WO2020149343A1

WO2020149343A1 - 積層体および画像表示装置

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Publication number: WO2020149343A1
Application number: PCT/JP2020/001185
Authority: WO
Inventors: 柴田　直也; 侑也濱口; 健裕笠原; 直希小糸
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2019-01-17
Filing date: 2020-01-16
Publication date: 2020-07-23
Also published as: CN117987028A; JP2023174691A; US12103292B2; CN113302051A; JPWO2020149343A1; JP7357008B2; US20210347149A1

Abstract

本発明は、湿熱耐久性に優れた、粘着剤層で挟まれた光吸収異方性層を含む積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。本発明の積層体は、粘着剤層１、光吸収異方性層、および、粘着剤層２をこの順に有する積層体であって、光吸収異方性層が有機二色性物質を含み、光吸収異方性層の厚みが５μｍ以下であり、粘着剤層１および粘着剤層２がそれぞれ積層体中で光吸収異方性層から見て最も近い位置にある粘着剤層であり、下記式（Ｉ）で表されるＨが１０．０以下である、積層体である。　Ｈ＝（粘着剤層１の厚み＋粘着剤層２の厚み）／粘着剤層１および粘着剤層２よりも内側にある層の総厚み　式（Ｉ）

Description

積層体および画像表示装置

　本発明は、積層体および画像表示装置に関する。

　近年、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示装置の薄型化が進んでおり、使用される各部材に対してより薄型化が求められている。
　有機ＥＬ表示装置は、反射率が高いため、外光の反射防止の観点からλ／４板および偏光子からなる円偏光板が用いられているが、この円偏光板も薄型化が求められている。
　しかしながら、円偏光板に一般的に使用されているヨウ素偏光子は、ヨウ素をポリビニルアルコールのような高分子材料に溶解又は吸着させ、その膜を一方向にフィルム状に高倍率に延伸することで作製されており、十分な薄型化が困難であった。

　そのため、透明フィルムなどの基板上に二色性アゾ色素を塗布し、分子間相互作用などを利用して配向させた偏光素子が検討されている。
　例えば、特許文献１には、高い二色性アゾ色素濃度かつ薄膜で高い偏光度を有する偏光素子が提案されている。
　また、特許文献２には、特定の液晶性化合物を用いて二色性アゾ色素化合物の結晶性を高めることで、高い配向度を有する偏光素子が提案されている。

特許第５４３７７４４号公報国際公開第２０１８／１２４１９８号

　本発明者らは、特許文献１および２などに記載された偏光素子（以下、「光吸収異方性層」ともいう。）について、画層表示素子などと貼り合わせるために、光吸収異方性層を２つの粘着剤層で挟んだ層構成を有する積層体を作製したところ、これを高温高湿環境に晒すと、光吸収異方性層にシワが発生してしまうことを明らかとした。

　そこで、本発明は、湿熱耐久性に優れた、粘着剤層で挟まれた光吸収異方性層を含む積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。

　本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、有機二色性物質を含む光吸収異方性層が粘着剤層に挟まれた構成において、粘着剤層の総厚みと、粘着剤層に挟まれる層の総厚みを適切に制御することで本発明の課題を達成できることを見出した。
　すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

　［１］　粘着剤層１、光吸収異方性層、および、粘着剤層２をこの順に有する積層体であって、
　光吸収異方性層が、有機二色性物質を含み、
　光吸収異方性層の厚みが、５μｍ以下であり、
　粘着剤層１および粘着剤層２が、それぞれ、積層体中で光吸収異方性層から見て最も近い位置にある粘着剤層であり、
　下記式（Ｉ）で表されるＨが、１０．０以下である、積層体。
　Ｈ＝（粘着剤層１の厚み＋粘着剤層２の厚み）／粘着剤層１および粘着剤層２よりも内側にある層の総厚み　　式（Ｉ）

　［２］　上記式（Ｉ）で表されるＨが、６．０以下である、［１］に記載の積層体。
　［３］　上記式（Ｉ）で表されるＨが、４．０以下である、［１］または［２］に記載の積層体。
　［４］　粘着剤層１および粘着剤層２の少なくとも一方の貯蔵弾性率が、０．１ＭＰａ以上である、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
　［５］　粘着剤層１および粘着剤層２の両方の貯蔵弾性率が、それぞれ０．１ＭＰａ以上である、［４］に記載の積層体。
　［６］　粘着剤層１および粘着剤層２の少なくとも一方の貯蔵弾性率が、０．５ＭＰａ以上である、［４］または［５］に記載の積層体。
　［７］　粘着剤層１の貯蔵弾性率が、０．５ＭＰａ以上である、［６］に記載の積層体。
　［８］　粘着剤層１および粘着剤層２の両方の貯蔵弾性率が、それぞれ０．５ＭＰａ以上である、［６］に記載の積層体。
　［９］　粘着剤層１の厚みが、８μｍ以下である、［１］～［８］のいずれかに記載の積層体。
　［１０］　光吸収異方性層の厚みが、０．８μｍ以下である、［１］～［９］のいずれかに記載の積層体。

　［１１］　粘着剤層１および粘着剤層２の少なくとも一方が、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する、［１］～［１０］のいずれかに記載の積層体。

　上記式（Ａ）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１～６のアルキル基を表す。

　［１２］　粘着剤層１、光吸収異方性層、硬化型接着剤層、光学異方性層、および、粘着剤層２をこの順に有する、［１］～［１１］のいずれかに記載の積層体。
　［１３］　粘着剤層１、酸素遮断層、硬化層、光吸収異方性層、硬化型接着剤層、光学異方性層、および、粘着剤層２をこの順に有する、［１］～［１２］のいずれかに記載の積層体。
　［１４］　粘着剤層１、酸素遮断層、硬化層、光吸収異方性層、硬化型接着剤層、光学異方性層、および、粘着剤層２をこの順に隣接して有する、［１３］に記載の積層体。
　［１５］　硬化型接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、［１３］または［１４］に記載の積層体。
　［１６］　粘着剤層１の光吸収異方性層を有する側とは反対側に、更に表面保護層を有する、［１］～［１５］のいずれかに記載の積層体。

　［１７］　［１］～［１６］のいずれかに記載の積層体と、画像表示素子とを有し、
　画層表示素子が、粘着剤層２の光吸収異方性層を有する側とは反対側に配置される、画像表示装置。
　［１８］　画像表示素子が、有機ＥＬ表示素子である、［１７］に記載の画像表示装置。

　本発明によれば、湿熱耐久性に優れた、粘着剤層で挟まれた光吸収異方性層を含む積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することができる。

図１は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。図２は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書において、平行、直交、水平、および、垂直とは、それぞれ厳密な意味での平行、直交、水平、および、垂直を意味するのではなく、それぞれ、平行±１０°の範囲、直交±１０°の範囲、水平±１０°、および、垂直±１０°の範囲を意味する。
　また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
　また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。

（面内平均屈折率測定方法）
　面内平均屈折率は、Ｗｏｏｌｌａｍ社製分光エリプソメトリＭ－２０００Ｕを用いて測定される。面内における屈折率最大となる方向をｘ軸、それに対し直交する方向をｙ軸、面内に対し法線方向をｚ軸とし、それぞれの方向での屈折率をｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚと定義する。本発明における面内平均屈折率（ｎ_ａｖｅ）は、下記式（１）で表される。
　式（１）　ｎ_ａｖｅ＝（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２

［積層体］
　本発明の積層体（１００）は図１に示すように、粘着剤層１（１）、光吸収異方性層（２）、および、粘着剤層２（３）をこの順に有する積層体（１００）であって、光吸収異方性層（２）が有機二色性物質を含み、光吸収異方性層（２）の厚みが５μｍ以下であり、粘着剤層１（１）および粘着剤層２（３）が、それぞれ積層体中（１００）で光吸収異方性層（２）から見て最も近い位置にある粘着剤層であり、
　下記式（Ｉ）で表されるＨ（以下、単に「Ｈ値」とも略す。）が１０．０以下である積層体である。
　Ｈ＝（粘着剤層１の厚み＋粘着剤層２の厚み）／粘着剤層１および粘着剤層２よりも内側にある層の総厚み　　式（Ｉ）
　ここで、「粘着剤層１および粘着剤層２が、それぞれ積層体中で光吸収異方性層から見て最も近い位置にある」とは、粘着剤層１および粘着剤層２の間には、他に粘着剤層を有さないということである。そのため、例えば、本発明の積層体が、粘着剤層を３つ以上有する場合には、粘着剤層１は、光吸収異方性層の粘着剤２を有する側とは反対側の最も近い位置に存在する粘着剤層であり、粘着剤層２は、光吸収異方性層の粘着剤１を有する側とは反対側の最も近い位置に存在する粘着剤層である。

　本発明においては、湿熱耐久性がより良好となる理由から、Ｈ値は、６．０以下が好ましく、４．０以下が更に好ましい。下限は特に限定はないが、通常は０．１以上である。

　本発明の積層体（２００）は、Ｈ値を小さくできる理由から、粘着剤層１、光吸収異方性層、硬化型接着剤層、光学異方性層、および、粘着剤層２をこの順に有する積層体であることが好ましい。
　また、本発明の積層体（２００）は、Ｈ値を小さくできる理由から、図２に示すように、粘着剤層１（１）、酸素遮断層（５）、硬化層（６）、光吸収異方性層（２）、硬化型接着剤層（７）、光学異方性層（８）、および、粘着剤層２（３）をこの順に有する積層体であることが好ましく、これらの層を互いに隣接して有する積層体であることがより好ましい。
　更に、本発明の積層体（２００）は、表面の耐傷性が向上する理由から、図２に示すように、粘着剤層１（１）の光吸収異方性層（２）を有する側とは反対側に、更に表面保護層（４）を有していることが好ましい。

〔光吸収異方性層〕
　本発明の積層体が有する光吸収異方性層は、有機二色性物質を含み、厚みが５μｍ以下である光吸収異方性層である。
　本発明においては、光吸収異方性層の厚みは、０．１～５μｍであることが好ましく、０．１～３μｍであることがより好ましい。特に、本発明の効果が顕著となる理由から、０．８μｍ以下であることが好ましく、０．１～０．８μｍであることがより好ましい。
　また、本発明においては、光吸収異方性層は、有機二色性物質を含有する組成物（以下、「光吸収異方性層形成用組成物」ともいう。）を用いて形成されることが好ましい。

　＜有機二色性物質＞
　本発明に用いられる有機二色性物質としては特に限定はない。
　有機二色性物質としては、二色性アゾ色素化合物が好ましく、通常いわゆる塗布型偏光子に用いられる二色性アゾ色素化合物を用いることができる。二色性アゾ色素化合物は、特に限定されず、従来公知の二色性アゾ色素を使用することができるが、後述の化合物が好ましく用いられる。

　本発明において、二色性アゾ色素化合物とは、方向によって吸光度が異なる色素を意味する。
　二色性アゾ色素化合物は、液晶性を示してもよいし、液晶性を示さなくてもよい。
　二色性アゾ色素化合物が液晶性を示す場合には、ネマチック性またはスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶相を示す温度範囲は、室温（約２０℃～２８℃）～３００℃が好ましく、取扱い性および製造適性の観点から、５０℃～２００℃であることがより好ましい。

　本発明においては、色味調整の観点から、光吸収異方性層が、波長５６０～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（以下、「第１の二色性アゾ色素化合物」とも略す。）と、波長４５５ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（以下、「第２の二色性アゾ色素化合物」とも略す。）とを少なくとも有していることが好ましく、具体的には、後述する式（１）で表される二色性アゾ色素化合物と、後述する式（２）で表される二色性アゾ色素化合物とを少なくとも有していることがより好ましい。

　本発明においては、３種以上の二色性アゾ色素化合物を併用してもよく、例えば、光吸収異方性層を黒色に近づける観点から、第１の二色性アゾ色素化合物と、第２の二色性アゾ色素化合物と、波長３８０ｎｍ以上４５５ｎｍ未満の範囲（好ましくは、波長３８０～４５４ｎｍの範囲）に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（以下、「第３の二色性アゾ色素化合物」とも略す。）を併用することが好ましい。

　本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、二色性アゾ色素化合物が架橋性基を有していることが好ましい。
　架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

（第１の二色性アゾ色素化合物）
　第１の二色性アゾ色素化合物は、核である発色団と、発色団の末端に結合する側鎖と、を有する化合物であることが好ましい。
　発色団の具体例としては、芳香族環基（例えば、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基）、アゾ基などが挙げられ、芳香族環基およびアゾ基の両方を有する構造が好ましく、芳香族複素環基（好ましくはチエノチアゾール基）と２つのアゾ基を有するビスアゾ構造がより好ましい。
　側鎖としては、特に限定されず、後述の式（１）のＬ３、Ｒ２またはＬ４で表される基が挙げられる。

　第１の二色性アゾ色素化合物は、偏光子の色味調整の観点から、最大吸収波長が５６０ｎｍ以上７００ｎｍ以下（より好ましくは５６０～６５０ｎｍ、特に好ましくは５６０～６４０ｎｍ）の範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であるのが好ましい。
　本明細書における二色性アゾ色素化合物の最大吸収波長（ｎｍ）は、二色性アゾ色素化合物を良溶媒中に溶解させた溶液を用いて、分光光度計によって測定される波長３８０～８００ｎｍの範囲における紫外可視光スペクトルから求められる。

　本発明においては、形成される光吸収異方性層の配向度が更に向上する理由から、第１の二色性アゾ色素化合物が、下記式（１）で表される化合物であることが好ましい。

　式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、または、置換基を有していてもよいナフチレン基を表し、フェニレン基が好ましい。

　式（１）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１～２０の置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、または、アルキルシリル基を表す。
　上記アルキル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ１’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－または－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、によって置換されていてもよい。
　Ｒ１が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－Ｎ（Ｒ１’）_２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＮＯ_２、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（ＣＮ）_２、によって置換されていてもよい。
　Ｒ１’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ１’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。

　式（１）中、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、または、アリールアミド基を表す。
　上記アルキル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂－、－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、によって置換されていてもよい。
　Ｒ２およびＲ３が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＨ基、－Ｎ（Ｒ２’）_２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＮＯ_２、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（ＣＮ）_２、によって置換されていてもよい。
　Ｒ２’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ２’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよいし、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成してもよい。

　耐光性の観点からは、Ｒ１は電子吸引性基であることが好ましく、Ｒ２およびＲ３は電子供与性が低い基であることが好ましい。
　このような基の具体例として、Ｒ１としては、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルスルフィニル基、および、アルキルウレイド基などが挙げられ、Ｒ２およびＲ３としては、下記の構造の基などが挙げられる。なお下記の構造の基は、上記式（１）において、Ｒ２およびＲ３が結合する窒素原子を含む形で示す。

　第１の二色性アゾ色素化合物の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。

　（第２の二色性アゾ色素化合物）
　第２の二色性アゾ色素化合物は、第１の二色性アゾ色素化合物異なる化合物であり、具体的にはその化学構造が異なっている。
　第２の二色性アゾ色素化合物は、二色性アゾ色素化合物の核である発色団と、発色団の末端に結合する側鎖と、を有する化合物であることが好ましい。
　発色団の具体例としては、芳香族環基（例えば、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基）、アゾ基などが挙げられ、芳香族炭化水素基およびアゾ基の両方を有する構造が好ましく、芳香族炭化水素基と２または３つのアゾ基とを有するビスアゾまたはトリスアゾ構造がより好ましい。
　側鎖としては、特に限定されず、後述の式（２）のＲ４、Ｒ５またはＲ６で表される基が挙げられる。

　第２の二色性アゾ色素化合物は、波長４５５ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であり、偏光子の色味調整の観点から、波長４５５～５５５ｎｍの範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であることが好ましく、波長４５５～５５０ｎｍの範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であることがより好ましい。
　特に、最大吸収波長が５６０～７００ｎｍである第１の二色性アゾ色素化合物と、最大吸収波長が４５５ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の第２の二色性アゾ色素化合物と、を用いれば、偏光子の色味調整がより容易になる。

　第２の二色性アゾ色素化合物は、偏光子の配向度がより向上する点から、式（２）で表される化合物であるのが好ましい。

　式（２）中、ｎは１または２を表す。
　式（２）中、Ａｒ３、Ａｒ４およびＡｒ５はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基または置換基を有していてもよい複素環基を表す。
　複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよい。
　芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
　芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

　式（２）中、Ｒ４の定義は、式（１）中のＲ１と同様である。
　式（２）中、Ｒ５およびＲ６の定義はそれぞれ、式（１）中のＲ２およびＲ３と同様である。

　耐光性の観点からは、Ｒ４は電子吸引性基であることが好ましく、Ｒ５およびＲ６は電子供与性が低い基であることが好ましい。
　このような基のうち、Ｒ４が電子吸引性基である場合の具体例は、Ｒ１が電子吸引性基である場合の具体例と同様であり、Ｒ５およびＲ６が電子供与性の低い基である場合の具体例は、Ｒ２およびＲ３が電子供与性の低い基である場合の具体例と同様である。

　第２の二色性アゾ色素化合物の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。

　（ｌｏｇＰ値の差）
　ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標である。第１の二色性アゾ色素化合物の側鎖のｌｏｇＰ値と、第２の二色性アゾ色素化合物の側鎖のｌｏｇＰ値と、の差の絶対値（以下、「ｌｏｇＰ差」ともいう。）は、２．３０以下が好ましく、２．０以下がより好ましく、１．５以下がさらに好ましく、１．０以下が特に好ましい。ｌｏｇＰ差が２．３０以下であれば、第１の二色性アゾ色素化合物と第２の二色性アゾ色素化合物との親和性が高まって、配列構造をより形成しやすくなるため、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
　なお、第１の二色性アゾ色素化合物または第２の二色性アゾ色素化合物の側鎖が複数ある場合、少なくとも１つのｌｏｇＰ差が上記値を満たすことが好ましい。
　ここで、第１の二色性アゾ色素化合物および第２の二色性アゾ色素化合物の側鎖とは、上述した発色団の末端に結合する基を意味する。例えば、第１の二色性アゾ色素化合物が式（１）で表される化合物である場合、式（１）中のＲ１、Ｒ２およびＲ３が側鎖であり、第２の二色性アゾ色素化合物が式（２）で表される化合物である場合、式（２）中のＲ４、Ｒ５およびＲ６が側鎖である。特に、第１の二色性アゾ色素化合物が式（１）で表される化合物であり、第２の二色性アゾ色素化合物が式（２）で表される化合物である場合、Ｒ１とＲ４とのｌｏｇＰ値の差、Ｒ１とＲ５とのｌｏｇＰ値の差、Ｒ２とＲ４とのｌｏｇＰ値の差、および、Ｒ２とＲ５とのｌｏｇＰ値の差のうち、少なくとも１つのｌｏｇＰ差が上記値を満たすことが好ましい。

　ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤＧｕｉｄｅｌｉｎｅｓｆｏｒｔｈｅＴｅｓｔｉｎｇｏｆＣｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ１，ＴｅｓｔＮｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。

　（第３の二色性アゾ色素化合物）
　第３の二色性アゾ色素化合物は、第１の二色性アゾ色素化合物および第２の二色性アゾ色素化合物以外の二色性アゾ色素化合物であり、具体的には、第１の二色性アゾ色素化合物および第２の二色性アゾ色素化合物とは化学構造が異なっている。光吸収異方性層が第３の二色性アゾ色素化合物を含有すれば、光吸収異方性層の色味の調整が容易になるという利点がある。
　第３の二色性アゾ色素化合物の最大吸収波長は、３８０ｎｍ以上４５５ｎｍ未満であり、３８５～４５４ｎｍが好ましい。
　第３の二色性アゾ色素化合物の具体例としては、国際公開第２０１７／１９５８３３号に記載の式（１）で表される化合物が挙げられる化合物のうち、上記第１の二色性アゾ色素化合物および上記第２の二色性アゾ色素化合物以外の化合物が挙げられる。

　以下に、第３の二色性色素化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例中、ｎは、１～１０の整数を表す。

　（二色性アゾ色素化合物の含有量）
　二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層の全固形分質量に対して、１５～３０質量％が好ましく、１８～２８質量％がより好ましく、２０～２６質量％が更に好ましい。二色性アゾ色素化合物の含有量が上記範囲内にあれば、光吸収異方性層を薄膜にした場合であっても、高配向度の光吸収異方性層を得ることができる。そのため、フレキシブル性に優れた光吸収異方性層が得られやすい。また、３０質量％を超えると、屈折率調整層による内部反射の抑制が困難となる。
　第１の二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の二色性アゾ色素化合物全体の含有量１００質量部に対して、４０～９０質量部が好ましく、４５～７５質量部がより好ましい。
　第２の二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の二色性アゾ色素化合物全体の含有量１００質量に対して、６～５０質量部が好ましく、８～３５質量部がより好ましい。
　第３の二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の二色性アゾ色素化合物の含有量１００質量に対して、３～３５質量部が好ましく、５～３０質量部がより好ましい。
　第１の二色性アゾ色素化合物と、第２の二色性アゾ色素化合物と、および必要に応じて用いられる第３の二色性アゾ色素化合物と、の含有比は、光吸収異方性層の色味調整するために、任意に設定することができる。ただし、第１の二色性アゾ色素化合物に対する第２の二色性アゾ色素化合物の含有比（第２の二色性アゾ色素化合物／第１の二色性アゾ色素化合物）は、モル換算で、０．１～１０が好ましく、０．２～５がより好ましく、０．３～０．８が特に好ましい。第１の二色性アゾ色素化合物に対する第２の二色性アゾ色素化合物の含有比が上記範囲内にあれば、配向度が高められる。

　＜液晶性化合物＞
　光吸収異方性層形成用組成物は、液晶性化合物を含有してもよい。液晶性化合物を含有することで、有機二色性物質（特に、二色性アゾ色素化合物）の析出を抑止しながら、有機二色性物質（特に、二色性アゾ色素化合物）を高い配向度で配向させることができる。
　液晶性化合物は、二色性を示さない液晶性化合物である。
　液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができるが、高分子液晶性化合物が高配向度を得るうえでより好ましい。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
　低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。
　高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
　液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　液晶性化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の有機二色性物質（特に、二色性アゾ色素化合物）の含有量１００質量部に対して、１００～６００質量部が好ましく、２００～４５０質量部がより好ましく、２５０～４００質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。

　液晶性化合物は、有機二色性物質（特に、二色性アゾ色素化合物）の配向度がより優れる理由から、下記式（３-１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（３－１）」とも言う）を含む高分子液晶性化合物であることが好ましい。

　上記式（３－１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

　繰り返し単位（３－１）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が４以上であることが好ましい。さらに好ましくは、４．５以上である。主鎖、Ｌ１およびスペーサー基のｌｏｇＰ値と、メソゲン基のｌｏｇ値と、が所定値以上離れているので、主鎖からスペーサー基までの構造とメソゲン基との相溶性が低い状態にある。これにより、高分子液晶性化合物の結晶性が高くなり、高分子液晶性化合物の配向度が高い状態にあると推測される。このように、高分子液晶性化合物の配向度が高いと、高分子液晶性化合物と有機二色性物質（特に、二色性アゾ色素化合物）との相溶性が低下して（すなわち、二色性アゾ色素化合物の結晶性が向上する）、二色性アゾ色素化合物の配向度が向上すると推測される。その結果、得られる光吸収異方性層の配向度が高くなると考えられる。

　Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。

　式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（３－１）におけるＬ１との結合位置を表す。
　上記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
　上記式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
　上記式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
　上記式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
　上記式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ^１４（ＯＲ^１５）_２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ^１４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ^１４と同義であり、複数のＲ^１５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。

　Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
　Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^３－、－ＮＲ^３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ_２－、および、－ＮＲ^３Ｒ^４－などが挙げられる。式中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。

　ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
　ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ_２－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（３－１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
　また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ）_ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、＊－（ＣＦ_２－ＣＦ_２）_ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

　Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「ＦｌｕｓｓｉｇｅＫｒｉｓｔａｌｌｅｉｎＴａｂｅｌｌｅｎＩＩ」（ＶＥＢＤｅｕｔｓｃｈｅＶｅｒｌａｇｆｕｒＧｒｕｎｄｓｔｏｆｆＩｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
　メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
　メソゲン基は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。

　メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、光吸収異方性層の配向度がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。

　式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基又は置換基で置換されていてもよい。
　Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
　＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

　Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

　Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
　２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
　２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

　Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

　式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

　式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。

　式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ_２）_ｇ－、－（ＣＦ_２）_ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）_２－Ｃ（Ｚ’）_２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ''）－、－Ｎ（Ｚ''）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ''は独立に、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。
　なかでも、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。
　ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

　Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

　Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
　Ｔ１は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
　Ｔ１の主鎖の原子数は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

　繰り返し単位（３－１）の含有量は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましい。
　本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
　繰り返し単位（３－１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（３－１）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（３－１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

　高分子液晶性化合物が繰り返し単位（３－１）を２種含む場合、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、一方（繰り返し単位Ａ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基であり、他方（繰り返し単位Ｂ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基以外の基であることが好ましい。
　上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、又は、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、又は、シアノ基であることがより好ましい。
　高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、５０／５０～９５／５であることが好ましく、６０／４０～９３／７であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。

　＜繰り返し単位（３－２）＞
　本発明の高分子液晶性化合物は、さらに、下記式（３－２）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（３－２）」ともいう。）を含んでいてもよい。これにより、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。
　繰り返し単位（３－２）は、少なくともメソゲン基を有しないという点で、上記繰り返し単位（３－１）と異なる。
　高分子液晶性化合物が繰り返し単位（３－２）を含む場合には、高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（３－１）と繰り返し単位（３－２）との共重合体であり（さらに、繰り返し単位Ａ，Ｂを含む共重合体であってもよい）、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

　式（３－２）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
　式（３－２）におけるＰ３、Ｌ３、ＳＰ３およびＴ３の具体例はそれぞれ、上記式（３－１）におけるＰ１、Ｌ１、ＳＰ１およびＴ１と同様である。
　ここで、式（３－２）におけるＴ３は、光吸収異方性層の強度が向上する観点から、重合性基を有することが好ましい。

　繰り返し単位（３－２）を含有する場合の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～４０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
　繰り返し単位（３－２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（３－２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

（重量平均分子量）
　高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、光吸収異方性層の配向度がより優れる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
　特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
　また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
　ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
　・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
　・装置名：ＴＯＳＯＨＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
　・カラム：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
　・カラム温度：２５℃
　・試料濃度：０．１質量％
　・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
　・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン　Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

〔粘着剤層〕
　本発明の積層体が有する粘着剤層１および粘着剤層２（以下、これらの区別を有しない場合は、単に「粘着剤層」と略す。）は、通常位相差フィルムや表示素子の貼り合わせに用いられる粘着剤層であれば特に限定はない。
　また、粘着剤層１および粘着剤層２の厚み、素材等は同一であっても異なっていてもよい。
　ここで、粘着剤層に含まれる粘着剤とは、貼り合わせた後に力を印加するだけで接着性が発現する粘弾性体であり、貼り合わせた後の乾燥や反応により接着性を発現する後述の接着剤は含まない。

　粘着剤層に用いられる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
　これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。

　本発明においては、湿熱耐久性がより良好となる理由から、粘着剤層１および粘着剤層２の少なくとも一方が、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有していることが好ましい。

　上記式（Ａ）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１～６のアルキル基を表す。
　ここで、アルキル基としては、直鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよいが、直鎖状のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ブチル基などが挙げられる。
　分岐状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基などが挙げられる。
　環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。

　粘着剤層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
　粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
　塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。

　また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。

　本発明に用いられる粘着剤層の貯蔵弾性率は、０．１ＭＰａ以上が好ましく、０．５ＭＰａ以上がより好ましい。
　粘着剤層１および粘着剤層２のいずれかが上記貯蔵弾性率を満たしていることが好ましく、両方が上記貯蔵弾性率を満たしていることがより好ましい。
　本発明においては、鉛筆硬度が向上する理由から、粘着剤層１の貯蔵弾性率が、０．５ＭＰａ以上であることが好ましい。

《貯蔵弾性率の測定方法》
　本発明において貯蔵弾性率は、アイティー計測制御株式会社製の動的粘弾性測定装置（ＤＶＡ－２００）を用いて、周波数１Ｈｚ、２５℃の条件で測定した値をいう。

　本発明においては、粘着剤層の厚み特に限定されないが、１～５０μｍであることが好ましく、３～３０μｍであることがより好ましい。
　特に、鉛筆硬度が向上する理由から、粘着剤層１の厚みが、８μｍ以下であることが好ましく、３～８μｍであることがより好ましい。

〔接着剤層〕
　本発明の積層体は、接着剤層を有していてもよい。
　接着剤としては、貼り合わせた後の乾燥や反応により接着性を発現するものであれば特に限定されない。
　ポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）は、乾燥により接着性が発現し、材料どうしを接着することが可能となる。
　反応により接着性を発現する硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤のような活性エネルギー線硬化型接着剤やカチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。
　また、カチオン重合硬化型接着剤としては、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。

〔光学異方性層〕
　本発明の積層体は、上述したように、光学異方性層を有していてもよい。
　本発明は、反射防止機能を付与するための積層体が最も好ましい態様であり、その場合、光学異方性層は、λ／４板であることが好ましい。
　λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板（位相差フィルム）のことであり、ポジティブＡプレートのＲｅをλ／４に調整して作成することが好ましい。斜め方向から視認した時の色味変化や黒表示時の光漏れを改善するためには、さらにポジティブＣプレートを組み合わせることが好ましい。このとき、反射防止板のトータルＲｔｈがゼロに近くなるように調整することが好ましい。
　反射防止板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置の反射防止用途に好適に用いられ、表示光のコントラスト比を向上させることができる。
　例えば、有機ＥＬ表示装置の光取り出し面側に反射防止板を設けることができる。この場合、外光は偏光子によって直線偏光となり、次に位相差板を通過することで、円偏光となる。これが有機ＥＬパネルの金属電極等にて反射された際に円偏光状態が反転し、再び位相差板を通過した際に、入射時から９０°傾いた直線偏光となり、偏光子に到達して吸収される。結果として、外光の影響を抑制することができる。

　本発明に用いられる光学異方性層は、光吸収異方性層と粘着剤層２の間に有していてもよいし、粘着剤層２の外側に有していてもよい。光吸収異方性層と粘着剤層２の間に光学異方性層を有する場合は、各層の貼り合わせは粘着剤層ではなく、後述する硬化型接着剤層を用いることが好ましい。

　本発明の積層体は、例えば、光吸収異方性層と光学異方性層であるλ／４のポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを接着剤等により貼り合わせることで製造することができる。
　光学異方性層が、λ／４のポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートから構成されている場合、ポジティブＣプレート側の面で光吸収異方性層と接着されていてもよく、その反対側の面で、光吸収異方性層と接着されていてもよい。
　あるいは光吸収異方性層上にλ／４のポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを直接形成することにより製造することができる。特許第６２４３８６９号公報の実施例１９に記載されているように、光吸収異方性層とポジティブＡプレートの間には、配向層を加えることも好ましい。また、特許第６１２３５６３号公報の実施例１にあるように光吸収異方性層とポジティブＡプレートの間に保護層を加えることも可能である。あるいは、λ／４のポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを形成したのちに、光吸収異方性層を形成する方法も可能である。

　反射防止板のポジティブＡプレートの遅相軸方向と光吸収異方性層の吸収軸方向とのなす角は４５°±１０°の範囲であることが好ましい。ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートの光学特性としては、特に色味変化を抑制する観点から、ＲｅやＲｔｈの波長分散が逆分散性を示すことが好ましい。

　反射防止板の製造の際は、例えば、光吸収異方性層とポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートとが、それぞれ長尺の状態で連続的に積層される工程を含むことが好ましい。長尺の反射防止板は、用いられる画像表示装置の画面の大きさに合わせて裁断される。

　光学異方性層は、液晶性化合物から形成すると薄層化できるため、フレキシブル化の点で好ましい。また、光耐久性の観点で、後述する式（４）で表される重合性液晶性化合物を含む組成物を用いて形成された層を含むことが好ましい。
　以下では、まず、光学異方性層の形成に用いられる組成物（以下、「光学異方性層形成用組成物」とも略す。）中の成分について詳述し、その後、光学異方性層の製造方法および特性について詳述する。

（式（４）で表される重合性液晶性化合物）
　光学異方性層形成用組成物には、式（４）で表される重合性液晶性化合物が含まれる。式（４）で表される重合性液晶性化合物は、液晶性を示す化合物である。

　上記式（４）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｄ^３およびＤ^４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、または、－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
　また、上記式（４）中、ＳＰ^１およびＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
　また、上記式（４）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、下記式（Ａｒ－３）で表される芳香環である場合は、Ｌ^１およびＬ^２ならびに下記式（Ａｒ－３）中のＬ^３およびＬ^４の少なくとも１つが重合性基を表す。

　上記式（４）中、ＳＰ^１およびＳＰ^２が示す炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、および、へプチレン基が好ましい。なお、ＳＰ^１およびＳＰ^２は、上述した通り、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基であってもよく、Ｑで表される置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

　上記式（４）中、Ｌ^１およびＬ^２が示す１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、および、ヘテロアリール基が挙げられる。
　アルキル基は、直鎖状、分岐状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。
　また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが、単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。
　また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、または、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましい。
　また、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

　上記式（４）中、Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方が示す重合性基は特に制限されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
　ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用できる。
　カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
　特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。なお、下記式中、＊は、重合性基の結合位置を表す。

　上記式（４）中、積層体の熱耐久性がより優れる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう）から、上記式（４）中のＬ^１およびＬ^２が、いずれも重合性基であることが好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることがより好ましい。

　一方、上記式（４）中、Ａｒは、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）中、＊は、上記式（４）中のＤ^１またはＤ^２との結合位置を表す。

　ここで、上記式（Ａｒ－１）中、Ｑ^１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ^２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ^５）－を表し、Ｒ^５は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ^１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
　Ｒ^５が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
　Ｙ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、および、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
　Ｙ^１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、および、ピリジル基などのヘテロアリール基が挙げられる。
　また、Ｙ^１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、および、ハロゲン原子が挙げられる。
　アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、および、シクロヘキシル基など）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
　アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基など）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
　ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、中でも、フッ素原子、または、塩素原子が好ましい。

　また、上記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ^６、－ＮＲ^７Ｒ^８、または、－ＳＲ^９を表し、Ｒ^６～Ｒ^９は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ^１およびＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
　炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、または、１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、または、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
　炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、および、エチルシクロヘキシル基などの単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、および、シクロデカジエンなどの単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１^３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１^３，６．０^２，７］ドデシル基、および、アダマンチル基などの多環式飽和炭化水素基；などが挙げられる。
　炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
　ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。
　一方、Ｒ^６～Ｒ^９が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。

　また、上記式（Ａｒ－２）および（Ａｒ－３）中、Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^１０）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ^１０は、水素原子または置換基を表す。
　Ｒ^１０が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

　また、上記式（Ａｒ－２）中、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子を表す。
　また、Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、および、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、および、水酸基が挙げられる。

　また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｄ^５およびＤ^６は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、または、－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。

　また、上記式（Ａｒ－３）中、ＳＰ^３およびＳＰ^４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

　また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^３およびＬ^４ならびに上記式（４）中のＬ^１およびＬ^２の少なくとも１つが重合性基を表す。
　１価の有機基としては、上記式（４）中のＬ^１およびＬ^２において説明したものと同様のものが挙げられる。
　また、重合性基としては、上記式（４）中のＬ^１およびＬ^２において説明したものと同様のものが挙げられる。

　また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
　また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
　ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
　また、Ｑ^３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
　ＡｘおよびＡｙとしては、国際公開第２０１４／０１０３２５号の段落［００３９］～［００９５］に記載されたものが挙げられる。
　また、Ｑ^３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

　このような重合性液晶性化合物（４）としては、例えば、特開２０１０－０８４０３２号公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落番号［００６７］～［００７３］に記載の化合物）、特開２０１６－０５３７０９号公報に記載の一般式（ＩＩ）で表される化合物（特に、段落番号［００３６］～［００４３］に記載の化合物）、および、特開２０１６－０８１０３５公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落番号［００４３］～［００５５］に記載の化合物）等が挙げられる。

　また、このような重合性液晶性化合物（４）としては、例えば、下記式（１）～（２２）で表される化合物が好適に挙げられ、具体的には、下記式（１）～（２２）中のＫ（側鎖構造）として、下記表１および表２に示す側鎖構造を有する化合物がそれぞれ挙げられる。
　なお、下記表１および表２中、Ｋの側鎖構造に示される「＊」は、芳香環との結合位置を表す。
　また、以下の説明においては、下記式（１）で表され、かつ、下記表１中の１－１に示す基を有する化合物を「化合物（１－１－１）」と表記し、他の構造式および基を有する化合物についても同様の方法で表記する。例えば、下記式（２）で表され、かつ、下記表２中の２－３に示す基を有する化合物は「化合物（２－２－３）」と表記できる。
　また、下記表１中の１－２および下記表２中の２－２で表される側鎖構造において、それぞれアクリロイルオキシ基およびメタクリロイル基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

　光学異方性層形成用組成物中における式（４）で表される重合性液晶性化合物の含有量は特に制限されないが、光学異方性層形成用組成物中の全固形分に対して、５０～１００質量％が好ましく、７０～９９質量％がより好ましい。
　固形分とは、光学異方性層形成用組成物中の溶媒を除いた他の成分を意味し、その性状が液状であっても固形分として計算する。

　光学異方性層形成用組成物には、式（４）で表される重合性液晶性化合物以外の他の成分が含まれていてもよい。

（液晶性化合物）
　光学異方性層形成用組成物は、式（４）で表される重合性液晶性化合物以外の他の液晶性化合物を含んでいてもよい。他の液晶性化合物としては、公知の液晶性化合物（棒状液晶性化合物および円盤状液晶性化合物）が挙げられる。他の液晶性化合物は、重合性基を有していてもよい。

（重合性モノマー）
　光学異方性層形成用組成物は、式（４）で表される重合性液晶性化合物および重合性基を有する他の液晶性化合物以外の他の重合性モノマーを含んでいてもよい。なかでも、光学異方性層の強度がより優れる点で、重合性基を２個以上有する重合性化合物（多官能重合性モノマー）が好ましい。
　多官能重合性モノマーとしては、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。多官能性ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２－２９６４２３号公報中の段落［００１８］～［００２０］に記載の重合性モノマーが挙げられる。
　また、組成物中に多官能重合性モノマーが含まれる場合、多官能重合性モノマーの含有量は、式（４）で表される重合性液晶性化合物の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、２～３０質量％がより好ましい。

（重合開始剤）
　光学異方性層形成用組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
　重合開始剤としては、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、Ｏ―アシルオキシム化合物（特開２０１６－２７３８４号［００６５］記載）並びに、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報記載）などが挙げられる。

　重合開始剤としてはオキシム型の重合開始剤が好ましい。

（溶媒）
　光学異方性層形成用組成物は、光学異方性層を形成する作業性の点から、溶媒を含んでいてもよい。
　溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノン）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、および、エチルセロソルブ）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド）、および、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）が挙げられる。
　これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（レベリング剤）
　光学異方性層形成用組成物は、光学異方性層の表面を平滑に保つ点から、レベリング剤を含んでいてもよい。
　レベリング剤としては、添加量に対するレベリング効果が高い理由から、フッ素系レベリング剤またはケイ素系レベリング剤が好ましく、泣き出し（ブルーム、ブリード）を起こしにくい点から、フッ素系レベリング剤がより好ましい。
　レベリング剤としては、例えば、特開２００７－０６９４７１号公報の段落［００７９］～［０１０２］の記載に記載された化合物、特開２０１３－０４７２０４号公報に記載された一般式（４）で表される重合性液晶性化合物（特に段落［００２０］～［００３２］に記載された化合物）、特開２０１２－２１１３０６号公報に記載された一般式（４）で表される重合性液晶性化合物（特に段落［００２２］～［００２９］に記載された化合物）、特開２００２－１２９１６２号公報に記載された一般式（４）で表される液晶配向促進剤（特に段落［００７６］～［００７８］および段落［００８２］～［００８４］に記載された化合物）、並びに、特開２００５－０９９２４８号公報に記載された一般式（４）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される化合物（特に段落［００９２］～［００９６］に記載された化合物）などが挙げられる。なお、後述する配向制御剤としての機能を兼ね備えてもよい。

（配向制御剤）
　光学異方性層形成用組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含んでいてもよい。
　配向制御剤により、ホモジニアス配向の他、ホメオトロピック配向（垂直配向）、傾斜配向、ハイブリッド配向、および、コレステリック配向などの種々の配向状態を形成でき、また、特定の配向状態をより均一かつより精密に制御して実現できる。

　ホモジニアス配向を促進する配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤、および、高分子の配向制御剤を用いることができる。
　低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２－２０３６３号公報の段落［０００９］～［００８３］、特開２００６－１０６６６２号公報の段落［０１１１］～［０１２０］、および、特開２０１２－２１１３０６公報の段落［００２１］～［００２９］の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
　また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４－１９８５１１号公報の段落［００２１］～［００５７］、および、特開２００６－１０６６６２号公報の段落［０１２１］～［０１６７］を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。

　また、ホメオトロピック配向を形成または促進する配向制御剤としては、例えば、ボロン酸化合物、オニウム塩化合物が挙げられ、具体的には、特開２００８－２２５２８１号公報の段落［００２３］～［００３２］、特開２０１２－２０８３９７号公報の段落［００５２］～［００５８］、特開２００８－０２６７３０号公報の段落［００２４］～［００５５］、および、特開２０１６－１９３８６９号公報の段落［００４３］～［００５５］などに記載された化合物を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。

　配向制御剤の含有する場合の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０５～５質量％がより好ましい。

（その他の成分）
　光学異方性層形成用組成物は、上述した成分以外の成分を含んでいてもよく、例えば、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。

（光学異方性層の製造方法）
　光学異方性層の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
　例えば、所定の基板（例えば後述する支持体層）に、上記光学異方性層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（活性エネルギー線の照射（光照射処理）および／または加熱処理）を施すことにより、硬化させた塗膜（光学異方性層）を製造できる。なお、必要に応じて、後述する配向膜を用いてもよい。
　組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法）により実施できる。

　上記光学異方性層の製造方法において、上記塗膜に対する硬化処理を行う前に、上記塗膜に含まれる液晶性化合物の配向処理を行うことが好ましい。
　配向処理は、室温（例えば、２０～２５℃）で乾燥させる、または、加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶性化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性をもつ液晶性化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
　配向処理が加熱処理である場合、加熱時間（加熱熟成時間）は、１０秒間～５分間が好ましく、１０秒間～３分間がより好ましく、1０秒間～２分間がさらに好ましい。

　上述した、塗膜に対して硬化処理（活性エネルギー線の照射（光照射処理）および／または加熱処理）は、液晶性化合物の配向を固定するための固定化処理ということもできる。
　固定化処理は、活性エネルギー線（好ましくは紫外線）の照射により行われることが好ましく、液晶性化合物の重合により液晶が固定化される。

（光学異方性層の特性）
　光学異方性層は、上述した組成物を用いて形成されるフィルムである。
　光学異方性層の光学特性は特に制限されないが、λ／４板として機能することが好ましい。
　λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板（光学異方性層）のことをいう。
　この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍの関係を満たすことが好ましく、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。

　光学異方性層の波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーションであるＲｅ（４５０）と、光学異方性層の波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションであるＲｅ（５５０）と、光学異方性層の波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションのであるＲｅ（６５０）とは、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にあることが好ましい。すなわち、この関係は、逆波長分散性を表す関係といえる。

　光学異方性層は、Ａプレートであっても、Ｃプレートであってもよく、ポジティブＡプレートであることが好ましい。
　ポジティブＡプレートは、例えば、式（４）で表される重合性液晶性化合物を水平配向させることにより得ることができる。

　光学異方性層の厚さは特に制限されないが、薄型化の点から、０．５～１０μｍが好ましく、１．０～５μｍがより好ましい。

〔配向層〕
　本発明の積層体は、配向層を有していてもよい。
　配向層を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向層も知られている。
　なかでも、本発明では、配向層のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向層が好ましいが、本発明にとって重要である配向の均一性の点から、光照射により形成する光配向層がより好ましい。

　＜ラビング処理配向層＞
　ラビング処理により形成される配向層に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましく用いられる。配向層については国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向層の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることが更に好ましい。

〔硬化型接着剤層〕
　本発明の積層体は、上述したように、硬化型接着剤層を有していてもよい。
　本発明に用いられる硬化型接着剤層は通常用いられる硬化型接着剤層であればよく、水反応型硬化型接着剤層、熱硬化型接着剤層、紫外線硬化型接着剤層などが挙げられ、紫外線硬化型接着剤層であることが好ましい。
　光吸収異方性層と直接隣接して硬化型接着剤層を形成する場合、光吸収異層性層からの色素拡散の抑制の観点において、硬化型接着層の架橋度を高めることが好ましい。硬化型接着層の架橋度を高めるために、ＵＶ照射量を大きくする、あるいは反応性の高いモノマーの比率を高める手法等を好適に使用することができる。ＵＶ照射量としては１００ｍＪ/ｃｍ^２～１５００ｍＪ/ｃｍ^２の範囲とすることが好ましく、６００ｍＪ/ｃｍ^２～１２００ｍＪ/ｃｍ^２範囲とすることがより好ましい。
　反応性の高いモノマーの例としてＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製）を固形分として５０％以上使用することが好ましく、９０％以上使用することがさらに好ましい。
　また、硬化型接着剤層を厚くすることも好ましく、厚みを０．１μｍ～８μｍの範囲とすることが好ましく、０．５μｍ～５μｍの範囲とすることがさらに好ましい。

〔酸素遮断層〕
　本発明の積層体は、光吸収異方性層の有機二色性物質（特に、二色性アゾ色素化合物）の耐光性を向上させる目的で、酸素遮断層を有していてもよい。
　「酸素遮断層」とは、酸素遮断機能のある酸素遮断膜のことをいうが、本発明においては、酸素透過度が２００ｃｃ／ｍ^２／ｄａｙ／ａｔｍ以下の酸素遮断膜のことをいう。
　また、酸素透過度とは、単位時間および単位面積あたりに膜を通過する酸素量を表す指標であり、本発明においては、２５℃、５０％相対湿度の環境下で、酸素濃度装置（例えば、ハックウルトラアナリティカル社製のＭＯＤＥＬ３６００など）で測定した値を採用する。
　本発明においては、酸素透過度は、１００ｃｃ／ｍ^２／ｄａｙ／ａｔｍ以下が好ましく、３０ｃｃ／ｍ^２／ｄａｙ／ａｔｍ以下がより好ましく、１０ｃｃ／ｍ^２／ｄａｙ／ａｔｍ以下が更に好ましく、３ｃｃ／ｍ^２／ｄａｙ／ａｔｍ以下が最も好ましい。

　酸素遮断層の具体例としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、セルロースエーテル、ポリアミド、ポリイミド、スチレン／マレイン酸共重合体、ゼラチン、塩化ビニリデン、および、セルロースナノファイバー、などの有機化合物を含む層が挙げられる。酸素遮断能が高い点で、ポリビニルアルコールやポリエチレンビニルアルコールが好ましく、ポリビニルアルコールが特に好ましい。

　重合性化合物で酸素遮断機能の高い化合物としては、水素結合性の高い重合性化合物や、分子量あたりの重合性基を多く持つ化合物が挙げられる。分子量あたりの重合性基を多く持つ化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートやジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　水素結合性の高い重合性化合物としては、具体的には、例えば、下記式で表される化合物が挙げられ、中でも、下記ＣＥＬ２０２１Ｐで表される３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。

　また、金属化合物からなる薄層（金属化合物薄層）も挙げられる。金属化合物薄層の形成方法は、目的の薄層を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２－３２２５６１号、特開２００２－３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。

　金属化合物薄層に含まれる成分は、酸素遮断機能を発揮できるものであれば特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、またはＴａ等から選ばれる１種以上の金属を含む酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物などを用いることができる。これらの中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＺｎおよびＴｉから選ばれる金属の酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましく、特に、Ｓｉ、Ａｌ、ＳｎおよびＴｉから選ばれる金属酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。特開２０１６－４０１２０号公報や特開２０１６－１５５２５５号公報に記載されているような、アルミニウム化合物とリン化合物の反応生成物からなる層も好ましい。

　また酸素遮断層は、例えば米国特許第６４１３６４５号公報、特開２０１５－２２６９９５号公報、特開２０１３－２０２９７１号公報、特開２００３－３３５８８０号公報、特公昭５３－１２９５３号公報、特開昭５８－２１７３４４号公報、に記載されているように、上記の有機素材を含む層と金属化合物薄層の積層した形態であってもよいし、国際公開２０１１／１１８３６号公報、特開２０１３－２４８８３２号公報、特許第３８５５００４号公報、に記載されているように、有機化合物と無機化合物とをハイブリッドした層であってもよい。

　酸素遮断層の膜厚は、有機化合物を含む層の場合は、０．１～１０μｍが好ましく、０．５～５．５μｍがより好ましい。金属化合物薄層の場合は、酸素遮断層の膜厚は、５ｎｍ～５００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ～２００ｎｍがより好ましい。

　例えば、屈折率調整層、接着層や表面保護層等の他の機能層に酸素遮断機能を付与して機能統合することも好ましい。屈折率調整層と表面保護層のフィルムとの接着層が酸素遮断機能を有することが特に好ましい。

〔硬化層〕
　本発明の積層体は、上述したように、硬化層を有していてもよい。
　本発明に用いられる硬化層は、光吸収異方性層に接するように配置される層であることが好ましく、架橋性基を有する化合物を含有する組成物から形成され、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率が１．５５以上１．７０以下である、いわゆるインデックスマッチングを行うための屈折率調整層であることが好ましい。

　屈折率調整層の面内平均屈折率は、上記範囲であればよいが、１．５８～１．７０が好ましく、１．６０～１．７０がさらに好ましい。

　屈折率調整層の厚みは特に制限されないが、薄型化の点から、０．０１～２．００μｍが好ましく、０．０１～０．８０μｍがより好ましく、０．０１～０．１５μｍがさらに好ましい。

　屈折率調整層を構成する成分の種類は、架橋性基を有する化合物を含有していれば特に制限されない。架橋性基があることで層内の強度が確保できる。光や熱で硬化する化合物、例えば、（メタ）アクリロイル基やエポキシ基を有する重合性化合物が好ましい。また、高い面内平均屈折率が得られる点で重合性液晶性化合物も好ましい。また、重合性液晶性化合物は面内で屈折率の異方性を制御できる点で、面内で屈折率異方性を持つ光吸収異方性層との屈折率最適化のポテンシャルが高い。

　屈折率調整層は、架橋性基を有する化合物と共に、粒子を含んでいてもよい。粒子としては、有機粒子、無機粒子ならびに有機成分および無機成分を含む有機無機複合粒子が挙げられる。
　有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレン－ジビニルベンゼン共重合体粒子、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、スチレン－アクリル共重合体粒子、スチレン－メタクリル共重合体粒子、メラミン樹脂粒子およびこれらを２種以上含む樹脂粒子が挙げられる。
　無機粒子を構成する成分としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体が挙げられる。上記金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体に含まれる金属原子としては、チタン原子、ケイ素原子、アルミニウム原子、コバルト原子、および、ジルコニウム原子が挙げられる。無機粒子の具体例としては、アルミナ粒子、アルミナ水和物粒子、シリカ粒子、ジルコニア粒子、および、粘土鉱物（例えば、スメクタイト）等の無機酸化物粒子が挙げられる。高屈折率が得られる点で、ジルコニア粒子は好ましい。

　粒子の平均粒子径は、１～３００ｎｍが好ましく、１０～２００ｎｍがより好ましい。
　上記範囲であると、粒子の分散性に優れ、また、高温耐久性、湿熱耐久性および透明性により優れる硬化物（透明樹脂層）が得られる。
　ここで、粒子の平均粒子径は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）またはＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）の観察にて得られた写真から求めることができる。具体的には、粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径（円の直径）を粒子の平均粒子径とする。なお、本発明における平均粒子径は、１００個の粒子について求めた円相当径の算術平均値とする。粒子は、球状、針状、繊維（ファイバー状）、柱状および板状等のいずれの形状であってもよい。
　屈折率調整層中における粒子の含有量は特に制限されないが、屈折率調整層の面内平均屈折率が調整しやすい点で、屈折率調整層全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。

　屈折率調整層の形成方法は特に制限されないが、屈折率調整層形成用組成物を偏光子上に塗布して、必要に応じて、塗膜に硬化処理を施す方法が挙げられる。
　屈折率調整層形成用組成物には、屈折率調整層を構成し得る成分が含まれており、例えば、樹脂、モノマー、および、粒子が挙げられる。樹脂および粒子の例示は、上述した通りである。
　モノマーとしては、光硬化性化合物および熱硬化性化合物（例えば、熱硬化性樹脂）が挙げられる。モノマーとしては、重合性基を１分子中に１つ含む単官能重合性化合物、および、同一または異なる重合性基を１分子中に２つ以上含む多官能重合性化合物が好ましい。重合性化合物は、モノマーであっても、オリゴマーまたはプレポリマー等の多量体であってもよい。
　重合性基としては、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合基等が挙げられる。カチオン重合性基としては、エポキシ基およびオキセタン基等が挙げられる。

　屈折率調整層形成用組成物には、界面改良剤、重合開始剤、および、溶媒の少なくとも１種が含まれていてもよい。これらの成分としては、光吸収異方性層形成用組成物に含まれていてもよい成分として例示した化合物が挙げられる。

　屈折率調整層形成用組成物の塗布方法は特に制限されず、上述した光吸収異方性層形成用組成物の塗布方法が挙げられる。

　屈折率調整層形成用組成物を塗布した後、必要に応じて、塗膜に乾燥処理を施してもよい。
　また、屈折率調整層形成用組成物がモノマー等の硬化性化合物を含む場合は、屈折率調整層形成用組成物を塗布した後、塗膜に硬化処理を施してもよい。
　硬化処理としては、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられ、用いられる材料に応じて最適な条件が選択される。

　架橋性基を有する化合物として重合性液晶性化合物を用いる場合、化合物は特に限定されない。
　一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井正男著，２頁，岩波書店，１９９２）。
　本発明においては、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物（以下、「ＣＬＣ」とも略す。）またはディスコティック液晶性化合物（以下、「ＤＬＣ」とも略す。）を用いるのが好ましく、棒状液晶性化合物を用いるのがより好ましい。なお、２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。

　本発明においては、上述の液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する液晶性化合物を用いることが必要であり、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。なお、液晶性化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。なお、液晶性化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。

　また、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基またはアクリロイル基を意味する表記である。

　棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。

　＜その他の成分＞
　屈折率調整層形成用組成物に含まれるその他の成分としては、具体的には、例えば、上述した二色性アゾ色素化合物を含有する組成物（光吸収異方性層形成用組成物）において説明した重合開始剤、界面活性剤および溶媒などを挙げることができる。

　＜形成方法＞
　上述した屈折率調整層形成用組成物を用いた屈折率調整層の形成方法は特に限定されず、上述した屈折率調整層形成用組成物を層構成に応じて上述した配向層または上述した光吸収異方性層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
　ここで、塗布膜形成工程および配向工程としては、上述した光吸収異方性層の形成方法において説明したものと同様の工程が挙げられる。

〔表面保護層〕
　本発明の積層体は、粘着剤層１の光吸収異方性層を有する側とは反対側、すなわち、表示装置の一部として用いた場合の最も視認側の位置に、表面保護層を有してもよい。
　表面保護層は、表面を保護する機能があれば限定されず、１層であってもよく、複数層であってもよい。硬度が高いことも好ましいが、回復性の高いことも好ましい。空気界面で生じる表面反射を抑制した低反射層も好ましい。
　好ましい態様の一つとしては、支持体および／または表面コート層を有する態様が挙げられる。以下、支持体および表面コート層について記載する。

　＜支持体＞
　表面保護層は、支持体を有していることが好ましく、透明支持体を有していることがより好ましい。
　ここで、本発明でいう「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
　透明支持体としては、具体的には、例えば、ガラス基板およびプラスチック基板が挙げられ、なかでも、プラスチック基板が好ましい。
　プラスチック基板を構成するプラスチックとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロースおよびセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；ポリフェニレンオキシド；ポリイミド樹脂；などが挙げられる。
　中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステルであることが好ましく、フレキシブル性に優れている点から、ポリイミド樹脂であることが好ましい。
　ポリイミドは、屈折率が高く屈折率ギャップが大きくなる可能性があるが、シリカ粒子を混入させる等の方法で屈折率を調整することも好ましい。ポリイミドの詳細については、国際公開２０１８／０６２２９６号公報や国際公開２０１８／０６２１９０号公報に記載されている。

　透明支持体の厚さは、実用的な取扱いができる程度の質量である点、および、十分な透明性が確保できる点から、強度および加工性を維持できる程度に薄い方が好ましい。
　ガラス基板の厚みは、１００～３０００μｍが好ましく、１００～１０００μｍが好ましい。
　プラスチック基板の厚みは、５～３００μｍが好ましく、５～２００μｍが好ましい。
　なお、本発明の積層体を円偏光板として使用する場合（特にモバイル機器用途の円偏光板として使用する場合）、透明支持体の厚みは５～１００μｍ程度が好ましい。

　＜表面コート層＞
　表面コート層としては、反射防止層、防眩層、およびハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。なかでも、ハードコート層であることが好ましい。これらは公知の層材料が使用される。なお、これらの層は、複数層が積層してもよい。

　反射防止層は、上述の光学異方性層と光吸収異方性層から構成されるいわゆる円偏光板の反射防止板とは異なり、光の干渉を用いた構造により反射を低下させる構造体を指す。反射防止層は、最も単純な構成として、低屈折率層のみからなる構成であってもよい。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８－１２２５０４号公報、特開平８－１１０４０１号公報、特開平１０－３００９０２号公報、特開２００２－２４３９０６号公報、特開２０００－１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８－２６２１８７号公報記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０－２０６６０３号公報、特開２００２－２４３９０６号公報、特開２００７－２６４１１３号公報等）等が挙げられる。
　一方、ハードコート層としては、特開２０１５－２１２３５３号公報や、特開２０１７－００８１４８号公報等に記載された構造のシルセスキオキサン化合物を用いたハードコートを好適に用いることができる。

〔光配向層〕
　本発明の積層体は、有機二色性物質（特に、二色性アゾ色素化合物）の配向度向上の観点で、光活性化合物を含む光配向層を活用することが好ましい。
　光配向層は、光学異方性層と光吸収異方性層を貼り合わせる工程において、除去することも可能であるが、光学異方性層と光吸収異方性層の間に残して配置することも好ましい。この場合は、積層体の膜強度の観点から、架橋性基を有する化合物から形成されることが好ましい。架橋性基としては、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基が好ましく、ラジカル重合性基がさらに好ましい。ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合基等が挙げられる。カチオン重合性基としては、エポキシ基およびオキセタン基等が挙げられる。
　二色性アゾ色素化合物光配向層とは、光反応性基を有する化合物と、溶剤とを含む組成物を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することによって配向規制力を付与した配向層のことをいう。光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子（光活性化合物と呼ぶ）の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基がより好ましい。

　Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とする基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ－ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基又はハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。中でも、シンナモイル基やアゾベンゼン基は、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。特許５３００７７６号公報の［０２１１］～［０２６３］に具体的な化合物の記載があり、好ましく用いられる。

　上記材料から形成した光配向層に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向層を製造する。
　本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

　光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

　直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

　照射する光は、直線偏光の場合には、配向層に対して上面、又は裏面から配向層表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
　非偏光の場合には、配向層に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が更に好ましい。
　照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。

　パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

［画像表示装置］
　本発明の画像表示装置は、上述した本発明の積層体と、画像表示素子とを有し、画層表示素子が、粘着剤層２の光吸収異方性層を有する側とは反対側に配置される、画像表示装置である。
　本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機ＥＬ表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
　これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、有機ＥＬ表示装置であるのがより好ましい。

〔有機ＥＬ表示装置〕
　本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、表面保護層、必要に応じて配置される接着層もしくは粘着層、酸素遮断層、屈折率調整層、光吸収異方性層、必要に応じて配置される接着層もしくは粘着層、光学異方性層の順に配置されている。
　また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

［その他の構成］
　本発明に用いられる粘着剤層や支持体は紫外線吸収剤を含んでいてもよい。
　紫外線吸収剤は特に限定がなく、各種公知のものが利用できるが、粘着剤層の透過率として、波長３５０～３９０ｎｍの範囲で０．１％以下、４１０ｎｍにおいて２０～７０％、４５０ｎｍ以上の範囲で９０％以上とするのが好ましい。波長４１０ｎｍにおける透過率は４０～５０％であることが更に好ましい。

　本発明の画像表示装置において、硬化型接着剤層が光吸収異方性層よりも視認側に配置される場合は、光吸収異方性層の耐光性を向上させるために、硬化型接着剤層に紫外線吸収剤を含むことが好ましい。硬化型接着剤層が紫外線硬化型接着剤層である場合は、紫外線硬化型接着剤層の硬化のための波長と、紫外線吸収剤の吸収波長をずらすことが好ましい。

　本発明に用いられる酸素遮断層は、ラジカルトラップ剤を含んでいてもよい。酸素遮断層にラジカルトラップ剤を含むことで、光吸収異方性層の耐光性を向上させることができる。
　ラジカルトラップ剤としては、ＴＥＭＰＯ構造を有する化合物が好ましく、ＴＥＭＰＯ構造を複数有する化合物は、さらに好ましい。
　市販の化合物としては、Ｂｅｎｚｏｌｏｘｙ－ＴＥＭＰＯ、Ａｃｅｔａｍｉｄｅ－ＴＥＭＰＯ、Ｉｓｏｔｈｉｏｃｙａｎａｔｅ－ＴＥＭＰＯ（東京化成）が使用できる。

　本発明の積層体が有する光吸収異方性層は、二色性アゾ色素化合物を用いることにより、アンモニア暴露耐性が高く好ましい。

　粘接着層は厚みが小さく、貯蓄弾性率が高い方が、鉛筆硬度が高く好ましい。特に表面フィルムに隣接した粘接着層は影響が大きい。粘着剤を用いずに、ＰＶＡ接着剤やＵＶ接着剤、熱硬化接着剤等の弾性率が高い接着剤を用いることが、鉛筆硬度の観点では好ましい。

　本発明の積層体を製造する工程において、長尺基材上に、本発明において用いられる光吸収異方性層を含めて複数の数μｍ以下の薄層を塗布により形成し、その後の工程のいずれかで長尺基材を剥離する工程が生じる場合がある。その剥離の際に端部に発生する応力の結果、サンプルの端部にひび割れ等が生じて粉じんの発生源になり得る。この課題を解決するため、薄層積層体に加わる剥離の際の曲げ応力を小さくするような剥離方法の工夫が有効であるが、各層の塗布幅および塗布厚みを適度に調整することも有効である。好ましい態様の一例として、長尺支持体、配向層、光吸収異方性層、硬化層、酸素遮断層の構成において、配向層の塗布幅をその他の層に塗布幅に対して広くすることが有効である。つまり、端部においては長尺支持体上に配向層のみが存在する領域があることが好ましい。また、配向層の厚みについて、端部にひび割れの観点からは１μｍ～１０μｍが好ましく、２μｍ～５μｍがさらに好ましい。

　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［作製例１］
　＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
　（コア層セルロースアシレートドープの作製）
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート　　　　１００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　１２質量部
・下記化合物Ｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　化合物Ｆ

　（外層セルロースアシレートドープの作製）
　上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２、日本アエロジル（株）製）　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　７６質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　（セルロースアシレートフィルム１の作製）
　上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
　次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
　その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

　＜光配向層ＰＡ１の形成＞
　後述する配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
　光配向層ＰＡ１の膜厚は１．０μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記記重合体ＰＡ－１　　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ　　　　　　　　　０．００５質量部
・キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　１２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　重合体ＰＡ－１

　酸発生剤ＰＡＧ－１

　酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

　＜光吸収異方性層Ｐ１の形成＞
　得られた光配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
　次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
　次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
　その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ１を作製した。
　光吸収異方性層Ｐ１の膜厚は０．４μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－２　　　　　　　　　　　　　　　０．５３質量部
・下記二色性物質Ｄ－３　　　　　　　　　　　　　　　０．３１質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　　３．５８質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製）　　０．０５０質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・下記界面改良剤Ｆ－２　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４５．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４５．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　Ｄ－１

　Ｄ－２

　Ｄ－３

　高分子液晶性化合物Ｐ－１

　界面改良剤Ｆ－１

　界面改良剤Ｆ－２（分子量８０００）

　＜硬化層Ｎ１の形成＞
　得られた光吸収異方性層Ｐ１上に、下記の硬化層形成用組成物Ｎ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、硬化層Ｎ１を形成した。
　次いで、硬化層Ｎ１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１５秒間照射することにより、光吸収異方性層Ｐ１上に硬化層Ｎ１を作製した。
　硬化層Ｎ１の膜厚は、０．０５μｍ（５０ｎｍ）であった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化層形成用組成物Ｎ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１　　　　　　　　　２．６１質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート　　０．１１質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０５質量部
・下記界面改良剤Ｆ－３　　　　　　　　　　　　　　　０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　２９７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　棒状液晶性正化合物の混合物Ｌ１（下記式中の数値は質量％を表し、Ｒは酸素原子で結合する基を表す。）

　変性トリメチロールプロパントリアクリレート

　下記光重合開始剤Ｉ－１

　界面活性剤Ｆ－３

　＜酸素遮断層Ｂ１の形成＞
　硬化層Ｎ１上に、下記の組成の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、硬化層Ｎ１上に厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）層が形成された積層フィルム１Ｂが作製された。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成物Ｂ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール　　　　　　　　　　３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９　　　　　　　　　　　　　　　０．２０質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　変性ポリビニルアルコール

　＜表面保護層Ｈ１の作製＞
　下記に示す通りに、各層形成用の塗布液を調製して、各層を形成して、表面保護層Ｈ１を作製した。

（ハードコート層形成用組成物の調製）
　トリメチロールプロパントリアクリレート（ビスコート＃２９５（大阪有機化学（株）製））（７５０．０質量部）、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）（２７０．０質量部）、メチルエチルケトン（７３０．０質量部）、シクロヘキサノン（５００．０質量部）、および、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）（５０．０質量部）を混合した。得られた混合物を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層形成用組成物を調製した。

（中屈折率層形成用組成物Ａの調製）
　ＺｒＯ_２微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶媒組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）（５．１質量部）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ）（１．５質量部）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）（０．０５質量部）、メチルエチルケトン（６６．６質量部）、メチルイソブチルケトン（７．７質量部）、および、シクロヘキサノン（１９．１質量部）を混合した。得られた混合物を十分に攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、中屈折率層形成用組成物Ａを調製した。

（中屈折率層形成用組成物Ｂの調製）
　ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）（４．５質量部）、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）（０．１４質量部）、メチルエチルケトン（６６．５質量部）、メチルイソブチルケトン（９．５質量部）、および、シクロヘキサノン（１９．０質量部）を混合した。得られた混合物を十分に攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、中屈折率層形成用組成物Ｂを調製した。

　屈折率が１．６２となるように、中屈折率層形成用組成物Ａと中屈折率層形成用組成物Ｂとを適量混合し、中屈折率層形成用組成物を作製した。

（高屈折率層形成用組成物の調製）
　ＺｒＯ_２微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶媒組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）（１５．７質量部）、メチルエチルケトン（６１．９質量部）、メチルイソブチルケトン（３．４質量部）、および、シクロヘキサノン（１．１質量部）を混合した。得られた混合物を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、高屈折率層形成用組成物を調製した。

（低屈折率層形成用組成物の調製）
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）

　上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。

　内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル（４０ｍｌ）、ヒドロキシエチルビニルエーテル（１４．７ｇ）および過酸化ジラウロイル（０．５５ｇ）を仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（２５ｇ）をオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ^２）であった。この温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ^２）に達した時点で加熱をやめて放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶媒を除去して、沈殿したポリマーを取り出した。さらに、得られたポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去し、乾燥した後、ポリマー（２８ｇ）を得た。
　次に、このポリマー（２０ｇ）をＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（１００ｍｌ）に溶解させて溶液を得た後、氷冷下にてアクリル酸クロライド（１１．４ｇ）を溶液に滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えて水洗して、有機相を抽出後、濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）（１９ｇ）を得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２であった。

（ゾル液ａの調製）
　攪拌機および還流冷却器を備えた反応器に、メチルエチルケトン（１２０質量部）、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－５１０３、信越化学工業（株）製）（１００質量部）、および、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（商品名：ケロープＥＰ－１２、ホープ製薬（株）製）（３質量部）を加えて混合した。その後、さらにイオン交換水（３１質量部）を加え、得られた溶液を６１℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。
　得られたゾル液ａ中の化合物の質量平均分子量は１６２０であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００～２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

（中空シリカ粒子分散液の調製）
　中空シリカ粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０－ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０％、シリカ粒子の屈折率１．３１）（５００質量部）、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（３０．５質量部）、および、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート（１．５１質量部）を混合した後に、さらに、イオン交換水（９質量部）を加えた。
　次に、得られた溶液を６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン（１．８質量部）を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の中空シリカ粒子分散液を得た。得られた分散液のＩＰＡ（isopropyl alcohol）残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５％以下であった。

　得られた中空シリカ粒子分散液およびゾル液ａを用いて、下記組成の組成物を混合し、得られた溶液を攪拌後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層形成用組成物を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――
（低屈折率層形成用組成物の組成）
―――――――――――――――――――――――――――――――
・ＤＰＨＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１４．５ｇ
・ＰＯ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２４．５ｇ
・中空シリカ粒子分散液　　　　　　　　　　　　　　３０２．２ｇ
・ＲＭＳ－０３３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０ｇ
・イルガキュア９０７　　　　　　　　　　　　　　　　　１．０ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　１７５０ｇ
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　２２３．０ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――

　上記低屈折率層形成用組成物で、それぞれ使用した化合物を以下に示す。
　・ＰＯ－１：パーフルオロオレフィン共重合体（１）
　・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
　・ＲＭＳ－０３３：反応性シリコーン（Ｇｅｌｅｓｔ（株）製）
　・イルガキュア９０７：光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製）

（ハードコート層の作製）
　支持体Ｓ１（厚み４０μｍのＴＡＣ基材；ＴＧ４０　富士フイルム社）上に、グラビアコーターを用いてハードコート層形成用組成物を塗布した。塗膜を１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み１２μｍのハードコート層を形成した。屈折率は、１．５２であった。

　得られたハードコート層上に、それぞれ所望の屈折率となるように調整した、中屈折率層形成用組成物、高屈折率層形成用組成物、および、低屈折率層形成用組成物をグラビアコーターを用いて塗布して、反射防止フィルムを作製した。
　なお、各層の屈折率の測定は、各層の形成用組成物を約４μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定した。
　また、「ＤＲ－Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ　部品番号：ＲＥ－３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。
　各層の膜厚は、中屈折率層、高屈折率層、および、低屈折率層をこの順に積層後に反射分光膜厚計“ＦＥ－３０００”（大塚電子（株）製）を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用した。

　中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ^２の照射量とした。
　硬化後の中屈折率層の屈折率は１．６２、層厚は６０ｎｍであった。

　高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ^２の照射量とした。硬化後の高屈折率層の屈折率は１．７２、層厚は１１０ｎｍであった。

　低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量とした。硬化後の低屈折率層の屈折率は１．３６、層厚は９０ｎｍであった。
　これで、表面保護層Ｈ１が作製できた。

　＜粘着剤シートＮ１～Ｎ４の作製＞
　次に、以下の手順に従い、アクリレート系ポリマーを調製した。
　冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５重量部、アクリル酸５重量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系重合体Ａ１を得た。

　次に得られたアクリレート系ポリマーＡ１用いて、下記表３の組成で、アクリレート系粘着剤の組成物を調製した。
　調製した組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルム（以下、「剥離フィルム」とも略す。）にダイコーターを用いて塗布し、９０℃の環境下で１分間乾燥させ、多官能アクリレートモノマーおよび光重合開始剤を含有する組成物については紫外線（ＵＶ）を下記条件で照射して、アクリレート系粘着剤シートＮ１～Ｎ４を得た。
　アクリレート系粘着剤の組成と、粘着剤シートの膜厚および貯蔵弾性率を下記表３に示す。
　（ＵＶ照射条件）
　・フュージョン社無電極ランプ　Ｈバルブ
　・照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２
　・ＵＶ照度・光量は、アイグラフィックス製「ＵＶＰＦ－３６」を用いて測定した。

　（Ａ）多官能アクリレート系モノマー：トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、分子量＝４２３、３官能型（東亜合成社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」）
　（Ｂ）光重合開始剤：ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比１：１の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア５００」
　（Ｃ）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
　（Ｄ）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）

　＜作製例１の積層体の作製＞
　上記表面保護層Ｈ１の支持体側に、粘着剤層１として上記粘着剤シートＮ１を用いて、上記積層フィルム１Ｂの酸素遮断層側を貼り合わせた。さらに、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、粘着剤層２として上記粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、作製例１の積層体とした。

［作製例２］
　上記表面保護層Ｈ１の支持体側に、粘着剤層１として上記粘着剤シートＮ２を用いて、上記積層フィルム１Ｂの酸素遮断層側を貼り合わせた。さらに、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、粘着剤層２として上記粘着剤シートＮ２を貼り合わせ、作製例２の積層体とした。

［作製例３］
　上記表面保護層Ｈ１の支持体側に、粘着剤層１として上記粘着剤シートＮ２を用いて、上記積層フィルム１Ｂの酸素遮断層側を貼り合わせた。さらに、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、粘着剤層２として上記粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、作製例３の積層体とした。

［作製例４］
　作製例３の積層フィルム１Ｂの光配向層の形成において、厚みを１μｍから２μｍに変更した以外は、作製例３と同様の方法にて、作製例４の積層体を得た。
　セルロースアシレートフィルム１のみを除去する際は、セルロースアシレートフィルム側を掴んで、それ以外の層を曲がらないようにして剥離したところ、端部のギザギザが少なく剥離できた。さらに、配向層の塗布領域のみを広げ他層の塗布領域を狭めることで、セルロースアシレートフィルム１上に配向層のみが塗布された領域を剥離方向に対して平行な方向の端部に存在させることにより、端部のギザギザはさらに改善しきれいな端面となることを確認した。

［作製例５］
　作製例４の積層フィルム１Ｂの光吸収異方性層の形成において、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示す光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２に変更し、かつ厚みを０．４μｍから０．８μｍに変更した以外は、作製例４と同様の方法にて、作製例５の積層体を得た。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－４　　　　　　　　　　　　　　　０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－５　　　　　　　　　　　　　　　０．５３質量部
・下記二色性物質Ｄ－６　　　　　　　　　　　　　　　０．３１質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　　３．５８質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ-０２（ＢＡＳＦ社製）　　０．０５０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４５．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４５．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　Ｄ－４

　Ｄ－５

　Ｄ－６

　高分子液晶性化合物Ｐ－１

［作製例６］
　作製例１の積層フィルム１Ｂの光吸収異方性層の形成において、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示す光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２に変更し、かつ厚みを０．４μｍから０．８μｍに変更した以外は、作製例１と同様の方法にて、作製例６の積層体を得た。

［作製例７］
　作製例４の粘着剤層２の粘着剤をＮ１からＮ３に変更した以外は、作製例４と同様の方法にて、作製例７の積層体を得た。

［作製例８］
　作製例３の積層フィルム１Ｂの酸素遮断層の形成において、厚みを１μｍから２μｍに変更した以外は、作製例３と同様の方法にて、作製例８の積層体を得た。

［作製例９］
　＜光配向層ＰＡ２の形成＞
　後述する配向層形成用塗布液ＰＡ２を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、０．２μｍ厚みの光配向層ＰＡ２を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合体ＰＡ－２　　　　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
上記酸発生剤ＰＡＧ-1　　　　　　　　　　　　　　　　１．００質量部
イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　１６．５０質量部
酢酸ブチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０７２．００質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　２６８．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　重合体ＰＡ－２

　酸発生剤ＰＡＧ－１

　＜光学異方性層（ポジティブＡプレートＡ１）の作製＞
　後述する組成の組成物Ａ－１を、バーコーターを用いて光配向層ＰＡ２上に塗布した。光配向層ＰＡ２上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、その後６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射することで、液晶性化合物の配向を固定化し、ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１を作製した。
　ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（組成物Ａ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－１　　　　　　　　　　４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－２　　　　　　　　　　４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－３　　　　　　　　　　　８．００質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－４　　　　　　　　　　　５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１　　　　　　　　　　　　　　０．５５質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１　　　　　　　　　　　　　　０．２０質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　２３５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　重合性液晶性化合物Ｌ－１

　重合性液晶性化合物Ｌ－２

　重合性液晶性化合物Ｌ－３

　重合性液晶性化合物Ｌ－４

　重合開始剤ＰＩ－１

　レベリング剤Ｔ－１

　＜光学異方性層（ポジティブＣプレートＣ１）の作製＞
　仮支持体として、上記セルロースアシレートフィルム１を用いた。
　セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
　次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
　次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（アルカリ溶液）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．７質量部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５．８質量部
イソプロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ）　　　　　　　　　１．０質量部
プロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　１４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　下記の組成の配向層形成用塗布液３を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、厚み０．５μｍの配向層を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３）　　　　２．４質量部
イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　１．６質量部
メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６質量部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　後述するポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１を配向層上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶性化合物を垂直配向させ、厚み０．５μｍのポジティブＣプレートＣ１を作製した。
　得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ－１１　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－１２　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
・下記垂直配液晶性化合物向剤（Ｓ０１）　　　　　　　　　　１質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　　　　８質量部
・イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）　　　　　　　　　　　３質量部
・カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）　　　　　　　　１質量部
・下記化合物Ｂ０３　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　１７０質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　＜ＵＶ接着剤の作製＞
　下記の、ＵＶ接着剤組成物を調製した。
─────────────────────────────────
ＵＶ接着剤組成物
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製）　　　　　　　　　　　７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル　　　　　　２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル　　　　　　　　　１０質量部
・下記ＣＰＩ－１００Ｐ　　　　　　　　　　　　　　　２．２５質量部
─────────────────────────────────

　ＣＰＩ－１００Ｐ

　＜作製例９の積層体の作製＞
　上記表面保護層Ｈ１の支持体側に、粘着剤層１として上記粘着剤シートＮ２を用いて、上記積層フィルム１Ｂの酸素遮断層側を貼り合わせた。次に、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、上記ポジティブＡプレートＡ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いて６００ｍＪ/ｃｍ^２のＵＶ照射で貼り合わせた。以下、同様の条件でＵＶ接着剤を用いた。
　このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った（後述においても同じ）。
　次に、ポジティブＡプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、その除去した面と、上記ポジティブＣプレートＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いてＵＶ接着剤層Ｂを形成し貼り合わせた。ＵＶ接着剤層Ｂの厚みは３μｍであった。ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層Ｂ及びポジティブＣプレートＣ１の積層体は光学異方性層であり、厚みは６．０μｍであった。
　さらに、ポジティブＣプレートＣ１側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去し、その除去した面と、粘着剤層２として上記粘着剤シートＮ４を貼り合わせ、作製例９の積層体とした。

［作製例１０］
　＜積層フィルム２Ｂの作製＞
　積層フィルム１Ｂに対して、光配向層形成用塗布液ＰＡ１をＰＡ２に変更し、０．２μｍ厚みの光配向層を形成した以外は、積層フィルム１Ｂと同様の方法にて、積層フィルム２Ｂを得た。

　＜作製例１０の積層体の作製＞
　上記表面保護層１の支持体側に、粘着剤層１として上記粘着剤シートＮ２を用いて、上記積層フィルム２Ｂの酸素遮断層側を貼り合わせた。次に、セルロースアシレートフィルム１と光配向層を除去し、その除去した面と、上記ポジティブＡプレートＡ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いて貼り合わせた。
　このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。
　次に、ポジティブＡプレートＡ１側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、その除去した面と、上記ポジティブＣプレートＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いてＵＶ接着剤層Ｂを形成し貼り合わせた。ＵＶ接着剤層Ｂの厚みは３μｍであった。ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層Ｂ及びポジティブＣプレートＣ１の積層体は光学異方性層であり、厚みは６．０μｍであった。
さらに、ポジティブCプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去し、その除去した面と、粘着剤層２として上記粘着剤シートＮ４を貼り合わせ、作製例１０の積層体とした。

［作製例１１］
　作製例１０において、作製例１０の粘着剤層２の粘着剤シートをＮ４からＮ２に変更した以外は、作製例１０と同様の方にて、作製例１１の積層体を得た。

［作製例１２］
　＜光学異方性層（ポジティブＣプレートＣ２）の作製＞
　ポジティブＣプレートＣ１に対して、配向層形成用塗布液３を下記の配向層形成用塗布液４に変更した以外は、ポジティブＣプレートＣ１と同様の方法にて、ポジティブＣプレートＣ２を得た。

（配向層形成用塗布液４の調製）
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向層形成用塗布液４の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール　　　　　　　　　３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９　　　　　　　　　　　　　　０．２０質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　変性ポリビニルアルコール

　＜作製例１２の積層体の作製＞
　上記表面保護層１の支持体側に、粘着剤層１として上記粘着剤シートＮ２を用いて、上記積層フィルム２Ｂの酸素遮断層側を貼り合わせた。次に、セルロースアシレートフィルム１と光配向層を除去し、その除去した面と、上記ポジティブＡプレートＡ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いて貼り合わせた。
　このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。
次に、ポジティブＡプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、その除去した面と、上記ポジティブＣプレートＣ２の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いてＵＶ接着剤層Ｂを形成し貼り合わせた。ＵＶ接着剤層Ｂの厚みは３μｍであった。ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層Ｂ及びポジティブＣプレートＣ２の積層体は光学異方性層であり、厚みは６．０μｍであった。さらに、ポジティブＣプレート側のセルロースアシレートフィルム１の面と、粘着剤層２として上記粘着剤シートＮ４を貼り合わせ、作製例１２の積層体とした。

［作製例１３］
　＜積層フィルム３Ｂの作製＞
　積層フィルム１Ｂに対して、光配向層形成用塗布液ＰＡ１を下記の光配向層形成用塗布液ＰＡ３に変更し、０．３μｍ厚みの光配向層を形成した以外は、積層フィルム１Ｂと同様の方法にて、積層フィルム３Ｂを得た。

（光配向層形成用塗布液ＰＡ３の調製）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記記重合体ＰＡ－１　　　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
上記酸発生剤ＰＡＧ-1　　　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ　　　　　　　　　　０．００５質量部
イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　１６．５０質量部
酢酸ブチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０７２．００質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　２６８．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　＜作製例１３の積層体の作製＞
　上記表面保護層１の支持体側に、粘着剤層１として上記粘着剤シートＮ１を用いて、上記積層フィルム３Ｂの酸素遮断層側を貼り合わせた。さらに、セルロースアシレートフィルム１の面に、粘着剤層２として上記粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、作製例１３の積層体とした。

［作製例１４］
　＜酸素遮断層の形成＞
　厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）の表面に鹸化処理を行った上に、上記で調製した酸素遮断層形成用組成液Ｂ１をワイヤーバーで塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み１．０μｍの酸素遮断層が形成された透明支持体１が得られた。

　＜光配向層の形成＞
　上記配向層形成用塗布液ＰＡ３を、ワイヤーバーで連続的に上記透明支持体１の酸素遮断層上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ３を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルム１を得た。膜厚は０．２μｍであった。

　＜硬化層の形成＞
　得られた光配向層ＰＡ３上に、上記の硬化層形成用組成物Ｎ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、硬化層Ｎ１を形成した。
　次いで、硬化層Ｎ１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１５秒間照射することにより、光配向層ＰＡ３上に硬化層Ｎ１を作製した。
　硬化層Ｎ１の膜厚は、０．０５μｍ（５０ｎｍ）であった。

　＜光吸収異方性層の形成＞
　得られた硬化層Ｎ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
　次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
　次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
　その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、硬化層Ｎ１上に光吸収異方性層Ｐ１を作製した。膜厚は０．４μｍであった。

　＜バリア層の形成＞
　得られた光吸収異方性層Ｐ１上に、下記のバリア層形成用組成物Ｈ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、バリア層Ｈ１を形成した。
　次いで、バリア層Ｈ１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１０秒間照射することにより、光吸収異方性層Ｐ１上にバリア層Ｈ１を作製し、積層フィルム１Ａを得た。バリア層Ｈ１の膜厚は、１．０μｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物Ｈ１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製）　　　　　　　　　　３２質量部
・重合開始剤　ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　　１質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ（５０％炭酸プロピレン溶液）　　　　　２質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ）　　　　　　　　　　　　６５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　＜作製例１４の積層体の作製＞
　上記表面保護層１の支持体側に、粘着剤層１として上記粘着剤シートＮ２を用いて、上記積層フィルム１ＡのＴＧ４０側を貼り合わせた。さらに、バリア層Ｈ１の面に、粘着剤層２として上記粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、作製例１４の積層体とした。

［作製例１５］
　＜酸素遮断層の形成＞
　厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）の表面上に、上記で調製した酸素遮断層形成用組成液Ｂ１をワイヤーバーで塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み１．０μｍの酸素遮断層が形成された透明支持体２が得られた。

　＜光配向層の形成＞
　上記配向層形成用塗布液ＰＡ３を、ワイヤーバーで連続的に上記透明支持体２の酸素遮断層上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ３を形成した。膜厚は０．２μｍであった。

　＜光吸収異方性層の形成＞
　得られた硬化層Ｎ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
　次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
　次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
　その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、硬化層Ｎ１上に膜厚０．４μｍの光吸収異方性層Ｐ１を作製し、積層フィルム２Ａを得た。

　＜作製例１５の積層体の作製＞
　上記積層フィルム２Ａの光吸収異方性層側の面と、上記ポジティブＡプレートＡ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いて貼り合わせた。
　このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った（後述においても同じ）。
　次に、ポジティブＡプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、その除去した面と、上記ポジティブＣプレートＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いてＵＶ接着剤層Ｂを形成し貼り合わせた。ＵＶ接着剤層Ｂの厚みは３μｍであった。ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層Ｂ及びポジティブＣプレートＣ２の積層体は光学異方性層であり、厚みは６．０μｍであった。
　さらに、得られた積層体からＴＧ４０を除去して、その除去した面と、上記表面保護層１の支持体側の面を、粘着剤層１として上記粘着剤シートＮ２を用いて、貼り合わせた。
　最後に、ポジティブCプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去し、その除去した面に、粘着剤層２として上記粘着剤シートＮ４を貼り合わせ、作製例１５の積層体とした。

［作製例１６］
　＜酸素遮断層の形成＞
　厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）の表面上に、上記で調製した酸素遮断層形成用組成液Ｂ１をワイヤーバーで塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み１．０μｍの酸素遮断層が形成された透明支持体２が得られた。

　＜配向層付きＴＡＣフィルム２＞
　上記で作製した透明支持体２の酸素遮断層表面にラビング処理を施して配向層付きＴＡＣフィルム２を得た。

　＜硬化層の形成＞
　得られた配向層付きＴＡＣフィルム２の配向層上に、上記の硬化層形成用組成物Ｎ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、硬化層Ｎ１を形成した。
　次いで、硬化層Ｎ１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１５秒間照射することにより、光配向層ＰＡ３上に硬化層Ｎ１を作製した。
　硬化層Ｎ１の膜厚は、０．０５μｍ（５０ｎｍ）であった。

　＜光吸収異方性層の形成＞
　得られた硬化層Ｎ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
　次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
　次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
　その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、硬化層Ｎ１上に膜厚０．４μｍの光吸収異方性層Ｐ１を作製し、積層フィルム３Ａを得た。

　＜作製例１６の積層体の作製＞
　作製例１５の積層体の上記積層フィルム２Ａを、上記積層フィルム３Ａに変更した以外は、作製例１５と同様の方法にて、作製例１６の積層体を得た。

［評価］
〔湿熱耐久性〕
　得られた積層体を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、粘着層２をガラス基板（コーニング社Ｅａｇle　ＸＧ）上に圧着した。このガラス基板圧着サンプルを、６０℃９０％で耐久試験を行い、サンプルを目視で観察して以下の基準で評価をした。結果を下記表４に示す。
　なお、裁断は打ち抜きで行ったが、端部に層間の剥離は見られず、直線的にきれいな形状であった。
　ＡＡ：４００時間以上でもしわ発生しない
　Ａ　：１００時間以上４００時間未満でしわ発生
　Ｂ　：５０時間以上１００時間未満でしわ発生
　Ｃ　：５０時間未満でしわ発生

　表４に示す結果から、Ｈ値が１０より大きい場合、積層体の湿熱耐久性が劣ることが分かった（作製例１および６）。
　これに対し、Ｈ値が１０以下の場合、積層体の湿熱耐久性が良好となることが分かった（作製例２～５および７～１６）。特に、これらの作製例からの対比から、Ｈ値が４．０以下であると、湿熱耐久性がより良好となることが分かった。

［作製例１７～２６］
　＜作製例１７の積層体の作製＞
　作製例１の積層体に対して、粘着剤層２と上記ポジティブＡプレートＡ１の位相差側とを、貼り合わせた。
　このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。
　次に、ポジティブＡプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、その除去した面と、上記ポジティブＣプレートＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いて張り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。
　さらに、ポジティブＣプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去し、その除去した面に、上記粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、作製例１７の積層体とした。

　＜作製例１８～２６の積層体の作製＞
　作製例２～８、１３、１４の積層体に対して、作製例１７と同様にして、作製例１８～２６の積層体を作製した。

［作製例２７および２８］
　作製例４の積層体に対して、粘着剤層１として粘着剤シートＮ２の代わりに粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、作製例２７の積層体とした。この作製例２７の積層体はＨ＝８．７で本発明の範囲であり、上記の耐久評価を行った結果は評価Ｂであった。
　作製例２７の積層体に対して、粘着剤層２と上記セルロースアシレートフィルム１を貼り合わせ、積層体２７Ｂとした。
　一方で、上記ポジティブＡプレートＡ１の位相差側と、上記ポジティブＣプレートＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いて張り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。
　次に、ポジティブＡプレートＡ１側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、その除去した面と、上記積層体２７Ｂのセルロースアシレートフィルム１側の面を粘着剤シートＮ１を用いて、貼り合わせた。
　このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。
　次に、ポジティブＣプレートＣ１側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、その除去した面に、上記粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、作製例２８の積層体とした。

　＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
　有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ　Ｓ４を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記の作製例９～１２、１５～２６、２８の積層体を粘着層側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製し、反射防止の効果が見られることを確認した。

［作製例２９～３２］
　＜粘着剤シートＮ５～Ｎ７の作製＞
　次に、以下の手順に従い、アクリレート系ポリマーを調製した。
　冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル（８１．８質量部）、アクリル酸２－エチルヘキシル（６９．０質量部）、アクリル酸２－メトキシエチル（２９．０質量部）、アクリル酸２－ヒドロキシブチル（１．０質量部）、アクリル酸（１．０質量部）の混合溶液を仕込み、溶液重合法により重合させて、アクリレート系ポリマーＡ２の酢酸エチル溶液を調製した。
　得られたアクリレート系ポリマーＡ２は、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが２００万、Ｍｗ／Ｍｎが５．８であった。

　次に、得られたアクリレート系ポリマーＡ１またはアクリレート系ポリマーＡ２を用いて、下記表５の組成で、アクリレート系粘着剤の組成物を調製した。
　調製した組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルム（以下、「剥離フィルム」とも略す。）にダイコーターを用いて塗布し、９０℃の環境下で１分間乾燥させ、アクリレート系粘着剤シートＮ５～Ｎ７を得た。
　アクリレート系粘着剤の組成と、粘着剤シートの膜厚および貯蔵弾性率を下記表５に示す。

（Ｃ）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
（Ｄ）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）

　＜作製例２９の積層体の作製＞
　作製例２の積層体に対して、粘着剤層２として粘着剤シートＮ２の代わりに粘着剤シートＮ５を貼り合わせ、作製例２９の積層体とした。

　＜作製例３０の積層体の作製＞
　作製例２の積層体に対して、粘着剤層２として粘着剤シートＮ２の代わりに粘着剤シートＮ６を貼り合わせ、作製例３０の積層体とした。

　＜作製例３１の積層体の作製＞
　作製例１の積層体に対して、粘着剤層２として粘着剤シートＮ１の代わりに粘着剤シートＮ７を貼り合わせ、作製例３１の積層体とした。

　＜作製例３２の積層体の作製＞
　作製例９の積層体に対して、粘着剤層２として粘着剤シートＮ４の代わりに粘着剤シートＮ７を貼り合わせ、作製例３２の積層体とした。

［評価］
〔湿熱耐久性〕
　得られた積層体２９～３２を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、粘着層２をガラス基板（コーニング社Ｅａｇle　ＸＧ）上に圧着した。このガラス基板圧着サンプルを、６０℃９０％で耐久試験を行い、上記と同様にサンプルを目視で観察して評価をした。結果を下記表６に示す。

　表６に示す結果から、Ｈ値が１０より大きい場合、積層体の湿熱耐久性が劣ることが分かった（作製例３１）。
　これに対し、Ｈ値が１０以下の場合、積層体の湿熱耐久性が良好となることが分かった（作製例２９、３０および３２）。特に、作製例２９と作製例３０との対比から、粘着剤層２を構成する粘着剤が、上記式（Ａ）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有している場合、耐久性がより良好となることが分かった。

［作製例３３～３６］
　＜粘着剤シートＮ８～Ｎ１０の作製＞
　上述したアクリレート系ポリマーＡ１を用いて、下記表７の組成で、アクリレート系粘着剤の組成物を調製した。
　調製した組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルム（以下、「剥離フィルム」とも略す。）にダイコーターを用いて塗布し、９０℃の環境下で１分間乾燥させ、紫外線（ＵＶ）を粘着剤シートＮ１と同様の上記条件で照射して、アクリレート系粘着剤シートＮ８～Ｎ１０を得た。
　アクリレート系粘着剤の組成と、粘着剤シートの膜厚および貯蔵弾性率を下記表７に示す。

　＜粘着剤シートＮ１１の作製＞
　ブチルアクリレート７０部、メチルアクリレート３０部、アクリル酸４部、Ｎ，Ｎ－ジメチルメタクリルアミド２部、アゾビスイソブチロニトリル０．１部および酢酸エチル１２０部を加えた。これを溶液重合法により重合させて、重量平均分子量１５０万のアクリル共重合体１の溶液を得た。
　共重合体溶液１の固形分１００部に対して、コロネートＬ（ポリイソシアネート、日本ポリウレタン工業（株）製）３部、アルミキレートＡ（アルミニウムトリスアセチルアセトネート、川研ファインケミカル（株）製）０．２部、および、ＫＢＭ－８０３（γ－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業（株）製）０．１部を混合した溶液を粘着剤組成物Ｎ１１とした。
　これらの組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルム（以下、「剥離フィルム」とも略す。）にダイコーターを用いて塗布し、９０℃の環境下で１分間乾燥させ、厚さ１５μｍの粘着層を有する粘着剤シートＮ１１を作製した。粘着層の貯蔵弾性率は、０．３ＭＰａであった。

　＜作製例３３の積層体の作製＞
　作製例２の積層体に対して、粘着剤層１として粘着剤シートＮ２の代わりに粘着剤シートＮ８を貼り合わせ、作製例３３の積層体とした。

　＜作製例３４の積層体の作製＞
　作製例２の積層体に対して、粘着剤層１として粘着剤シートＮ２の代わりに粘着剤シートＮ９を貼り合わせ、作製例３４の積層体とした。

　＜作製例３５の積層体の作製＞
　作製例２の積層体に対して、粘着剤層１として粘着剤シートＮ２の代わりに粘着剤シートＮ１０を貼り合わせ、作製例３５の積層体とした。

　＜作製例３６の積層体の作製＞
　作製例２の積層体に対して、粘着剤層１として粘着剤シートＮ２の代わりに粘着剤シートＮ１１を貼り合わせ、作製例３６の積層体とした。

［評価］
〔湿熱耐久性〕
　得られた積層体３３～３６を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、粘着層２をガラス基板（コーニング社Ｅａｇle　ＸＧ）上に圧着した。このガラス基板圧着サンプルを、６０℃９０％で耐久試験を行い、上記と同様にサンプルを目視で観察して評価をした結果、全て評価Ｂ以上で本発明の効果が見られた。

〔鉛筆硬度〕
　耐傷性の指標としてＪＩＳＫ－５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。得られた積層体３３～３６を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、粘着層２をガラス基板（コーニング社Ｅａｇle　ＸＧ）上に圧着した。
　これらを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＨＢの試験用鉛筆を用いて、ハードコート層が積層された面を、４．９Ｎの荷重にて擦り、以下の基準で評価した。結果を下記表８に示す。
　Ａ：ｎ＝５の評価において全て傷なし
　Ｂ：ｎ＝５の評価において傷なしが３つ以上４つ以下

　表８に示すように、作製例３４と作製例３６との対比から、粘着剤層１の貯蔵弾性率が、０．５ＭＰａ以上であると、鉛筆硬度が向上することが分かった。
　また、作製例３３～３５の対比から、粘着剤層１の厚みが８μｍ以下であると、鉛筆硬度が向上することが分かった。

　１００、２００　積層体
　１　粘着剤層１
　２　光吸収異方性層
　３　粘着剤層２
　４　表面保護層
　５　酸素遮断層
　６　硬化層
　７　硬化型接着剤層
　８　光学異方性層
　９　粘着剤層

Claims

　粘着剤層１、光吸収異方性層、および、粘着剤層２をこの順に有する積層体であって、
　前記光吸収異方性層が、有機二色性物質を含み、
　前記光吸収異方性層の厚みが、５μｍ以下であり、
　前記粘着剤層１および前記粘着剤層２が、それぞれ、前記積層体中で前記光吸収異方性層から見て最も近い位置にある粘着剤層であり、
　下記式（Ｉ）で表されるＨが、１０．０以下である、積層体。
　Ｈ＝（粘着剤層１の厚み＋粘着剤層２の厚み）／粘着剤層１および粘着剤層２よりも内側にある層の総厚み　　式（Ｉ）
　前記式（Ｉ）で表されるＨが、６．０以下である、請求項１に記載の積層体。
　前記式（Ｉ）で表されるＨが、４．０以下である、請求項１または２に記載の積層体。
　前記粘着剤層１および前記粘着剤層２の少なくとも一方の貯蔵弾性率が、０．１ＭＰａ以上である、請求項１～３のいずれか一項に記載の積層体。
　前記粘着剤層１および前記粘着剤層２の両方の貯蔵弾性率が、それぞれ０．１ＭＰａ以上である、請求項４に記載の積層体。
　前記粘着剤層１および前記粘着剤層２の少なくとも一方の貯蔵弾性率が、０．５ＭＰａ以上である、請求項４または５に記載の積層体。
　前記粘着剤層１の貯蔵弾性率が、０．５ＭＰａ以上である、請求項６に記載の積層体。
　前記粘着剤層１および前記粘着剤層２の両方の貯蔵弾性率が、それぞれ０．５ＭＰａ以上である、請求項６に記載の積層体。
　前記粘着剤層１の厚みが、８μｍ以下である、請求項１～８のいずれか一項に記載の積層体。
　前記光吸収異方性層の厚みが、０．８μｍ以下である、請求項１～９のいずれか一項に記載の積層体。
　前記粘着剤層１および前記粘着剤層２の少なくとも一方が、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する、請求項１～１０のいずれか一項に記載の積層体。

　前記式（Ａ）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１～６のアルキル基を表す。
　前記粘着剤層１、前記光吸収異方性層、硬化型接着剤層、光学異方性層、および、前記粘着剤層２をこの順に有する、請求項１～１１のいずれか一項に記載の積層体。
　前記粘着剤層１、酸素遮断層、硬化層、前記光吸収異方性層、硬化型接着剤層、光学異方性層、および、前記粘着剤層２をこの順に有する、請求項１～１２のいずれか一項に記載の積層体。
　前記粘着剤層１、前記酸素遮断層、前記硬化層、前記光吸収異方性層、前記硬化型接着剤層、前記光学異方性層、および、前記粘着剤層２をこの順に隣接して有する、請求項１３に記載の積層体。
　前記硬化型接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、請求項１３または１４に記載の積層体。
　前記粘着剤層１の前記光吸収異方性層を有する側とは反対側に、更に表面保護層を有する、請求項１～１５のいずれか一項に記載の積層体。
　請求項１～１６のいずれか一項に記載の積層体と、画像表示素子とを有し、
　前記画層表示素子が、前記粘着剤層２の前記光吸収異方性層を有する側とは反対側に配置される、画像表示装置。
　前記画像表示素子が、有機ＥＬ表示素子である、請求項１７に記載の画像表示装置。