JP2022184691A - 位相差フィルム、円偏光板、表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】偏光子と組み合わせて円偏光板として画像表示装置に適用し、画像表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化が小さい、位相差フィルム、円偏光板および画像表示装置の提供。【解決手段】第１光学異方性層、第２光学異方性層、第３光学異方性層、および、第４光学異方性層をこの順に有し第１光学異方性層が、Ｃプレートであり、第２光学異方性層が、Ａプレートであり、第３光学異方性層が、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層であり、第１光学異方性層、第２光学異方性層、第３光学異方性層、および、第４光学異方性層が所定の構成を有する、位相差フィルム。【選択図】なし

Description

本発明は、位相差フィルム、円偏光板、および、表示装置に関する。

屈折率異方性を持つ位相差フィルムは、表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなどの種々の用途に適用されている。
例えば、特許文献１においては、所定の光学特性を示す２種の光学異方性層を積層した位相差板が開示されている。

特許第５９６０７４３号

本発明者らは、特許文献１に記載されている光学異方性層を積層させた光学フィルムを偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化が大きく、改善の余地があることを確認した。

本発明は、上記実情に鑑みて、偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化が小さい、位相差フィルムを提供することを課題とする。
また、本発明は、円偏光板および表示装置も提供することを課題とする。

本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１） 第１光学異方性層、第２光学異方性層、第３光学異方性層、および、第４光学異方性層をこの順に有し
第１光学異方性層が、Ｃプレートであり、
第２光学異方性層が、Ａプレートであり、
第３光学異方性層が、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
第４光学異方性層が、Ｃプレートであり、
第１光学異方性層がネガティブＣプレートである場合、第２光学異方性層がネガティブＡプレートであり、第３光学異方性層の液晶化合物が棒状液晶化合物であり、第４光学異方性層がポジティブＣプレートであり、
第１光学異方性層がポジティブＣプレートである場合、第２光学異方性層がポジティブＡプレートであり、第３光学異方性層の液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第４光学異方性層がネガティブＣプレートであり、
第２光学異方性層の面内遅相軸と、第３光学異方性層の第２光学異方性層側の表面での面内遅相軸とのなす角が０～３０°の範囲内である、位相差フィルム。
（２） 液晶化合物の捩れ角度が８０±３０°の範囲内である、（１）に記載の位相差フィルム。
（３） 第１光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの絶対値が５～１００ｎｍである、（１）または（２）に記載の位相差フィルム。
（４） 第２光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１２０～２４０ｎｍである、（１）～（３）のいずれかに記載の位相差フィルム。
（５） 波長５５０ｎｍにおける第３光学異方性層の屈折率異方性Δｎと第３光学異方性層の厚みｄとの積Δｎｄの値が１２０～２４０ｎｍである、（１）～（４）のいずれかに記載の位相差フィルム。
（６） 第４光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの絶対値が５～１００ｎｍである、（１）～（５）のいずれかに記載の位相差フィルム。
（７） 第１光学異方性層、第２光学異方性層、第３光学異方性層、および、第４光学異方性層をこの順に有し、
第１光学異方性層と第２光学異方性層とが直接接しているか、密着層を介して積層されており、
第２光学異方性層と第３光学異方性層とが直接接しているか、密着層を介して積層されており、
第３光学異方性層と第４光学異方性層とが直接接しているか、密着層を介して積層されており、
後述する要件１～４の少なくとも１つを満たす、位相差フィルム。
（８） 第１光学異方性層、第２光学異方性層、第３光学異方性層、および、第４光学異方性層をこの順に有し
第１光学異方性層が、Ｃプレートであり、
第２光学異方性層が、Ａプレートであり、
第３光学異方性層が、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
第４光学異方性層が、Ｃプレートであり、
第１光学異方性層と第２光学異方性層、第２光学異方性層と第３光学異方性層、および、第３光学異方性層と第４光学異方性層、の少なくとも１つが密着層を介して積層され、
密着層の平均屈折率と、密着層と隣接する光学異方性層の平均屈折率との差が０．１０以下である、位相差フィルム。
（９） 第２光学異方性層と第３光学異方性層とが密着層を介して積層され、
密着層の平均屈折率と、第２光学異方性層の平均屈折率との差が０．０８以下であり、
密着層の平均屈折率と、第３光学異方性層の平均屈折率との差が０．０８以下である、（７）または（８）に記載の位相差フィルム。
（１０） 後述する要件１～４の全てを満たす、（８）に記載の位相差フィルム。
（１１） 偏光子と、（１）～（１０）のいずれかに記載の位相差フィルムとを含む、円偏光板。
（１２） （１）～（１０）のいずれかに記載の位相差フィルムまたは（１１）に記載の円偏光板を含む、表示装置。

本発明によれば、偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化が小さい、位相差フィルムを提供できる。
また、本発明によれば、円偏光板および表示装置も提供できる。

本発明の位相差フィルムの第１実施態様の概略断面図の例である。 本発明の円偏光板の第１実施態様の概略断面図の例である。 本発明の円偏光板の第１実施態様における、偏光子の吸収軸と、第２光学異方性層および第３光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。 図２中の白矢印の方向から観察した際の偏光子の吸収軸と、第２光学異方性層および第３光学異方性層のそれぞれ面内遅相軸との角度の関係を示す概略図である。 本発明の位相差フィルムの第２実施態様の概略断面図の例である。 本発明の円偏光板の第２実施態様の概略断面図の例である。 本発明の円偏光板の第２実施態様における、偏光子の吸収軸と、第２光学異方性層および第３光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。 図６中の白矢印の方向から観察した際の偏光子の吸収軸と、第２光学異方性層および第３光学異方性層のそれぞれ面内遅相軸との角度の関係を示す概略図である。 本発明の位相差フィルムの第３実施態様の概略断面図の例である。 本発明の位相差フィルムの第４実施態様の概略断面図の例である。

以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、面内遅相軸および面内進相軸は、特別な断りがなければ、波長５５０ｎｍにおける定義である。つまり、特別な断りがない限り、例えば、面内遅相軸方向という場合、波長５５０ｎｍにおける面内遅相軸の方向を意味する。

本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本明細書において、屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）は、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。液晶化合物の場合には、光学等方相で固定化したフィルムを本方法で測定することにより、平均屈折率を測定することができる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。

本明細書において、ＡプレートおよびＣプレートは以下のように定義される。
Ａプレートは、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とネガティブＡプレート（負のＡプレート）との２種があり、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＡプレートは式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ネガティブＡプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ａ２） ｎｙ＜ｎｘ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ－ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ－ｎｚ）×ｄが、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。
Ｃプレートは、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）とネガティブＣプレート（負のＣプレート）との２種があり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＣプレートは式（Ｃ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示し、ネガティブＣプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
式（Ｃ２） ｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０～１０ｎｍ、好ましくは０～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

本明細書において、Ａプレート、Ｃプレートおよび厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層などの光学異方性層の平均屈折率は、式（Ｎ１）のように定義される。なお、式（Ｎ１）中のｎｘは、上記と同様に、層面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率を、ｎｙも、上記と同様に、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率を意味する。
式（Ｎ１） （平均屈折率）＝（ｎｘ＋ｎｙ）／２
また、密着層の平均屈折率も、上記式（Ｎ１）により算出される。なお、密着層が光学的に等方性である場合には、密着層の面内のいずれかの方向の屈折率を上記平均屈折率とする。
上記平均屈折率は、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率を意味する。
なお、上記平均屈折率は、後述する実施例にて示すように、反射分光膜厚計ＦＥ３０００（大塚電子株式会社製）を用いて測定できる。具体的には、反射分光膜厚計ＦＥ３０００を用いて、屈折率を測定したい層の反射スペクトルを測定して、得られた反射スペクトルに対してｎ－Ｃａｕｃｈｙの分散式を適用することにより、上記平均屈折率を算出できる。

また、本明細書において、「Ａ層とＢ層とが密着層を介して積層」という場合、密着層はＡ層とＢ層とに接した状態で、Ａ層とＢ層とが積層されている。つまり、密着層の一方の表面はＡ層と接触し、他方の表面はＢ層と接触して、Ａ層とＢ層との間に密着層が配置されている。

なお、本明細書では、「可視光線」とは、波長４００～７００ｎｍの光を意図する。また、「紫外線」とは、波長１０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の光を意図する。
また、本明細書において、「直交」または「平行」については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±５°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、±３°の範囲内であることが好ましい。

本発明の位相差フィルムの特徴点としては、所定の光学異方性層を組み合わせて用いる点が挙げられる。

＜位相差フィルムの第１実施態様＞
以下、本発明の位相差フィルムの第１実施態様について、図面を参照して説明する。図１に、本発明の位相差フィルムの第１実施態様の概略断面図を示す。
位相差フィルム１０Ａは、第１光学異方性層１２Ａ、第２光学異方性層１４Ａ、第３光学異方性層１６Ａ、および、第４光学異方性層１８Ａをこの順に有する。
第１光学異方性層１２ＡはネガティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４ＡはネガティブＡプレートであり、第３光学異方性層１６Ａは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣを固定してなる層であり、第４光学異方性層１８ＡはポジティブＣプレートである。
第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面での面内遅相軸とが平行である。
以下、各層について詳述する。

（第１光学異方性層１２Ａ）
第１光学異方性層１２Ａは、ネガティブＣプレートである。
第１光学異方性層１２Ａの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の位相差フィルムと偏光子と組み合わせて円偏光板として表示装置に適用し、表示装置を斜め方向から全方位角にて観察した際に、色味の変化がより小さい（以下、単に「本発明の効果がより優れる」ともいう。）点で、５～１００ｎｍが好ましく、１０～９０ｎｍがより好ましい。

第１光学異方性層１２ＡはネガティブＣプレートであればその構成は特に制限されず、水平配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層、および、樹脂フィルムが挙げられる。
なお、円盤状液晶化合物が水平配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の主面とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と層の主面とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。
なお、本明細書において、「固定した」状態は、液晶化合物の配向が保持された状態である。具体的には、通常、０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。

円盤状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７、および、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載の化合物が挙げられる。

円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
本明細書において、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。

樹脂フィルムを構成する樹脂の種類は特に制限されず、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）が挙げられる。

第１光学異方性層１２Ａは、水平配向した、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

第１光学異方性層１２Ａの厚みは特に制限されず、第１光学異方性層１２Ａが水平配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層である場合、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
第１光学異方性層１２Ａが樹脂フィルムである場合、第１光学異方性層１２Ａの厚みは、１０～１００μｍｍが好ましく、１５～９０μｍがより好ましい。
なお、第１光学異方性層１２Ａの厚みとは、第１光学異方性層１２Ａの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第２光学異方性層１４Ａ）
第２光学異方性層１４Ａは、ネガティブＡプレートである。
第２光学異方性層１４Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
第２光学異方性層１４Ａの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１２０～－６０ｎｍが好ましく、－１１５～－６５ｎｍがより好ましい。

第２光学異方性層１４Ａは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。

第２光学異方性層１４Ａは、ネガティブＡプレートであればその構成は特に制限されず、垂直配向し、光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している円盤状液晶化合物を固定してなる層、および、延伸フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、垂直配向し、光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している円盤状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と層の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と層の厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。
また、円盤状液晶化合物の光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列している状態とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
円盤状液晶化合物としては、例えば、第１光学異方性層１２Ａで例示した円盤状液晶化合物が挙げられる。
円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

第２光学異方性層１４Ａは、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

第２光学異方性層１４Ａの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
なお、第２光学異方性層１４Ａの厚みとは、第２光学異方性層１４Ａの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第２光学異方性層１４Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第３光学異方性層１６Ａ）
第３光学異方性層１６Ａは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物ＬＣを固定してなる層である。
第３光学異方性層１６Ａは、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相を固定してなる層であることが好ましい。なお、上記第３光学異方性層１６Ａを形成する際には、棒状液晶化合物と後述するキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

棒状液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、８０±３０°の範囲内（５０～１１０°の範囲内）が好ましく、８０±２０°の範囲内（６０～１００°の範囲内）がより好ましい。
なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
また、棒状液晶化合物が捩れ配向するとは、第３光学異方性層１６Ａの厚み方向を軸として、第３光学異方性層１６Ａの一方の主表面から他方の主表面までの棒状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、棒状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第３光学異方性層１６Ａの厚み方向の位置によって異なる。
捩れ配向において、棒状液晶化合物の長軸は、第３光学異方性層１６Ａの主面と平行となるように配置される。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第３光学異方性層１６Ａの主面とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。

波長５５０ｎｍにおける第３光学異方性層１６Ａの屈折率異方性Δｎと第３光学異方性層１６Ａの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面での面内遅相軸とのなす角が０～３０°の範囲内であり、０～２０°の範囲内が好ましい。

第３光学異方性層１６Ａに形成に用いられる棒状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１、および、特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載の化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

第３光学異方性層１６Ａは、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

第３光学異方性層１６Ａの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
なお、第３光学異方性層１６Ａの厚みとは、第３光学異方性層１６Ａの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第３光学異方性層１６Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第４光学異方性層１８Ａ）
第４光学異方性層１８Ａは、ポジティブＣプレートである。
第４光学異方性層１８Ａの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１００～－５ｎｍが好ましく、－１００～－３０ｎｍがより好ましい。

第４光学異方性層１８ＡはポジティブＣプレートであればその構成は特に制限されず、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層、および、樹脂フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
なお、棒状液晶化合物が垂直配向している状態とは、棒状液晶化合物の長軸と第４光学異方性層１８Ａの厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第４光学異方性層１８Ａの厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。

棒状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
棒状液晶化合物としては、例えば、第３光学異方性層１６Ａで例示した棒状液晶化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

第４光学異方性層１８Ａは、垂直配向した、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

第４光学異方性層１８Ａの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
なお、第４光学異方性層１８Ａの厚みとは、第４光学異方性層１８Ａの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第４光学異方性層１８Ａの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（他の部材）
位相差フィルム１０Ａは、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａ以外の他の部材を含んでいてもよい。

（密着層）
位相差フィルム１０Ａは、各光学異方性層間に、密着層を有していてもよい。
密着層としては、公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。

特開平１１－１４９０１５公報に記載のように、一般的に、位相差フィルムを形成する各層（例えば、光学異方性層）は、反射抑制の点から、屈折率を調整することが好ましい。接着対象との屈折率差は、０．１以下が好ましく、０．０８以下がより好ましく、０．０６以下がさらに好ましく、０．０３以下が特に好ましい。
また、密着層の厚みは、０．１～５０μｍが好ましい。薄層化の観点では、２５μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下がさらに好ましく、５μｍ以下が特に好ましい。干渉ムラ抑止の観点では、５μｍ以上がより好ましく、１５μｍ以上がさらに好ましく、２５μｍ以上が特に好ましい。

液晶化合物を固定してなる光学異方性層の層間に密着層を配置する場合は、高屈折の接着剤や粘着剤を用いてもよい。
屈折率を高くするためには、高屈折モノマー、または、高屈折金属微粒子を用いることも好ましい。
高屈折モノマーとしては、分子中にベンゼン環骨格を有することが好ましい。分子中にベンゼン環骨格を有する単官能モノマーとしては、例えば、エトキシ化Ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート、Ｏ－フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－メタクリロイロキシエチルフタレート、２－アクリロイロキシエチルフタレート、２－アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタレート、２－アクリロイロキシプロピルフタレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フェノール（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、フェニルグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、および、ビニルカルバゾールなどが挙げられる。
高屈折金属微粒子としては、無機粒子が挙げられる。無機粒子を構成する成分としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体が挙げられる。上記金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体に含まれる金属原子としては、チタン原子、ケイ素原子、アルミニウム原子、コバルト原子、および、ジルコニウム原子が挙げられる。無機粒子の具体例としては、アルミナ粒子、アルミナ水和物粒子、シリカ粒子、ジルコニア粒子、および、粘土鉱物（例えば、スメクタイト）などの無機酸化物粒子が挙げられる。屈折率の点から、酸化ジルコニウムの粒子が好ましい。
無機粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整できる。
無機粒子の平均粒径は特に制限されないが、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、１～１２０ｎｍが好ましく、１～６０ｎｍがより好ましく、２～４０ｎｍがさらに好ましい。

（配向膜）
位相差フィルム１０Ａは、配向膜をさらに有していてもよい。配向膜は、各光学異方性層間に配置されていてもよい。
なお、図１に示すように、位相差フィルム１０Ａは、各光学異方性層間には、配向膜を有さないことが好ましい。

配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で形成できる。
さらに、電場の付与、磁場の付与、または、光照射（好ましくは偏光）により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
配向膜としては、光配向膜も挙げられる。
配向膜の厚さは、配向機能を発揮することができれば特に制限されないが、０．０１～５．０μｍが好ましく、０．０５～２．０μｍがより好ましく、０．１～０．５μｍがさらに好ましい。

（基板）
位相差フィルム１０Ａは、基板をさらに有していてもよい。
基板としては、透明基板が好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
基板の厚みは特に制限されないが、１０～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。

また、基板は複数枚の積層からなっていてもよい。基板はその上に設けられる層との接着を改善するため、基板の表面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。
また、基板の上に、接着剤層（下塗り層）を設けてもよい。
基板は、いわゆる仮支持体であってもよい。例えば、基板上に光学異方性層を製造した後、必要に応じて、基板を光学異方性層から剥離してもよい。

（位相差フィルムの製造方法）
位相差フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
例えば、第１光学異方性層～第４光学異方性層をそれぞれ作製して、それらを密着層（例えば、粘着剤層または接着剤層）を介して所定の順番で貼り合わせることにより、位相差フィルムを製造できる。
また、第１光学異方性層～第４光学異方性層は、それぞれ形成し得る、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて製造できる。

以下では、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて光学異方性層（第１光学異方性層～第４光学異方性層）を製造する方法について詳述する。

光学異方性層形成用組成物に含まれる重合性基を有する液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物」ともいう。）は、上述した通りである。なお、上述したように、形成される光学異方性層の特性に応じて、棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物が適宜選択される。
光学異方性層形成用組成物中における重合性液晶化合物の含有量は、光学異方性層形成用組成物の全固形分に対して、６０～９９質量％が好ましく、７０～９８質量％がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除去した、光学異方性層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。

光学異方性層形成用組成物は、重合性基を有する液晶化合物以外の他の化合物を含んでいてもよい。
例えば、第３光学異方性層１６Ａを形成するための光学異方性層形成用組成物は、液晶化合物を捩れ配向させるためには、キラル剤を含むことが好ましい。キラル剤は、液晶化合物を捩れ配向させるために添加されるが、勿論、液晶化合物が、分子内に不斉炭素を有するなど、光学活性を示す化合物である場合は、キラル剤の添加は不要である。また、製造方法および捩れ角度によっては、キラル剤の添加は不要である。
キラル剤としては、併用する液晶化合物を相溶するものであれば、特に構造についての制限はない。公知のキラル剤（例えば、日本学術振興会第１４２委員会編「液晶デバイスハンドブック」，第３章４－３項，ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤，１９９頁，１９８９年に記載）のいずれも用いることができる。
キラル剤の使用量は特に制限されず、上述した捩れ角度が達成されるように調整される。

光学異方性層形成用組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。
光学異方性層形成用組成物中における重合開始剤の含有量は、光学異方性層形成用組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。

光学異方性層形成用組成物に含まれていてもよい他の成分としては、上記以外にも、多官能モノマー、配向制御剤（垂直配向剤、水平配向剤）、界面活性剤、密着改良剤、可塑剤、および、溶媒が挙げられる。

光学異方性層形成用組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法が挙げられる。

次に、形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物を配向させる。例えば、第１光学異方性層１２Ａを形成する際には、円盤状液晶化合物を水平配向させる。また、第２光学異方性層１４Ａを形成する際には、円盤状液晶化合物を垂直配向させ、円盤状液晶化合物の光軸（円盤面と直交する軸）が同一方位に配列しているように配向させる。また、第３光学異方性層１６Ａを形成する際には、棒状液晶化合物を捩れ配向させる。また、第４光学異方性層１８Ａを形成する際には、棒状液晶化合物を垂直配向させる。

配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、５０～１５０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、塗膜を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、塗膜を冷却してもよい。

次に、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す。
重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量が好ましい。
光照射処理の際の雰囲気は特に制限されないが、窒素雰囲気が好ましい。

＜円偏光板の第１実施態様＞
本発明の位相差フィルムの第１実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。なお、円偏光板とは、無偏光の光を円偏光に変換する光学素子である。
上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。

偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性物質を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。

図２に、円偏光板１００Ａの一実施態様の概略断面図を示す。また、図３は、図２に示す円偏光板１００Ａにおける、偏光子２０の吸収軸と、第２光学異方性層１４Ａおよび第３光学異方性層１６Ａのそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。なお、図３中の偏光子２０中の矢印は吸収軸を、第２光学異方性層１４Ａおよび第３光学異方性層１６Ａ中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。
また、図４は、図２の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第２光学異方性層１４Ａおよび第３光学異方性層１６Ａのそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
なお、面内遅相軸の回転角度は、図２中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、液晶化合物の捩れ方向は、図２中の白抜きの矢印から観察した際、第３光学異方性層１６Ａ中の手前側（偏光子２０側とは反対側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）を判断する。

円偏光板１００Ａは、図２に示すように、偏光子２０と、第１光学異方性層１２Ａと、第２光学異方性層１４Ａと、第３光学異方性層１６Ａと、第４光学異方性層１８Ａとをこの順で含む。
図３～４に示すように、偏光子２０の吸収軸と第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸とのなす角度φａ１は、７５°である。より具体的には、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、－７５°（時計回りに７５°）回転している。なお、図３～４においては、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸が－７５°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、－７５±１３°の範囲内になることが好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸とのなす角度は７５±１３°の範囲内であることが好ましい。
なお、図３に示すように、第２光学異方性層１４Ａ中において、第２光学異方性層１４Ａの偏光子２０側の表面１４１Ａでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ａの第３光学異方性層１６Ａ側の表面１４２Ａでの面内遅相軸とは、平行である。

図３～４に示すように、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸とは、平行である。
なお、図３～４においては、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸とが、平行である態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸とのなす角度は０～３０°の範囲内であればよい。従って、例えば、図２の白矢印から観察した際に、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸を基準にして、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸が、３０°時計回りの位置に配置されていてもよいし、３０°反時計回りの位置に配置されていてもよい。
第３光学異方性層１６Ａは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図３～４に示すように、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側とは反対側の表面１６２Ａでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図３においては、８０°）をなす。つまり、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側とは反対側の表面１６２Ａでの面内遅相軸とのなす角度φａ２は、８０°である。より具体的には、第３光学異方性層１６Ａ中における棒状液晶化合物の捩れ方向は、右捩れ（時計回り）であり、その捩れ角度が８０°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側とは反対側の表面１６２Ａでの面内遅相軸とのなす角度は、５°である。
なお、図３～４においては、第３光学異方性層１６Ａ中の棒状液晶化合物の捩れ角度が８０°の態様を示すが、この態様に限定されず、棒状液晶化合物の捩れ角度は８０±３０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側の表面１６１Ａでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ａの第２光学異方性層１４Ａ側とは反対側の表面１６２Ａでの面内遅相軸とのなす角度は、８０±３０°の範囲内であることが好ましい。

上述したように、図３～４の態様では、位相差フィルム１０Ａ側から円偏光板１００Ａを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸が時計回りに７５°回転しており、第３光学異方性層１６Ａ中における棒状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）である。
図３～４においては、棒状液晶化合物の捩れ方向が時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、反時計回りの態様であってもよい。より具体的には、位相差フィルム１０Ａ側から円偏光板１００Ａを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第２光学異方性層１４Ａの面内遅相軸が反時計回りに７５°回転しており、第３光学異方性層１６Ａ中における棒状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）である態様であってもよい。

つまり、位相差フィルムの第１実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第２光学異方性層の面内遅相軸が時計回りに７５±１３°（好ましくは、７５±１０°）の範囲内で回転している場合、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における棒状液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。
また、位相差フィルムの第１実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第２光学異方性層の面内遅相軸が反時計回りに７５±１３°（好ましくは、７５±１０°）の範囲内で回転している場合、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における棒状液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであることが好ましい。

上記円偏光板は、位相差フィルムおよび偏光子以外の他の部材を有していてもよい。
円偏光板は、位相差フィルムと偏光子との間に、密着層を有していてもよい。
密着層としては、上述した公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。

上記円偏光板の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、偏光子と、位相差フィルムとを密着層を介して貼合する方法が挙げられる。

＜位相差フィルムの第２実施態様＞
以下、本発明の位相差フィルムの第２実施態様について、図面を参照して説明する。図５に、本発明の位相差フィルムの第２実施態様の概略断面図を示す。
位相差フィルム１０Ｂは、第１光学異方性層１２Ｂ、第２光学異方性層１４Ｂ、第３光学異方性層１６Ｂ、および、第４光学異方性層１８Ｂをこの順に有する。
第１光学異方性層１２ＢはポジティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４ＢはポジティブＡプレートであり、第３光学異方性層１６Ｂは厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣを固定してなる層であり、第４光学異方性層１８ＢはネガティブＣプレートである。
以下、各層について詳述する。

（第１光学異方性層１２Ｂ）
第１光学異方性層１２Ｂは、ポジティブＣプレートである。
第１光学異方性層１２Ｂの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、－１００～－５ｎｍが好ましく、－９０～－１０ｎｍがより好ましい。

第１光学異方性層１２ＢはポジティブＣプレートであればその構成は特に制限されず、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層、および、樹脂フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
棒状液晶化合物が垂直配向している状態とは、棒状液晶化合物の長軸と第１光学異方性層１２Ｂの厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第１光学異方性層１２Ｂの厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。

棒状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
棒状液晶化合物の具体例としては、位相差フィルムの第１実施態様で述べた通りである。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

第１光学異方性層１２Ｂは、垂直配向した、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

第１光学異方性層１２Ｂの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
なお、第１光学異方性層１２Ｂの厚みとは、第１光学異方性層１２Ｂの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第１光学異方性層１２Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第２光学異方性層）
第２光学異方性層１４Ｂは、ポジティブＡプレートである。
第２光学異方性層１４Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
第２光学異方性層１４Ｂの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、６０～１２０ｎｍが好ましく、６５～１１５ｎｍがより好ましい。

第２光学異方性層１４Ｂは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。

第２光学異方性層１４Ｂは、ポジティブＡプレートであればその構成は特に制限されず、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層、および、延伸フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。
本明細書において、ホモジニアス配向とは、液晶化合物の分子軸（例えば、棒状液晶化合物の場合には長軸が該当）が層表面に対して水平に、かつ、同一方位に配列している状態（光学的一軸性）をいう。
ここで、水平とは、厳密に水平であることを要求するものでなく、液晶化合物の平均分子軸が層の主面とのなす傾斜角が２０°未満の配向を意味するものとする。
また、同一方位とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。
棒状液晶化合物の具体例としては、位相差フィルムの第１実施態様で述べた通りである。
棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
棒状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

第２光学異方性層１４Ｂは、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

第２光学異方性層１４Ｂの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
なお、第２光学異方性層１４Ｂの厚みとは、第２光学異方性層１４Ｂの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第２光学異方性層１４Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第３光学異方性層１６Ｂ）
第３光学異方性層１６Ｂは、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物ＬＣを固定してなる層である。
上記第３光学異方性層１６Ｂを形成する際には、円盤状液晶化合物とキラル剤とを少なくとも用いることが好ましい。

円盤状液晶化合物の捩れ角度（円盤状液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は特に制限されず、０°超３６０°以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、８０±３０°の範囲内（５０～１１０°の範囲内）が好ましく、８０±２０°の範囲内（６０～１００°の範囲内）がより好ましい。
なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
また、円盤状液晶化合物が捩れ配向するとは、第３光学異方性層１６Ｂの厚み方向を軸として、第３光学異方性層１６Ｂの一方の主表面から他方の主表面までの円盤状液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、円盤状液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第３光学異方性層１６Ｂの厚み方向の位置によって異なる。
捩れ配向において、円盤状液晶化合物は垂直配向している。なお、円盤状液晶化合物が垂直配向している状態とは、円盤状液晶化合物の円盤面と第３光学異方性層１６Ｂの厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、円盤面と第３光学異方性層１６Ｂの厚み方向とのなす角度が０±２０°の範囲であることが好ましく、０±１０°の範囲内が好ましい。

第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面での面内遅相軸とのなす角が０～３０°の範囲内であり、０～２０°の範囲内が好ましい。

波長５５０ｎｍにおける第３光学異方性層１６Ｂの屈折率異方性Δｎと第３光学異方性層１６Ｂの厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１２０～２４０ｎｍが好ましく、１３０～２３０ｎｍがより好ましい。
上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

第３光学異方性層１６Ｂに形成に用いられる円盤状液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の化合物が挙げられる。
円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

第３光学異方性層１６Ｂは、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

第３光学異方性層１６Ｂの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
なお、第３光学異方性層１６Ｂの厚みとは、第３光学異方性層１６Ｂの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第３光学異方性層１６Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（第４光学異方性層１８Ｂ）
第４光学異方性層１８Ｂは、ネガティブＣプレートである。
第４光学異方性層１８Ｂの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、５～１００ｎｍが好ましく、１０～８０ｎｍがより好ましい。

第４光学異方性層１８ＢはネガティブＣプレートであればその構成は特に制限されず、水平配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層、および、樹脂フィルムが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、水平配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層が好ましい。

円盤状液晶化合物としては、公知の化合物を用いることができる。
円盤状液晶化合物としては、例えば、第２光学異方性層１４Ａで例示した円盤状液晶化合物が挙げられる。
円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
円盤状液晶化合物が有してもよい重合性基の種類は、上述した通りである。

樹脂フィルムを構成する樹脂の種類は特に制限されず、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）が挙げられる。

第４光学異方性層１８Ｂは、水平配向した、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

第４光学異方性層１８Ｂの厚みは特に制限されず、第４光学異方性層１８Ｂが水平配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層である場合、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
第４光学異方性層１８Ｂが樹脂フィルムである場合、第４光学異方性層１８Ｂの厚みは、１０～１００μｍが好ましく、１５～９０μｍがより好ましい。
なお、第４光学異方性層１８Ｂの厚みとは、第４光学異方性層１８Ｂの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、第４光学異方性層１８Ｂの任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

（他の部材）
位相差フィルム１０Ｂは、上述した第１光学異方性層１２Ｂ～第４光学異方性層１８Ｂ以外の他の部材を含んでいてもよい。
他の部材としては、上述した位相差フィルムの第１実施態様で述べた他の部材が挙げられる。

第１光学異方性層１２Ｂ～第４光学異方性層１８Ｂの製造方法は特に制限されず、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａの製造方法が挙げられる。

＜円偏光板の第２実施態様＞
本発明の位相差フィルムの第２実施態様は、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。
上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
偏光子は、第１実施態様で述べた通りである。

図６に、円偏光板１００Ｂの一実施態様の概略断面図を示す。また、図７は、図６に示す円偏光板１００Ｂにおける、偏光子２０の吸収軸と、第２光学異方性層１４Ｂおよび第３光学異方性層１６Ｂのそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。なお、図７中の偏光子２０中の矢印は吸収軸を、第２光学異方性層１４Ｂおよび第３光学異方性層１６Ｂ中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。
また、図８は、図６の白矢印から観察した際の、偏光子２０の吸収軸（破線）と、第２光学異方性層１４Ｂおよび第３光学異方性層１６Ｂのそれぞれの面内遅相軸（実線）との角度の関係を示す図である。
なお、面内遅相軸の回転角度は、図６中の白抜きの矢印から観察した際、偏光子２０の吸収軸を基準（０°）に、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表す。また、捩れ方向は、図６中の白抜きの矢印から観察した際、第３光学異方性層１６Ｂ中の手前側（偏光子２０と反対側）の表面での面内遅相軸を基準に右捩れ（時計回り）か、左捩れ（反時計回り）を判断する。

円偏光板１００Ｂは、図６に示すように、偏光子２０と、第１光学異方性層１２Ｂと、第２光学異方性層１４Ｂと、第３光学異方性層１６Ｂと、第４光学異方性層１８Ｂとをこの順で含む。
図７～８に示すように、偏光子２０の吸収軸と第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸とのなす角度φｂ１は、１５°である。より具体的には、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸は、偏光子２０の吸収軸に対して、１５°（反時計回りに１５°）回転している。なお、図７～８においては、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸が１５°の位置にある態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、１５±１３°の範囲内になることが好ましい。つまり、偏光子２０の吸収軸と第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸とのなす角度は１５±１３°の範囲内であることが好ましい。
なお、図７に示すように、第２光学異方性層１４Ｂ中において、第２光学異方性層１４Ｂの偏光子２０側の表面１４１Ｂでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１４Ｂの第３光学異方性層１６Ｂ側の表面１４２Ｂでの面内遅相軸とは、平行である。

図７～８に示すように、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸とは、平行である。
なお、図７～８においては、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸とが、平行である態様を示すが、本発明はこの態様に制限されず、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸とのなす角度は０～３０°の範囲内であればよい。従って、例えば、図６の白矢印から観察した際に、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸を基準にして、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸が、３０°時計回りの位置に配置されていてもよいし、３０°反時計回りの位置に配置されていてもよい。
第３光学異方性層１６Ｂは、上述したように、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物が固定されてなる層である。そのため、図７～８に示すように、第３光学異方性層１６Ｂの偏光子２０側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの偏光子２０側とは反対側の表面１６２Ｂでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（なお、図７においては、８０°）をなす。つまり、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側とは反対側の表面１６２Ｂでの面内遅相軸とのなす角度φｂ２は、８０°である。より具体的には、第３光学異方性層１６Ｂ中における円盤状液晶化合物の捩れ方向は、右捩れ（時計回り）であり、その捩れ角度が８０°である。従って、偏光子２０の吸収軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側とは反対側の表面１６２Ｂでの面内遅相軸とのなす角度は、９５°である。
なお、図７～８においては、第３光学異方性層１６Ｂ中の円盤状液晶化合物の捩れ角度が８０°の態様を示すが、この態様に限定されず、円盤状液晶化合物の捩れ角度は８０±３０°の範囲内であることが好ましい。つまり、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側の表面１６１Ｂでの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｂの第２光学異方性層１４Ｂ側とは反対側の表面１６２Ｂでの面内遅相軸とのなす角度は、８０±３０°の範囲内であることが好ましい。

上述したように、図７～８の態様では、位相差フィルム１０Ｂ側から円偏光板１００Ｂを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸が反時計回りに１５°回転しており、第３光学異方性層１６Ｂ中における円盤状液晶化合物の捩れ方向は時計回り（右捩れ）である。
図７～８においては、円盤状液晶化合物の捩れ方向が時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、反時計回りの態様であってもよい。より具体的には、位相差フィルム１０Ｂ側から円偏光板１００Ｂを観察した際に、偏光子２０の吸収軸を基準にして、第２光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸が時計回りに１５°回転しており、第３光学異方性層１６Ｂ中における円盤状液晶化合物の捩れ方向は反時計回り（左捩れ）である態様であってもよい。

つまり、位相差フィルムの第２実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第２光学異方性層の面内遅相軸が反時計回りに１５±１３°（好ましくは、１５±１０°）の範囲内で回転している場合、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が時計回りであることが好ましい。
また、位相差フィルムの第２実施態様を含む円偏光板においては、位相差フィルム側から円偏光板を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、第２光学異方性層の面内遅相軸が時計回りに１５±１３°（好ましくは、１５±１０°）の範囲内で回転している場合、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第３光学異方性層中における液晶化合物の捩れ方向が反時計回りであることが好ましい。

上記円偏光板は、位相差フィルムおよび偏光子以外の他の部材を有していてもよい。
円偏光板は、位相差フィルムと偏光子との間に、密着層を有していてもよい。
密着層としては、上述した公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。

上記円偏光板の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、偏光子と、位相差フィルムとを密着層を介して貼合する方法が挙げられる。

＜位相差フィルムの第３実施態様＞
以下、本発明の位相差フィルムの第３実施態様について、図面を参照して説明する。図９に、本発明の位相差フィルムの第３実施態様の概略断面図を示す。
位相差フィルム１０Ｃは、第１光学異方性層１２Ｃ、第２光学異方性層１４Ｃ、第３光学異方性層１６Ｃ、および、第４光学異方性層１８Ｃをこの順に有し、第２光学異方性層１４Ｃと第３光学異方性層１６Ｃとが密着層２２を介して積層されている。
図９においては、第１光学異方性層１２Ｃと第２光学異方性層１４Ｃとが直接接しており、第２光学異方性層１４Ｃと第３光学異方性層１６Ｃとは密着層２２を介して積層され、第３光学異方性層１６Ｃと第４光学異方性層１８Ｃとが直接接している。
なお、図９においては、第１光学異方性層１２Ｃと第２光学異方性層１４Ｃとが直接接しているが、両者の間に密着層が配置され、密着層を介して第１光学異方性層１２Ｃと第２光学異方性層１４Ｃとが積層されていてもよい。
また、図９においては、第３光学異方性層１６Ｃと第４光学異方性層１８Ｃとが直接接しているが、両者の間に密着層が配置され、密着層を介して第３光学異方性層１６Ｃと第４光学異方性層１８Ｃとが積層されていてもよい。
また、図９においては、第２光学異方性層１４Ｃと第３光学異方性層１６Ｃとは密着層２２を介して積層されているが、第２光学異方性層１４Ｃと第３光学異方性層１６Ｃとは直接接していてもよい。

本発明の位相差フィルムの第３実施態様においては、以下の要件１～４の少なくとも１つを満たす。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、要件１～４の全てを満たすことが好ましい。
要件１：第１光学異方性層の平均屈折率と、第１光学異方性層の第２光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差が０．１０以下である。
要件２：第２光学異方性層の平均屈折率と、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差、および、第２光学異方性層の平均屈折率と、第２光学異方性層の第３光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下である。
要件３：第３光学異方性層の平均屈折率と、第３光学異方性層の第２光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差、および、第３光学異方性層の平均屈折率と、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下である。
要件４：第４光学異方性層の平均屈折率と、第４光学異方性層の第３光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差が０．１０以下である。
以下、図９の位相差フィルムを例にとり、要件１～４について説明する。

要件１は、第１光学異方性層の平均屈折率と、第１光学異方性層の第２光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差が０．１０以下であることを規定する。図９においては、第１光学異方性層１２Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面と接している層は第２光学異方性層１４Ｃ自体であることから、図９においては、第１光学異方性層１２Ｃの平均屈折率と第２光学異方性層１４Ｃの平均屈折率との差が０．１０以下であれば、要件１を満たすことになる。
上記差は、２つの平均屈折率のうち大きい値から小さい値を引いた値であり、両者が同じ値である場合、差は０である。
なお、図９においては、第１光学異方性層と第２光学異方性層とが直接接している態様であったが、第１光学異方性層と第２光学異方性層とが密着層を介して積層され、第１光学異方性層と密着層とが接している場合、第１光学異方性層の平均屈折率と密着層の平均屈折率との差が０．１０以下であれば、要件１を満たすことになる。

要件２は、第２光学異方性層の平均屈折率と、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差、および、第２光学異方性層の平均屈折率と、第２光学異方性層の第３光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であること規定する。図９においては、第２光学異方性層１４Ｃの第１光学異方性層１２Ｃ側の表面と接している層は、第１光学異方性層１２Ｃ自体である。また、第２光学異方性層１４Ｃの第３光学異方性層１６Ｃ側の表面と接している層は、密着層２２である。よって、図９においては、第２光学異方性層１４Ｃの平均屈折率と第１光学異方性層１２Ｃの平均屈折率との差、および、第２光学異方性層１４Ｃの平均屈折率と密着層２２の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であれば、要件２を満たすことになる。
上記差は、２つの平均屈折率のうち大きい値から小さい値を引いた値であり、両者が同じ値である場合、差は０である。
なお、図９においては、密着層を介して第２光学異方性層と第３光学異方性層とが積層している態様であったが、第２光学異方性層と第３光学異方性層とが直接接している場合、第２光学異方性層の平均屈折率と第１光学異方性層の平均屈折率との差、および、第２光学異方性層の平均屈折率と第３光学異方性層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であれば、要件２を満たすことになる。
また、図９においては、第１光学異方性層と第２光学異方性層とが直接接している態様であったが、第１光学異方性層と第２光学異方性層とが密着層を介して積層され、第２光学異方性層と密着層とが接している場合、第２光学異方性層の平均屈折率と第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面と接している密着層の平均屈折率との差、および、第２光学異方性層の平均屈折率と第２光学異方性層の第３光学異方性層側の表面と接している密着層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であれば、要件２を満たすことになる。
さらに、第１光学異方性層と第２光学異方性層とが密着層を介して積層され、第２光学異方性層と密着層とが接しており、第２光学異方性層と第３光学異方性層とが直接接している場合には、第２光学異方性層の平均屈折率と密着層の平均屈折率との差、および、第２光学異方性層の平均屈折率と第３光学異方性層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であれば、要件２を満たすことになる。

要件３は、第３光学異方性層の平均屈折率と、第３光学異方性層の第２光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差、および、第３光学異方性層の平均屈折率と、第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であること規定する。図９においては、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面と接している層は、密着層２２である。また、第３光学異方性層１６Ｃの第４光学異方性層１８Ｃ側の表面と接している層は、第４光学異方性層１８Ｃ自体である。よって、図９においては、第３光学異方性層１６Ｃの平均屈折率と密着層２２の平均屈折率との差、および、第３光学異方性層１６Ｃの平均屈折率と第４光学異方性層１８Ｃの平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であれば、要件３を満たすことになる。
上記差は、２つの平均屈折率のうち大きい値から小さい値を引いた値であり、両者が同じ値である場合、差は０である。
なお、図９においては、密着層を介して第２光学異方性層と第３光学異方性層とが積層している態様であったが、第２光学異方性層と第３光学異方性層とが直接接している場合、第３光学異方性層の平均屈折率と第２光学異方性層の平均屈折率との差、および、第３光学異方性層の平均屈折率と第４光学異方性層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であれば、要件３を満たすことになる。
また、図９においては、第３光学異方性層と第４光学異方性層とが直接接している態様であったが、第３光学異方性層と第４光学異方性層とが密着層を介して積層され、第３光学異方性層と密着層とが接している場合、第３光学異方性層の平均屈折率と第３光学異方性層の第２光学異方性層側の表面と接している密着層の平均屈折率との差、および、第３光学異方性層の平均屈折率と第３光学異方性層の第４光学異方性層側の表面と接している密着層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であれば、要件３を満たすことになる。
さらに、第３光学異方性層と第４光学異方性層とが密着層を介して積層され、第３光学異方性層と密着層とが接しており、第３光学異方性層と第２光学異方性層とが直接接している場合には、第３光学異方性層の平均屈折率と密着層の平均屈折率との差、および、第３光学異方性層の平均屈折率と第２光学異方性層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下であれば、要件３を満たすことになる。

要件４は、第３光学異方性層の平均屈折率と、第４光学異方性層の第３光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差が０．１０以下であることを規定する。図９においては、第４光学異方性層１８Ｃの第３光学異方性層１６Ｃ側の表面と接している層は第３光学異方性層１６Ｃ自体であることから、図９においては、第４光学異方性層１８Ｃの平均屈折率と第３光学異方性層１６Ｃの平均屈折率との差が０．１０以下であれば、要件４を満たすことになる。
上記差は、２つの平均屈折率のうち大きい値から小さい値を引いた値であり、両者が同じ値である場合、差は０である。
なお、図９においては、第４光学異方性層と第３光学異方性層とが直接接している態様であったが、第４光学異方性層と第３光学異方性層とが密着層を介して積層され、第４光学異方性層と密着層とが接している場合、第４光学異方性層の平均屈折率と密着層の平均屈折率との差が０．１０以下であれば、要件４を満たすことになる。

（光学異方性層）
位相差フィルムの第３実施態様において、第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃは、それぞれ互いに異なる層である。互いに異なる層とは、例えば、光学異方性層の形成に用いられる液晶化合物の種類が異なること、光学異方性層中の液晶化合物の配向形態または配向方向が異なること、および、光学異方性層の光学特性（例えば、面内レタデーションおよび厚み方向のレタデーション）が異なることなどが挙げられる。

第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃは、いずれも配向した液晶化合物を固定してなる層であることが好ましく、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層がより好ましい。
液晶化合物の種類は特に限定されず、一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物とに分類できる。
液晶化合物は、重合性基を有することが好ましい。つまり、液晶化合物は、重合性液晶化合物であることが好ましい。重合性液晶化合物が有する重合性基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、および、ビニル基が挙げられる。

液晶化合物が取り得る配向状態としては、例えば、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向、捩れ配向、および、傾斜配向が挙げられる。なお、上記捩れ配向は、光学異方性層の厚み方向を回転軸として、光学異方性層の一方の主表面から他方の主表面まで液晶化合物が捩れている配向状態を表す。捩れ配向において、液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は、通常、０°超３６０°以下の場合が多い。

第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃの少なくとも１つは、上述したＡプレートであってもよく、ネガティブＡプレートであってもよいし、ポジティブＡプレートであってもよい。

また、第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃの少なくとも１つは、上述したＣプレートであってもよく、ネガティブＣプレートであってもよいし、ポジティブＣプレートであってもよい。

また、第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃの少なくとも１つは、捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層（厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層）であってもよい。
捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層に用いられる液晶化合物は、棒状液晶化合物であることが好ましい。

第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～３．０μｍがさらに好ましい。
なお、第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃの各層の厚みとは、各層の平均厚みを意図する。上記平均厚みは、各層の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃの好適態様の一つとしては、第１光学異方性層１２ＣがネガティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４ＣがネガティブＡプレートであり、第３光学異方性層１６Ｃが厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第４光学異方性層１８ＣがポジティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４Ｃの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面での面内遅相軸とのなす角が０～３０°の範囲内である態様が挙げられる。この態様（以下、単に「好適態様１」ともいう。）は、上述した位相差フィルムの第１実施態様で説明した態様に該当し、各層の好適態様は第１実施態様で説明した各層の好適態様と同様である。
また、第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃの他の好適態様の一つとしては、第１光学異方性層１２ＣがポジティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４ＣがポジティブＡプレートであり、第３光学異方性層１６Ｃが厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層であり、第４光学異方性層１８ＣがネガティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４Ｃの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｃの第２光学異方性層１４Ｃ側の表面での面内遅相軸とのなす角が０～３０°の範囲内である態様が挙げられる。この態様（以下、単に「好適態様２」ともいう。）は、上述した位相差フィルムの第２実施態様で説明した態様に該当し、各層の好適態様は第２実施態様で説明した各層の好適態様と同様である。

（密着層）
密着層としては、上述した位相差フィルムの第１実施態様で説明した密着層（粘着剤層および接着剤層）が挙げられる。
より具体的には、接着剤層とは、接着剤を用いて形成される層である。接着剤としては、例えば、水性接着剤、溶剤型接着剤、エマルション系接着剤、無溶剤型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、および、熱硬化型接着剤が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、電子線硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、および、可視光線硬化型接着剤が挙げられ、紫外線硬化型接着剤が好ましい。つまり、密着層は、紫外線硬化型接着剤を用いて形成された層であることが好ましい。
活性エネルギー線硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤が挙げられる。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、および、ビニル基を有する化合物が挙げられる。

接着剤層の厚みは特に制限されず、０．１～５μｍが好ましく、０．５～２μｍがより好ましい。

粘着剤層とは、粘着剤を用いて形成された層である。粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、および、セルロース系粘着剤が挙げられ、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）が好ましい。
アクリル系粘着剤としては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基またはブチル基などの炭素数が２０以下のアルキル基である（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。

粘着剤層の厚みは特に制限されず、１～３０μｍが好ましく、５～２０μｍがより好ましい。

第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃの製造方法は特に制限されず、上述した第１光学異方性層１２Ａ～第４光学異方性層１８Ａの製造方法が挙げられる。
より具体的には、２つの光学異方性層が直接接している状態を形成するためには、例えば、基板上に重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（好ましくは、光学異方性層表面に配向制御能を付与する素材（例えば、光配向ポリマー）を光学異方性層形成用組成物中に含む）を塗布して光学異方性層を形成した後、形成した光学異方性層上にさらに重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を塗布して別途光学異方性層を形成して、２つの光学異方性層が直接接している状態を形成できる。
また、２つの光学異方性層が密着層を介して配置されている状態を形成するためには、例えば、別途用意した２つの光学異方性層を密着層を介して貼合することにより、上記状態を形成できる。
上記のように、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて塗布する方法、および、貼合方法を組み合わせて用いることにより、本発明の位相差フィルムを形成できる。

上述した位相差フィルムの第３実施態様は、上述した位相差フィルムの第１実施態様および第２実施態様と同様に、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。
位相差フィルムの第３実施態様が上述した好適態様１である場合には、上述した円偏光板の第１実施態様と同様の層配置となるように、位相差フィルムの第３実施態様と偏光子とを組み合わせることが好ましい。
また、位相差フィルムの第３実施態様が上述した好適態様２である場合には、上述した円偏光板の第２実施態様と同様の層配置となるように、位相差フィルムの第３実施態様と偏光子とを組み合わせることが好ましい。

位相差フィルムの第３実施態様と偏光子とを組み合わせる際には、上述した密着層を介して両者を積層させてもよい。
密着層を介して位相差フィルムの第３実施態様と偏光子とを積層させる際には、密着層と隣接している位相差フィルム中の光学異方性層の平均屈折率と、密着層の平均屈折率との差は、０．１０以下であることが好ましい。

＜位相差フィルムの第４実施態様＞
以下、本発明の位相差フィルムの第４実施態様について、図面を参照して説明する。図１０に、本発明の位相差フィルムの第４実施態様の概略断面図を示す。
位相差フィルム１０Ｄは、第１光学異方性層１２Ｄ、第２光学異方性層１４Ｄ、第３光学異方性層１６Ｄ、および、第４光学異方性層１８Ｄをこの順に有し、第２光学異方性層１４Ｄと第３光学異方性層１６Ｄとが密着層２２を介して積層されている。密着層２２は、第２光学異方性層１４Ｄおよび第３光学異方性層１６Ｄに接している。
図１０においては、第２光学異方性層１４Ｄと第３光学異方性層１６Ｄとが密着層２２を介して積層されているが、この態様には限定されず、第１光学異方性層と第２光学異方性層、第２光学異方性層と第３光学異方性層、および、第３光学異方性層と第４光学異方性層、の少なくとも１つが密着層を介して積層されていればよい。

本発明の位相差フィルムの第４実施態様においては、以下の要件５を満たす。
要件５：密着層の平均屈折率と、密着層と隣接する光学異方性層の平均屈折率との差が０．１０以下である。
以下、図１０の位相差フィルムを例にとり、上記の点について説明する。
図１０においては、第２光学異方性層１４Ｄと第３光学異方性層１６Ｄとが密着層２２を介して積層されている。この態様の場合、密着層と第２光学異方性層１４Ｄおよび第３光学異方性層１６Ｄとが隣接している。よって、密着層の平均屈折率と第２光学異方性層１４Ｄの平均屈折率との差が０．１０以下であり、密着層の平均屈折率と第３光学異方性層１６Ｄの平均屈折率との差が０．１０以下である。
なお、第１光学異方性層１２Ｄと第２光学異方性層１４Ｄとが密着層２２を介して積層され、２つの光学異方性層（第１光学異方性層１２Ｄ、第２光学異方性層１４Ｄ）と密着層２２とが接している場合には、密着層の平均屈折率と第１光学異方性層１２Ｄの平均屈折率との差が０．１０以下であり、密着層の平均屈折率と第２光学異方性層１４Ｄの平均屈折率との差が０．１０以下であれば、上記要件５を満たす。
また、第３光学異方性層１６Ｄと第４光学異方性層１８Ｄとが密着層２２を介して積層され、２つの光学異方性層（第３光学異方性層１６Ｄ、第４光学異方性層１８Ｄ）と密着層２２とが接している場合には、密着層の平均屈折率と第３光学異方性層１６Ｄの平均屈折率との差が０．１０以下であり、密着層の平均屈折率と第４光学異方性層１８Ｄの平均屈折率との差が０．１０以下であれば、上記要件５を満たす。

なかでも、位相差フィルムの第４実施態様の好適態様の一つとしては、第２光学異方性層と第３光学異方性層とが密着層を介して積層され、密着層の平均屈折率と、第２光学異方性層の平均屈折率との差が０．０８以下であり、密着層の平均屈折率と、第３光学異方性層の平均屈折率との差が０．０８以下である態様が挙げられる。

また、位相差フィルムの第４実施態様の他の好適態様の一つとしては、位相差フィルムの第３実施態様で述べた要件１～４の全てを満たす態様が挙げられる。

（光学異方性層）
位相差フィルムの第４実施態様において、第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄは、それぞれ互いに異なる層である。互いに異なる層とは、例えば、光学異方性層の形成に用いられる液晶化合物の種類が異なること、光学異方性層中の液晶化合物の配向形態または配向方向が異なること、および、光学異方性層の光学特性（例えば、面内レタデーションおよび厚み方向のレタデーション）が異なることなどが挙げられる。

第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄは、いずれも配向した液晶化合物を固定してなる層であることが好ましく、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層がより好ましい。
液晶化合物の種類は特に限定されず、一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物とに分類できる。
液晶化合物は、重合性基を有することが好ましい。つまり、液晶化合物は、重合性液晶化合物であることが好ましい。重合性液晶化合物が有する重合性基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、および、ビニル基が挙げられる。

液晶化合物が取り得る配向状態としては、例えば、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向、捩れ配向、および、傾斜配向が挙げられる。なお、上記捩れ配向は、光学異方性層の厚み方向を回転軸として、光学異方性層の一方の主表面から他方の主表面まで液晶化合物が捩れている配向状態を表す。捩れ配向において、液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は、通常、０°超３６０°以下の場合が多い。

第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄの少なくとも１つは、上述したＡプレートであってもよく、ネガティブＡプレートであってもよいし、ポジティブＡプレートであってもよい。

また、第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄの少なくとも１つは、上述したＣプレートであってもよく、ネガティブＣプレートであってもよいし、ポジティブＣプレートであってもよい。

また、第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄの少なくとも１つは、捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層（厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層）であってもよい。
捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層に用いられる液晶化合物は、棒状液晶化合物であることが好ましい。

第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄの厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～３．０μｍがさらに好ましい。
なお、第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄの各層の厚みとは、各層の平均厚みを意図する。上記平均厚みは、各層の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄの好適態様の一つとしては、第１光学異方性層１２ＤがネガティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４ＤがネガティブＡプレートであり、第３光学異方性層１６Ｄが厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、第４光学異方性層１８ＤがポジティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４Ｄの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面での面内遅相軸とのなす角が０～３０°の範囲内である態様が挙げられる。この態様（以下、単に「好適態様３」ともいう。）は、上述した位相差フィルムの第１実施態様で説明した態様に該当し、各層の好適態様は第１実施態様で説明した各層の好適態様と同様である。
また、第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄの他の好適態様の一つとしては、第１光学異方性層１２ＤがポジティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４ＤがポジティブＡプレートであり、第３光学異方性層１６Ｄが厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層であり、第４光学異方性層１８ＤがネガティブＣプレートであり、第２光学異方性層１４Ｄの面内遅相軸と、第３光学異方性層１６Ｄの第２光学異方性層１４Ｄ側の表面での面内遅相軸とのなす角が０～３０°の範囲内である態様が挙げられる。この態様（以下、単に「好適態様４」ともいう。）は、上述した位相差フィルムの第２実施態様で説明した態様に該当し、各層の好適態様は第２実施態様で説明した各層の好適態様と同様である。

（密着層）
密着層としては、上述した位相差フィルムの第３実施態様で説明した密着層（粘着剤層および接着剤層）が挙げられる。

第１光学異方性層１２Ｄ～第４光学異方性層１８Ｄの製造方法は特に制限されず、上述した第１光学異方性層１２Ｃ～第４光学異方性層１８Ｃの製造方法が挙げられる。

上述した位相差フィルムの第４実施態様は、上述した位相差フィルムの第１実施態様および第２実施態様と同様に、偏光子と組み合わせて円偏光板として用いることができる。
位相差フィルムの第４実施態様が上述した好適態様３である場合には、上述した円偏光板の第１実施態様と同様の層配置となるように、位相差フィルムの第４実施態様と偏光子とを組み合わせることが好ましい。
また、位相差フィルムの第４実施態様が上述した好適態様４である場合には、上述した円偏光板の第２実施態様と同様の層配置となるように、位相差フィルムの第４実施態様と偏光子とを組み合わせることが好ましい。

位相差フィルムの第４実施態様と偏光子とを組み合わせる際には、上述した密着層を介して両者を積層させてもよい。
密着層を介して位相差フィルムの第４実施態様と偏光子とを積層させる際には、密着層と隣接している位相差フィルム中の光学異方性層の平均屈折率と、密着層の平均屈折率との差は、０．１０以下であることが好ましい。

＜用途＞
上述した位相差フィルムは、種々の用途に適用でき、例えば、各光学異方性層の光学特性を調整して、いわゆるλ／４板またはλ／２板として用いることもできる。
なお、λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅがλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。
また、λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性膜のことをいう。この式は、可視光線領域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ

＜表示装置＞
本発明の位相差フィルム（第１実施態様～第４実施態様）並びに円偏光板（第１実施態様および第２実施態様）は、表示装置に好適に適用できる。
本発明の表示装置は、表示素子と、上述した位相差フィルムまたは円偏光板とを有する。
本発明の表示装置は、表示素子と、上述した位相差フィルムまたは円偏光板に加えて、さらにハードコート層を含む表面保護フィルムを有することが好ましい。
本発明の位相差フィルムを表示装置に適用する際には、上述した円偏光板として適用することが好ましい。この場合、円偏光板は視認側に配置され、円偏光板中、偏光子が視認側に配置される。表示装置が表面保護フィルムをさらに有する場合、表面保護フィルムは偏光子よりさらに視認側に配置される。すなわち、視認側から表面保護フィルム、偏光子、位相差フィルム、表示素子の順に配置される。
表示素子は特に制限されず、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、および、液晶表示素子が挙げられる。

＜その他の構成＞
本発明の表示装置の、表示素子より視認側に用いられる密着層や基板、表面保護フィルムのハードコート層は、表示素子の耐光性改良の観点から、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。紫外線吸収剤は特に限定がなく、各種公知のものが利用できる。例えば、国際公開ＷＯ２０２１／００６０９７号公報に記載の紫外線吸収剤を用いることができる。
表示素子より視認側の積層体の透過率は、波長３８０ｎｍで１％以下、４１０ｎｍにおいて２０～７０％、４５０ｎｍ以上の範囲で９０％以上とするのが好ましい。
波長４１０ｎｍにおける透過率は４０～５０％であることがさらに好ましい。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜実施例１＞
（セルロースアシレートフィルムの作製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、ドープの溶媒は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）である。

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セルロースアシレートドープ
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セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
１００質量部
糖エステル化合物１（下記式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
糖エステル化合物２（下記式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
シリカ粒子分散液（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０．１質量部
溶媒（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
―――――――――――――――――――――――――――――――――

上記で作製したドープを、ドラム製膜機を用いて流延した。０℃に冷却された金属支持体上に接するようにドープをダイから流延し、その後、得られたウェブ（フィルム）を剥ぎ取った。なお、ドラムはＳＵＳ製であった。

流延されて得られたウェブ（フィルム）を、ドラムから剥離後、フィルム搬送時に３０～４０℃で、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いてテンター装置内で２０分間乾燥した。引き続き、ウェブをロール搬送しながらゾーン加熱により後乾燥した。得られたウェブにナーリングを施した後、巻き取った。
得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは２６ｎｍであった。
このようにして、第１光学異方性層に該当するセルロースアシレートフィルムからなる光学異方性層（１ａ）を作製した。

前述のセルロースアシレートフィルムを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。

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アルカリ溶液
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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（配向膜の形成）
セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液１を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、得られた塗膜を、６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜１を得た。

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配向膜塗布液１
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下記に示す変性ポリビニルアルコール ２８質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）製） １．２質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．８４質量部
グルタルアルデヒド ２．８質量部
水 ６９９質量部
メタノール ２２６質量部
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（変性ポリビニルアルコール）

（光学異方性層（１ｂ）の形成）
上記作製した配向膜１に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルム（セルロースアシレートフィルム）の長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は－１４°にある。
言い換えれば、フィルム側から観察してラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、時計回りに７６°回転させた位置である。

上記ラビング処理した配向膜上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ｂ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、円盤状液晶化合物の配向を固定化して、第２光学異方性層に該当する光学異方性層（１ｂ）を形成した。
光学異方性層（１ｂ）の厚みは、１．１μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおけるレタデーションは１６８ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
また、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（１ｂ）側から見たとき、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸方向は－１４°であった。

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光学異方性層形成用組成物（１ｂ）
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下記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
下記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
下記の配向膜界面配向剤１ ０．５５質量部
下記の含フッ素化合物Ａ ０．１質量部
下記の含フッ素化合物Ｂ ０．０５質量部
下記の含フッ素化合物Ｃ ０．２１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ製） ３．０質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
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円盤状液晶化合物１

円盤状液晶化合物２

配向膜界面配向剤１

含フッ素化合物Ａ（下記式中、ａおよびｂは、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、ａは９０質量％、ｂは１０質量％を表す。）

含フッ素化合物Ｂ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は３２．５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は６７．５質量％であった。）

含フッ素化合物Ｃ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、真ん中の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は５０質量％であった。）

上記手順によって、光学異方性層（１ａ）と光学異方性層（１ｂ）とが積層された積層体（１ａ－１ｂ）を作製した。

（光学異方性層（１ｄ）の形成）
上記作製したセルロースアシレートフィルムの上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ｄ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、フィルムの両端を保持し、フィルムの塗膜が形成された面の側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるように冷却板（９℃）を設置し、フィルムの塗膜が形成された面とは反対側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるようにヒーター（７５℃）を設置し、２分間乾燥させた。
次いで、得られたフィルムを温風にて６０℃で１分間加熱し、酸素濃度が１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した。その後、得られた塗膜に、温風にて１２０℃で１分間アニーリングすることで、第４光学異方性層に該当する光学異方性層（１ｄ）を形成した。
得られた光学異方性層（１ｄ）に、室温で、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ／ｃｍ^２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を有する組成物層を形成した。
なお、形成した光学異方性層（１ｄ）の膜厚は０．６μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは－７５ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。

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光学異方性層形成用組成物（１ｄ）
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下記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
重合性モノマー（Ａ－４００、新中村化学工業社製） ４．０質量部
下記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．０質量部
下記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
下記の重合体Ｍ－１ ２．０質量部
下記の垂直配向剤Ｓ０１ ２．０質量部
下記の光配向性ポリマーＡ－１ ２．０質量部
下記の界面活性剤Ｂ－１ ０．２質量部
メチルエチルケトン ４２．３質量部
メチルイソブチルケトン ６２７．５質量部
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棒状液晶化合物（Ａ）（以下、化合物の混合物）

重合開始剤Ｓ－１

光酸発生剤Ｄ－１

重合体Ｍ－１

垂直配向剤Ｓ０１

光配向性ポリマーＡ－１（各繰り返し単位中に記載の数値は、全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位から４３質量％、２７質量％、３０質量％であった。また、重量平均分子量は６９８００であった。）

界面活性剤Ｂ－１（重量平均分子量は２２００であった。）

（光学異方性層（１ｃ）の形成）
次いで、上記で作製した光学異方性層（１ｄ）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ｃ）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、第３光学異方性層に該当する光学異方性層（１ｃ）を形成した。
光学異方性層（１ｃ）の厚みは１．２μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１６４ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（１ｃ）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が１４°、光学異方性層（１ｄ）に接する側が９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１ｃ）
――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
下記の左捩れキラル剤（Ｌ１） ０．６０質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ ０．０８質量部
メチルエチルケトン １５６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

左捩れキラル剤（Ｌ１）（Ｂｕはブチル基を表す。）

上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（１ｄ）と光学異方性層（１ｃ）とが直接積層された積層体（１ｃ－１ｄ）を作製した。光学異方性層（１ｃ）の平均屈折率と光学異方性層（１ｄ）の平均屈折率の屈折率差は０．０５以内であった。

上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルムからなる光学異方性層（１ａ）上に形成した光学異方性層（１ｂ）の表面側と、上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（１ｃ－１ｄ）の光学異方性層（１ｃ）の表面側とを、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸と、光学異方性層（１ｃ）の表面側の面内遅相軸とのなす角が０°となるように、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続機にて貼り合せた。
なお、紫外線硬化型接着剤としては、アクリル系化合物に高屈折モノマーを添加し、硬化後の屈折率を１．５８に制御した接着剤を使用した。接着剤層と隣接する光学異方性層の平均屈折率と接着剤層の平均屈折率との屈折率差はともに０．０５以内であった。
続いて、光学異方性層（１ｄ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（１ｄ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルムからなる光学異方性層（１ａ）上に、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｄ）がこの順に積層された光学フィルム（１ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）を得た。

（直線偏光板の作製）
セルローストリアセテートフィルムＴＪ２５（富士フイルム社製：厚み２５μｍ）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥して、偏光子保護フィルムを得た。
厚さ６０μｍのロール状ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムをヨウ素水溶液中で長手方向に連続して延伸し、乾燥して厚さ１３μｍの偏光子を得た。偏光子の視感度補正単体透過率は、４３％であった。このとき、偏光子の吸収軸方向と長手方向は一致していた。
上記偏光子の片方の面に上記偏光子保護フィルムを、下記ＰＶＡ接着剤を用いて貼り合わせて、直線偏光板を作製した。

（ＰＶＡ接着剤の調製）
アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）１００質量部、および、メチロールメラミン２０質量部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度３．７質量％に調整した水溶液として、ＰＶＡ接着剤を調製した。

（円偏光板の作製）
上記作製した長尺状の光学フィルム（１ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）の光学異方性層（１ａ）の表面と、上記作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。
このようにして、光学フィルム（１ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ１）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（１ａ）、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）および光学異方性層（１ｄ）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸がなす角度は７６°であった。また、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸と、光学異方性層（１ｃ）の光学異方性層（１ｂ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は０°であった。光学異方性層（１ｃ）の液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。偏光子吸収軸と光学異方性層（１ｃ）の光学異方性層（１ｄ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は５°であった。

＜実施例２＞
上記実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルムを作製し、アルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液２を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。得られた塗膜を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥して、配向膜２を得た。

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配向膜塗布液２
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下記ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製） ０．１７５質量部
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ポリビニルアルコール

（光学異方性層（２ａ）の形成）
上記配向膜２上に、ギーサー塗布機を用いて、下記組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（２ａ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、第１光学異方性層に該当する光学異方性層（２ａ）を形成した。
光学異方性層（２ａ）の厚みは、０．３μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは４０ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。

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光学異方性層形成用組成物（２ａ）
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上記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
上記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ ０．２１質量部
下記のポリマー（Ａ） ０．５０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ製） ３．０質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
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ポリマー（Ａ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

（光学異方性層（１ｂ）の形成）
上記で作製した光学異方性層（２ａ）に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は－１４°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、時計回りに７６°回転させた位置である。

上記ラビング処理した光学異方性層（２ａ）上に、ギーサー塗布機を用いて、上記の光学異方性層形成用組成物（１ｂ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、第２光学異方性層に該当する光学異方性層（１ｂ）を形成した。
光学異方性層（１ｂ）の厚みは、１．１μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおけるレタデーションは１６８ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
また、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（１ｂ）側から見たとき、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸方向は－１４°であった。

上記手順によって、セルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（２ａ）と光学異方性層（１ｂ）とが積層された積層体（２ａ－１ｂ）を作製した。光学異方性層（２ａ）の平均屈折率と光学異方性層（１ｂ）の平均屈折率の屈折率差は０．０５以内であった。

上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（２ａ－１ｂ）の光学異方性層（１ｂ）の表面側と、実施例１で作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（１ｃ－１ｄ）の光学異方性層（１ｃ）の表面側とを、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸と光学異方性層（１ｃ）の表面側の面内遅相軸とのなす角が０°となるように、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続機にて貼り合せた。
なお、紫外線硬化型接着剤としては、アクリル系化合物に高屈折モノマーを添加し、硬化後の屈折率を１．５８に制御した接着剤を使用した。接着剤層と隣接する光学異方性層の平均屈折率と接着剤層の平均屈折率との屈折率差はともに０．０５以内であった。
続いて、光学異方性層（２ａ）側のセルロースアシレートフィルムと配向膜２を剥離し、光学異方性層（２ａ）の配向膜２に接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（１ｄ）、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（２ａ）がこの順に積層された光学フィルム（２ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）を得た。

（円偏光板の作製）
上記作製した長尺状の光学フィルム（２ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）の光学異方性層（２ａ）の表面と、実施例１で作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、硬化後の屈折率を１．５３に制御した紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。隣接する光学異方性層の平均屈折率と接着剤層の平均屈折率との屈折率差は０．０８以下であった。
続いて、光学異方性層（１ｄ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（１ｄ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。
このようにして、光学フィルム（２ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ２）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（２ａ）、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）および光学異方性層（１ｄ）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸がなす角度は７６°であった。光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸と、光学異方性層（１ｃ）の光学異方性層（１ｂ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は０°であった。光学異方性層（１ｃ）の液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。偏光子吸収軸と光学異方性層（１ｃ）の光学異方性層（１ｄ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は５°であった。

＜実施例３＞
（光学異方性層（３ａ）の形成）
実施例１の光学異方性層（１ｄ）の形成において、組成物層の厚みを変える以外は同様にして、第１光学異方性層に該当する、表面に配向制御能を有する光学異方性層（３ａ）を形成した。
なお、形成した光学異方性層（３ａ）の膜厚は０．４μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは－４５ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。

（光学異方性層（３ｂ）の形成）
次いで、上記作製した光学異方性層（３ａ）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（３ｂ）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、第２光学異方性層に該当する光学異方性層（３ｂ）を形成した。
光学異方性層（３ｂ）の厚みは、１．２μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１６８ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していること（ホモジニアス配向していること）を確認した。また、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（３ｂ）側から見たとき、光学異方性層（３ｂ）の面内遅相軸方向は１０４°であった。

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光学異方性層形成用組成物（３ｂ）
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上記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ ０．０８質量部
メチルエチルケトン １５６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（３ａ）と光学異方性層（３ｂ）とが直接積層された積層体（３ａ－３ｂ）を作製した。光学異方性層（３ａ）の平均屈折率と光学異方性層（３ｂ）の平均屈折率の屈折率差は０．０５以内であった。
なお、上述した方法で光学異方性層（３ａ）の光学異方性層（３ｂ）と接する側の表面を確認したところ、光配向性ポリマーが存在していることが確認できた。

（光学異方性層（３ｄ）の形成）
実施例２の光学異方性層（２ａ）の形成において、組成物層の厚みを変える以外は同様にして、第４光学異方性層に該当する光学異方性層（３ｄ）を形成した。
光学異方性層（３ａ）の厚みは、０．４μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは５５ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。

（光学異方性層（３ｃ）の形成）
上記作製した光学異方性層（３ｄ）に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は８５°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は５°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、反時計回りに８５°回転させた位置である。

上記ラビング処理した光学異方性層（３ｄ）上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の光学異方性層形成用組成物（３ｃ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、第３光学異方性層に該当する光学異方性層（３ｃ）を形成した。
光学異方性層（３ｃ）の厚みは１．１μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１６４ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（３ｃ）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が７６°、光学異方性層（３ｄ）に接する側が－５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から円偏光板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（３ｃ）
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上記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
上記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
上記の配向膜界面配向剤１ ０．５５質量部
上記の含フッ素化合物Ａ ０．１質量部
上記の含フッ素化合物Ｂ ０．０５質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ ０．２１質量部
下記の右捩れキラル剤（Ｌ２） ０．３０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ製） ３．０質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
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右捩れキラル剤（Ｌ２）

上記手順によって、セルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（３ｄ）と光学異方性層（３ｃ）とが積層された積層体（３ｃ－３ｄ）を作製した。光学異方性層（３ｃ）の平均屈折率と光学異方性層（３ｄ）の平均屈折率の屈折率差は０．０５以内であった。

上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（３ａ－３ｂ）の光学異方性層（３ｂ）の表面側と、上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（３ｃ－３ｄ）の光学異方性層（３ｃ）の表面側とを、光学異方性層（３ｂ）の面内遅相軸と光学異方性層（３ｃ）の表面側の面内遅相軸とのなす角が０°となるように、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続機にて貼り合せた。
なお、紫外線硬化型接着剤としては、アクリル系化合物に高屈折モノマーを添加し、硬化後の屈折率を１．５８に制御した接着剤を使用した。接着剤層と隣接する光学異方性層の平均屈折率と接着剤層の平均屈折率との屈折率差はともに０．０５以内であった。
続いて、光学異方性層（３ａ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（３ａ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（３ｄ）、光学異方性層（３ｃ）、光学異方性層（３ｂ）、光学異方性層（３ａ）がこの順に積層された光学フィルム（３ａ－３ｂ－３ｃ－３ｄ）を得た。

（円偏光板の作製）
上記作製した長尺状の光学フィルム（３ａ－３ｂ－３ｃ－３ｄ）の光学異方性層（３ａ）の表面と、実施例１で作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、硬化後の屈折率を１．５３に制御した紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。隣接する光学異方性層の平均屈折率と接着剤層の平均屈折率との屈折率差は０．０８以下であった。
続いて、光学異方性層（３ｄ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（３ｄ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。
このようにして、光学フィルム（３ａ－３ｂ－３ｃ－３ｄ）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ３）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（３ａ）、光学異方性層（３ｂ）、光学異方性層（３ｃ）および光学異方性層（３ｄ）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（３ｂ）の遅相軸がなす角度は１４°であった。光学異方性層（３ｂ）の面内遅相軸と、光学異方性層（３ｃ）の光学異方性層（３ｂ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は０°であった。光学異方性層（３ｃ）の液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。偏光子吸収軸と光学異方性層（３ｃ）の光学異方性層（３ｄ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は９５°であった。

円偏光板（Ｐ３）において、光学異方性層側から円偏光板（Ｐ３）を観察した際に、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（３ｂ）の面内遅相軸が反時計回りに１４°回転しており、光学異方性層（３ｃ）中の液晶化合物の捩れ方向は時計回りである。
なお、液晶化合物の捩れ方向は、光学異方性層側から円偏光板（Ｐ３）を観察した際に、光学異方性層（３ｃ）の光学異方性層（３ｄ）側の表面（手前側の表面）での面内遅相軸を基準に、時計回りか、反時計回りかを判断する。

＜実施例４＞
（光学異方性層（４ａ）の形成）
セルローストリアセテートフィルムＴＧ４０（富士フイルム社製：厚み４０μｍ）上にギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（４ａ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、フィルムの両端を保持し、フィルムの塗膜が形成された面の側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるように冷却板（９℃）を設置し、フィルムの塗膜が形成された面とは反対側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるようにヒーター（１１０℃）を設置し、９０秒間乾燥させた。
次いで、得られたフィルムを温風にて１１６℃で１分間加熱し、酸素濃度が１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した。その後、得られた塗膜に、温風にて１１５℃で２５秒間アニーリングすることで、第１光学異方性層に該当する光学異方性層（４ａ）を形成した。
得られた光学異方性層（４ａ）に、室温で、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ／ｃｍ^２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を付与した。
なお、形成した光学異方性層（４ａ）の膜厚は１．０μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは４０ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。

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光学異方性層形成用組成物（４ａ）
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上記の円盤状液晶化合物１ ８質量部
上記の円盤状液晶化合物２ ２質量部
下記の円盤状液晶化合物３ ９５．６質量部
下記の重合性モノマー１ １４．０質量部
上記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ３．０質量部
上記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
下記の光配向性ポリマーＡ－２ １．０質量部
トリイソプロピルアミン ０．２質量部
ｏ－キシレン ６３４質量部
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円盤状液晶化合物３

重合性モノマー１

光配向性ポリマーＡ－２（各繰り返し単位中に記載のアルファベットは、全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位から３７質量％、３７質量％、２６質量％であった。また、重量平均分子量は７３０００であった。）

（光学異方性層（４ｂ）の形成）
次いで、上記で作製した光学異方性層（４ａ）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（４ｂ）を塗布し、９５℃の温風で１２０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して９５℃にてＵＶ照射（１００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、第２光学異方性層に該当する光学異方性層（４ｂ）を形成した。
光学異方性層（４ｂ）の厚みは１．５μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１５３ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
また、光学異方性層（４ｂ）の面内遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（４ｂ）側から見たとき、光学異方性層（４ｂ）の面内遅相軸方向は－１４°であった。

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光学異方性層形成用組成物（４ｂ）
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上記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
上記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
上記の配向膜界面配向剤１ １．８質量部
上記の重合性モノマー１ １０．０質量部
上記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．０質量部
上記の含フッ素化合物Ａ ０．１質量部
下記の含フッ素化合物Ｄ ０．２質量部
下記の含フッ素化合物Ｅ ０．１質量部
下記の消泡剤１ ２．１質量部
メチルエチルケトン ４１９質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

含フッ素化合物Ｄ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は５２質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は４８質量％であった。）

含フッ素化合物Ｅ（左側の繰り返し単位の含有量は３６質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は６４質量％であった。）

消泡剤１

上記手順によって、セルロースアシレートフィルムＴＧ４０上に、光学異方性層（４ａ）と光学異方性層（４ｂ）とが直接積層された積層体（４ａ－４ｂ）を作製した。
光学異方性層（４ａ）の平均屈折率と光学異方性層（４ｂ）の平均屈折率との差は０．０５以下であった。

（光学異方性層（４ｄ）の形成）
実施例１の光学異方性層（１ｄ）の形成において、組成物層の厚みを変える以外は同様にして、第４光学異方性層に該当する、光学異方性層（４ｄ）を形成した。
なお、形成した光学異方性層（４ｄ）の膜厚は０．７μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは－８５ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。

（光学異方性層（４ｃ）の形成）
次いで、上記で作製した光学異方性層（４ｄ）の上に、実施例１の光学異方性層（１ｃ）の形成において、組成物層の厚みを変える以外は同様にして、第３光学異方性層に該当する、光学異方性層（４ｃ）を形成した。
光学異方性層（４ｃ）の厚みは１．２５μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１７０ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８５°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（４ｃ）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が１０°、光学異方性層（４ｄ）に接する側が９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（４ｄ）と光学異方性層（４ｃ）とが直接積層された積層体（４ｃ－４ｄ）を作製した。光学異方性層（４ｃ）の平均屈折率と光学異方性層（４ｄ）の平均屈折率の屈折率差は０．０５以内であった。

上記作製したセルロースアシレートフィルムＴＧ４０上に形成した積層体（４ａ－４ｂ）の光学異方性層（４ｂ）の表面側と、上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（４ｃ－４ｄ）の光学異方性層（４ｃ）の表面側とを、積層体（４ｃ－４ｄ）の光学異方性層（４ｃ）の表面側の面内遅相軸に対して、積層体（４ａ－４ｂ）の光学異方性層（４ｂ）の表面側の面内遅相軸が＋４°になるように、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続機にて貼り合せた。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層（４ａ）の表面側から積層体を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
紫外線硬化型接着剤として、アクリル系化合物に高屈折モノマーを添加し、硬化後の屈折率を１．５８に制御した接着剤を使用した。接着剤層と隣接する光学異方性層の平均屈折率と接着剤層の平均屈折率との屈折率差はともに０．０５以内であった。
続いて、光学異方性層（４ａ）側のセルロースアシレートフィルムと光学異方性層（４ａ）を剥離し、光学異方性層（４ａ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（４ｄ）、光学異方性層（４ｃ）、光学異方性層（４ｂ）、光学異方性層（４ａ）がこの順に積層された光学フィルム（４ａ－４ｂ－４ｃ－４ｄ）を得た。

（円偏光板の作製）
上記作製した長尺状の光学フィルム（４ａ－４ｂ－４ｃ－４ｄ）の光学異方性層（４ａ）の表面と、実施例１で作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、上記と同様の方法で硬化後の屈折率を１．５３に制御した紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。隣接する光学異方性層の平均屈折率と接着剤層の平均屈折率との屈折率差は０．０８以下であった。
続いて、光学異方性層（４ｄ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（４ｄ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。
このようにして、光学フィルム（４ａ－４ｂ－４ｃ－４ｄ）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ４）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（４ａ）、光学異方性層（４ｂ）、光学異方性層（４ｃ）および光学異方性層（４ｄ）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（４ｂ）の面内遅相軸がなす角度は７６°であった。光学異方性層（４ｂ）の面内遅相軸と、光学異方性層（４ｃ）の光学異方性層（４ｂ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は４°であった。光学異方性層（４ｃ）の液晶化合物の捩れ角度は８５°であった。偏光子吸収軸と光学異方性層（４ｃ）の光学異方性層（４ｄ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は５°であった。

＜実施例５＞
実施例１の第１光学異方性層に該当するセルロースアシレートフィルムからなる光学異方性層（１ａ）をセルロースアセテートＴＪ２５（富士フイルム社製：厚み２５μｍ）（光学異方性層（５ａ））に置き換えた以外は、実施例１と同様の方法で光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｄ）、および、円偏光板を作製した。

＜実施例６＞
実施例１の第１光学異方性層に該当するセルロースアシレートフィルムからなる光学異方性層（１ａ）を以下の光学異方性層（６ａ）に置き換えた以外は、実施例１と同様の方法で光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｄ）、および、円偏光板を作製した。
（セルロースアシレートフィルムの作製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は１９．０質量％であり、ドープの溶媒は塩化メチレン／メタノール＝８７／１３（質量比）である。

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セルロースアシレートドープ
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セルロースアシレート（アセチル置換度２．８８） １００．０質量部
エステルオリゴマー（ジカルボン酸：アジピン酸／フタル酸＝３／７、エチレングリコール、アセチル基末端、分子量１０００） １０．０質量部
偏光子耐久性改良剤（下記構造式の化合物） ４．０質量部
紫外線吸収剤（下記構造式の化合物） ２．０質量部
レタデーション上昇剤（下記構造式の化合物） ３．０質量部
溶媒（塩化メチレン／メタノール）
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偏光子耐久性改良剤

紫外線吸収剤

レタデーション上昇剤

上記で作製したドープを、バンド製膜機を用いて流延した。２０℃にした金属支持体上に接するようにドープをダイから流延し、その後、得らえたウェブ（フィルム）を剥ぎ取った。なお、バンドはＳＵＳ製であった。

流延させて得られたウェブ（フィルム）を、溶剤含有率略２０質量％の状態でバンドから剥離後、フィルム搬送時に、残留溶剤が３～１５％の状態で、横方向に１．１倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚さ２５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製した。
得られたセルロースアシレートフィルムの、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは３０ｎｍであった。

＜実施例７＞
実施例６で使用した紫外線硬化型接着剤を置き換えて、下記の粘着剤Ａを使用し、第１光学異方性層に該当するセルロースアシレートフィルムからなる光学異方性層（６ａ）、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｄ）、および、円偏光板を作製した。
実施例６で作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（６ａ－１ｂ）の光学異方性層（１ｂ）の表面側と、実施例１で作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（１ｃ－１ｄ）の光学異方性層（１ｃ）の表面側とを、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸と光学異方性層（１ｃ）の表面側の面内遅相軸とのなす角が０°となるように、粘着剤Ａを用いて、連続機にて貼り合せた。
上記粘着剤Ａは、屈折率を１．５４に制御されており、厚み１５μｍの粘着層が形成された。隣接する光学異方性層の軸方向で平均した屈折率と粘着剤との屈折率差はともに０．０８以内であった。
続いて、光学異方性層（１ｄ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（１ｄ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルムからなる光学異方性層（６ａ）上に、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｄ）がこの順に積層された光学フィルム（６ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）を得た。

（円偏光板の作製）
上記作製した長尺状の光学フィルム（６ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）の光学異方性層（６ａ）の表面と、上記作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、上記ＰＶＡ接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。
このようにして、光学フィルム（６ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ７）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（６ａ）、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）および光学異方性層（１ｄ）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸がなす角度は７６°であった。また、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸と、光学異方性層（１ｃ）の光学異方性層（１ｂ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は０°であった。光学異方性層（１ｃ）の液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。偏光子吸収軸と光学異方性層（１ｃ）の光学異方性層（１ｄ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は５°であった。

＜実施例８＞
実施例６で使用した紫外線硬化型接着剤を置き換えて、下記の粘着剤Ｂを使用し、第１光学異方性層に該当するセルロースアシレートフィルムからなる光学異方性層（６ａ）、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｄ）、および、円偏光板を作製した。
実施例６で作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（６ａ－１ｂ）の光学異方性層（１ｂ）の表面側と、実施例１で作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（１ｃ－１ｄ）の光学異方性層（１ｃ）の表面側とを、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸と光学異方性層（１ｃ）の表面側の面内遅相軸とのなす角が０°となるように、粘着剤Ｂを用いて、連続機にて貼り合せた。
上記粘着剤Ｂは、紫外線吸収剤として国際公開ＷＯ２０２１／００６０９７号公報に記載のＵＶ－２を含有し、屈折率を１．５４に制御されており、厚み２５μｍの粘着層が形成された。隣接する光学異方性層の軸方向で平均した屈折率と粘着剤との屈折率差はともに０．０８以内であった。
続いて、光学異方性層（１ｄ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（１ｄ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルムからなる光学異方性層（６ａ）上に、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｄ）がこの順に積層された光学フィルム（６ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）を得た。

（円偏光板の作製）
上記作製した長尺状の光学フィルム（６ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）の光学異方性層（６ａ）の表面と、上記作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、上記ＰＶＡ接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。
このようにして、光学フィルム（６ａ－１ｂ－１ｃ－１ｄ）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ７）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（６ａ）、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）および光学異方性層（１ｄ）が、この順に積層されており、偏光子の吸収軸と光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸がなす角度は７６°であった。また、光学異方性層（１ｂ）の面内遅相軸と、光学異方性層（１ｃ）の光学異方性層（１ｂ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は０°であった。光学異方性層（１ｃ）の液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。偏光子吸収軸と光学異方性層（１ｃ）の光学異方性層（１ｄ）側の表面での面内遅相軸とがなす角は５°であった。また、円偏光板Ｐ７の３８０ｎｍにおける透過率は１％以下であった。なお、透過率は（株）島津製作所製分光光度計ＵＶ－３１５０にて測定した。

＜比較例１＞
特許第５９６０７４３号の実施例１に記載の方法と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、垂直配向した円盤状液晶からなる光学異方性層（ｈ１）と、捩れ配向した円盤状液晶からなる光学異方性層（ｈ２）とが、この順に直接積層された光学フィルムを作製した。
このとき、光学異方性層（ｈ１）の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１８１ｎｍであり、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（ｈ１）側から見たとき、面内遅相軸方向は－１３°であった。また、光学異方性層（ｈ２）の波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１７２ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８１°であり、フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（ｈ２）側から見たとき、面内遅相軸方向は、空気側が－９４°、セルロースアシレートフィルムに接する側が－１３°であった。
上記作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム上に形成された積層体（ｈ１－ｈ２）のセルロースアシレートフィルムの表面と、上記作製した長尺状の直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、紫外線硬化型接着剤を用いて、連続的に貼り合せた。このようにして、円偏光板（ＰＨ）を作製した。

＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
（表示装置への実装）
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ４を分解し、円偏光板を剥離して、そこに上記実施例１～６と比較例１にて作製した円偏光板を、偏光子保護フィルムが外側に配置されるように、感圧型粘着剤を用いて表示装置に貼り合せた。

＜屈折率の測定＞
各実施例および比較例で用いた各光学異方性層を、粘着剤を用いてガラス上に転写したサンプルを準備し、反射分光膜厚計ＦＥ３０００（大塚電子株式会社製）を用い、光学異方性層の反射率スペクトルを測定し、得られた反射スペクトルから平均屈折率を算出した。平均屈折率の算出の際には、光学異方性層の両界面の屈折率は等しいとの仮定の下、反射率スペクトルを最小二乗法を用いて下記Ｃａｕｃｈｙの分散式にフィッティングすることにより、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎを求めた。ここで、Ｃ１、Ｃ２、および、Ｃ３はｎ－Ｃａｕｃｈｙのモデルのパラメータ、λは波長、ｋは減衰係数である。また、反射率スペクトルを測定したサンプルの厚みを、走査電子顕微鏡（日立ハイテクノロジーズ製、Ｓ－４８００）を用いて測定し、フィッティングの際に厚みとしてこの値を用いた。
なお、上述したように、上記により算出される平均屈折率は、上述した式（Ｎ１）で表される平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ）／２）に該当する。

なお、粘着剤層および接着剤層に関しても、上記と同様の方法で平均屈折率を測定した。

〔表示性能の評価〕
（正面方向）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において正面方向より観察し、色味づきを下記の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
Ａ：色味づきが全く視認されない、もしくは、視認されるものの、わずか。（許容）
Ｂ：色味づきが視認されるが、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
Ｃ：色味づきが視認され、反射光も大きく、許容できない。

（斜め方向）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において、極角４５°から蛍光灯を映し込んで、全方位から反射光を観察した。色味変化の方位角依存性を下記の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
Ａ：色味差が全く視認されない、もしくは、視認されるものの、ごくわずか。（許容） Ｂ：色味差が少し視認されるが許容範囲内であり、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
Ｃ：色味差が視認され、反射光も大きく、許容できない。

上記表１に示す結果から、本発明の位相差フィルムは、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきを抑制することができることが確認された。一方、比較例の位相差フィルムは、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、斜め方向における黒色の色味づき抑制が劣っていた。
なお、実施例７、８は、実施例６と同様に本発明の効果を示した。

１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ 位相差フィルム
１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ 第１光学異方性層
１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ 第２光学異方性層
１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ 第３光学異方性層
１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄ 第４光学異方性層
２０ 偏光子
２２ 密着層
１００Ａ，１００Ｂ 円偏光板

Claims (12)

1. 第１光学異方性層、第２光学異方性層、第３光学異方性層、および、第４光学異方性層をこの順に有し、
   前記第１光学異方性層が、Ｃプレートであり、
   前記第２光学異方性層が、Ａプレートであり、
   前記第３光学異方性層が、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
   前記第４光学異方性層が、Ｃプレートであり、
   前記第１光学異方性層がネガティブＣプレートである場合、前記第２光学異方性層がネガティブＡプレートであり、前記第３光学異方性層の前記液晶化合物が棒状液晶化合物であり、前記第４光学異方性層がポジティブＣプレートであり、
   前記第１光学異方性層がポジティブＣプレートである場合、前記第２光学異方性層がポジティブＡプレートであり、前記第３光学異方性層の前記液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、前記第４光学異方性層がネガティブＣプレートであり、
   前記第２光学異方性層の面内遅相軸と、前記第３光学異方性層の前記第２光学異方性層側の表面での面内遅相軸とのなす角が０～３０°の範囲内である、位相差フィルム。
2. 前記液晶化合物の捩れ角度が８０±３０°の範囲内である、請求項１に記載の位相差フィルム。
3. 前記第１光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの絶対値が５～１００ｎｍである、請求項１または２に記載の位相差フィルム。
4. 前記第２光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１２０～２４０ｎｍである、請求項１～３のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
5. 波長５５０ｎｍにおける前記第３光学異方性層の屈折率異方性Δｎと前記第３光学異方性層の厚みｄとの積Δｎｄの値が１２０～２４０ｎｍである、請求項１～４のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
6. 前記第４光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションの絶対値が５～１００ｎｍである、請求項１～５のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
7. 第１光学異方性層、第２光学異方性層、第３光学異方性層、および、第４光学異方性層をこの順に有し、
   前記第１光学異方性層と前記第２光学異方性層とが直接接しているか、密着層を介して積層されており、
   前記第２光学異方性層と前記第３光学異方性層とが直接接しているか、密着層を介して積層されており、
   前記第３光学異方性層と前記第４光学異方性層とが直接接しているか、密着層を介して積層されており、
   以下の要件１～４の少なくとも１つを満たす、位相差フィルム。
   要件１：前記第１光学異方性層の平均屈折率と、前記第１光学異方性層の前記第２光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差が０．１０以下である。
   要件２：前記第２光学異方性層の平均屈折率と、前記第２光学異方性層の前記第１光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差、および、前記第２光学異方性層の平均屈折率と、前記第２光学異方性層の前記第３光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下である。
   要件３：前記第３光学異方性層の平均屈折率と、前記第３光学異方性層の前記第２光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差、および、前記第３光学異方性層の平均屈折率と、前記第３光学異方性層の前記第４光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下である。
   要件４：前記第４光学異方性層の平均屈折率と、前記第４光学異方性層の前記第３光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差が０．１０以下である。
8. 第１光学異方性層、第２光学異方性層、第３光学異方性層、および、第４光学異方性層をこの順に有し
   前記第１光学異方性層が、Ｃプレートであり、
   前記第２光学異方性層が、Ａプレートであり、
   前記第３光学異方性層が、厚み方向にのびる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
   前記第４光学異方性層が、Ｃプレートであり、
   前記第１光学異方性層と前記第２光学異方性層、前記第２光学異方性層と前記第３光学異方性層、および、前記第３光学異方性層と前記第４光学異方性層、の少なくとも１つが密着層を介して積層され、
   前記密着層の平均屈折率と、前記密着層と隣接する光学異方性層の平均屈折率との差が０．１０以下である、位相差フィルム。
9. 前記第２光学異方性層と前記第３光学異方性層とが密着層を介して積層され、
   前記密着層の平均屈折率と、前記第２光学異方性層の平均屈折率との差が０．０８以下であり、
   前記密着層の平均屈折率と、前記第３光学異方性層の平均屈折率との差が０．０８以下である、請求項７または８に記載の位相差フィルム。
10. 以下の要件１～４の全てを満たす、請求項８に記載の位相差フィルム。
    要件１：前記第１光学異方性層の平均屈折率と、前記第１光学異方性層の前記第２光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差が０．１０以下である。
    要件２：前記第２光学異方性層の平均屈折率と、前記第２光学異方性層の前記第１光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差、および、前記第２光学異方性層の平均屈折率と、前記第２光学異方性層の前記第３光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下である。
    要件３：前記第３光学異方性層の平均屈折率と、前記第３光学異方性層の前記第２光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差、および、前記第３光学異方性層の平均屈折率と、前記第３光学異方性層の前記第４光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差の少なくとも一方が、０．１０以下である。
    要件４：前記第４光学異方性層の平均屈折率と、前記第４光学異方性層の前記第３光学異方性層側の表面と接している層の平均屈折率との差が０．１０以下である。
11. 偏光子と、請求項１～１０のいずれか１項に記載の位相差フィルムとを含む、円偏光板。
12. 請求項１～１０のいずれか１項に記載の位相差フィルムまたは請求項１１に記載の円偏光板を含む、表示装置。

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