WO2022255105A1

WO2022255105A1 - 位相差フィルム、円偏光板、表示装置

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Publication number: WO2022255105A1
Application number: PCT/JP2022/020710
Authority: WO
Inventors: 勇太高橋; 裕介古木; 浩樹桑原
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2021-06-01
Filing date: 2022-05-18
Publication date: 2022-12-08
Also published as: CN117355775A; US20240118474A1; JPWO2022255105A1; US12032189B2

Abstract

本発明は、偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化が小さい、位相差フィルム、円偏光板および表示装置を提供する。本発明の位相差フィルムは、光学異方性層Ｘ、光学異方性層Ｙ、および、光学異方性層Ｚをこの順で含み、光学異方性層Ｘが、Ａプレートであり、光学異方性層Ｙが、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した第１液晶化合物を固定してなる層であり、光学異方性層Ｚが、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した第２液晶化合物を固定してなる層であり、第１液晶化合物および第２液晶化合物の一方は棒状液晶化合物であり、他方は円盤状液晶化合物であり、光学異方性層Ｘの面内遅相軸と、光学異方性層Ｙの光学異方性層Ｘ側の表面での面内遅相軸とが平行である。

Description

位相差フィルム、円偏光板、表示装置

　本発明は、位相差フィルム、円偏光板、および、表示装置に関する。

　屈折率異方性を持つ位相差フィルムは、表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなどの種々の用途に適用されている。
　例えば、特許文献１においては、所定の光学特性を示す２種の光学異方性層を積層した位相差板が開示されている。

特許第５９６０７４３号

　本発明者らは、特許文献１に記載されている光学異方性層を積層させた光学フィルムを偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化が大きく、改善の余地があることを確認した。

　本発明は、上記実情に鑑みて、偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化が小さい、位相差フィルムを提供することを課題とする。
　また、本発明は、円偏光板および表示装置も提供することを課題とする。

　本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１）　光学異方性層Ｘ、光学異方性層Ｙ、および、光学異方性層Ｚをこの順で含み、
　光学異方性層Ｘが、Ａプレートであり、
　光学異方性層Ｙが、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した第１液晶化合物を固定してなる層であり、
　光学異方性層Ｚが、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した第２液晶化合物を固定してなる層であり、
　第１液晶化合物および第２液晶化合物の一方は棒状液晶化合物であり、他方は円盤状液晶化合物であり、
　光学異方性層Ｘの面内遅相軸と、光学異方性層Ｙの光学異方性層Ｘ側の表面での面内遅相軸とが平行である、位相差フィルム。
（２）　光学異方性層Ｘは、ポジティブＡプレートと、ネガティブＡプレートとを含み、
　光学異方性層Ｘの光学異方性層Ｙ側とは反対側の表面から、ポジティブＡプレートと、ネガティブＡプレートとがこの順で配置された場合には、第１液晶化合物が棒状液晶化合物であり、第２液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、
　光学異方性層Ｘの光学異方性層Ｙ側とは反対側の表面から、ネガティブＡプレートと、ポジティブＡプレートとがこの順で配置された場合には、第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第２液晶化合物が棒状液晶化合物である、（１）に記載の位相差フィルム。
（３）　光学異方性層Ｘの光学異方性層Ｙ側とは反対側のＡプレートの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが２０～９０ｎｍであり、
　光学異方性層Ｘの光学異方性層Ｙ側のＡプレートの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが７０～２００ｎｍである、（２）に記載の位相差フィルム。
（４）　第１液晶化合物の捩れ角度が４０±２０°の範囲内である、（２）または（３）に記載の位相差フィルム。
（５）　第２液晶化合物の捩れ角度が４０±２０°の範囲内である、（２）～（４）のいずれかに記載の位相差フィルム。
（６）　波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ｙの屈折率異方性Δｎと光学異方性層Ｙの厚みｄとの積Δｎｄの値が５０～１２０ｎｍである、（２）～（５）のいずれかに記載の位相差フィルム。
（７）　波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ｚの屈折率異方性Δｎと光学異方性層Ｚの厚みｄとの積Δｎｄの値が５０～１２０ｎｍである、（２）～（６）のいずれかに記載の位相差フィルム。
（８）　光学異方性層Ｘが、ポジティブＡプレートまたはネガティブＡプレートであり、
　光学異方性層ＸがポジティブＡプレートである場合、第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第２液晶化合物が棒状液晶化合物であり、
　光学異方性層ＸがネガティブＡプレートである場合、第１液晶化合物が棒状液晶化合物であり、第２液晶化合物が円盤状液晶化合物である、（１）に記載の位相差フィルム。
（９）　光学異方性層Ｘの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１２０～２４０ｎｍである、（８）に記載の位相差フィルム。
（１０）　第１液晶化合物の捩れ角度が８０±３０°である、（８）または（９）に記載の位相差フィルム。
（１１）　第２液晶化合物の捩れ角度が１７５±３０°である、（８）～（１０）のいずれに記載の位相差フィルム。
（１２）　波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ｙの屈折率異方性Δｎと光学異方性層Ｙの厚みｄとの積Δｎｄの値が１２０～２４０ｎｍである、（８）～（１１）のいずれかに記載の位相差フィルム。
（１３）　波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ｚの屈折率異方性Δｎと光学異方性層Ｚの厚みｄとの積Δｎｄの値が７０～１９０ｎｍである、（８）～（１２）のいずれかに記載の位相差フィルム。
（１４）　偏光子と、（１）～（１３）のいずれかに記載の位相差フィルムとを含む、円偏光板。
（１５）　（１）～（１３）のいずれかに記載の位相差フィルムまたは（１４）に記載の円偏光板を含む、表示装置。

　本発明によれば、偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化が小さい、位相差フィルムを提供できる。
　また、本発明によれば、円偏光板および表示装置も提供できる。

本発明の位相差フィルムの第１実施態様の概略断面図の例である。本発明の円偏光板の第１実施態様の概略断面図の例である。本発明の円偏光板の第１実施態様における、偏光子の吸収軸と、第１光学異方性層～第４光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。図２中の白矢印の方向から観察した際の偏光子の吸収軸と、第１光学異方性層～第４光学異方性層のそれぞれ面内遅相軸との角度の関係を示す概略図である。本発明の位相差フィルムの第２実施態様の概略断面図の例である。本発明の円偏光板の第２実施態様の概略断面図の例である。本発明の円偏光板の第２実施態様における、偏光子の吸収軸と、第１光学異方性層～第４光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。図６中の白矢印の方向から観察した際の偏光子の吸収軸と、第１光学異方性層～第４光学異方性層のそれぞれ面内遅相軸との角度の関係を示す概略図である。本発明の位相差フィルムの第３実施態様の概略断面図の例である。本発明の円偏光板の第３実施態様の概略断面図の例である。本発明の円偏光板の第３実施態様における、偏光子の吸収軸と、第１光学異方性層～第３光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。図１０中の白矢印の方向から観察した際の偏光子の吸収軸と、第１光学異方性層～第３光学異方性層のそれぞれ面内遅相軸との角度の関係を示す概略図である。本発明の位相差フィルムの第４実施態様の概略断面図の例である。本発明の円偏光板の第４実施態様の概略断面図の例である。本発明の円偏光板の第４実施態様における、偏光子の吸収軸と、第１光学異方性層～第３光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。図１４中の白矢印の方向から観察した際の偏光子の吸収軸と、第１光学異方性層～第３光学異方性層のそれぞれ面内遅相軸との角度の関係を示す概略図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　また、面内遅相軸および面内進相軸は、特別な断りがなければ、波長５５０ｎｍにおける定義である。つまり、特別な断りがない限り、例えば、面内遅相軸方向という場合、波長５５０ｎｍにおける面内遅相軸の方向を意味する。

　本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
　本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ　ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
　遅相軸方向（°）
　Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
　Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
　なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ　ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

　本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
　また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。

　本明細書において、ＡプレートおよびＣプレートは以下のように定義される。
　Ａプレートは、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とネガティブＡプレート（負のＡプレート）との２種があり、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＡプレートは式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ネガティブＡプレートはＲｔｈが負の値を示す。
　式（Ａ１）　　ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
　式（Ａ２）　　ｎｙ＜ｎｘ≒ｎｚ
　なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ－ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ－ｎｚ）×ｄが、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。
　Ｃプレートは、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）とネガティブＣプレート（負のＣプレート）との２種があり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＣプレートは式（Ｃ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示し、ネガティブＣプレートはＲｔｈが正の値を示す。
　式（Ｃ１）　　ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
　式（Ｃ２）　　ｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ
　なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０～１０ｎｍ、好ましくは０～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

　なお、本明細書では、「可視光線」とは、波長４００～７００ｎｍの光を意図する。また、「紫外線」とは、波長１０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の光を意図する。
　また、本明細書において、「直交」または「平行」については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±５°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、±３°の範囲内であることが好ましい。

　本発明の位相差フィルムの特徴点としては、所定の光学異方性層を組み合わせて用いる点が挙げられる。
　本発明の位相差フィルムは、光学異方性層Ｘ、光学異方性層Ｙ、および、光学異方性層Ｚをこの順で含み、光学異方性層Ｘが、Ａプレートであり、光学異方性層Ｙが、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した第１液晶化合物を固定してなる層であり、光学異方性層Ｚが、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した第２液晶化合物を固定してなる層であり、第１液晶化合物および第２液晶化合物の一方は棒状液晶化合物であり、他方は円盤状液晶化合物であり、光学異方性層Ｘの面内遅相軸と、光学異方性層Ｙの光学異方性層Ｘ側の表面での面内遅相軸とが平行である。
　後述する位相差フィルムの第１実施態様においては、第１光学異方性層１２Ａおよび第２光学異方性層１４Ａにより光学異方性層Ｘが構成され、第３光学異方性層１６Ａにより光学異方性層Ｙが構成され、第４光学異方性層１８Ａにより光学異方性層Ｚが構成される。
　また、位相差フィルムの第２実施態様においては、第１光学異方性層１２Ｂおよび第２光学異方性層１４Ｂにより光学異方性層Ｘが構成され、第３光学異方性層１６Ｂにより光学異方性層Ｙが構成され、第４光学異方性層１８Ｂにより光学異方性層Ｚが構成される。
　また、位相差フィルムの第３実施態様においては、第１光学異方性層１２Ｃにより光学異方性層Ｘが構成され、第２光学異方性層１４Ｃにより光学異方性層Ｙが構成され、第３光学異方性層１６Ｃにより光学異方性層Ｚが構成される。
　また、位相差フィルムの第４実施態様においては、第１光学異方性層１２Ｄにより光学異方性層Ｘが構成され、第２光学異方性層１４Ｄにより光学異方性層Ｙが構成され、第３光学異方性層１６Ｄにより光学異方性層Ｚが構成される。

＜位相差フィルムの第１実施態様＞
　以下、本発明の位相差フィルムの第１実施態様について、図面を参照して説明する。図１に、本発明の位相差フィルムの第１実施態様の概略断面図を示す。
　位相差フィルム１０Ａは、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４Ａ、第３光学異方性層１６Ａ、および、第４光学異方性層１８Ａをこの順に有する。
　第１光学異方性層１２ＡはポジティブＡプレートであり、第２光学異方性層１４ＡはネガティブＡプレートであり、第３光学異方性層１６Ａは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣ１を固定してなる層であり、第４光学異方性層１８Ａは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣ２を固定してなる層である。
　第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸とは、平行である。
　第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面での面内遅相軸とは、平行である。
　第３光学異方性層１６Ａの第４光学異方性層１８Ａ側の表面での面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側の表面での面内遅相軸とは、平行である。
　以下、各層について詳述する。

（第１光学異方性層１２Ａ）
　第１光学異方性層１２Ａは、ポジティブＡプレートである。
　第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の位相差フィルムと偏光子とを組み合わせて円偏光板として画像表示装置に適用し、画像表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化がより小さい（以下、単に「本発明の効果がより優れる」ともいう。）点で、２０～９０ｎｍが好ましく、２０～８０ｎｍがより好ましい。
　第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１０～４５ｎｍが好ましく、１０～４０ｎｍがより好ましい。

　第１光学異方性層１２Ａは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。

　第１光学異方性層１２Ａは、ポジティブＡプレートであればその構成は特に制限されず、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層、および、延伸フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
　本明細書において、ホモジニアス配向とは、液晶化合物の分子軸（例えば、棒状液晶化合物の場合には長軸が該当）が層表面に対して水平に、かつ、同一方位に配列している状態（光学的一軸性）をいう。
　ここで、水平とは、厳密に水平であることを要求するものでなく、液晶化合物の平均分子軸が層の主面とのなす傾斜角が２０°未満の配向を意味するものとする。
　また、同一方位とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
　棒状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
　棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１、および、特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載の化合物が挙げられる。
　棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　本明細書において、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。

　第１光学異方性層１２Ａは、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

　第１光学異方性層１２Ａの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第１光学異方性層１２Ａの厚みとは、第１光学異方性層１２Ａの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第２光学異方性層１４Ａ）
　第２光学異方性層１４Ａは、ネガティブＡプレートである。
　第２光学異方性層１４Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、７０～２００ｎｍが好ましく、８０～１９０ｎｍがより好ましい。
　第２光学異方性層１４Ａの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１００～－３５ｎｍが好ましく、－９５～－４０ｎｍがより好ましい。

　第２光学異方性層１４Ａは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。

　第２光学異方性層１４Ａは、ネガティブＡプレートであればその構成は特に制限されず、垂直配向し、光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している円盤状液晶化合物を固定してなる層、および、延伸フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、垂直配向し、光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している円盤状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
　なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と層の厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。
　また、円盤状液晶化合物の光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している状態とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
　円盤状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
　円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７、および、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載の化合物が挙げられる。
　円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第２光学異方性層１４Ａは、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

　第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸とは、平行である。

　第２光学異方性層１４Ａの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第２光学異方性層１４Ａの厚みとは、第２光学異方性層１４Ａの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第２光学異方性層１４Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第３光学異方性層１６Ａ）
　第３光学異方性層１６Ａは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣ１を固定してなる層である。
　第３光学異方性層１６Ａは、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相を固定してなる層であることが好ましい。なお、上記第３光学異方性層１６Ａを形成する際には、液晶化合物と後述するキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

　棒状液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、４０±２０°の範囲内（２０～６０°の範囲内）が好ましく、４０±１５°の範囲内（２５～５５°の範囲内）がより好ましい。
　なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
　また、棒状液晶化合物が捩れ配向するとは、第３光学異方性層１６Ａの厚み方向を軸として、第３光学異方性層１６Ａの一方の主表面から他方の主表面までの棒状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、棒状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第３光学異方性層１６Ａの厚み方向の位置によって異なる。
　捩れ配向において、棒状液晶化合物の長軸は、第３光学異方性層１６Ａの主面と平行となるように配置される。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第３光学異方性層１６Ａの主面とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内であることが好ましい。

　波長５５０ｎｍにおける第３光学異方性層１６Ａの屈折率異方性Δｎと第３光学異方性層１６Ａの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、５０～１２０ｎｍが好ましく、５５～１１５ｎｍがより好ましい。
　上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

　第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面での面内遅相軸とが平行である。

　第３光学異方性層１６Ａの形成に用いられる棒状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第３光学異方性層１６Ａは、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

　第３光学異方性層１６Ａの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第３光学異方性層１６Ａの厚みとは、第３光学異方性層１６Ａの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第３光学異方性層１６Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第４光学異方性層１８Ａ）
　第４光学異方性層１８Ａは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣ２を固定してなる層である。
　上記第４光学異方性層１８Ａを形成する際には、円盤状液晶化合物と後述するキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

　円盤状液晶化合物の捩れ角度（円盤状液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、４０±２０°の範囲内（２０～６０°の範囲内）が好ましく、４０±１５°の範囲内（２５～５５°の範囲内）がより好ましい。
　なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
　また、円盤状液晶化合物が捩れ配向するとは、第４光学異方性層１８Ａの厚み方向を軸として、第４光学異方性層１８Ａの一方の主表面から他方の主表面までの円盤状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、円盤状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、層の厚み方向の位置によって異なる。
　捩れ配向において、円盤状液晶化合物は垂直配向している。なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と第２光学異方性層１４Ａの厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内であることが好ましい。

　第３光学異方性層１６Ａの第４光学異方性層１８Ａ側の表面での面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側の表面での面内遅相軸とが平行である。

　波長５５０ｎｍにおける第４光学異方性層１８Ａの屈折率異方性Δｎと第４光学異方性層１８Ａの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、５０～１２０ｎｍが好ましく、５５～１１５ｎｍがより好ましい。
　上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

　第４光学異方性層１８Ａの形成に用いられる円盤状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第４光学異方性層１８Ａは、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

　第４光学異方性層１８Ａの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第４光学異方性層１８Ａの厚みとは、第４光学異方性層１８Ａの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第４光学異方性層１８Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（他の部材）
　位相差フィルム１０Ａは、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａ以外の他の部材を含んでいてもよい。

（密着層）
　位相差フィルム１０Ａは、各光学異方性層間に、密着層を有していてもよい。
　密着層としては、公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。

　特開平１１－１４９０１５号公報に記載のように、一般的に、位相差フィルムを形成する各層（例えば、光学異方性層）は、反射抑制の点から、屈折率を調整することが好ましい。接着対象との屈折率差は、０．１以下が好ましく、０．０８以下がより好ましく、０．０６以下がさらに好ましく、０．０３以下が特に好ましい。

　液晶化合物を固定してなる光学異方性層の層間に密着層を配置する場合は、高屈折の接着剤や粘着剤を用いてもよい。
　屈折率を高くするためには、高屈折モノマー、または、高屈折金属微粒子を用いることも好ましい。
　高屈折モノマーとしては、分子中にベンゼン環骨格を有することが好ましい。分子中にベンゼン環骨格を有する単官能モノマーとしては、例えば、エトキシ化Ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート、Ｏ－フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－メタクリロイロキシエチルフタレート、２－アクリロイロキシエチルフタレート、２－アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタレート、２－アクリロイロキシプロピルフタレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フェノール（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、フェニルグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、および、ビニルカルバゾールなどが挙げられる。
　高屈折金属微粒子としては、無機粒子が挙げられる。無機粒子を構成する成分としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体が挙げられる。上記金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体に含まれる金属原子としては、チタン原子、ケイ素原子、アルミニウム原子、コバルト原子、および、ジルコニウム原子が挙げられる。無機粒子の具体例としては、アルミナ粒子、アルミナ水和物粒子、シリカ粒子、ジルコニア粒子、および、粘土鉱物（例えば、スメクタイト）などの無機酸化物粒子が挙げられる。屈折率の点から、酸化ジルコニウムの粒子が好ましい。
　無機粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整できる。
　無機粒子の平均粒径は特に制限されないが、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、１～１２０ｎｍが好ましく、１～６０ｎｍがより好ましく、２～４０ｎｍがさらに好ましい。

（配向膜）
　位相差フィルム１０Ａは、配向膜をさらに有していてもよい。配向膜は、各光学異方性層間に配置されていてもよい。
　なお、図１に示すように、位相差フィルム１０Ａは、各光学異方性層間には、配向膜を有さないことが好ましい。

　配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で形成できる。
　さらに、電場の付与、磁場の付与、または、光照射（好ましくは偏光）により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
　配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
　配向膜としては、光配向膜も挙げられる。
　配向膜の厚さは、配向機能を発揮することができれば特に制限されないが、０．０１～５．０μｍが好ましく、０．０５～２．０μｍがより好ましく、０．１～０．５μｍがさらに好ましい。
　配向膜は、後述する基板とともに位相差フィルムから剥離可能であってもよい。

（基板）
　位相差フィルム１０Ａは、基板をさらに有していてもよい。
　基板としては、透明基板が好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
　基板の厚みは特に制限されないが、１０～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。

　また、基板は複数枚の積層からなっていてもよい。基板はその上に設けられる層との接着を改善するため、基板の表面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。
　また、基板の上に、接着剤層（下塗り層）を設けてもよい。
　基板は、位相差フィルムから剥離可能であってもよい。

（位相差フィルムの製造方法）
　位相差フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
　例えば、第１光学異方性層～第４光学異方性層をそれぞれ作製して、それらを密着層（例えば、粘着剤層または接着剤層）を介して所定の順番で貼り合わせることにより、位相差フィルムを製造できる。
　また、第１光学異方性層～第４光学異方性層は、それぞれ形成し得る、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて製造できる。

　以下では、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて光学異方性層（第１光学異方性層～第４光学異方性層）を製造する方法について詳述する。

　光学異方性層形成用組成物に含まれる重合性基を有する液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物」ともいう。）は、上述した通りである。なお、上述したように、形成される光学異方性層の特性に応じて、棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物が適宜選択される。
　光学異方性層形成用組成物中における重合性液晶化合物の含有量は、光学異方性層形成用組成物の全固形分に対して、６０～９９質量％が好ましく、７０～９８質量％がより好ましい。
　なお、固形分とは、溶媒を除去した、光学異方性層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。

　光学異方性層形成用組成物は、重合性基を有する液晶化合物以外の他の化合物を含んでいてもよい。
　例えば、第３光学異方性層１６Ａおよび第４光学異方性層１８Ａを形成するための光学異方性層形成用組成物は、液晶化合物を捩れ配向させるためには、キラル剤を含むことが好ましい。キラル剤は、液晶化合物を捩れ配向させるために添加されるが、勿論、液晶化合物が、分子内に不斉炭素を有するなど、光学活性を示す化合物である場合は、キラル剤の添加は不要である。また、製造方法および捩れ角度によっては、キラル剤の添加は不要である。
　キラル剤としては、併用する液晶化合物を相溶するものであれば、特に構造についての制限はない。公知のキラル剤（例えば、日本学術振興会第１４２委員会編「液晶デバイスハンドブック」，第３章４－３項，ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤，１９９頁，１９８９年に記載）のいずれも用いることができる。
　キラル剤の使用量は特に制限されず、上述した捩れ角度が達成されるように調整される。

　光学異方性層形成用組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。
　光学異方性層形成用組成物中における重合開始剤の含有量は、光学異方性層形成用組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。

　光学異方性層形成用組成物に含まれていてもよい他の成分としては、上記以外にも、多官能モノマー、配向制御剤（垂直配向剤、水平配向剤）、界面活性剤、密着改良剤、可塑剤、および、溶媒が挙げられる。

　光学異方性層形成用組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法が挙げられる。

　次に、形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物を配向させる。例えば、第１光学異方性層１２Ａを形成する際には、棒状液晶化合物をホモジニアス配向させる。また、第２光学異方性層１４Ａを形成する際には、円盤状液晶化合物を垂直配向させ、円盤状液晶化合物の光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列しているように配向させる。また、第３光学異方性層を形成する際には、棒状液晶化合物を捩れ配向させる。また、第４光学異方性層を形成する際には、円盤状液晶化合物を捩れ配向させる。

　配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
　なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、５０～１５０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
　また、塗膜を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、塗膜を冷却してもよい。

　次に、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す。
　重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
　光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量が好ましい。
　光照射処理の際の雰囲気は特に制限されないが、窒素雰囲気が好ましい。

＜円偏光板の第１実施態様＞
　本発明の位相差フィルムの第１実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。なお、円偏光板とは、無偏光の光を円偏光に変換する光学素子である。
　上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。

　偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
　偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性物質を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
　なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。

　図２に、円偏光板１００Ａの一実施態様の概略断面図を示す。また、図３は、図２に示す円偏光板１００Ａにおける、偏光子２０の吸収軸と、第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａのそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。なお、図３中の偏光子２０中の矢印は吸収軸を、第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａ中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。
　また、図４は、図２の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａのそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
　なお、面内遅相軸の回転角度は、図２中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、捩れ方向は、図２中の白抜きの矢印から観察した際、第３光学異方性層１６Ａおよび第４光学異方性層１８Ａ中の手前側（偏光子２０側とは反対側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）かを判断する。

　円偏光板１００Ａは、図２に示すように、偏光子２０と、第１光学異方性層１２Ａと、第２光学異方性層１４Ａと、第３光学異方性層１６Ａと、第４光学異方性層１８Ａとをこの順で含む。
　図３～４に示すように、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸とのなす角度φａ１は、７５°である。より具体的には、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、７５°（反時計回りに７５°）回転している。なお、図３～４においては、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸が７５°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、７５±１３°の範囲になることが好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸とのなす角度は７５±１３°の範囲内であることが好ましい。
　なお、図３に示すように、第１光学異方性層１２Ａ中において、第１光学異方性層１２Ａの偏光子２０側の表面１２１Ａでの面内遅相軸と、第１光学異方性層１２Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１２２Ａでの面内遅相軸とは、平行である。

　図３～４に示すように、第１光学異方性層１２Ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸とは、平行である。

　また、図３に示すように、第２光学異方性層１４Ａ中において、第２光学異方性層１４Ａの偏光子２０側の表面１４１Ａでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ａの第３光学異方性層１６Ａ側の表面１４２Ａでの面内遅相軸とは、平行である。

　また、図３に示すように、第２光学異方性層１４Ａの第３光学異方性層１６Ａ側の表面１４２Ａでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸とは、平行である。

　第３光学異方性層１６Ａは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図３～４に示すように、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側とは反対側の表面１６２Ａでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図３においては、４０°）をなす。つまり、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側とは反対側の表面１６２Ａでの面内遅相軸とのなす角度φａ２は、４０°である。より具体的には、第３光学異方性層１６Ａ中における棒状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が４０°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側とは反対側の表面１６２Ａでの面内遅相軸とのなす角度は、３５°である。
　なお、図３～４においては、第３光学異方性層１６Ａ中の棒状液晶化合物の捩れ角度が４０°の態様を示すが、この態様に限定されず、棒状液晶化合物の捩れ角度は４０±２０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側とは反対側の表面１６２Ａでの面内遅相軸とのなす角度は、４０±２０°の範囲内であることが好ましい。

　また、図３に示すように、第３光学異方性層１６Ａの第４光学異方性層１８Ａ側の表面１６２Ａでの面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側の表面１８１Ａでの面内遅相軸とは、平行である。

　第４光学異方性層１８Ａは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図３～４に示すように、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側の表面１８１Ａでの面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側とは反対側の表面１８２Ａでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図３においては、４０°）をなす。つまり、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側の表面１８１Ａでの面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側とは反対側の表面１８２Ａでの面内遅相軸とのなす角度φａ３は、４０°である。より具体的には、第４光学異方性層１８Ａ中における円盤状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が４０°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側とは反対側の表面１６２Ａでの面内遅相軸とのなす角度は、５°である。
　なお、図３～４においては、第３光学異方性層１６Ａ中の円盤状液晶化合物の捩れ角度が４０°の態様を示すが、この態様に限定されず、円盤状液晶化合物の捩れ角度は４０±２０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側の表面１８１Ａでの面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ａの第３光学異方性層１６Ａ側とは反対側の表面１８２Ａでの面内遅相軸とのなす角度は、４０±２０°の範囲内であることが好ましい。

　上述したように、図３～４の態様では、位相差フィルム１０Ａ側から円偏光板１００Ａを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準に、第１光学異方性層１２Ａおよび第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸が反時計回りに７５°回転しており、第３光学異方性層１６Ａ中における棒状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）であり、第４光学異方性層１８Ａ中の円盤状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）を示す。
　図３～４においては、液晶化合物の捩れ方向が反時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、時計回りの態様であってもよい。より具体的には、位相差フィルム１０Ａ側から円偏光板１００Ａを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準に、第１光学異方性層１２Ａおよび第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸が時計回りに７５°回転しており、第３光学異方性層１６Ａ中の棒状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）を示し、第４光学異方性層１８Ａ中の円盤状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）を示す態様であってもよい。

　つまり、位相差フィルムの第１実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層および第２光学異方性層の面内遅相軸が反時計回りに７５±１３°（好ましくは、７５±１０°）の範囲内で回転している場合、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における棒状液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであり、第４光学異方性層の第３光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸を基準に、第４光学異方性層中における円盤状液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであることが好ましい。
　また、位相差フィルムの第１実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層および第２光学異方性層の面内遅相軸が時計回りに７５±１３°（好ましくは、７５±１０°）の範囲内で回転している場合、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における棒状液晶化合物の捩れ方向が時計回りであり、第４光学異方性層の第３光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸を基準に、第４光学異方性層中における円盤状液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。

　上記円偏光板は、位相差フィルムおよび偏光子以外の他の部材を有していてもよい。
　円偏光板は、位相差フィルムと偏光子との間に、密着層を有していてもよい。
　密着層としては、公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。

　上記円偏光板の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
　例えば、偏光子と、位相差フィルムとを密着層を介して貼合する方法が挙げられる。

＜位相差フィルムの第２実施態様＞
　以下、本発明の位相差フィルムの第２実施態様について、図面を参照して説明する。図５に、本発明の位相差フィルムの第２実施態様の概略断面図を示す。
　位相差フィルム１０Ｂは、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４Ｂ、第３光学異方性層１６Ｂ、および、第４光学異方性層１８Ｂをこの順に有する。
　第１光学異方性層１２ＢはネガティブＡプレートであり、第２光学異方性層１４ＢはポジティブＡプレートであり、第３光学異方性層１６Ｂは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣ１を固定してなる層であり、第４光学異方性層１８Ｂは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣ２を固定してなる層である。
　第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸とは、平行である。
　第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面での面内遅相軸とは、平行である。
　第３光学異方性層１６Ｂの第４光学異方性層１８Ｂ側の表面での面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ｂの第３光学異方性層１６Ｂ側の表面での面内遅相軸とは、平行である。
　以下、各層について詳述する。

（第１光学異方性層１２Ｂ）
　第１光学異方性層１２Ｂは、ネガティブＡプレートである。
　第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、２０～９０ｎｍが好ましく、２０～８０ｎｍがより好ましい。
　第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－４５～－１０ｎｍが好ましく、－４０～－１０ｎｍがより好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｂは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｂは、ネガティブＡプレートであればその構成は特に制限されず、垂直配向し、光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している円盤状液晶化合物を固定してなる層、および、延伸フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、垂直配向し、光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している円盤状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
　なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と層の厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。
　また、円盤状液晶化合物の光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している状態とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
　第１光学異方性層１２Ｂの形成に用いられる円盤状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第１光学異方性層１２Ｂは、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸とは、平行である。

　第１光学異方性層１２Ｂの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第１光学異方性層１２Ｂの厚みとは、第１光学異方性層１２Ｂの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第２光学異方性層１４Ｂ）
　第２光学異方性層１４Ｂは、ポジティブＡプレートである。
　第２光学異方性層１４Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、７０～２００ｎｍが好ましく、８０～１９０ｎｍがより好ましい。
　第２光学異方性層１４Ｂの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、３５～１００ｎｍが好ましく、４０～９５ｎｍがより好ましい。

　第２光学異方性層１４Ｂは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。

　第２光学異方性層１４Ｂは、ポジティブＡプレートであればその構成は特に制限されず、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層、および、延伸フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
　第２光学異方性層１４Ｂの形成に用いられる棒状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　棒状液晶化合物が有していてもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第２光学異方性層１４Ｂは、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

　第２光学異方性層１４Ｂの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第２光学異方性層１４Ｂの厚みとは、第２光学異方性層１４Ｂの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第２光学異方性層１４Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第３光学異方性層１６Ｂ）
　第３光学異方性層１６Ｂは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣ１を固定してなる層である。
　上記第３光学異方性層１６Ｂを形成する際には、円盤状液晶化合物とキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

　円盤状液晶化合物の捩れ角度（円盤状液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、４０±２０°の範囲内（２０～６０°の範囲内）が好ましく、４０±１５°の範囲内（３５～５５°の範囲内）がより好ましい。
　なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
　また、円盤状液晶化合物が捩れ配向するとは、第３光学異方性層１６Ｂの厚み方向を軸として、第３光学異方性層１６Ｂの一方の主表面から他方の主表面までの円盤状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、円盤状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第３光学異方性層１６Ｂの厚み方向の位置によって異なる。
　捩れ配向において、円盤状液晶化合物は垂直配向している。なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と第３光学異方性層１６Ｂの厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と第３光学異方性層１６Ｂの厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内であることが好ましい。

　第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面での面内遅相軸とが平行である。

　波長５５０ｎｍにおける第３光学異方性層１６Ｂの屈折率異方性Δｎと第３光学異方性層１６Ｂの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、５０～１２０ｎｍが好ましく、５５～１１５ｎｍがより好ましい。
　上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

　第３光学異方性層１６Ｂの形成に用いられる円盤状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第３光学異方性層１６Ｂは、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

　第３光学異方性層１６Ｂの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第３光学異方性層１６Ｂの厚みとは、第３光学異方性層１６Ｂの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第３光学異方性層１６Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第４光学異方性層１８Ｂ）
　第４光学異方性層１８Ｂは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣ２を固定してなる層である。
　第４光学異方性層１８Ｂは、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相を固定してなる層であることが好ましい。なお、上記第４光学異方性層１８Ｂを形成する際には、液晶化合物とキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

　棒状液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、４０±２０°の範囲内（２０～６０°の範囲内）が好ましく、４０±１５°の範囲内（３５～５５°の範囲内）がより好ましい。
　なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
　また、棒状液晶化合物が捩れ配向するとは、第４光学異方性層１８Ｂの厚み方向を軸として、第４光学異方性層１８Ｂの一方の主表面から他方の主表面までの棒状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、棒状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第４光学異方性層１８Ｂの厚み方向の位置によって異なる。
　捩れ配向において、棒状液晶化合物の長軸は、第４光学異方性層１８Ｂの主面と平行となるように配置される。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第４光学異方性層１８Ｂの主面とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内であることが好ましい。

　波長５５０ｎｍにおける第４光学異方性層１８Ｂの屈折率異方性Δｎと第４光学異方性層１８Ｂの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、５０～１２０ｎｍが好ましく、５５～１１５ｎｍがより好ましい。
　上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

　第３光学異方性層１６Ｂの第４光学異方性層１８Ｂ側の表面での面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ｂの第３光学異方性層１６Ｂ側の表面での面内遅相軸とが平行である。

　第４光学異方性層１８Ｂの形成に用いられる棒状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第４光学異方性層１８Ｂは、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

　第４光学異方性層１８Ｂの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第４光学異方性層１８Ｂの厚みとは、第４光学異方性層１８Ｂの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第４光学異方性層１８Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（他の部材）
　位相差フィルム１０Ｂは、上述した第１光学異方性層１２Ｂ～第４光学異方性層１８Ｂ以外の他の部材を含んでいてもよい。
　他の部材としては、上述した位相差フィルムの第１実施態様で述べた他の部材が挙げられる。

　第１光学異方性層１２Ｂ～第４光学異方性層１８Ｂの製造方法は特に制限されず、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａの製造方法が挙げられる。

＜円偏光板の第２実施態様＞
　本発明の位相差フィルムの第２実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。
　上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
　偏光子は、第１実施態様で述べた通りである。

　図６に、円偏光板１００Ｂの一実施態様の概略断面図を示す。また、図７は、図６に示す円偏光板１００Ｂにおける、偏光子２０の吸収軸と、第１光学異方性層１２Ｂ～第４光学異方性層１８Ｂのそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。なお、図７中の偏光子２０中の矢印は吸収軸を、第１光学異方性層１２Ｂ～第４光学異方性層１８Ｂ中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。
　また、図８は、図６の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第１光学異方性層１２Ｂ～第４光学異方性層１８Ｂのそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
　なお、面内遅相軸の回転角度は、図６中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、捩れ方向は、図６中の白抜きの矢印から観察した際、第３光学異方性層１６Ｂおよび第４光学異方性層１８Ｂ中の手前側（偏光子２０側とは反対側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）かを判断する。

　円偏光板１００Ｂは、図６に示すように、偏光子２０と、第１光学異方性層１２Ｂと、第２光学異方性層１４Ｂと、第３光学異方性層１６Ｂと、第４光学異方性層１８Ｂとをこの順で含む。
　図７～８に示すように、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸とのなす角度φｂ１は、１５°である。より具体的には、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、－１５°（時計回りに１５°）回転している。なお、図７～８においては、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸が－１５°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、－１５±１３°の範囲になることが好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸とのなす角度は１５±１３°の範囲内であることが好ましい。
　なお、図７に示すように、第１光学異方性層１２Ｂ中において、第１光学異方性層１２Ｂの偏光子２０側の表面１２１Ｂでの面内遅相軸と、第１光学異方性層１２Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１２２Ｂでの面内遅相軸とは、平行である。

　図７～８に示すように、第１光学異方性層１２Ｂの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸とは、平行である。

　また、図７に示すように、第２光学異方性層１４Ｂ中において、第２光学異方性層１４Ｂの偏光子２０側の表面１４１Ｂでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｂの第３光学異方性層１６Ｂ側の表面１４２Ｂでの面内遅相軸とは、平行である。

　また、図７に示すように、第２光学異方性層１４Ｂの第３光学異方性層１６Ｂ側の表面１４２Ｂでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸とは、平行である。

　第３光学異方性層１６Ｂは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図７～８に示すように、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側とは反対側の表面１６２Ｂでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図７においては、４０°）をなす。つまり、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側とは反対側の表面１６２Ｂでの面内遅相軸とのなす角度φｂ２は、４０°である。より具体的には、第３光学異方性層１６Ｂ中における円盤状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が４０°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側とは反対側の表面１６２Ｂでの面内遅相軸とのなす角度は、５５°である。
　なお、図７～８においては、第３光学異方性層１６Ｂ中の円盤状液晶化合物の捩れ角度が４０°の態様を示すが、この態様に限定されず、円盤状液晶化合物の捩れ角度は４０±２０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側とは反対側の表面１６２Ｂでの面内遅相軸とのなす角度は、４０±２０°の範囲内であることが好ましい。

　また、図７に示すように、第３光学異方性層１６Ｂの第４光学異方性層１８Ｂ側の表面１６２Ｂでの面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ｂの第３光学異方性層１６Ｂ側の表面１８１Ｂでの面内遅相軸とは、平行である。

　第４光学異方性層１８Ｂは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図７～８に示すように、第４光学異方性層１８Ｂの偏光子２０側の表面１８１Ｂでの面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ｂの偏光子２０側とは反対側の表面１８２Ｂでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図７においては、４０°）をなす。つまり、第４光学異方性層１８Ｂの偏光子２０側の表面１８１Ｂでの面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ｂの偏光子２０側とは反対側の表面１８２Ｂでの面内遅相軸とのなす角度φｂ３は、４０°である。より具体的には、第４光学異方性層１８Ｂ中における円盤状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が４０°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第４光学異方性層１８Ｂの第３光学異方性層１６Ｂ側とは反対側の表面１８２Ｂでの面内遅相軸とのなす角度は、９５°である。
　なお、図７～８においては、第４光学異方性層１８Ｂ中の円盤状液晶化合物の捩れ角度が４０°の態様を示すが、この態様に限定されず、円盤状液晶化合物の捩れ角度は４０±２０°の範囲であればよい。つまり、第４光学異方性層１８Ｂの第３光学異方性層１６Ｂ側の表面１８１Ｂでの面内遅相軸と、第４光学異方性層１８Ｂの第３光学異方性層１６Ｂ側とは反対側の表面１８２Ｂでの面内遅相軸とのなす角度は、４０±２０°の範囲内であることが好ましい。

　上述したように、図７～８の態様では、位相差フィルム１０Ｂ側から円偏光板１００Ｂを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準に、第１光学異方性層１２Ｂおよび第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸が時計回りに１５°回転しており、第３光学異方性層１６Ｂ中の円盤状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）であり、第４光学異方性層１８Ｂ中の棒状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）である。
　図７～８においては、液晶化合物の捩れ方向が反時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、時計回りの態様であってもよい。より具体的には、位相差フィルム１０Ｂ側から円偏光板１００Ｂを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準に、第１光学異方性層１２Ｂおよび第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸が反時計回りに１５°回転しており、第３光学異方性層１６Ｂ中の円盤状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）であり、第４光学異方性層１８Ｂ中の棒状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）である態様であってもよい。

　つまり、位相差フィルムの第２実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層および第２光学異方性層の面内遅相軸が時計回りに１５±１３°（好ましくは、１５±１０°）の範囲内で回転している場合、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであり、第４光学異方性層の第３光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸を基準に、第４光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであることが好ましい。
　また、位相差フィルムの第２実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層および第２光学異方性層の面内遅相軸が反時計回りに１５±１３°（好ましくは、１５±１０°）の範囲内で回転している場合、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が時計回りであり、第４光学異方性層の第３光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸を基準に、第４光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。

＜位相差フィルムの第３実施態様＞
　以下、本発明の位相差フィルムの第３実施態様について、図面を参照して説明する。図９に、本発明の位相差フィルムの第３実施態様の概略断面図を示す。
　位相差フィルム１０Ｃは、第１光学異方性層１２Ｃ、第２光学異方性層１４Ｃ、および、第３光学異方性層１６Ｃをこの順に有する。
　第１光学異方性層１２ＣはポジティブＡプレートであり、第２光学異方性層１４Ｃは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣ１を固定してなる層であり、第３光学異方性層１６Ｃは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣ２を固定してなる層である。
　第１光学異方性層１２Ｃの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側の表面での面内遅相軸とは、平行である。
　第２光学異方性層１４Ｃの第３光学異方性層１６Ｃ側の表面での面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面での面内遅相軸とは、平行である。
　以下、各層について詳述する。

（第１光学異方性層１２Ｃ）
　第１光学異方性層１２Ｃは、ポジティブＡプレートである。
　第１光学異方性層１２Ｃの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
　第１光学異方性層１２Ｃの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、６０～１２０ｎｍが好ましく、６５～１１５ｎｍがより好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｃは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｃは、ポジティブＡプレートであればその構成は特に制限されず、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層、および、延伸フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
　第１光学異方性層１２Ｃの形成に用いられる棒状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第１光学異方性層１２Ｃは、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｃの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第１光学異方性層１２Ｃの厚みとは、第１光学異方性層１２Ｃの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ｃの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第２光学異方性層１４Ｃ）
　第２光学異方性層１４Ｃは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣ１を固定してなる層である。
　上記第２光学異方性層１４Ｃを形成する際には、円盤状液晶化合物とキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

　円盤状液晶化合物の捩れ角度（円盤状液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、８０±３０°の範囲内（５０～１１０°の範囲内）が好ましく、８０±２０°の範囲内（６０～１００°の範囲内）がより好ましい。
　なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
　また、円盤状液晶化合物が捩れ配向するとは、第２光学異方性層１４Ｃの厚み方向を軸として、第２光学異方性層１４Ｃの一方の主表面から他方の主表面までの円盤状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、円盤状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第２光学異方性層１４Ｃの厚み方向の位置によって異なる。
　捩れ配向において、円盤状液晶化合物は垂直配向している。なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と第２光学異方性層１４Ｃの厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と第２光学異方性層１４Ｃの厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｃの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側の表面での面内遅相軸とが平行である。

　波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性層１４Ｃの屈折率異方性Δｎと第２光学異方性層１４Ｃの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
　上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

　第２光学異方性層１４Ｃの形成に用いられる円盤状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第２光学異方性層１４Ｃは、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

　第２光学異方性層１４Ｃの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第２光学異方性層１４Ｃの厚みとは、第２光学異方性層１４Ｃの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第２光学異方性層１４Ｃの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第３光学異方性層１６Ｃ）
　第３光学異方性層１６Ｃは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣ２を固定してなる層である。
　第３光学異方性層１６Ｃは、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相を固定してなる層であることが好ましい。なお、上記第３光学異方性層１６Ｃを形成する際には、液晶化合物とキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

　棒状液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、１７５±３０°の範囲内（１４５～２０５°の範囲内）が好ましく、１７５±２０°の範囲内（１５５～１９５°の範囲内）がより好ましい。
　なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
　また、棒状液晶化合物が捩れ配向するとは、第３光学異方性層１６Ｃの厚み方向を軸として、第３光学異方性層１６Ｃの一方の主表面から他方の主表面までの棒状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、棒状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第３光学異方性層１６Ｃの厚み方向の位置によって異なる。
　捩れ配向において、棒状液晶化合物の長軸は、第３光学異方性層１６Ｃの主面と平行となるように配置される。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第３光学異方性層１６Ｃの主面とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。

　波長５５０ｎｍにおける第３光学異方性層１６Ｃの屈折率異方性Δｎと第３光学異方性層１６Ｃの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、７０～１９０ｎｍが好ましく、８０～１８０ｎｍがより好ましい。
　上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

　第２光学異方性層１４Ｃの第３光学異方性層１６Ｃ側の表面での面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面での面内遅相軸とが平行である。なお、図９に示す態様においては、第２光学異方性層１４Ｃの第３光学異方性層１６Ｃ側の表面での面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面での面内遅相軸とが平行であるが、本実施態様は上記態様には限定されず、第２光学異方性層１４Ｃの第３光学異方性層１６Ｃ側の表面での面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面での面内遅相軸とが平行でなくてもよい。

　第３光学異方性層１６Ｃの形成に用いられる棒状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第３光学異方性層１６Ｃは、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

　第３光学異方性層１６Ｃの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第３光学異方性層１６Ｃの厚みとは、第３光学異方性層１６Ｃの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第３光学異方性層１６Ｃの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（他の部材）
　位相差フィルム１０Ｃは、上述した第１光学異方性層１２Ｃ～第３光学異方性層１６Ｃ以外の他の部材を含んでいてもよい。
　他の部材としては、上述した位相差フィルムの第１実施態様で述べた他の部材が挙げられる。

　第１光学異方性層１２Ｃ～第３光学異方性層１６Ｃの製造方法は特に制限されず、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａの製造方法が挙げられる。

＜円偏光板の第３実施態様＞
　本発明の位相差フィルムの第３実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。
　上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
　偏光子は、第１実施態様で述べた通りである。

　図１０に、円偏光板１００Ｃの一実施態様の概略断面図を示す。また、図１１は、図１０に示す円偏光板１００Ｃにおける、偏光子２０の吸収軸と、第１光学異方性層１２Ｃ～第３光学異方性層１６Ｃのそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。なお、図１１中の偏光子２０中の矢印は吸収軸を、第１光学異方性層１２Ｃ～第３光学異方性層１６Ｃ中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。
　また、図１２は、図１０の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第１光学異方性層１２Ｃ～第３光学異方性層１６Ｃのそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
　なお、面内遅相軸の回転角度は、図１０中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、捩れ方向は、図１０中の白抜きの矢印から観察した際、第２光学異方性層１４Ｃおよび第３光学異方性層１６Ｃ中の手前側（偏光子２０側とは反対側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）かを判断する。

　円偏光板１００Ｃは、図１０に示すように、偏光子２０と、第１光学異方性層１２Ｃと、第２光学異方性層１４Ｃと、第３光学異方性層１６Ｃと、をこの順で含む。
　図１１～１２に示すように、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｃの面内遅相軸とのなす角度φｃ１は、１５°である。より具体的には、第１光学異方性層１２Ｃの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、－１５°（時計回りに１５°）回転している。なお、図１１～１２においては、第１光学異方性層１２Ｃの面内遅相軸が－１５°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、－１５±１３°の範囲になることが好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｃの面内遅相軸とのなす角度は１５±１３°の範囲内であることが好ましい。
　なお、図１１に示すように、第１光学異方性層１２Ｃ中において、第１光学異方性層１２Ｃの偏光子２０側の表面１２１Ｃでの面内遅相軸と、第１光学異方性層１２Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面１２２Ｃでの面内遅相軸とは、平行である。

　図１１に示すように、第１光学異方性層１２Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面１２２Ｃでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側の表面１４１Ｃでの面内遅相軸とは、平行である。

　第２光学異方性層１４Ｃは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図１１～１２に示すように、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側の表面１４１Ｃでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側とは反対側の表面１４２Ｃでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図１１においては、８０°）をなす。つまり、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側の表面１４１Ｃでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側とは反対側の表面１４２Ｃでの面内遅相軸とのなす角度φｃ２は、８０°である。より具体的には、第２光学異方性層１４Ｃ中における円盤状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が８０°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第２光学異方性層１４Ｃの偏光子２０側とは反対側の表面１４２Ｃでの面内遅相軸とのなす角度は、９５°である。
　なお、図１１～１２においては、第２光学異方性層１４Ｃ中における円盤状液晶化合物の捩れ角度が８０°の態様を示すが、この態様に限定されず、円盤状液晶化合物の捩れ角度は８０±３０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側の表面１４１Ｃでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側とは反対側の表面１４２Ｃでの面内遅相軸とのなす角度は、８０±３０°の範囲内であることが好ましい。

　また、図１１に示すように、第２光学異方性層１４Ｃの第３光学異方性層１６Ｃ側の表面１４２Ｃでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面１６１Ｃでの面内遅相軸とは、平行である。

　第３光学異方性層１６Ｃは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図１１～１２に示すように、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面１６１Ｃでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側とは反対側の表面１６２Ｃでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図１１においては、１７５°）をなす。つまり、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面１６１Ｃでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側とは反対側の表面１６２Ｃでの面内遅相軸とのなす角度φｃ３は、１７５°である。より具体的には、第３光学異方性層１６Ｃ中における棒状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が１７５°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側とは反対側の表面１６２Ｃでの面内遅相軸とのなす角度は、２７０°である。
　なお、図１１～１２においては、第３光学異方性層１６Ｃ中の棒状液晶化合物の捩れ角度が１７５°の態様を示すが、この態様に限定されず、棒状液晶化合物の捩れ角度が１７５±３０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面１６１Ｃでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側とは反対側の表面１６２Ｃでの面内遅相軸とのなす角度は、１７５±３０°の範囲内であることが好ましい。

　上述したように、図１１～１２の態様では、位相差フィルム１０Ｃ側から円偏光板１００Ｃを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準に、第１光学異方性層１２Ｃの面内遅相軸が時計回りに１５°回転しており、第２光学異方性層１４Ｃ中の円盤状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）を示し、第３光学異方性層１６Ｃ中の棒状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）を示す。
　図１１～１２においては、液晶化合物の捩れ方向が反時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、時計回りの態様であってもよい。より具体的には、位相差フィルム１０Ｃ側から円偏光板１００Ｃを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準に、第１光学異方性層１２Ｃの面内遅相軸が反時計回りに１５°回転しており、第２光学異方性層１４Ｃ中の円盤状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）を示し、第３光学異方性層１６Ｃ中の棒状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）を示す態様であってもよい。

　つまり、位相差フィルムの第３実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が時計回りに１５°回転している場合、第２光学異方性層の第３光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであり、第３光学異方性層の第２光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであることが好ましい。
　また、位相差フィルムの第３実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が反時計回りに１５°回転している場合、第２光学異方性層の第３光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が時計回りであり、第３光学異方性層の第２光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。

＜位相差フィルムの第４実施態様＞
　以下、本発明の位相差フィルムの第４実施態様について、図面を参照して説明する。図１３に、本発明の位相差フィルムの第４実施態様の概略断面図を示す。
　位相差フィルム１０Ｄは、第１光学異方性層１２Ｄ、第２光学異方性層１４Ｄ、および、第３光学異方性層１６Ｄをこの順に有する。
　第１光学異方性層１２ＤはネガティブＡプレートであり、第２光学異方性層１４Ｄは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣ１を固定してなる層であり、第３光学異方性層１６Ｄは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣ２を固定してなる層である。
　第１光学異方性層１２Ｄの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側の表面での面内遅相軸とは、平行である。
　第２光学異方性層１４Ｄの第３光学異方性層１６Ｄ側の表面での面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面での面内遅相軸とは、平行である。
　以下、各層について詳述する。

（第１光学異方性層１２Ｄ）
　第１光学異方性層１２Ｄは、ネガティブＡプレートである。
　第１光学異方性層１２Ｄの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
　第１光学異方性層１２Ｄの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１２０～－６０ｎｍが好ましく、－１１５～－６５ｎｍがより好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｄは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｄは、ネガティブＡプレートであればその構成は特に制限されず、垂直配向し、光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している円盤状液晶化合物を固定してなる層、および、延伸フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、垂直配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
　なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と層の厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。
　また、円盤状液晶化合物の光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している状態とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
　第１光学異方性層１２Ｄの形成に用いられる円盤状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第１光学異方性層１２Ｄは、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

　第１光学異方性層１２Ｄの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側の表面での面内遅相軸とは、平行である。

　第１光学異方性層１２Ｄの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第１光学異方性層１２Ｄの厚みとは、第１光学異方性層１２Ｄの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ｄの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第２光学異方性層１４Ｄ）
　第２光学異方性層１４Ｄは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣ１を固定してなる層である。
　第２光学異方性層１４Ｄは、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相を固定してなる層であることが好ましい。なお、上記第２光学異方性層１４Ｄを形成する際には、液晶化合物とキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

　棒状液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、８０±３０°の範囲内（５０～１１０°の範囲内）が好ましく、８０±２０°の範囲内（６０～１００°の範囲内）がより好ましい。
　なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
　また、棒状液晶化合物が捩れ配向するとは、第２光学異方性層１４Ｄの厚み方向を軸として、第２光学異方性層１４Ｄの一方の主表面から他方の主表面までの棒状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、棒状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第２光学異方性層１４Ｄの厚み方向の位置によって異なる。
　捩れ配向において、棒状液晶化合物の長軸は、第２光学異方性層１４Ｄの主面と平行となるように配置される。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第２光学異方性層１４Ｄの主面とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。

　波長５５０ｎｍにおける第２光学異方性層１４Ｄの屈折率異方性Δｎと第２光学異方性層１４Ｄの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
　上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

　第１光学異方性層１２Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面での面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側の表面での面内遅相軸とが平行である。

　第２光学異方性層１４Ｄの形成に用いられる棒状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第２光学異方性層１４Ｄは、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

　第２光学異方性層１４Ｄの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第２光学異方性層１４Ｄの厚みとは、第２光学異方性層１４Ｄの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第２光学異方性層１４Ｄの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第３光学異方性層１６Ｄ）
　第３光学異方性層１６Ｄは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣ２を固定してなる層である。
　上記第３光学異方性層１６Ｄを形成する際には、円盤状液晶化合物とキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

　円盤状液晶化合物の捩れ角度（円盤状液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、１７５±３０°の範囲内（１４５～２０５°の範囲内）が好ましく、１７５±２０°の範囲内（１５５～１９５°の範囲内）がより好ましい。
　なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
　また、円盤状液晶化合物が捩れ配向するとは、第３光学異方性層１６Ｄの厚み方向を軸として、第３光学異方性層１６Ｄの一方の主表面から他方の主表面までの円盤状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、円盤状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第３光学異方性層１６Ｄの厚み方向の位置によって異なる。
　捩れ配向において、円盤状液晶化合物は垂直配向している。なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と第３光学異方性層１６Ｄの厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と第３光学異方性層１６Ｄの厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。

　第２光学異方性層１４Ｄの第３光学異方性層１６Ｄ側の表面での面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面での面内遅相軸とが平行である。なお、図１３に示す態様においては、第２光学異方性層１４Ｄの第３光学異方性層１６Ｄ側の表面での面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面での面内遅相軸とが平行であるが、本実施態様は上記態様には限定されず、第２光学異方性層１４Ｄの第３光学異方性層１６Ｄ側の表面での面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面での面内遅相軸とが平行でなくてもよい。

　波長５５０ｎｍにおける第３光学異方性層１６Ｄの屈折率異方性Δｎと第３光学異方性層１６Ｄの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、７０～１９０ｎｍが好ましく、８０～１８０ｎｍがより好ましい。
　上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

　第３光学異方性層１６Ｄの形成に用いられる円盤状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
　円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
　円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

　第３光学異方性層１６Ｄは、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

　第３光学異方性層１６Ｄの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
　なお、第３光学異方性層１６Ｄの厚みとは、第３光学異方性層１６Ｄの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第３光学異方性層１６Ｄの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（他の部材）
　位相差フィルム１０Ｄは、上述した第１光学異方性層１２Ｄ～第３光学異方性層１６Ｄ以外の他の部材を含んでいてもよい。
　他の部材としては、上述した位相差フィルムの第１実施態様で述べた他の部材が挙げられる。

　第１光学異方性層１２Ｄ～第３光学異方性層１６Ｄの製造方法は特に制限されず、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａの製造方法が挙げられる。

＜円偏光板の第４実施態様＞
　本発明の位相差フィルムの第３実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。
　上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
　偏光子は、第１実施態様で述べた通りである。

　図１４に、円偏光板１００Ｄの一実施態様の概略断面図を示す。また、図１５は、図１４に示す円偏光板１００Ｄにおける、偏光子２０の吸収軸と、第１光学異方性層１２Ｄ～第３光学異方性層１６Ｄのそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。なお、図１５中の偏光子２０中の矢印は吸収軸を、第１光学異方性層１２Ｄ～第３光学異方性層１６Ｄ中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。
　また、図１６は、図１４の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第１光学異方性層１２Ｄ～第３光学異方性層１６Ｄのそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
　なお、面内遅相軸の回転角度は、図１４中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、捩れ方向は、図１４中の白抜きの矢印から観察した際、第２光学異方性層１４Ｄおよび第３光学異方性層１６Ｄ中の手前側（偏光子２０側とは反対側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）かを判断する。

　円偏光板１００Ｄは、図１４に示すように、偏光子２０と、第１光学異方性層１２Ｄと、第２光学異方性層１４Ｄと、第３光学異方性層１６Ｄと、をこの順で含む。
　図１５～１６に示すように、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｄの面内遅相軸とのなす角度φｄ１は、７５°である。より具体的には、第１光学異方性層１２Ｄの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、７５°（反時計回りに７５°）回転している。なお、図１４～１６においては、第１光学異方性層１２Ｄの面内遅相軸が７５°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、７５±１３°の範囲になることが好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第１光学異方性層１２Ｄの面内遅相軸とのなす角度は７５±１３°の範囲内であることが好ましい。
　なお、図１５に示すように、第１光学異方性層１２Ｄ中において、第１光学異方性層１２Ｄの偏光子２０側の表面１２１Ｄでの面内遅相軸と、第１光学異方性層１２Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面１２２Ｄでの面内遅相軸とは、平行である。

　図１５に示すように、第１光学異方性層１２Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面１２２Ｄでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側の表面１４１Ｄでの面内遅相軸とは、平行である。

　第２光学異方性層１４Ｄは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図１５～１６に示すように、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側の表面１４１Ｄでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側とは反対側の表面１４２Ｄでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図１５においては、８０°）をなす。つまり、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側の表面１４１Ｄでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側とは反対側の表面１４２Ｄでの面内遅相軸とのなす角度φｄ２は、８０°である。より具体的には、第２光学異方性層１４Ｄ中における円盤状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が８０°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第２光学異方性層１４Ｄの偏光子２０側とは反対側の表面１４２Ｄでの面内遅相軸とのなす角度は、５°である。
　なお、図１５～１６においては、第２光学異方性層１４Ｄの円盤状液晶化合物の捩れ角度が８０°の態様を示すが、この態様に限定されず、円盤状液晶化合物の捩れ角度は８０±３０°の範囲であればよい。つまり、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側の表面１４１Ｄでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｄの第１光学異方性層１２Ｄ側とは反対側の表面１４２Ｄでの面内遅相軸とのなす角度は、８０±３０°の範囲内であることが好ましい。

　また、図１５に示すように、第２光学異方性層１４Ｄの第３光学異方性層１６Ｄ側の表面１４２Ｄでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面１６１Ｄでの面内遅相軸とは、平行である。

　第３光学異方性層１６Ｄは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図１５～１６に示すように、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面１６１Ｄでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側とは反対側の表面１６２Ｄでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図１５においては、１７５°）をなす。つまり、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面１６１Ｄでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側とは反対側の表面１６２Ｄでの面内遅相軸とのなす角度φｄ３は、１７５°である。より具体的には、第３光学異方性層１６Ｄ中における円盤状液晶化合物の捩れ方向は、左捩れ（反時計回り）であり、その捩れ角度が１７５°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第３光学異方性層１６Ｄの偏光子２０側とは反対側の表面１６２Ｄでの面内遅相軸とのなす角度は、１８０°である。
　なお、図１５～１６においては、第３光学異方性層１６Ｄ中の円盤状液晶化合物の捩れ角度が１７５°の態様を示すが、この態様に限定されず、円盤状液晶化合物の捩れ角度は１７５±３０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面１６１Ｄでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側とは反対側の表面１６２Ｄでの面内遅相軸とのなす角度は、１７５±３０°の範囲内であることが好ましい。

　上述したように、図１５～１６の態様では、位相差フィルム１０Ｄ側から円偏光板１００Ｄを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準に、第１光学異方性層１２Ｄの面内遅相軸が反時計回りに７５°回転しており、第２光学異方性層１４Ｄ中の棒状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）を示し、第３光学異方性層１６Ｄ中の円盤状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）を示す。
　図１５～１６においては、液晶化合物の捩れ方向が反時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、時計回りの態様であってもよい。より具体的には、位相差フィルム１０Ｄ側から円偏光板１００Ｄを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準に、第１光学異方性層１２Ｄの面内遅相軸が時計回りに７５°回転しており、第２光学異方性層１４Ｄ中の棒状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）を示し、第３光学異方性層１６Ｄ中の円盤状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）を示す態様であってもよい。

　つまり、位相差フィルムの第４実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が反時計回りに７５±１３°（好ましくは、７５±１０°）の範囲内で回転している場合、第２光学異方性層の第３光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであり、第３光学異方性層の第２光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであることが好ましい。
　また、位相差フィルムの第４実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が時計回りに７５±１３°（好ましくは、７５±１０°）の範囲内で回転している場合、第２光学異方性層の第３光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が時計回りであり、第３光学異方性層の第２光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。

＜用途＞
　上述した位相差フィルムは、種々の用途に適用でき、例えば、各光学異方性層の光学特性を調整して、いわゆるλ／４板またはλ／２板として用いることもできる。
　なお、λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅがλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
　λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。
　また、λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性膜のことをいう。この式は、可視光線領域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
　２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ

＜表示装置＞
　本発明の位相差フィルム（第１実施態様～第４実施態様）並びに円偏光板（第１実施態様～第４実施態様）は、表示装置に好適に適用できる。
　本発明の表示装置は、画像表示素子と、上述した位相差フィルムまたは円偏光板とを有する。
　本発明の位相差フィルムを表示装置に適用する際には、上述した円偏光板として適用することが好ましい。この場合、円偏光板は視認側に配置され、円偏光板中、偏光子が視認側に配置される。
　画像表示素子は特に制限されず、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、および、液晶表示素子が挙げられる。

　以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜実施例１＞
（セルロースアシレートフィルムの作製）
　下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、ドープの溶媒は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）である。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
糖エステル化合物１（下記式（Ｓ４）に示す）　　　　　　６．０質量部
糖エステル化合物２（下記式（Ｓ５）に示す）　　　　　　２．０質量部
シリカ粒子分散液（ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２、日本アエロジル（株）製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１質量部
溶媒（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　上記で作製したドープを、ドラム製膜機を用いて流延した。０℃に冷却された金属支持体上に接するようにドープをダイから流延し、その後、得られたウェブ（フィルム）を剥ぎ取った。なお、ドラムはＳＵＳ製であった。

　流延されて得られたウェブ（フィルム）を、ドラムから剥離後、フィルム搬送時に３０～４０℃で、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いてテンター装置内で２０分間乾燥した。引き続き、ウェブをロール搬送しながらゾーン加熱により後乾燥した。得られたウェブにナーリングを施した後、巻き取った。
　得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは２６ｎｍであった。

（配向膜の形成）
　上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、ＷＯ２０２０／０５０３０５号公報の実施例１に記載された光配向膜形成材料を塗布した。その後、塗膜を温風にて１２０℃に加熱して硬膜させた。次いで、塗膜に３６５ｎｍの偏光紫外線を照射し、光配向膜を得た。

（光学異方性層（１ｃ）の形成）
　上記で作製した光配向膜上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ｃ）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｚに該当する光学異方性層（１ｃ）を形成した。
　光学異方性層（１ｃ）の厚みは０．９μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１２５ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は１７５°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（１ｃ）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が１８５°、セルロースアシレートフィルムに接する側が０°であった。
　なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板であるセルロースアシレートフィルムの幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１ｃ）
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下記の棒状液晶化合物（Ａ）　　　　　　　　　　　　　１００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
　（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　　４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製）　　３質量部
下記の左捩れキラル剤（Ｌ１）　　　　　　　　　　　１．６８質量部
下記の含フッ素化合物Ｃ　　　　　　　　　　　　　　０．０８質量部
下記のポリマー（Ａ）　　　　　　　　　　　　　　　０．５０質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　１５６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　棒状液晶化合物（Ａ）（以下、化合物の混合物）

　左捩れキラル剤（Ｌ１）

　含フッ素化合物Ｃ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、真ん中の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は５０質量％であった。）

　ポリマー（Ａ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を表す。）

（光学異方性層（１ｂ）の形成）
　上記で作製した光学異方性層（１ｃ）の表面に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は８５°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は－５°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、反時計回りに９５°回転させた位置である。

　上記ラビング処理した光学異方性層（１ｃ）上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ｂ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｙに該当する光学異方性層（１ｂ）を形成した。
　光学異方性層（１ｂ）の厚みは１．１μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１６４ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（１ｃ）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が１０４°、光学異方性層（１ｃ）に接する側が１８５°であった。
　なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１ｂ）
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の円盤状液晶化合物１　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
下記の円盤状液晶化合物２　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
下記の配向膜界面配向剤１　　　　　　　　　　　　　０．５５質量部
下記の含フッ素化合物Ａ　　　　　　　　　　　　　　　０．１質量部
下記の含フッ素化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　　０．０５質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ　　　　　　　　　　　　　　０．２１質量部
下記の左捩れキラル剤（Ｌ２）　　　　　　　　　　　０．３０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
　（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　１０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ製）　　　３．０質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　円盤状液晶化合物１

　円盤状液晶化合物２

　配向膜界面配向剤１

　含フッ素化合物Ａ（下記式中、ａおよびｂは、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、ａは９０質量％、ｂは１０質量％を表す。）

　含フッ素化合物Ｂ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は３２．５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は６７．５質量％であった。）

　左捩れキラル剤（Ｌ２）

　上記手順によって、セルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（１ｃ）と光学異方性層（１ｂ）とが積層された積層体（１ｂ－１ｃ）を作製した。

（光学異方性層（１ａ）の形成）
　次いで、上記作製した積層体（１ｂ－１ｃ）の光学異方性層（１ｂ）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ａ）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｘに該当する光学異方性層（１ａ）を形成した。
　光学異方性層（１ａ）の厚みは、１．２μｍであった。また、５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１６８ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（１ａ）側から見たとき、面内遅相軸方向は１０４°であった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１ａ）
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶化合物（Ａ）　　　　　　　　　　　　　１００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
　（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　　４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製）　　３質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ　　　　　　　　　　　　　　０．０８質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　１５６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｂ）、および、光学異方性層（１ａ）が積層された積層体（１ａ－１ｂ－１ｃ）を作製した。

＜実施例２＞
（光学異方性層（２ｃ）の形成）
　上記実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に光配向膜を得た。
　上記で作製した光配向膜上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（２ｃ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｚに該当する光学異方性層（２ｃ）を形成した。
　光学異方性層（２ｃ）の厚みは０．８μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１３５ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は１７５°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（２ｃ）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が９５°、セルロースアシレートフィルムに接する側が２７０°であった。
　なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（２ｃ）
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の円盤状液晶化合物１　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
上記の円盤状液晶化合物２　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
上記の配向膜界面配向剤１　　　　　　　　　　　　　０．５５質量部
上記の含フッ素化合物Ａ　　　　　　　　　　　　　　　０．１質量部
上記の含フッ素化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　　０．０５質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ　　　　　　　　　　　　　　０．２１質量部
上記の左捩れキラル剤（Ｌ２）　　　　　　　　　　　０．７８質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
　（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　１０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ製）　　　３．０質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

（光学異方性層（２ｂ）の形成）
　上記で作製した光学異方性層（２ｃ）上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（２ｂ）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｙに該当する光学異方性層（２ｂ）を形成した。
　光学異方性層（２ｂ）の厚みは１．２μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１６４ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（２ｂ）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が１４°、光学異方性層（２ｃ）に接する側が９５°であった。
　なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（２ｂ）
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶化合物（Ａ）　　　　　　　　　　　　　１００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
　（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　　４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製）　　３質量部
上記の左捩れキラル剤（Ｌ１）　　　　　　　　　　　０．６０質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ　　　　　　　　　　　　　　０．０８質量部
上記のポリマー（Ａ）　　　　　　　　　　　　　　　０．５０質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　１５６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　上記手順によって、セルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（２ｃ）と光学異方性層（２ｂ）とが積層された積層体（２ｂ－２ｃ）を作製した。

（光学異方性層（２ａ）の形成）
　上記作製した積層体（２ｂ－２ｃ）の光学異方性層（２ｂ）に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１４°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、反時計回りに７６°回転させた位置である。

　上記ラビング処理した光学異方性層（２ｂ）上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（２ａ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｘに該当する光学異方性層（２ａ）を形成した。
　光学異方性層（２ａ）の厚みは、１．１μｍであった。また、５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１６８ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、光学異方性層（２ａ）の遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（２ａ）側から見たとき、面内遅相軸方向は１４°であった。

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光学異方性層形成用組成物（２ａ）
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上記の円盤状液晶化合物１　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
上記の円盤状液晶化合物２　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
上記の配向膜界面配向剤１　　　　　　　　　　　　　０．５５質量部
上記の含フッ素化合物Ａ　　　　　　　　　　　　　　　０．１質量部
上記の含フッ素化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　　０．０５質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ　　　　　　　　　　　　　　０．２１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
　（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　１０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ製）　　　３．０質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（２ｃ）、光学異方性層（２ｂ）、光学異方性層（２ａ）が積層された積層体（２ａ－２ｂ－２ｃ）を作製した。

＜実施例３＞
（光学異方性層（３ｃ）の形成）
　上記実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に光配向膜を形成した。
　上記で作製した光配向膜上に、ギーサー塗布機を用いて、実施例１の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ｂ）を、厚さを変えて塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｚに該当する光学異方性層（３ｃ）を形成した。
　光学異方性層（３ｃ）の厚みは０．６μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは８２ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は４０．５°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（３ｃ）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が５４．５°、セルロースアシレートフィルムに接する側が９５°であった。
　なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

（光学異方性層（３ｂ）の形成）
　上記で作製した光学異方性層（３ｃ）上に、ギーサー塗布機を用いて、実施例２の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（２ｂ）を、厚さを変えて塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｙに該当する光学異方性層（３ｂ）を形成した。
　光学異方性層（３ｂ）の厚みは０．６μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは８２ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は４０．５°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（３ｂ）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が１４°、光学異方性層（２ｃ）に接する側が５４．５°であった。
　なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

　上記手順によって、セルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（３ｃ）と光学異方性層（３ｂ）とが積層された積層体（３ｂ－３ｃ）を作製した。

（光学異方性層（３ａ－３ａ’）の形成）
　上記作製した積層体（３ｂ－３ｃ）の光学異方性層（３ｂ）に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１４°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、反時計回りに７６°回転させた位置である。

　上記ラビング処理した光学異方性層（３ｂ）上に、ギーサー塗布機を用いて、実施例２の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（２ａ）を、厚さを変えて塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｘの一部に該当する光学異方性層（３ａ）を形成した。
　光学異方性層（３ａ）の厚みは、０．８μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１２８ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、光学異方性層（２ａ）の遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（３ａ）側から見たとき、面内遅相軸方向は１４°であった。

　上記手順によって、セルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（３ｃ）、光学異方性層（３ｂ）、および、光学異方性層（３ａ）が積層された積層体（３ａ－３ｂ－３ｃ）を作製した。

　上記作製した積層体（３ａ－３ｂ－３ｃ）の光学異方性層（３ａ）の上に、ギーサー塗布機を用いて、実施例１の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ａ）を、厚さを変えて塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層（Ａ）の一部に該当する光学異方性層（３ａ’）を形成した。
　光学異方性層（３ａ’）の厚みは、０．３μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは４０ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（３ａ’）側から見たとき、面内遅相軸方向は１４°であった。

　上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（３ｃ）、光学異方性層（３ｂ）、光学異方性層（３ａ）、および、光学異方性層（３ａ’）が積層された積層体（３ａ’－３ａ－３ｂ－３ｃ）を作製した。

＜実施例４＞
（光学異方性層（４ｃ）の形成）
　上記実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に光配向膜を形成した。
　上記で作製した光配向膜上に、ギーサー塗布機を用いて、実施例２の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（２ｂ）を、厚さを変えて塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｚに該当する光学異方性層（４ｃ）を形成した。
　光学異方性層（４ｃ）の厚みは０．６μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは８２ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は４０．５°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（４ｃ）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が１４４．５°、セルロースアシレートフィルムに接する側が１８５°であった。
　なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

（光学異方性層（４ｂ）の形成）
　上記作製した光学異方性層（４ｃ）に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は５４．５°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１４４．５°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、反時計回りに５４．５°回転させた位置である。

　上記ラビング処理した光学異方性層（４ｃ）の上に、ギーサー塗布機を用いて、実施例１の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ｂ）を厚さを変えて塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｙに該当する光学異方性層（４ｂ）を形成した。
　光学異方性層（４ｂ）の厚みは０．６μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは８２ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は４０．５°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（４ｂ）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が１０４°、光学異方性層（４ｃ）に接する側が１４４．５°であった。
　なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

　上記手順によって、セルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（４ｃ）と光学異方性層（４ｂ）とが積層された積層体（４ｂ－４ｃ）を作製した。

（光学異方性層（４ａ－４ａ’）の形成）
　上記作製した積層体（４ｂ－４ｃ）の光学異方性層（４ｂ）の上に、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（４ａ）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｘの一部に該当する光学異方性層（４ａ）を形成した。
　光学異方性層（４ａ）の厚みは、０．９μｍであった。また、５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１２８ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（４ａ）側から見たとき、遅相軸は１０４°であった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（４ａ）
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶化合物（Ａ）　　　　　　　　　　　　　１００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
　（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　　４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製）　　３質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ　　　　　　　　　　　　　　０．０８質量部
下記のポリマー（Ａ）　　　　　　　　　　　　　　　０．５０質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　１５６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　上記手順によって、セルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（４ｃ）、光学異方性層（４ｂ）、および、光学異方性層（４ａ）が積層された積層体（４ａ－４ｂ－４ｃ）を作製した。

　上記作製した積層体（４ａ－４ｂ－４ｃ）の光学異方性層（４ａ）に、連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１４°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、反時計回りに７６°回転させた位置である。

　上記ラビング処理した光学異方性層（４ａ）上に、ギーサー塗布機を用いて、実施例２の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（２ａ）を、厚さを変えて塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｘの一部に該当する光学異方性層（４ａ’）を形成した。
　光学異方性層（４ａ’）の厚みは、０．３μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは４０ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、光学異方性層（４ａ’）の遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交しており、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（４ａ’）側から見たとき、面内遅相軸方向は１０４°であった。

　上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（４ｃ）、光学異方性層（４ｂ）、光学異方性層（４ａ）、および、光学異方性層（４ａ’）が積層された積層体（４ａ’－４ａ－４ｂ－４ｃ）を作製した。

＜直線偏光板の作製＞
　セルローストリアセテートフィルムＴＪ２５（富士フイルム社製：厚み２５μｍ）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥して、偏光子保護フィルムを得た。
　厚さ６０μｍのロール状ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムをヨウ素水溶液中で長手方向に連続して延伸し、乾燥して厚さ１３μｍの偏光子を得た。偏光子の視感度補正単体透過率は、４３％であった。このとき、偏光子の吸収軸方向と長手方向は一致していた。
　上記偏光子の片方の面に上記偏光子保護フィルムを、下記ＰＶＡ接着剤を用いて貼り合わせて、直線偏光板を作製した。

（ＰＶＡ接着剤の調製）
　アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）１００質量部、および、メチロールメラミン２０質量部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度３．７質量％に調整した水溶液として、ＰＶＡ接着剤を調製した。

＜円偏光板の作製＞
　上記実施例１～４で作製した長尺状の光学フィルムに含まれる光学異方性層Ｘに該当する層、すなわち、光学異方性層（１ａ）、光学異方性層（２ａ）、光学異方性層（３ａ’）または光学異方性層（４ａ’）の表面と、上記作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。
　続いて、光学異方性層Ｃに該当する層、すなわち、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（２ｃ）、光学異方性層（３ｃ）または光学異方性層（４ｃ）側のセルロースアシレートフィルムおよび光配向膜を剥離し、光学異方性層Ｚのセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。
　このようにして、実施例１～４の光学フィルムと直線偏光板からなり、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層Ｘ、光学異方性層Ｙ、光学異方性層Ｚが、この順に積層された円偏光板（Ｐ１～Ｐ４）を作製した。このとき、幅方向を基準の０°として、偏光子の吸収軸は９０°であり、長手方向と一致していた。
　なお、実施例１で作製した光学フィルムを含む円偏光板（Ｐ１）において、偏光子の吸収軸と、各光学異方性層の面内遅相軸との関係は、上述した図１０～１２で述べた態様になっていた。
　なお、実施例２で作製した光学フィルムを含む円偏光板（Ｐ２）において、偏光子の吸収軸と、各光学異方性層の面内遅相軸との関係は、上述した図１４～１６で述べた態様になっていた。
　なお、実施例３で作製した光学フィルムを含む円偏光板（Ｐ３）において、偏光子の吸収軸と、各光学異方性層の面内遅相軸との関係は、上述した図２～４で述べた態様になっていた。
　なお、実施例４で作製した光学フィルムを含む円偏光板（Ｐ４）において、偏光子の吸収軸と、各光学異方性層の面内遅相軸との関係は、上述した図６～８で述べた態様になっていた。

＜比較例１＞
　特許第５９６０７４３号の実施例１に記載の方法と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、垂直配向した円盤状液晶からなる光学異方性層（ｈ１）と、捩れ配向した円盤状液晶からなる光学異方性層（ｈ２）とが、この順に直接積層された光学フィルムを作製した。
　このとき、光学異方性層（ｈ１）の波長５５０ｎｍにおけるレタデーションは１８１ｎｍであり、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（ｈ１）側から見たとき、遅相軸は－１３°であった。また、光学異方性層（ｈ２）の波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１７２ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８１°であり、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（ｈ２）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が－９４°、セルロースアシレートフィルムに接する側が－１３°であった。
　上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成された積層体（ｈ１－ｈ２）のセルロースアシレートフィルムの表面と、上記作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。このようにして、円偏光板（ＰＨ）を作製した。

＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
（表示装置への実装）
　有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ　Ｓ４を分解し、円偏光板を剥離して、そこに上記作製した円偏光板を、偏光子保護フィルムが外側に配置されるように、感圧型粘着剤を用いて表示装置に貼り合せた。

〔表示性能の評価〕
（正面方向）
　作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において正面方向より観察し、色味づきを下記の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
　Ａ：色味づきが全く視認されない、もしくは、視認されるものの、わずか。（許容）
　Ｂ：色味づきが視認されるが、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
　Ｃ：色味づきが視認され、反射光も大きく、許容できない。

（斜め方向）
　作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において、極角４５°から蛍光灯を映し込んで、全方位から反射光を観察した。色味変化の方位角依存性を下記の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
　Ａ：色味差が全く視認されない、もしくは、視認されるものの、ごくわずか。（許容）
　Ｂ：色味差が少し視認されるが許容範囲内であり、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
　Ｃ：色味差が視認され、反射光も大きく、許容できない。

　上記表１に示す結果から、本発明の光学フィルムは、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきを抑制することができることが確認された。一方、比較例の光学フィルムは、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、斜め方向における黒色の色味づき抑制が劣っていた。

　１０Ａ，１０Ｂ、１０Ｃ，１０Ｄ　　位相差フィルム
　１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ　　第１光学異方性層
　１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ　　第２光学異方性層
　１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ　　第３光学異方性層
　１８Ａ，１８Ｂ　　第４光学異方性層
　２０　　偏光子
　１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄ　　円偏光板

Claims

　光学異方性層Ｘ、光学異方性層Ｙ、および、光学異方性層Ｚをこの順で含み、
　前記光学異方性層Ｘが、Ａプレートであり、
　前記光学異方性層Ｙが、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した第１液晶化合物を固定してなる層であり、
　前記光学異方性層Ｚが、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した第２液晶化合物を固定してなる層であり、
　前記第１液晶化合物および前記第２液晶化合物の一方は棒状液晶化合物であり、他方は円盤状液晶化合物であり、
　前記光学異方性層Ｘの面内遅相軸と、前記光学異方性層Ｙの前記光学異方性層Ｘ側の表面での面内遅相軸とが平行である、位相差フィルム。
　前記光学異方性層Ｘは、ポジティブＡプレートと、ネガティブＡプレートとを含み、
　前記光学異方性層Ｘの前記光学異方性層Ｙ側とは反対側の表面から、前記ポジティブＡプレートと、前記ネガティブＡプレートとがこの順で配置された場合には、前記第１液晶化合物が棒状液晶化合物であり、前記第２液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、
　前記光学異方性層Ｘの前記光学異方性層Ｙ側とは反対側の表面から、前記ネガティブＡプレートと、前記ポジティブＡプレートとがこの順で配置された場合には、前記第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、前記第２液晶化合物が棒状液晶化合物である、請求項１に記載の位相差フィルム。
　前記光学異方性層Ｘの前記光学異方性層Ｙ側とは反対側のＡプレートの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが２０～９０ｎｍであり、
　前記光学異方性層Ｘの前記光学異方性層Ｙ側のＡプレートの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが７０～２００ｎｍである、請求項２に記載の位相差フィルム。
　前記第１液晶化合物の捩れ角度が４０±２０°の範囲内である、請求項２に記載の位相差フィルム。
　前記第２液晶化合物の捩れ角度が４０±２０°の範囲内である、請求項２に記載の位相差フィルム。
　波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層Ｙの屈折率異方性Δｎと前記光学異方性層Ｙの厚みｄとの積Δｎｄの値が５０～１２０ｎｍである、請求項２に記載の位相差フィルム。
　波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層Ｚの屈折率異方性Δｎと前記光学異方性層Ｚの厚みｄとの積Δｎｄの値が５０～１２０ｎｍである、請求項２に記載の位相差フィルム。
　前記光学異方性層Ｘが、ポジティブＡプレートまたはネガティブＡプレートであり、
　前記光学異方性層ＸがポジティブＡプレートである場合、前記第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、前記第２液晶化合物が棒状液晶化合物であり、
　前記光学異方性層ＸがネガティブＡプレートである場合、前記第１液晶化合物が棒状液晶化合物であり、前記第２液晶化合物が円盤状液晶化合物である、請求項１に記載の位相差フィルム。
　前記光学異方性層Ｘの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１２０～２４０ｎｍである、請求項８に記載の位相差フィルム。
　前記第１液晶化合物の捩れ角度が８０±３０°である、請求項８に記載の位相差フィルム。
　前記第２液晶化合物の捩れ角度が１７５±３０°である、請求項８に記載の位相差フィルム。
　波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層Ｙの屈折率異方性Δｎと前記光学異方性層Ｙの厚みｄとの積Δｎｄの値が１２０～２４０ｎｍである、請求項８に記載の位相差フィルム。
　波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層Ｚの屈折率異方性Δｎと前記光学異方性層Ｚの厚みｄとの積Δｎｄの値が７０～１９０ｎｍである、請求項８に記載の位相差フィルム。
　偏光子と、請求項１～１３のいずれか１項に記載の位相差フィルムとを含む、円偏光板。
　請求項１～１３のいずれか１項に記載の位相差フィルムを含む、表示装置。