、基板上に光学異方性層を製造した後、必要に応じて、基板を光学異方性層から剥離してもよい。
（光学フィルムの製造方法）
光学フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
例えば、第１光学異方性層～第３光学異方性層をそれぞれ作製して、それらを密着層（例えば、粘着剤層または接着剤層）を介して所定の順番で貼り合わせることにより、光学フィルムを製造できる。
また、第１光学異方性層～第３光学異方性層は、それぞれ形成し得る、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて製造できる。
光学フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
例えば、第１光学異方性層～第３光学異方性層をそれぞれ作製して、それらを密着層（例えば、粘着剤層または接着剤層）を介して所定の順番で貼り合わせることにより、光学フィルムを製造できる。
また、第１光学異方性層～第３光学異方性層は、それぞれ形成し得る、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて製造できる。
以下では、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて光学異方性層（第１光学異方性層～第３光学異方性層）を製造する方法について詳述する。
光学異方性層形成用組成物に含まれる重合性基を有する液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物」ともいう。）は、上述した通りである。なお、上述したように、形成される光学異方性層の特性に応じて、棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物が適宜選択される。
光学異方性層形成用組成物中における重合性液晶化合物の含有量は、光学異方性層形成用組成物の全固形分に対して、６０～９９質量％が好ましく、７０～９８質量％がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除去した、光学異方性層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
光学異方性層形成用組成物中における重合性液晶化合物の含有量は、光学異方性層形成用組成物の全固形分に対して、６０～９９質量％が好ましく、７０～９８質量％がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除去した、光学異方性層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
光学異方性層形成用組成物は、重合性基を有する液晶化合物以外の他の化合物を含んでいてもよい。
例えば、第２光学異方性層１４を形成するための光学異方性層形成用組成物は、液晶化合物を捩れ配向させるためには、キラル剤を含むことが好ましい。キラル剤は、液晶化合物を捩れ配向させるために添加されるが、勿論、液晶化合物が、分子内に不斉炭素を有するなど、光学活性を示す化合物である場合は、キラル剤の添加は不要である。また、製造方法および捩れ角度によっては、キラル剤の添加は不要である。
キラル剤としては、併用する液晶化合物を相溶するものであれば、特に構造についての制限はない。公知のキラル剤（例えば、日本学術振興会第１４２委員会編「液晶デバイスハンドブック」，第３章４－３項，ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤，１９９頁，１９８９年に記載）のいずれも用いることができる。
キラル剤の使用量は特に制限されず、上述した捩れ角度が達成されるように調整される。
例えば、第２光学異方性層１４を形成するための光学異方性層形成用組成物は、液晶化合物を捩れ配向させるためには、キラル剤を含むことが好ましい。キラル剤は、液晶化合物を捩れ配向させるために添加されるが、勿論、液晶化合物が、分子内に不斉炭素を有するなど、光学活性を示す化合物である場合は、キラル剤の添加は不要である。また、製造方法および捩れ角度によっては、キラル剤の添加は不要である。
キラル剤としては、併用する液晶化合物を相溶するものであれば、特に構造についての制限はない。公知のキラル剤（例えば、日本学術振興会第１４２委員会編「液晶デバイスハンドブック」，第３章４－３項，ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤，１９９頁，１９８９年に記載）のいずれも用いることができる。
キラル剤の使用量は特に制限されず、上述した捩れ角度が達成されるように調整される。
光学異方性層形成用組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。
光学異方性層形成用組成物中における重合開始剤の含有量は、光学異方性層形成用組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
光学異方性層形成用組成物中における重合開始剤の含有量は、光学異方性層形成用組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
光学異方性層形成用組成物に含まれていてもよい他の成分としては、上記以外にも、多官能モノマー、配向制御剤（垂直配向剤、水平配向剤）、界面活性剤、密着改良剤、可塑剤、および、溶媒が挙げられる。
光学異方性層形成用組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法が挙げられる。
次に、形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物を配向させる。例えば、第１光学異方性層１２Ａを形成する際には、円盤状液晶化合物を垂直配向させ、円盤状液晶化合物の光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列しているように配向させる。また、第２光学異方性層１４を形成する際には、棒状液晶化合物を捩れ配向させる。また、第３光学異方性層１６を形成する際には、棒状液晶化合物を垂直配向させる。また、第４光学異方性層を形成する際には、円盤状液晶化合物を水平配向させる。
配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、５０～１５０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、塗膜を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、塗膜を冷却してもよい。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、５０～１５０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、塗膜を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、塗膜を冷却してもよい。
次に、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す。
重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量が好ましい。
光照射処理の際の雰囲気は特に制限されないが、窒素雰囲気が好ましい。
重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量が好ましい。
光照射処理の際の雰囲気は特に制限されないが、窒素雰囲気が好ましい。
光学フィルムに含まれる光学異方性層の合計厚みは特に制限されず、薄型化の点から、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されず、０．１μｍ以上が好ましい。
なお、光学フィルムに含まれる光学異方性層としては、上述した第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層が少なくとも含まれ、光学異方性層が第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層以外の他の光学異方性層を含む場合には、他の光学異方性層も含める。
なお、光学フィルムに含まれる光学異方性層としては、上述した第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層が少なくとも含まれ、光学異方性層が第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層以外の他の光学異方性層を含む場合には、他の光学異方性層も含める。
＜円偏光板の第１実施態様＞
本発明の光学フィルムの第１実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。なお、円偏光板とは、無偏光の光を円偏光に変換する光学素子である。
上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
本発明の光学フィルムの第１実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。なお、円偏光板とは、無偏光の光を円偏光に変換する光学素子である。
上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性物質を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性物質を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。
偏光子としては、二色性物質および重合性基を有する液晶化合物を含む組成物を用いて形成された偏光子であることが好ましい。
特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性膜を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物とを併用することが好ましい。
特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性膜を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物とを併用することが好ましい。
偏光子の視感度補正単体透過率は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、４２％以上が好ましく、４３％以上がより好ましい。上限は特に制限されず、４８％以下が好ましい。
なお、視感度補正単体透過率は、以下の方法により算出する。
偏光子について、積分球付き分光光度計〔日本分光（株）製の「Ｖ７１００」〕を用いて波長３８０～７８０ｎｍの範囲における吸収軸方向の透過率（Ｔ１）および吸収軸に直交する方向における透過率（Ｔ２）を測定し、下記式に基づいて、各波長における単体透過率を算出する。
単体透過率（％）＝（Ｔ１＋Ｔ２）／２
得られた単体透過率について、ＪＩＳ Ｚ ８７０１：１９９９「色の表示方法－ＸＹＺ表色系およびＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表色系」の２度視野（Ｃ光源）により視感度補正を行い、視感度補正単体透過率を求める。
なお、視感度補正単体透過率は、以下の方法により算出する。
偏光子について、積分球付き分光光度計〔日本分光（株）製の「Ｖ７１００」〕を用いて波長３８０～７８０ｎｍの範囲における吸収軸方向の透過率（Ｔ１）および吸収軸に直交する方向における透過率（Ｔ２）を測定し、下記式に基づいて、各波長における単体透過率を算出する。
単体透過率（％）＝（Ｔ１＋Ｔ２）／２
得られた単体透過率について、ＪＩＳ Ｚ ８７０１：１９９９「色の表示方法－ＸＹＺ表色系およびＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表色系」の２度視野（Ｃ光源）により視感度補正を行い、視感度補正単体透過率を求める。
図２に、円偏光板１００Ａの一実施態様の概略断面図を示す。また、図３は、図２に示す円偏光板１００Ａにおける、偏光子２０の吸収軸と、第１光学異方性層１２Ａおよび第２光学異方性層１４のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。なお、図３中の偏光子２０中の矢印は吸収軸を、第１光学異方性層１２Ａおよび第２光学異方性層１４中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。
また、図４は、図２の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第１光学異方性層１２Ａおよび第２光学異方性層１４のそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
なお、面内遅相軸の回転角度は、図２中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、液晶化合物の捩れ方向は、図２中の白抜きの矢印から観察した際、第２光学異方性層１４中の手前側（偏光子２０側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）かを判断する。
また、図４は、図２の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第１光学異方性層１２Ａおよび第２光学異方性層１４のそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
なお、面内遅相軸の回転角度は、図２中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、液晶化合物の捩れ方向は、図２中の白抜きの矢印から観察した際、第２光学異方性層１４中の手前側（偏光子２０側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）かを判断する。
円偏光板１００Ａは、図２に示すように、偏光子２０と、第１光学異方性層１２Ａと、第２光学異方性層１４と、第３光学異方性層１６とをこの順で含む。
図３～４に示すように、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸とのなす角度φａ１は、７６°である。より具体的には、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、－７６°（時計回りに７６°）回転している。なお、図３～４においては、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸が－７６°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、－４０～－８５°の範囲内になることが好ましく、－５０～－８５°の範囲内になることがより好ましく、－６５～－８５°の範囲内になることがさらに好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸とのなす角度は、４０～８５°の範囲内であることが好ましく、５０～８５°の範囲内であることがより好ましく、６５～８５°の範囲内であることがさらに好ましい。
なお、図３に示すように、第１光学異方性層１２Ａ中において、第１光学異方性層１２Ａの偏光子２０側の表面１２１Ａでの面内遅相軸と、第１光学異方性層１２Ａの第２光学異方性層１４側の表面１２２Ａでの面内遅相軸とは、平行である。
図３～４に示すように、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸とのなす角度φａ１は、７６°である。より具体的には、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、－７６°（時計回りに７６°）回転している。なお、図３～４においては、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸が－７６°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、－４０～－８５°の範囲内になることが好ましく、－５０～－８５°の範囲内になることがより好ましく、－６５～－８５°の範囲内になることがさらに好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸とのなす角度は、４０～８５°の範囲内であることが好ましく、５０～８５°の範囲内であることがより好ましく、６５～８５°の範囲内であることがさらに好ましい。
なお、図３に示すように、第１光学異方性層１２Ａ中において、第１光学異方性層１２Ａの偏光子２０側の表面１２１Ａでの面内遅相軸と、第１光学異方性層１２Ａの第２光学異方性層１４側の表面１２２Ａでの面内遅相軸とは、平行である。
図３～４に示すように、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸とのなす角度は、６°である。より具体的には、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸は、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸に対して、－６°（時計回りに６°）回転している。
なお、本発明はこの態様に制限されず、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸とのなす角度は、０～２０°の範囲内であることが好ましい。
第２光学異方性層１４は、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図３～４に示すように、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図３においては、８７°）をなす。つまり、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度は、８７°である。より具体的には、第２光学異方性層１４中における棒状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が８７°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度φａ３は、５°である。
なお、図３～４においては、第２光学異方性層１４中の棒状液晶化合物の捩れ角度が８７°の態様を示すが、この態様に限定されず、上述したように、棒状液晶化合物の捩れ角度は８０±３０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度は、８０±３０°の範囲内であることが好ましい。
なお、本発明はこの態様に制限されず、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸とのなす角度は、０～２０°の範囲内であることが好ましい。
第２光学異方性層１４は、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図３～４に示すように、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図３においては、８７°）をなす。つまり、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度は、８７°である。より具体的には、第２光学異方性層１４中における棒状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が８７°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度φａ３は、５°である。
なお、図３～４においては、第２光学異方性層１４中の棒状液晶化合物の捩れ角度が８７°の態様を示すが、この態様に限定されず、上述したように、棒状液晶化合物の捩れ角度は８０±３０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ａ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度は、８０±３０°の範囲内であることが好ましい。
上述したように、図３～４の態様では、偏光子２０側から円偏光板１００Ａを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸が時計回りに７６°回転しており、第２光学異方性層１４中における棒状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）である。
図３～４においては、棒状液晶化合物の捩れ方向が反時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、時計回りの態様であってもよい。より具体的には、偏光子２０側から円偏光板１００Ａを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸が反時計回りに７６°回転しており、第２光学異方性層１４中における棒状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）である態様であってもよい。
図３～４においては、棒状液晶化合物の捩れ方向が反時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、時計回りの態様であってもよい。より具体的には、偏光子２０側から円偏光板１００Ａを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸が反時計回りに７６°回転しており、第２光学異方性層１４中における棒状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）である態様であってもよい。
つまり、光学フィルムの第１実施態様を含む円偏光板においては、偏光子側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が時計回りに４０～８５°（５０～８５°が好ましく、６５～８５°がより好ましい）の範囲内で回転している場合、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における棒状液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであることが好ましい。
また、光学フィルムの第１実施態様を含む円偏光板においては、偏光子側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が反時計回りに４０～８５°（５０～８５°が好ましく、６５～８５°がより好ましい）の範囲内で回転している場合、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における棒状液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。
また、光学フィルムの第１実施態様を含む円偏光板においては、偏光子側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が反時計回りに４０～８５°（５０～８５°が好ましく、６５～８５°がより好ましい）の範囲内で回転している場合、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における棒状液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。
上記円偏光板は、光学フィルムおよび偏光子以外の他の部材を有していてもよい。
円偏光板は、光学フィルムと偏光子との間に、密着層を有していてもよい。
密着層としては、上述した公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。
円偏光板は、光学フィルムと偏光子との間に、密着層を有していてもよい。
密着層としては、上述した公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。
上記円偏光板の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、偏光子と、光学フィルムとを密着層を介して貼合する方法が挙げられる。
例えば、偏光子と、光学フィルムとを密着層を介して貼合する方法が挙げられる。
＜光学フィルムの第２実施態様＞
以下、本発明の光学フィルムの第２実施態様について、図面を参照して説明する。図５に、本発明の光学フィルムの第２実施態様の概略断面図を示す。
光学フィルム１０Ｂは、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６をこの順に有する。
第１光学異方性層１２Ｂは水平配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第２光学異方性層１４は厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第３光学異方性層１６は垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側の表面での面内遅相軸とが平行である。
また、後述するように、第２実施態様においては、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である。
第１実施態様の光学フィルムと第２実施態様の光学フィルムとは、第２実施態様の光学フィルムにおいて、第１実施態様の光学フィルムの第１光学異方性層１２Ａの代わりに第１光学異方性層１２Ｂを使用している点以外は、同様の構成を有する。
よって、以下では、第１光学異方性層１２Ｂについて主に説明する。
以下、本発明の光学フィルムの第２実施態様について、図面を参照して説明する。図５に、本発明の光学フィルムの第２実施態様の概略断面図を示す。
光学フィルム１０Ｂは、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６をこの順に有する。
第１光学異方性層１２Ｂは水平配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第２光学異方性層１４は厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第３光学異方性層１６は垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側の表面での面内遅相軸とが平行である。
また、後述するように、第２実施態様においては、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である。
第１実施態様の光学フィルムと第２実施態様の光学フィルムとは、第２実施態様の光学フィルムにおいて、第１実施態様の光学フィルムの第１光学異方性層１２Ａの代わりに第１光学異方性層１２Ｂを使用している点以外は、同様の構成を有する。
よって、以下では、第１光学異方性層１２Ｂについて主に説明する。
（第１光学異方性層１２Ｂ）
第１光学異方性層１２Ｂは、水平配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、棒状液晶化合物が水平配向している状態とは、棒状液晶化合物の分子軸（棒状液晶化合物の長軸が該当）が層表面に対して水平に、かつ、同一方位に配列している状態（光学的一軸性）をいう。
ここで、水平とは、厳密に水平であることを要求するものでなく、棒状液晶化合物の平均分子軸が層の主面とのなす傾斜角が２０°未満の配向を意味するものとする。
また、同一方位とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
第１光学異方性層１２Ｂは、水平配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
なお、棒状液晶化合物が水平配向している状態とは、棒状液晶化合物の分子軸（棒状液晶化合物の長軸が該当）が層表面に対して水平に、かつ、同一方位に配列している状態（光学的一軸性）をいう。
ここで、水平とは、厳密に水平であることを要求するものでなく、棒状液晶化合物の平均分子軸が層の主面とのなす傾斜角が２０°未満の配向を意味するものとする。
また、同一方位とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１２０～－６０ｎｍが好ましく、－１１５～－６５ｎｍがより好ましい。
第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１２０～－６０ｎｍが好ましく、－１１５～－６５ｎｍがより好ましい。
棒状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
棒状液晶化合物としては、例えば、第２光学異方性層１４で例示した棒状液晶化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。
棒状液晶化合物としては、例えば、第２光学異方性層１４で例示した棒状液晶化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。
第１光学異方性層１２Ｂは、水平配向した、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。
第１光学異方性層１２Ｂは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。
第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層１２Ｂの波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションの比（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））は、０．８０～１．２５が好ましく、１．０８～１．２５がより好ましい。
第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層１２Ｂの波長６５０ｎｍにおける面内レタデーションの比（Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０））は、０．９０～１．２０が好ましく、０．９２～１．００がより好ましい。
第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層１２Ｂの波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションの比（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））は、０．８０～１．２５が好ましく、１．０８～１．２５がより好ましい。
第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、第１光学異方性層１２Ｂの波長６５０ｎｍにおける面内レタデーションの比（Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０））は、０．９０～１．２０が好ましく、０．９２～１．００がより好ましい。
第１光学異方性層１２Ｂの平均厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
光学フィルム１０Ｂにおいては、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である。第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６は光学異方性層形成用組成物を用いて形成されることが好ましく、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の少なくとも１つは、逆波長分散性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて形成されることが好ましい。
言い換えれば、第１光学異方性層１２Ｂの形成に用いられる棒状液晶化合物、第２光学異方性層１４の形成に用いられる棒状液晶化合物、および、第３光学異方性層１６の形成に用いられる棒状液晶化合物の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む。
なお、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の各層の形成に複数種の液晶化合物が使用される場合、少なくとも１種が逆波長分散性液晶化合物であればよい。
複数種の液晶化合物を用いる場合、逆波長分散性液晶化合物の含有量は、液晶化合物全質量に対して、１～９０質量％の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、５～５０質量％が好ましく、２０～４０質量％がより好ましい。
言い換えれば、第１光学異方性層１２Ｂの形成に用いられる棒状液晶化合物、第２光学異方性層１４の形成に用いられる棒状液晶化合物、および、第３光学異方性層１６の形成に用いられる棒状液晶化合物の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む。
なお、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４、および、第３光学異方性層１６の各層の形成に複数種の液晶化合物が使用される場合、少なくとも１種が逆波長分散性液晶化合物であればよい。
複数種の液晶化合物を用いる場合、逆波長分散性液晶化合物の含有量は、液晶化合物全質量に対して、１～９０質量％の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、５～５０質量％が好ましく、２０～４０質量％がより好ましい。
逆波長分散性液晶化合物の定義および好適態様は、上述した通りである。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、第２光学異方性層１４が、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましい。
言い換えれば、第２光学異方性層１４は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、棒状液晶化合物は逆波長分散性液晶化合物を含むことが好ましい。
後述するように、光学異方性層形成用組成物を用いて第２光学異方性層１４を形成する場合、逆波長分散性棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて第２光学異方性層１４を形成することが好ましい。
言い換えれば、第２光学異方性層１４は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、棒状液晶化合物は逆波長分散性液晶化合物を含むことが好ましい。
後述するように、光学異方性層形成用組成物を用いて第２光学異方性層１４を形成する場合、逆波長分散性棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて第２光学異方性層１４を形成することが好ましい。
（他の部材）
光学フィルム１０Ｂは、上述した第１光学異方性層１２Ｂ～第３光学異方性層１６以外の他の部材を含んでいてもよい。
他の部材としては、上述した光学フィルムの第１実施態様で述べた他の部材が挙げられる。
光学フィルム１０Ｂは、上述した第１光学異方性層１２Ｂ～第３光学異方性層１６以外の他の部材を含んでいてもよい。
他の部材としては、上述した光学フィルムの第１実施態様で述べた他の部材が挙げられる。
第１光学異方性層１２Ｂ～第３光学異方性層１６の製造方法は特に制限されず、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第３光学異方性層１６の製造方法が挙げられる。
＜円偏光板の第２実施態様＞
本発明の光学フィルムの第２実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。
上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
偏光子は、第１実施態様で述べた通りである。
本発明の光学フィルムの第２実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。
上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
偏光子は、第１実施態様で述べた通りである。
図６に、円偏光板１００Ｂの一実施態様の概略断面図を示す。また、図７は、図６に示す円偏光板１００Ｂにおける、偏光子２０の吸収軸と、第１光学異方性層１２Ｂおよび第２光学異方性層１４のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。なお、図７中の偏光子２０中の矢印は吸収軸を、第１光学異方性層１２Ｂおよび第２光学異方性層１４中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。
また、図８は、図６の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第１光学異方性層１２Ｂおよび第２光学異方性層１４のそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
なお、面内遅相軸の回転角度は、図６中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、捩れ方向は、図６中の白抜きの矢印から観察した際、第２光学異方性層１４中の手前側（偏光子２０側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）かを判断する。
また、図８は、図６の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第１光学異方性層１２Ｂおよび第２光学異方性層１４のそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
なお、面内遅相軸の回転角度は、図６中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、捩れ方向は、図６中の白抜きの矢印から観察した際、第２光学異方性層１４中の手前側（偏光子２０側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）かを判断する。
円偏光板１００Ｂは、図６に示すように、偏光子２０と、第１光学異方性層１２Ｂと、第２光学異方性層１４と、第３光学異方性層１６とをこの順で含む。
図７～８に示すように、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸とのなす角度φｂ１は、１４°である。より具体的には、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、１４°（反時計回りに１４°）回転している。なお、図７～８においては、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸が１４°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、５～５０°の範囲内になることが好ましく、５～４０°の範囲内になることがより好ましく、５～２５°の範囲内になることがさらに好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸とのなす角度は、５～５０°の範囲内であることが好ましく、５～４０°の範囲内であることがより好ましく、５～２５°の範囲内であることがさらに好ましい。
なお、図７に示すように、第１光学異方性層１２Ｂ中において、第１光学異方性層１２Ｂの偏光子２０側の表面１２１Ｂでの面内遅相軸と、第１光学異方性層１２Ｂの第２光学異方性層１４側の表面１２２Ｂでの面内遅相軸とは、平行である。
図７～８に示すように、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸とのなす角度φｂ１は、１４°である。より具体的には、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、１４°（反時計回りに１４°）回転している。なお、図７～８においては、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸が１４°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、５～５０°の範囲内になることが好ましく、５～４０°の範囲内になることがより好ましく、５～２５°の範囲内になることがさらに好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸とのなす角度は、５～５０°の範囲内であることが好ましく、５～４０°の範囲内であることがより好ましく、５～２５°の範囲内であることがさらに好ましい。
なお、図７に示すように、第１光学異方性層１２Ｂ中において、第１光学異方性層１２Ｂの偏光子２０側の表面１２１Ｂでの面内遅相軸と、第１光学異方性層１２Ｂの第２光学異方性層１４側の表面１２２Ｂでの面内遅相軸とは、平行である。
図７～８に示すように、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側の表面１４１での面内遅相軸とは、平行である。
なお、本発明はこの態様に制限されず、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側の表面１４１での面内遅相軸とのなす角度は、０～２０°の範囲内であることが好ましい。
なお、本発明はこの態様に制限されず、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側の表面１４１での面内遅相軸とのなす角度は、０～２０°の範囲内であることが好ましい。
第２光学異方性層１４は、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図７～８に示すように、第２光学異方性層１４の偏光子２０側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の偏光子２０側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図７においては、８５°）をなす。つまり、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度は、８５°である。より具体的には、第２光学異方性層１４中における棒状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が８５°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度はφｂ２、８１°である。
なお、図７～８においては、第２光学異方性層１４中の棒状液晶化合物の捩れ角度が８５°の態様を示すが、この態様に限定されず、上述したように、棒状液晶化合物の捩れ角度は８０±３０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度は、８０±３０°の範囲内であることが好ましい。
なお、図７～８においては、第２光学異方性層１４中の棒状液晶化合物の捩れ角度が８５°の態様を示すが、この態様に限定されず、上述したように、棒状液晶化合物の捩れ角度は８０±３０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側の表面１４１での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４の第１光学異方性層１２Ｂ側とは反対側の表面１４２での面内遅相軸とのなす角度は、８０±３０°の範囲内であることが好ましい。
上述したように、図７～８の態様では、偏光子２０側から円偏光板１００Ｂを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸が反時計回りに１４°回転しており、第２光学異方性層１４中における棒状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）である。
図７～８においては、棒状液晶化合物の捩れ方向が反時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、時計回りの態様であってもよい。より具体的には、偏光子２０側から円偏光板１００Ｂを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸が時計回りに１４°回転しており、第２光学異方性層１４中における棒状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）である態様であってもよい。
図７～８においては、棒状液晶化合物の捩れ方向が反時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、時計回りの態様であってもよい。より具体的には、偏光子２０側から円偏光板１００Ｂを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸が時計回りに１４°回転しており、第２光学異方性層１４中における棒状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）である態様であってもよい。
つまり、光学フィルムの第２実施態様を含む円偏光板においては、偏光子側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が反時計回りに５～５０°（５～４０°が好ましく、５～２５°がより好ましい。）の範囲内で回転している場合、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであることが好ましい。
また、光学フィルムの第２実施態様を含む円偏光板においては、偏光子側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第２光学異方性層の面内遅相軸が時計回りに５～５０°（５～４０°が好ましく、５～２５°がより好ましい。）の範囲内で回転している場合、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。
また、光学フィルムの第２実施態様を含む円偏光板においては、偏光子側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第２光学異方性層の面内遅相軸が時計回りに５～５０°（５～４０°が好ましく、５～２５°がより好ましい。）の範囲内で回転している場合、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。
上記円偏光板は、光学フィルムおよび偏光子以外の他の部材を有していてもよい。
円偏光板は、光学フィルムと偏光子との間に、密着層を有していてもよい。
密着層としては、公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。
円偏光板は、光学フィルムと偏光子との間に、密着層を有していてもよい。
密着層としては、公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。
上記円偏光板の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、偏光子と、光学フィルムとを密着層を介して貼合する方法が挙げられる。
例えば、偏光子と、光学フィルムとを密着層を介して貼合する方法が挙げられる。
＜用途＞
上述した光学フィルムは、種々の用途に適用でき、例えば、各光学異方性層の光学特性を調整して、いわゆるλ／４板またはλ／２板として用いることもできる。
なお、λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅがλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。
また、λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性膜のことをいう。この式は、可視光線領域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ
上述した光学フィルムは、種々の用途に適用でき、例えば、各光学異方性層の光学特性を調整して、いわゆるλ／４板またはλ／２板として用いることもできる。
なお、λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅがλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。
また、λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性膜のことをいう。この式は、可視光線領域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ
＜表示装置＞
本発明の光学フィルム（第１実施態様および第２実施態様）並びに円偏光板（第１実施態様および第２実施態様）は、表示装置に好適に適用できる。
本発明の表示装置は、表示素子と、上述した光学フィルムまたは円偏光板とを有する。
本発明の光学フィルムを表示装置に適用する際には、上述した円偏光板として適用することが好ましい。この場合、円偏光板は視認側に配置され、円偏光板中、偏光子が視認側に配置される。
表示素子は特に制限されず、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、および、液晶表示素子が挙げられる。
本発明の光学フィルム（第１実施態様および第２実施態様）並びに円偏光板（第１実施態様および第２実施態様）は、表示装置に好適に適用できる。
本発明の表示装置は、表示素子と、上述した光学フィルムまたは円偏光板とを有する。
本発明の光学フィルムを表示装置に適用する際には、上述した円偏光板として適用することが好ましい。この場合、円偏光板は視認側に配置され、円偏光板中、偏光子が視認側に配置される。
表示素子は特に制限されず、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、および、液晶表示素子が挙げられる。
＜円偏光板の正面反射色相の予測方法＞
ＯＬＥＤパネルをはじめとする金属基板に円偏光板を実装した際の正面反射色相は、円偏光板に用いた光学フィルムの各波長でのＭｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ（ＭＭ）および光源のスペクトルを得ることでおおよそ予測できる。光学フィルムの各波長におけるＭＭ（光学フィルムが複数ある場合は全ての層のＭＭ（入射光側からＭＭ１、ＭＭ２・・・ＭＭｎ）を順にかけ合わせたもの）に直線偏光子を通過した入射光のＳｔｏｋｅｓ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ（Ｓｉｎ）を掛けることで、各波長の出射光のＳｔｏｋｅｓ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ（Ｓｏｕｔ）を算出し、円偏光板の各波長での分光透過率が求められる。求めた円偏光板の分光透過率および光源のスペクトルおよび等色関数を用いることで、おおよその正面反射色相を予測することができる。
ここにおける各波長のＭＭは、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１を用い、光学フィルムの光学軸および入射面を、円偏光板形態を想定した配置でセットし、スペクトル測定モード（Ｍｅａｓｕｒｅ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）にて測定できる。反射色相の予測に必要な波長数は、４３０～６５０ｎｍの範囲で２０ｎｍピッチ以上の点数が望ましく、３８０～７８０ｎｍの範囲で１０ｎｍピッチ以上の点数がより望ましい。
ＯＬＥＤパネルをはじめとする金属基板に円偏光板を実装した際の正面反射色相は、円偏光板に用いた光学フィルムの各波長でのＭｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ（ＭＭ）および光源のスペクトルを得ることでおおよそ予測できる。光学フィルムの各波長におけるＭＭ（光学フィルムが複数ある場合は全ての層のＭＭ（入射光側からＭＭ１、ＭＭ２・・・ＭＭｎ）を順にかけ合わせたもの）に直線偏光子を通過した入射光のＳｔｏｋｅｓ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ（Ｓｉｎ）を掛けることで、各波長の出射光のＳｔｏｋｅｓ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ（Ｓｏｕｔ）を算出し、円偏光板の各波長での分光透過率が求められる。求めた円偏光板の分光透過率および光源のスペクトルおよび等色関数を用いることで、おおよその正面反射色相を予測することができる。
ここにおける各波長のＭＭは、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１を用い、光学フィルムの光学軸および入射面を、円偏光板形態を想定した配置でセットし、スペクトル測定モード（Ｍｅａｓｕｒｅ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）にて測定できる。反射色相の予測に必要な波長数は、４３０～６５０ｎｍの範囲で２０ｎｍピッチ以上の点数が望ましく、３８０～７８０ｎｍの範囲で１０ｎｍピッチ以上の点数がより望ましい。
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
＜実施例１＞
（セルロースアシレートフィルムの作製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、ドープの溶媒は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）である。
（セルロースアシレートフィルムの作製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、ドープの溶媒は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）である。
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セルロースアシレートドープ
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セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
１００質量部
糖エステル化合物１（下記式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
糖エステル化合物２（下記式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
シリカ粒子分散液（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０．１質量部
溶媒（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
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セルロースアシレートドープ
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セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
１００質量部
糖エステル化合物１（下記式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
糖エステル化合物２（下記式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
シリカ粒子分散液（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０．１質量部
溶媒（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
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上記で作製したドープを、ドラム製膜機を用いて流延した。０℃に冷却された金属支持体上に接するようにドープをダイから流延し、その後、得られたウェブ（フィルム）を剥ぎ取った。なお、ドラムはＳＵＳ製であった。
流延されて得られたウェブ（フィルム）を、ドラムから剥離後、フィルム搬送時に３０～４０℃で、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いてテンター装置内で２０分間乾燥した。引き続き、ウェブをロール搬送しながらゾーン加熱により後乾燥した。得られたウェブにナーリングを施した後、巻き取った。
得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは２６ｎｍであった。
得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは２６ｎｍであった。
前述のセルロースアシレートフィルムを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
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アルカリ溶液
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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アルカリ溶液
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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（配向膜の形成）
セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液１を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、得られた塗膜を、６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜１を得た。
セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液１を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、得られた塗膜を、６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜１を得た。
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配向膜塗布液１
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下記に示す変性ポリビニルアルコール ２８質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）製） １．２質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．８４質量部
グルタルアルデヒド ２．８質量部
水 ６９９質量部
メタノール ２２６質量部
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配向膜塗布液１
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下記に示す変性ポリビニルアルコール ２８質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）製） １．２質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．８４質量部
グルタルアルデヒド ２．８質量部
水 ６９９質量部
メタノール ２２６質量部
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（変性ポリビニルアルコール）
（光学異方性層（Ａ１）の形成）
上記作製した配向膜１に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルム（セルロースアシレートフィルム）の長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は－１４°にある。言い換えれば、フィルム側から観察してラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、時計回りに７６°回転させた位置である。
上記作製した配向膜１に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルム（セルロースアシレートフィルム）の長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は－１４°にある。言い換えれば、フィルム側から観察してラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、時計回りに７６°回転させた位置である。
上記ラビング処理した配向膜上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ａ１）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、円盤状液晶化合物の配向を固定化して、第２光学異方性層に該当する光学異方性層（Ａ１）を形成した。
光学異方性層（Ａ１）の平均厚みは、１．０μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１５２ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
また、光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（Ａ１）側から見たとき、光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸方向は－１４°であった。
光学異方性層（Ａ１）の平均厚みは、１．０μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１５２ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
また、光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（Ａ１）側から見たとき、光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸方向は－１４°であった。
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光学異方性層形成用組成物（Ａ１）
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下記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
下記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
下記の配向膜界面配向剤１ ０．５５質量部
下記の含フッ素化合物Ａ ０．１質量部
下記の含フッ素化合物Ｂ ０．０５質量部
下記の含フッ素化合物Ｃ ０．２１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １０質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ社製）３．０質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
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光学異方性層形成用組成物（Ａ１）
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下記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
下記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
下記の配向膜界面配向剤１ ０．５５質量部
下記の含フッ素化合物Ａ ０．１質量部
下記の含フッ素化合物Ｂ ０．０５質量部
下記の含フッ素化合物Ｃ ０．２１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １０質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ社製）３．０質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
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円盤状液晶化合物１
円盤状液晶化合物２
配向膜界面配向剤１
含フッ素化合物Ａ（下記式中、ａおよびｂは、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、ａは９０質量％、ｂは１０質量％を表す。）
含フッ素化合物Ｂ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は３２．５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は６７．５質量％であった。）
含フッ素化合物Ｃ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、真ん中の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は５０質量％であった。）
（光学異方性層（Ｃ１）の形成）
上記作製したセルロースアシレートフィルムの上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ｃ１）を塗布して、組成物層を形成した。その後、フィルムの両端を保持し、フィルムの塗膜が形成された面の側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるように冷却板（９℃）を設置し、フィルムの塗膜が形成された面とは反対側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるようにヒーター（７５℃）を設置し、２分間乾燥させた。
次いで、得られたフィルムを温風にて６０℃で１分間加熱し、酸素濃度が１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。その後、得られた塗膜に、温風にて１２０℃で１分間アニーリングすることで、光学異方性層（Ｃ１）を形成した。
得られた光学異方性層（Ｃ１）に、室温で、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ/ｃｍ２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を有する組成物層を形成した。
なお、形成した光学異方性層（Ｃ１）の膜厚は０．７μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは－８０ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
上記作製したセルロースアシレートフィルムの上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ｃ１）を塗布して、組成物層を形成した。その後、フィルムの両端を保持し、フィルムの塗膜が形成された面の側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるように冷却板（９℃）を設置し、フィルムの塗膜が形成された面とは反対側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるようにヒーター（７５℃）を設置し、２分間乾燥させた。
次いで、得られたフィルムを温風にて６０℃で１分間加熱し、酸素濃度が１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。その後、得られた塗膜に、温風にて１２０℃で１分間アニーリングすることで、光学異方性層（Ｃ１）を形成した。
得られた光学異方性層（Ｃ１）に、室温で、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ/ｃｍ２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を有する組成物層を形成した。
なお、形成した光学異方性層（Ｃ１）の膜厚は０．７μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは－８０ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
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光学異方性層形成用組成物（Ｃ１）
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下記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
重合性モノマー（Ａ－４００、新中村化学工業社製） ４．０質量部
下記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．０質量部
下記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
下記の重合体Ｍ－１ ２．０質量部
下記の垂直配向剤Ｓ０１ ２．０質量部
下記の光配向性ポリマーＡ－１ ２．０質量部
下記の界面活性剤Ｂ－１ ０．２質量部
メチルエチルケトン ４２．３質量部
メチルイソブチルケトン ６２７．５質量部
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光学異方性層形成用組成物（Ｃ１）
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下記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
重合性モノマー（Ａ－４００、新中村化学工業社製） ４．０質量部
下記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．０質量部
下記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
下記の重合体Ｍ－１ ２．０質量部
下記の垂直配向剤Ｓ０１ ２．０質量部
下記の光配向性ポリマーＡ－１ ２．０質量部
下記の界面活性剤Ｂ－１ ０．２質量部
メチルエチルケトン ４２．３質量部
メチルイソブチルケトン ６２７．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
棒状液晶化合物（Ａ）（以下、化合物の混合物）
重合開始剤Ｓ－１
光酸発生剤Ｄ－１
重合体Ｍ－１（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は８０質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は２０質量％であった。）
垂直配向剤Ｓ０１
光配向性ポリマーＡ－１（各繰り返し単位中に記載の数値は、全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位から４３質量％、２７質量％、３０質量％であった。また、重量平均分子量は６９８００であった。）
界面活性剤Ｂ－１（重量平均分子量は２２００であった。）
（光学異方性層（Ｂ１）の形成）
次いで、上記で作製した光学異方性層（Ｃ１）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ｂ１）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層（Ｂ１）を形成した。
光学異方性層（Ｂ１）の平均厚みは１．３μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１７６ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８７°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（Ｂ１）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が８°、光学異方性層（Ｃ１）に接する側が９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
次いで、上記で作製した光学異方性層（Ｃ１）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ｂ１）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層（Ｂ１）を形成した。
光学異方性層（Ｂ１）の平均厚みは１．３μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１７６ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８７°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（Ｂ１）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が８°、光学異方性層（Ｃ１）に接する側が９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（Ｂ１）
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶化合物（Ａ） ７４質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｂ） １８質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｃ） ８質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
下記の左捩れキラル剤（Ｌ１） ０．６０質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ ０．０８質量部
メチルエチルケトン ２１５質量部
シクロペンタノン ２１５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（Ｂ１）
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶化合物（Ａ） ７４質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｂ） １８質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｃ） ８質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
下記の左捩れキラル剤（Ｌ１） ０．６０質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ ０．０８質量部
メチルエチルケトン ２１５質量部
シクロペンタノン ２１５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
棒状液晶化合物（Ｂ）（逆波長分散性液晶化合物に該当。ｔＢｕは、ｔｅｒｔ－ブチル基を表す。）
棒状液晶化合物（Ｃ）（逆波長分散性液晶化合物に該当）
左捩れキラル剤（Ｌ１）（ｔＢｕは、ｔｅｒｔ－ブチル基を表す。）
上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（Ｃ１）と光学異方性層（Ｂ１）とが直接積層された積層体（Ｂ１－Ｃ１）を作製した。
上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した光学異方性層（Ａ１）の表面側と、上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（Ｂ１－Ｃ１）の光学異方性層（Ｂ１）の表面側とを、光学異方性層（Ａ１）のフィルムの長手方向と、光学異方性層（Ｂ１）のフィルムの長手方向とが平行となるように、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。
続いて、光学異方性層（Ａ１）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（Ａ１）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（Ｃ１）、光学異方性層（Ｂ１）、光学異方性層（Ａ１）がこの順に積層された光学フィルム（Ｃ１－Ｂ１－Ａ１）を得た。
続いて、光学異方性層（Ａ１）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（Ａ１）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（Ｃ１）、光学異方性層（Ｂ１）、光学異方性層（Ａ１）がこの順に積層された光学フィルム（Ｃ１－Ｂ１－Ａ１）を得た。
（直線偏光板の作製）
セルローストリアセテートフィルムＴＪ２５（富士フイルム社製：厚み２５μｍ）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥して、偏光子保護フィルムを得た。
厚み６０μｍのロール状ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムをヨウ素水溶液中で長手方向に連続して延伸し、乾燥して厚み１３μｍの偏光子を得た。偏光子の視感度補正単体透過率は、４３％であった。このとき、偏光子の吸収軸方向と長手方向は一致していた。
上記偏光子の片方の面に上記偏光子保護フィルムを、下記ＰＶＡ接着剤を用いて貼り合わせて、直線偏光板を作製した。
セルローストリアセテートフィルムＴＪ２５（富士フイルム社製：厚み２５μｍ）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥して、偏光子保護フィルムを得た。
厚み６０μｍのロール状ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムをヨウ素水溶液中で長手方向に連続して延伸し、乾燥して厚み１３μｍの偏光子を得た。偏光子の視感度補正単体透過率は、４３％であった。このとき、偏光子の吸収軸方向と長手方向は一致していた。
上記偏光子の片方の面に上記偏光子保護フィルムを、下記ＰＶＡ接着剤を用いて貼り合わせて、直線偏光板を作製した。
（ＰＶＡ接着剤の調製）
アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）１００質量部、および、メチロールメラミン２０質量部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度３．７質量％に調整した水溶液として、ＰＶＡ接着剤を調製した。
アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）１００質量部、および、メチロールメラミン２０質量部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度３．７質量％に調整した水溶液として、ＰＶＡ接着剤を調製した。
（円偏光板の作製）
上記作製した長尺状の光学フィルム（Ｃ１－Ｂ１－Ａ１）の光学異方性層（Ａ１）の表面と、上記作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。
続いて、光学異方性層（Ｃ１）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（Ｃ１）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、光学フィルム（Ｃ１－Ｂ１－Ａ１）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ１）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（Ａ１）、光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｃ１）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸がなす角度は７６°であった。また、幅方向を基準の０°として、光学異方性層（Ｂ１）の光学異方性層（Ａ１）側の表面での面内遅相軸方向は８°であった。また、幅方向を基準の０°として、光学異方性層（Ｂ１）の光学異方性層（Ｃ１）側の表面での面内遅相軸方向は９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、円偏光板の幅方向を基準の０°として、偏光子側から円偏光板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
上記作製した長尺状の光学フィルム（Ｃ１－Ｂ１－Ａ１）の光学異方性層（Ａ１）の表面と、上記作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。
続いて、光学異方性層（Ｃ１）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（Ｃ１）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、光学フィルム（Ｃ１－Ｂ１－Ａ１）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ１）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（Ａ１）、光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｃ１）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸がなす角度は７６°であった。また、幅方向を基準の０°として、光学異方性層（Ｂ１）の光学異方性層（Ａ１）側の表面での面内遅相軸方向は８°であった。また、幅方向を基準の０°として、光学異方性層（Ｂ１）の光学異方性層（Ｃ１）側の表面での面内遅相軸方向は９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、円偏光板の幅方向を基準の０°として、偏光子側から円偏光板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
円偏光板（Ｐ１）において、光学異方性層側から円偏光板（Ｐ１）を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸が反時計回りに７６°回転しており、光学異方性層（Ｂ１）中の液晶化合物の捩れ方向は反時計回りである。
なお、液晶化合物の捩れ方向は、光学異方性層側から円偏光板（Ｐ１）を観察した際に、光学異方性層（Ｂ１）の光学異方性層（Ｃ１）側の表面での面内遅相軸を基準に、時計回りか、反時計回りかを判断する。
なお、液晶化合物の捩れ方向は、光学異方性層側から円偏光板（Ｐ１）を観察した際に、光学異方性層（Ｂ１）の光学異方性層（Ｃ１）側の表面での面内遅相軸を基準に、時計回りか、反時計回りかを判断する。
＜実施例２、３、５～１０、比較例２＞
光学異方性層形成用組成物の種類を後述する表３に記載のように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、円偏光板を製造した。
ただし、実施例５に関しては、光学異方性層（Ａ２）の平均厚みは１．４μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１９８ｎｍであった。また、実施例１の手順に従って、光学異方性層（Ａ１）の代わりに光学異方性層（Ａ２）を作製する際に、ラビングローラーの回転軸は－１４°から７６°に変更した。また、実施例５に関しては、光学異方性層（Ｂ３）の平均厚みは１．４μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１９１ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８５°であった。また、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層（Ｂ１）の代わりに光学異方性層（Ｂ３）を作製する際、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（Ｂ３）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が－７６°、光学異方性層（Ｃ１）に接する側が９°であった。光学異方性層（Ｃ１）の厚みを０．７μｍから０．４μｍに変更した。実施例５で得られた円偏光板の各光学異方性層の面内遅相軸の関係は、図７および８に示す通りである。
また、比較例２に関しては、光学異方性層（Ａ１）の平均厚みは１．２μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１８４ｎｍであった。また、比較例２に関しては、光学異方性層（Ｂ６）の平均厚みは１．３μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１６８ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。また、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層（Ｂ１）の代わりに光学異方性層（Ｂ６）を作製する際、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（Ｂ６）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が１４°、光学異方性層（Ｃ１）に接する側が９５°であった。
光学異方性層形成用組成物の種類を後述する表３に記載のように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、円偏光板を製造した。
ただし、実施例５に関しては、光学異方性層（Ａ２）の平均厚みは１．４μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１９８ｎｍであった。また、実施例１の手順に従って、光学異方性層（Ａ１）の代わりに光学異方性層（Ａ２）を作製する際に、ラビングローラーの回転軸は－１４°から７６°に変更した。また、実施例５に関しては、光学異方性層（Ｂ３）の平均厚みは１．４μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１９１ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８５°であった。また、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層（Ｂ１）の代わりに光学異方性層（Ｂ３）を作製する際、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（Ｂ３）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が－７６°、光学異方性層（Ｃ１）に接する側が９°であった。光学異方性層（Ｃ１）の厚みを０．７μｍから０．４μｍに変更した。実施例５で得られた円偏光板の各光学異方性層の面内遅相軸の関係は、図７および８に示す通りである。
また、比較例２に関しては、光学異方性層（Ａ１）の平均厚みは１．２μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１８４ｎｍであった。また、比較例２に関しては、光学異方性層（Ｂ６）の平均厚みは１．３μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１６８ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。また、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性層（Ｂ１）の代わりに光学異方性層（Ｂ６）を作製する際、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（Ｂ６）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が１４°、光学異方性層（Ｃ１）に接する側が９５°であった。
表３で使用される光学異方性層形成用組成物（Ａ２）は、円盤状液晶化合物１（８０質量部）および円盤状液晶化合物２（２０質量部）を、棒状液晶化合物（Ａ）２０質量部、棒状液晶化合物（Ｂ）５４質量部、および、棒状液晶化合物（Ｃ）２６質量部に変更した以外は、光学異方性層形成用組成物（Ａ１）と同様の組成の組成物である。
表３で使用される光学異方性層形成用組成物（Ｂ２）～（Ｂ７）は、棒状液晶化合物（Ａ）～（Ｃ）の質量部を表１に示すように変更した以外は、光学異方性層形成用組成物（Ｂ１）と同様の組成の組成物である。
なお、表１中の「逆分散液晶比率」は、各組成物に含まれる液晶化合物中の逆波長分散性液晶化合物の質量割合（％）を表す。
表３で使用される光学異方性層形成用組成物（Ｂ２）～（Ｂ７）は、棒状液晶化合物（Ａ）～（Ｃ）の質量部を表１に示すように変更した以外は、光学異方性層形成用組成物（Ｂ１）と同様の組成の組成物である。
なお、表１中の「逆分散液晶比率」は、各組成物に含まれる液晶化合物中の逆波長分散性液晶化合物の質量割合（％）を表す。
表３で使用される光学異方性層形成用組成物（Ｃ２）および（Ｃ３）は、棒状液晶化合物（Ａ）～（Ｃ）の質量部を表２に示すように変更した以外は、光学異方性層形成用組成物（Ｃ１）と同様の組成の組成物である。
なお、表２中の「逆分散液晶比率」は、各組成物に含まれる液晶化合物中の逆波長分散性液晶化合物の質量割合（％）を表す。
なお、表２中の「逆分散液晶比率」は、各組成物に含まれる液晶化合物中の逆波長分散性液晶化合物の質量割合（％）を表す。
＜実施例４＞
上記実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルムを作製し、アルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液２を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。得られた塗膜を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥して、配向膜２を得た。
上記実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルムを作製し、アルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液２を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。得られた塗膜を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥して、配向膜２を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液２
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下記ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製） ０．１７５質量部
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配向膜塗布液２
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下記ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製） ０．１７５質量部
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ポリビニルアルコール（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は８８質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は１２質量％であった。）
（光学異方性層（Ｄ１）の形成）
上記配向膜２上に、ギーサー塗布機を用いて、下記組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ｄ１）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層（Ｄ１）を形成した。
光学異方性層（Ｄ１）の平均厚みは、０．３μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは４０ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。
上記配向膜２上に、ギーサー塗布機を用いて、下記組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ｄ１）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層（Ｄ１）を形成した。
光学異方性層（Ｄ１）の平均厚みは、０．３μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは４０ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。
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光学異方性層形成用組成物（Ｄ１）
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上記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
上記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ ０．２１質量部
下記のポリマー（Ａ） ０．５０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
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光学異方性層形成用組成物（Ｄ１）
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上記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
上記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ ０．２１質量部
下記のポリマー（Ａ） ０．５０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
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ポリマー（Ａ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を表す。）
（積層体（Ｄ１－Ａ１）の形成）
上記で作製した光学異方性層（Ｄ１）に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は－１４°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、時計回りに７６°回転させた位置である。
上記で作製した光学異方性層（Ｄ１）に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は－１４°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、時計回りに７６°回転させた位置である。
上記ラビング処理した光学異方性層（Ｄ１）上に、ギーサー塗布機を用いて、上記の光学異方性層形成用組成物（Ａ１）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層（Ａ１）を形成した。
光学異方性層（Ａ１）の平均厚みは、１．１μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおけるレタデーションは１６０ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
また、光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（Ａ１）側から見たとき、光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸方向は－１４°であった。
光学異方性層（Ａ１）の平均厚みは、１．１μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおけるレタデーションは１６０ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
また、光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（Ａ１）側から見たとき、光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸方向は－１４°であった。
上記手順によって、セルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（Ｄ１）と光学異方性層（Ａ１）とが積層された積層体（Ｄ１－Ａ１）を作製した。
（積層体（Ｂ２－Ｃ１）の形成）
次いで、実施例１と同様の手順で作製した光学異方性層（Ｃ１）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ｂ２）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層（Ｂ２）を形成した。
光学異方性層（Ｂ２）の平均厚みは１．３μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１７０ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８６°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（Ｂ２）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が９°、光学異方性層（Ｃ１）に接する側が９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
次いで、実施例１と同様の手順で作製した光学異方性層（Ｃ１）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ｂ２）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層（Ｂ２）を形成した。
光学異方性層（Ｂ２）の平均厚みは１．３μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１７０ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８６°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（Ｂ２）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が９°、光学異方性層（Ｃ１）に接する側が９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（Ｃ１）と光学異方性層（Ｂ２）とが直接積層された積層体（Ｂ２－Ｃ１）を作製した。
（光学フィルム（Ｃ１－Ｂ２－Ａ１－Ｄ１）の作製）
上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（Ｄ１－Ａ１）の表面側と、上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（Ｂ２－Ｃ１）の光学異方性層（Ｂ２）の表面側とを、積層体（Ｄ１－Ａ１）のフィルムの長手方向と、積層体（Ｂ２－Ｃ１）のフィルムの長手方向とが平行となるように、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。
続いて、積層体（Ｄ１－Ａ１）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（Ｄ１）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（Ｃ１）、光学異方性層（Ｂ２）、光学異方性層（Ａ１）、光学異方性層（Ｄ１）がこの順に積層された光学フィルム（Ｃ１－Ｂ２－Ａ１－Ｄ１）を得た。
上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（Ｄ１－Ａ１）の表面側と、上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（Ｂ２－Ｃ１）の光学異方性層（Ｂ２）の表面側とを、積層体（Ｄ１－Ａ１）のフィルムの長手方向と、積層体（Ｂ２－Ｃ１）のフィルムの長手方向とが平行となるように、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。
続いて、積層体（Ｄ１－Ａ１）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（Ｄ１）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（Ｃ１）、光学異方性層（Ｂ２）、光学異方性層（Ａ１）、光学異方性層（Ｄ１）がこの順に積層された光学フィルム（Ｃ１－Ｂ２－Ａ１－Ｄ１）を得た。
（円偏光板の作製）
上記作製した長尺状の光学フィルム（Ｃ１－Ｂ２－Ａ１－Ｄ１）の光学異方性層（Ｄ１）の表面と、実施例１で作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。続いて、光学異方性層（Ｃ１）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（Ｃ１）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。
このようにして、光学フィルム（Ｄ１－Ａ１－Ｂ２－Ｃ１）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ４）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（Ｄ１）、光学異方性層（Ａ１）、光学異方性層（Ｂ２）および光学異方性層（Ｃ１）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸がなす角度は７６°であった。また、幅方向を基準の０°として、光学異方性層（Ｂ２）の光学異方性層（Ａ１）側の表面での面内遅相軸方向は９°であった。また、幅方向を基準の０°として、光学異方性層（Ｂ２）の光学異方性層（Ｃ１）側の表面での面内遅相軸方向は９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
上記作製した長尺状の光学フィルム（Ｃ１－Ｂ２－Ａ１－Ｄ１）の光学異方性層（Ｄ１）の表面と、実施例１で作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。続いて、光学異方性層（Ｃ１）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（Ｃ１）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。
このようにして、光学フィルム（Ｄ１－Ａ１－Ｂ２－Ｃ１）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ４）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（Ｄ１）、光学異方性層（Ａ１）、光学異方性層（Ｂ２）および光学異方性層（Ｃ１）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（Ａ１）の面内遅相軸がなす角度は７６°であった。また、幅方向を基準の０°として、光学異方性層（Ｂ２）の光学異方性層（Ａ１）側の表面での面内遅相軸方向は９°であった。また、幅方向を基準の０°として、光学異方性層（Ｂ２）の光学異方性層（Ｃ１）側の表面での面内遅相軸方向は９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
＜比較例１＞
実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層（Ｃ１）を形成した。
次いで、上記作製した光学異方性層（Ｃ１）の上に、ＷＯ２０１８／２１６８１２号の実施例９に記載の組成物Ａ－１を用いて、逆波長分散液晶化合物を用いて光学異方性層（１ｈ）を形成した。５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４２ｎｍであった。逆波長分散液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（１ｈ）側から見たとき、遅相軸は４５°であった。
このようにして、垂直配向した棒状液晶化合物を含む光学異方性層（Ｃ１）と、水平配向した逆波長分散液晶化合物を固定してなる光学異方性層（１ｈ）とが、直接積層された積層体を作製した。
実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層（Ｃ１）を形成した。
次いで、上記作製した光学異方性層（Ｃ１）の上に、ＷＯ２０１８／２１６８１２号の実施例９に記載の組成物Ａ－１を用いて、逆波長分散液晶化合物を用いて光学異方性層（１ｈ）を形成した。５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４２ｎｍであった。逆波長分散液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（１ｈ）側から見たとき、遅相軸は４５°であった。
このようにして、垂直配向した棒状液晶化合物を含む光学異方性層（Ｃ１）と、水平配向した逆波長分散液晶化合物を固定してなる光学異方性層（１ｈ）とが、直接積層された積層体を作製した。
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
（表示装置への実装）
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ４を分解し、円偏光板を剥離して、そこに上記実施例１～１０と比較例１～２にて作製した円偏光板を、偏光子保護フィルムが外側に配置されるように、感圧型粘着剤を用いて表示装置に貼り合せた。
（表示装置への実装）
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ４を分解し、円偏光板を剥離して、そこに上記実施例１～１０と比較例１～２にて作製した円偏光板を、偏光子保護フィルムが外側に配置されるように、感圧型粘着剤を用いて表示装置に貼り合せた。
〔表示性能の評価〕
（正面方向）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において正面方向より観察し、色味づきを下記の基準で評価した。結果を下記表３に示す。
Ａ：色味づきが全く視認されない、もしくは、視認されるものの、わずか。（許容）
Ｂ：色味づきが視認されるが、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
（正面方向）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において正面方向より観察し、色味づきを下記の基準で評価した。結果を下記表３に示す。
Ａ：色味づきが全く視認されない、もしくは、視認されるものの、わずか。（許容）
Ｂ：色味づきが視認されるが、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
（斜め方向）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において、極角５５°から蛍光灯を映し込んで、全方位から反射光を観察した。色味づきの方位角依存性を下記の基準で評価した。結果を表３に示す。
Ａ：色味づきが全く視認されない。
Ｂ：色味づきは視認されるものの、ごくわずか。（許容）
Ｃ：色味づきがやや視認されるが、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
Ｄ：色味づきが視認され、反射光も大きく、許容できない。
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において、極角５５°から蛍光灯を映し込んで、全方位から反射光を観察した。色味づきの方位角依存性を下記の基準で評価した。結果を表３に示す。
Ａ：色味づきが全く視認されない。
Ｂ：色味づきは視認されるものの、ごくわずか。（許容）
Ｃ：色味づきがやや視認されるが、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
Ｄ：色味づきが視認され、反射光も大きく、許容できない。
表３中、「光学異方性層」欄は、各実施例および比較例の光学フィルムに含まれる光学異方性層の種類を表す。例えば、「Ａ１」は、光学異方性層（Ａ１）を表す。
表３中、「液晶化合物タイプ」欄において、「円盤状」は「円盤状液晶化合物」を、「棒状」は「棒状液晶化合物」を表す。
表３中、「逆分散液晶含有」欄は、各光学異方性層の形成に用いる液晶化合物に逆波長分散性液晶化合物が含まれる場合は「有」と示す。
表３中、「比」欄は、光学異方性層（Ａ１）～（Ａ２）の場合、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションの比を表し、光学異方性層（Ｂ１）～（Ｂ７）の場合、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比を表し、光学異方性層（Ｃ１）～（Ｃ３）の場合、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションに対する、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの比を表す。
表３中、「液晶化合物タイプ」欄において、「円盤状」は「円盤状液晶化合物」を、「棒状」は「棒状液晶化合物」を表す。
表３中、「逆分散液晶含有」欄は、各光学異方性層の形成に用いる液晶化合物に逆波長分散性液晶化合物が含まれる場合は「有」と示す。
表３中、「比」欄は、光学異方性層（Ａ１）～（Ａ２）の場合、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションの比を表し、光学異方性層（Ｂ１）～（Ｂ７）の場合、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比を表し、光学異方性層（Ｃ１）～（Ｃ３）の場合、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションに対する、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの比を表す。
表１に示すように、本発明の光学フィルムは、所望の効果を示すことが確認された。
なかでも、実施例１～３、６～１０の比較より、第２光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、第２光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比が１．０２～１．０９の場合（好ましくは、１．０４～１．０７の場合）、より効果が優れることが確認された。
なかでも、実施例１～３、６～１０の比較より、第２光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、第２光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比が１．０２～１．０９の場合（好ましくは、１．０４～１．０７の場合）、より効果が優れることが確認された。
１０Ａ，１０Ｂ 光学フィルム
１２Ａ，１２Ｂ 第１光学異方性層
１４ 第２光学異方性層
１６ 第３光学異方性層
２０ 偏光子
１００Ａ，１００Ｂ 円偏光板
１２Ａ，１２Ｂ 第１光学異方性層
１４ 第２光学異方性層
１６ 第３光学異方性層
２０ 偏光子
１００Ａ，１００Ｂ 円偏光板
Claims (8)
- 第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層をこの順に含み、
前記第１光学異方性層は、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層、または、水平配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
前記第２光学異方性層は、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
前記第３光学異方性層は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
前記第１光学異方性層、前記第２光学異方性層、および、前記第３光学異方性層の少なくとも１つが、逆波長分散性液晶化合物を含む液晶化合物を用いて形成された層である、光学フィルム。 - 前記第２光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎに対する、前記第２光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎの比が、１．０２～１．０９である、請求項１に記載の光学フィルム。
- 前記第１光学異方性層が、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層であり、
前記第１光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションに対する、前記第１光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レタデーションの比が、１．０８～１．２５である、請求項１または２に記載の光学フィルム。 - 前記第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションに対する、前記第３光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの比が、０．８２～１．１２である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
- 前記光学フィルムに含まれる光学異方性層の合計厚みが１０μｍである、請求項４に記載の光学フィルム。
- 請求項１～５のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを含み、
前記第１光学異方性層が、前記第２光学異方性層および前記第３光学異方性層よりも、前記偏光子に近い側に配置されている、円偏光板。 - 前記偏光子の視感度補正単体透過率が４２％以上である、請求項６に記載の円偏光板。
- 請求項１～５のいずれか１項に記載の光学フィルム、または、請求項６または７に記載の円偏光板を含む、表示装置。
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