JP7350855B2 - 液晶組成物、液晶層、積層体および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶組成物、液晶層、積層体および画像表示装置に関する。

光学補償シート、位相差フィルムおよび円偏光板などの光学フィルムは、画像着色解消、視野角拡大、反射防止などの観点から、様々な画像表示装置で用いられているが、使用される各部材に対してより薄型化が求められている。
光学補償シートや位相差フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていた。これらは延伸により素材の配向性を高めた設計を行っているが、所望の屈折率異方性を発現するためには、フィルムの薄層化に限界があった。
また、従来、円偏光板にはヨウ素偏光子が使用されている。ヨウ素偏光子は、ヨウ素を溶解し、ポリビニルアルコールのような高分子材料膜に吸着させ、一方向に高倍率に延伸することで作製されており、十分な薄型化が困難であった。

近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶性化合物を用いた光学異方性層（液晶層）を使用して薄層化することが提案されている。
また、ヨウ素偏光子に対しても、透明フィルムなどの基板上に液晶性化合物や二色性アゾ色素を塗布し、分子間相互作用などを利用して配向させた偏光素子が検討されている。例えば、特許文献１には、特定の液晶性化合物を用いて二色性アゾ色素化合物の結晶性を高めることで、高い配向度を有する偏光素子が提案されている。

特許文献２では、空気界面近傍の液晶層に対して、フッ素基含有率（フッ素含率）が３０％以下の特定構造を持つ（メタ）アクリル共重合体（界面活性剤）を含有することで表面近傍の配向欠陥の発生を抑制することが提案されている。

国際公開第２０１８／１２４１９８号 特開２００６－１６５９９号

一般的に、優れた面状の塗布膜を得るためには、界面活性剤が必要であることが知られている。本発明者らが液晶組成物に配合する界面活性剤として、様々な界面活性剤を検討したところ、界面活性剤の種類によっては、液晶組成物を用いて形成された液晶層の配向度が不十分になる場合があり、改善の余地があることを見出した。

そこで、本発明は、配向度に優れた液晶層を形成できる液晶組成物、液晶層、積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、液晶層を形成する液晶組成物に特定の界面活性剤を添加することにより、高配向度を有する液晶層が得られることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］
少なくとも、液晶性化合物と、界面活性剤と、二色性物質と、を含有する液晶組成物であって、
上記界面活性剤が、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位と、環構造を含む繰り返し単位とを有する共重合体であり、上記界面活性剤のフッ素含率が３２質量％以上である、液晶組成物。
［２］
上記二色性物質の含有量が、上記液晶性化合物１００質量部に対して、２～２００質量部である、［１］に記載の液晶組成物。
［３］
上記環構造を含む繰り返し単位が、２個以上の環構造を含む繰り返し単位である、［１］または［２］に記載の液晶組成物。
［４］
上記環構造を含む繰り返し単位が、後述の式（ｃａ）で表される基を含む、［１］～［３］のいずれかに記載の液晶組成物。
後述の式（ｃａ）中、６員環であるＡ、ＢおよびＣはそれぞれ独立に、後述の式（ｃａ１）～（ｃａ１０）のいずれかを表し、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ独立に、単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＣＨ_２－または－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ－を表し、Ｙ_３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基またはアルケニルオキシ基を表し、ｎは、０または１の整数を表し、＊は、他の基との結合位置を表す。
後述の式（ｃａ１）～（ｃａ１０）において、＊は他の基との結合位置を表し、左側の結合手が、後述の式（ｃａ）のＡ、ＢおよびＣにおける左側の結合手に相当し、右側の結合手が、後述の式（ｃａ）のＡ、ＢおよびＣにおける右側の結合手に相当する。後述の式（ｃａ１）～（ｃａ１０）における環を構成する炭素原子に結合する水素原子は、フッ素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
［５］
上記界面活性剤のハンセンの溶解度パラメーターの分散項δｄが１５．５～１７．５の範囲である、［１］～［４］のいずれかに記載の液晶組成物。
［６］
上記液晶性化合物が、高分子液晶性化合物である、［１］～［５］のいずれかに記載の液晶組成物。
［７］
［１］～［６］のいずれかに記載の液晶組成物から形成された、液晶層。
［８］
少なくとも、光配向層と、上記光配向層上に設けられた［７］に記載の液晶層と、を有する積層体であって、
上記液晶層に含まれる液晶性化合物が、水平方向に配向した状態で固定化されている、積層体。
［９］
上記液晶層に含まれる二色性物質の含有量が、上記液晶層の全固形分に対して、３～３５質量％である、［８］に記載の積層体。
［１０］
上記光配向層が、光配向性基を有する化合物を含有し、
上記光配向性基が、シンナモイル構造を有する基である、［８］または［９］に記載の積層体。
［１１］
さらに、上記液晶層上に設けられたλ／４板を有する、［８］～［１０］のいずれかに記載の積層体。
［１２］
［８］～［１１］のいずれかに記載の積層体と、画像表示素子と、を有する、画像表示装置。
［１３］
上記画像表示素子が有機ＥＬ表示素子である、［１２］に記載の画像表示装置。

本発明によれば、配向度に優れた液晶層を形成できる液晶組成物、液晶層、積層体および画像表示装置を提供できる。

図１は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図２は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行、直交、水平、および、垂直とは、それぞれ厳密な意味での平行、直交、水平、および、垂直を意味するのではなく、それぞれ、平行±１０°の範囲、直交±１０°の範囲、水平±１０°、および、垂直±１０°の範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。

（面内平均屈折率測定方法）
面内平均屈折率は、Ｗｏｏｌｌａｍ社製分光エリプソメトリＭ－２０００Ｕを用いて測定される。面内における屈折率最大となる方向をｘ軸、それに対し直交する方向をｙ軸、面内に対し法線方向をｚ軸とし、それぞれの方向での屈折率をｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚと定義する。本発明における面内平均屈折率（ｎ_ａｖｅ）は、下記式（１）で表される。
式（１） ｎ_ａｖｅ ＝（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２

〔液晶組成物〕
本発明の液晶組成物は、少なくとも、液晶性化合物と、界面活性剤と、二色性物質と、を含有する。また、上記界面活性剤は、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位と、環構造を含む繰り返し単位とを有する共重合体である。また、上記界面活性剤のフッ素含率は、３２質量％以上である。

本発明の液晶組成物によれば、配向度に優れた液晶層を形成できる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
支持体または配向層上に液晶組成物を塗布して液晶層を形成する場合、液晶層の一方の面は、空気に接した状態で形成される。界面活性剤を含有しない液晶組成物を用いた場合、得られる液晶層の表面近傍（空気界面側）において、液晶化合物の配向が乱れる傾向にある。
この問題に対して、環構造を含む繰り返し単位を有する界面活性剤を用いれば、界面活性剤が液晶層の表面近傍（空気界面側）に位置しやすくなり、液晶化合物が空気界面付近から遠ざかる結果、配向欠陥を抑制できたと考えられる。
一方で、液晶性化合物を高度に配向させた状態（具体的には、後述する配向度の評価方法において、配向度が０．９０以上の状態）においては、液晶層の表面近傍（空気界面側）から、液晶性化合物が配向している領域に界面活性剤が僅かに混合するだけでも、液晶化合物の配向が阻害されると推定している。
本発明においては、界面活性剤として、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位と、環構造を含む繰り返し単位とを有し、フッ素含率が３２質量％以上の共重合体を用いることにより、界面活性剤の表面偏在性が高まり、液晶性化合物の配向阻害を抑制できた結果、配向度に優れた液晶層が得られたと考えている。
以下に、本発明の液晶組成物に含まれる各成分について詳述する。

＜液晶性化合物＞
本発明の液晶組成物は、液晶性化合物を含有する。
液晶性化合物は、可視領域で二色性を示さない液晶性化合物が好ましい。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶性化合物の含有量は、液晶組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、液晶層の配向度がより向上する。

（繰り返し単位（１））
液晶性化合物は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、高分子液晶性化合物であることが好ましく、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」ともいう。）を含む高分子液晶性化合物であることがより好ましい。

上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。

式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ^４（ＯＲ^５）_２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ^４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ^４と同義であり、複数のＲ^５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。

Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^３－、－ＮＲ^３Ｃ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）_２－、および、－ＮＲ^３Ｒ^４－などが挙げられる。式中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。上記２価の連結基の具体例において、左側の結合手がＰ１と結合し、右側の結合手がＳＰ１と結合する。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。

ＳＰ１が表すスペーサー基は、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、または、炭素数２～２０の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、または－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を含んでいてもよい。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基であることが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ_２－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ）_ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＦ_２－ＣＦ_２）_ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環状構造を有する基であることが好ましい。
メソゲン基は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。

メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、ならびに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。

式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基または置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。

式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ_２）_ｇ－、－（ＣＦ_２）_ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）_２－Ｃ（Ｚ’）_２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合または連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１およびＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
Ｔ１は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、液晶層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

繰り返し単位（１）の含有量は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、繰り返し単位（１）が高分子液晶性化合物中に２種含まれているのがよい。

高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１）を２種含む場合、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、一方（繰り返し単位Ａ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基であり、他方（繰り返し単位Ｂ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基以外の基であることが好ましい。
上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、または、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、または、シアノ基であることがより好ましい。
高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、質量基準で５０／５０～９５／５であることが好ましく、６０／４０～９３／７であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。

（繰り返し単位（３－２））
本発明の高分子液晶性化合物は、さらに、下記式（３－２）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（３－２）」ともいう。）を含んでいてもよい。これにより、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。
繰り返し単位（３－２）は、少なくともメソゲン基を有しないという点で、上記繰り返し単位（１）と異なる。
高分子液晶性化合物が繰り返し単位（３－２）を含む場合には、高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（３－２）との共重合体であり（さらに、繰り返し単位Ａ，Ｂを含む共重合体であってもよい）、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

式（３－２）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
式（３－２）におけるＰ３、Ｌ３、ＳＰ３およびＴ３の具体例はそれぞれ、上記式（１）におけるＰ１、Ｌ１、ＳＰ１およびＴ１と同様である。
ここで、式（３－２）におけるＴ３は、液晶層の強度が向上する観点から、重合性基を有することが好ましい。

繰り返し単位（３－２）を含有する場合の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～４０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
繰り返し単位（３－２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（３－２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

（重量平均分子量）
高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

（含有量）
本発明においては、液晶性化合物の含有量は、液晶組成物における全固形分（１００質量％）に対して、８～９９質量％が好ましく、８～９６質量％がより好ましい。
ここで、「液晶組成物における全固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記液晶性化合物、後述する二色性物質、重合開始剤および界面活性剤などが挙げられる。

（置換基Ｗ）
本明細書における置換基Ｗについて記載する。
置換基Ｗとしては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（例えば、ｔｅｒｔ－ブチル基）（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ(ＯＨ)₂）、ホスファト基（－ＯＰＯ(ＯＨ)₂）、スルファト基（－ＯＳＯ₃Ｈ）、その他の公知の置換基などが挙げられる。
なお、置換基の詳細については、特開２００７-２３４６５１号公報の段落［００２３］に記載される。

＜界面活性剤＞
本発明の液晶組成物が含有する界面活性剤は、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｆ」ともいう。）と、環構造を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｍ」ともいう。）とを有する、フッ素含率が３２質量％以上の共重合体（以下、「特定界面活性剤」ともいう。）である。
なお、本発明において、フッ素含率とは、特定界面活性剤の全質量に対する、特定界面活性剤が有するフッ素原子の質量の割合（質量％）を表す。フッ素含率は、特定界面活性剤を公知の構造解析方法によって分析して求められる値であり、例えば、特定界面活性剤を核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）法により分析して求めることができる。

本発明において、ハンセンの溶解度パラメーターは、ＨＳＰｉＰ（Ｖｅｒ．５．１．０８）に化合物の構造式を入力して算出される値を採用する。ハンセンの溶解度パラメーターの分散項δｄ（以下、単に「δｄ」ともいう。）は、ファンデルワールス力に起因する項である。
なお、特定界面活性剤においては、各々の繰り返し単位の結合部を水素原子に置き換えた構造式でδｄおよび体積を計算し、体積比で平均した値を採用している。
液晶化合物を配向させるために８０～１４０℃の高温熟成が必要であり、高温熟成時に液晶組成物の粘度が下がりハジキ故障が生じることがある。本発明者らが検討した結果、界面活性剤のδｄとハジキ故障の相関があることが明らかになった。具体的には、界面活性剤のδｄは、ハジキ故障の発生を抑制できる点から、１５．５～１７．５の範囲が好ましく、１５．８～１７．０の範囲がより好ましい。

（繰り返し単位Ｆ）
特定界面活性剤が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ａ）で表される繰り返し単位であることが好ましい。

上記式（ａ）中、Ｒ^ａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^ａ２は、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基もしくは炭素数２～２０のアルケニル基を表す。
アルキル基およびアルケニル基は、直鎖状であってもよいし、分岐鎖状であってもよい。

上記式（ａ）中、Ｒ^ａ２は、得られる液晶層の配向欠陥がより抑制される理由から、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～１０のアルキル基もしくは炭素数２～１０のアルケニレン基が好ましく、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～１０のアルキル基であることがより好ましい。
特に、得られる液晶層の配向欠陥がより抑制される理由から、Ｒ^ａ２に含まれる半数以上の炭素原子がフッ素原子を置換基として有することが好ましい。

本発明においては、特定界面活性剤が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ｂ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。

上記式（ｂ）中、Ｒ^ａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、ｍａおよびｎａは、それぞれ独立に０以上の整数を表し、Ｘは、水素原子またはフッ素原子を表す。
ここで、ｍａは、１～１０の整数であることが好ましく、ｎａは、４～１２の整数が好ましい。
Ｒ^ａ１は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。

特定界面活性剤が有する繰り返し単位Ｆを形成する単量体（以下、「フルオロアルキル基含有モノマー」とも略す。）としては、具体的には、例えば、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－３－メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ－ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、１Ｈ－１－（トリフオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロブチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロオクチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－３－メチルブチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

本発明において、フルオロアルキル基含有モノマーを共重合させる割合は、反応性や表面改質効果の観点から、繰り返し単位Ｍを形成するモノマー１モルに対して、０．０１～１００モルであることが好ましく、０．１～５０モルであることがより好ましく、１～３０モルであることがさらに好ましい。

繰り返し単位Ｆの含有量は、特定界面活性剤の全繰り返し単位（１００モル％）に対して、配向度の観点から、２０～９９モル％が好ましく、５５～７４モル％がより好ましい。

（繰り返し単位Ｍ）
特定界面活性剤が有する繰り返し単位Ｍは、環構造を含む単位であればよい。
環構造とは、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環構造を表す。配向欠陥を抑制する観点からは、繰り返し単位Ｍは、２個以上の環構造を有する繰り返し単位であることが好ましい。

上記共重合体が有する繰り返し単位Ｍの好適態様の一つとしては、下記式（ｃ）で表される繰り返し単位が挙げられる。

上記式（ｃ）中、Ｒ^ａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌ４、Ｌ５は単結合または炭素数１～８のアルキレン基を表し、Ｇ１、Ｇ２は２価の環状基を表し、Ｔ４は末端基を表す。ｎは、０～４の整数を表す。

Ｌ４、Ｌ５が表すアルキレン基については、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^３１－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ^３２＝ＣＲ^３２－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＳｉＲ^３３Ｒ^３４－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^３５＝Ｎ－Ｎ＝ＣＲ^３６－、－ＣＲ^３７＝Ｎ－、および、－ＳＯ_２－からなる群より選択される少なくとも一種の基によって置き換えられていてもよく、Ｒ^３１～Ｒ^３７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、または、炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基を表す。
また、Ｌが、アルキレン基を表す場合、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐鎖状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基によって置き換えられていてもよい。
中でも、Ｌ４については炭素数４～６で末端が酸素のアルキレンオキシ基が好ましく、Ｌ５については、エステル基が最も好ましい。

Ｇ１およびＧ２が表す２価の環状基は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。さらに、脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基は複数が単結合していても良い。中でも、ベンゼン環が好ましい。

Ｔ４が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。中でも、水素原子、シアノ基が最も好ましい。

繰り返し単位Ｍの好適態様の一つとしては、下記式（ｃｃ）で表される繰り返し単位が挙げられる。

上記式（ｃｃ）中、Ｒ^ａ１、Ｌ４、Ｌ５、Ｇ１、Ｇ２およびｎの定義は、上記式（ｃ）と同義である。
上記式（ｃｃ）中、複数のＲ^ａ１は、互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ４は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

繰り返し単位Ｍの好適態様の一つとしては、下記式（ｃａ）で表される基を含む繰り返し単位が挙げられる。これにより、配向度により優れる液晶層を形成できる。また、液晶層の形成時の高温熟成によるハジキの発生をより抑制できる。

上記式（ｃａ）中、６員環であるＡ、ＢおよびＣはそれぞれ独立に、下記式（ｃａ１）～（ｃａ１０）のいずれかを表す。

上記式（ｃａ１）～（ｃａ１０）において、＊は他の基との結合位置を表し、左側の結合手が、上記式（ｃａ）のＡ、ＢおよびＣにおける左側の結合手に相当し、右側の結合手が、上記式（ｃａ）のＡ、ＢおよびＣにおける右側の結合手に相当する。上記式（ｃａ１）～（ｃａ１０）における環を構成する炭素原子に結合する水素原子は、フッ素原子またはメチル基で置換されていてもよい。

上記式（ｃａ）中、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ独立に、単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＣＨ_２－または－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ－を表す。ここで、各基において、左側の結合手がＹ_１およびＹ_２における左側の結合手に相当し、右側の結合手がＹ_１およびＹ_２における右側の結合手に相当する。
なかでも、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ独立に、単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－または－Ｃ≡Ｃ－が好ましい。

上記式（ｃａ）中、Ｙ_３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基またはアルケニルオキシ基を表す。
なかでも、Ｙ_３は、水素原子、フッ素原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基またはアルケニルオキシ基が好ましい。

上記式（ｃａ）中、ｎは、０または１の整数を表す。
上記式（ｃａ）中、＊は、他の基との結合位置を表す。

式（ｃａ）で表される基の具体例は、以下の通りである。

式（ｃａ）で表される基を含む繰り返し単位は、配向度により優れる液晶層を形成できる点から、下記式（ＣＡ）で表される繰り返し単位であることが好ましい。

式（ＣＡ）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｙ_３およびｎの定義は、上述した式（ｃａ）と同様である。
式（ＣＡ）中、Ｘ_１は、水素原子またはメチル基を表す。
式（ＣＡ）中、Ｒは、炭素数１～１８のアルキレン基を表す。ただし、式（ＣＡ）における－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－と直接結合しないアルキレン基中の－ＣＨ_２－は、－Ｏ－で置換されていてもよい。また、アルキレン基中の２以上の－ＣＨ_２－が－Ｏ－で置換されている場合、－Ｏ－同士は直接結合しない。
具体的には、Ｒとしては、－（ＣＨ_２）_t１－Ｏ－、－（ＣＨ_２）_t２－、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_t３－が挙げられ（ｔ１、ｔ２およびｔ３はそれぞれ独立に、１～１８の整数を表す。）、なかでも、炭素数５～１５のアルキレン基が好ましく、炭素数５～１０のアルキレン基がより好ましく、炭素数５～８のアルキレン基が特に好ましい。

繰り返し単位Ｍの含有量は、特定界面活性剤の全繰り返し単位（１００モル％）に対して、配向度の観点から、１～８０モル％が好ましい。

（含有量）
特定界面活性剤の含有量は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、上記液晶性化合物１００質量部に対して０．０５～１５質量部であることが好ましく、０．０８～１０質量部であることがより好ましく、０．１～５質量部であることがさらに好ましい。

＜二色性物質＞
液晶組成物は、二色性物質を含有する。本発明において、二色性物質とは、方向によって吸光度が異なる色素を意味する。二色性物質を含有することで、液晶層の配向度が向上する。
二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、国際公開第２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、国際公開第２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。

本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、得られる液晶層を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。
この場合、二色性物質を有する液晶層は、偏光子として用いることもできる。

上記二色性物質は、架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

（含有量）
二色性物質の含有量は、得られる液晶層の配向度がより高くなる理由から、上記液晶性化合物１００質量部に対して１～４００質量部であることが好ましく、２～１００質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることがさらに好ましい。

＜重合開始剤＞
液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物(特開２０１６－２７３８４明細書［００６５］)および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。

液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、液晶層の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、液晶層の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜溶媒＞
本発明の液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。

液晶組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、液晶組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが特に好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

〔液晶層〕
本発明の液晶層は、上述の本発明の液晶組成物を用いて形成される。
本発明の液晶層の形成方法は特に限定されず、上述した液晶組成物を上述した光配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

＜塗布膜形成工程＞
塗布膜形成工程は、液晶組成物を光配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、光配向層上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

＜配向工程＞
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、液晶層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性層）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性層として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、液晶層（光吸収異方性層）を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

＜他の工程＞
液晶層の形成方法は、上記配向工程後に、液晶層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、液晶層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、液晶層に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって液晶層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

液晶層の厚さは、特に限定されないが、本発明の積層体を偏光素子に用いた場合のフレキシブル性の観点から、１００～８０００ｎｍであることが好ましく、３００～５０００ｎｍであることがより好ましい。

〔積層体〕
本発明の積層体は、少なくとも、光配向層と、上記光配向層上に設けられた上述の液晶層と、を有する積層体である。
また、本発明の積層体において、液晶層に含まれる上記液晶性化合物は、上述した配向工程によって、水平方向に配向した状態で固定化されている。また、液晶層に含まれる二色性物質についても、上述した配向工程によって、水平方向に配向した状態で固定化されていることが好ましい。

＜液晶層＞
本発明の積層体が有する液晶層は、上述の通りである。
液晶層に含まれる二色性物質の含有量は、配向度がより優れる点から、液晶層の全固形分に対して、３～３５質量％であるのが好ましく、８～３０質量％であるのがより好ましいく、さらに１７～２４質量％であるのがより好ましい。
液晶層に含まれる液晶化合物の含有量は、配向度がより優れる点から、液晶層の全固形分に対して、３０～９０質量％であるのが好ましく、５５～８５質量％であるのがより好ましい。
液晶層に含まれる特定界面活性剤の含有量は、配向度がより優れる点から、液晶層の全固形分に対して、０．１～１０質量％であるのが好ましく、０．２～３質量％であるのがより好ましい。

＜光配向層＞
本発明の積層体が有する光配向層は、特に制限されず、公知の光配向層を用いることができる。
光配向層を形成するための材料は特に制限されないが、通常、光配向性基を有する化合物が使用される。化合物としては、光配向性基を含む繰り返し単位を有する重合体（ポリマー）であってもよい。
上記光配向性基は、光照射により膜に異方性を付与することができる官能基である。より具体的には、光（例えば、直線偏光）の照射により、その基中の分子構造に変化が起こり得る基である。典型的には、光（例えば、直線偏光）の照射により、光異性化反応、光二量化反応、および光分解反応から選ばれる少なくとも１つの光反応が引き起こされる基をいう。
これら光配向性基のなかでも、光異性化反応を起こす基（光異性化する構造を有する基）、および、光二量化反応を起こす基（光二量化する構造を有する基）が好ましく、光二量化反応を起こす基がより好ましい。

上記光異性化反応とは、光の作用で立体異性化、または、構造異性化を引き起こす反応をいう。このような光異性化反応を起こす物質としては、例えば、アゾベンゼン構造を有する物質（K. Ichimura et al., Mol.Cryst.Liq.Cryst., 298, page 221 (1997)）、ヒドラゾノ－β－ケトエステル構造を有する物質（S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）、スチルベン構造を有する物質（J.G.Victor and J.M.Torkelson, Macromolecules, 20, page 2241 (1987)）、およびスピロピラン構造を有する物質（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992) ；K.Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993)）などが知られている。
上記光異性化反応を起こす基としては、Ｃ＝Ｃ結合またはＮ＝Ｎ結合を含む光異性化反応を起こす基が好ましく、このような基としては、例えば、アゾベンゼン構造（骨格）を有する基、ヒドラゾノ－β－ケトエステル構造（骨格）を有する基、スチルベン構造（骨格）を有する基、および、スピロピラン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。

上記光二量化反応とは、光の作用で二つの基の間で付加反応が起こり、典型的には環構造が形成される反応をいう。このような光二量化を起こす物質としては、例えば、桂皮酸構造を有する物質（M. Schadt et al., J. Appl. Phys., vol. 31, No. 7, page 2155 (1992)）、クマリン構造を有する物質（M. Schadt et al., Nature., vol. 381, page 212 (1996)）、カルコン構造を有する物質（小川俊博他、液晶討論会講演予稿集，2AB03(1997))、ベンゾフェノン構造を有する物質（Y. K. Jang et al., SID Int. Symposium Digest, P-53(1997)）などが知られている。
上記光二量化反応を起こす基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
特に、光配向層が光配向性基を有する化合物を含有し、光配向性基がシンナモイル構造を有する基である場合、本発明の液晶層の形成時における高温熟成によるハジキの発生をより抑制できる。

また、上記光配向性基を有する化合物は、さらに、架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基、光の作用により硬化反応を起こす光架橋性基が好ましく、熱架橋性基および光架橋性基をいずれも有する架橋性基であってもよい。
上記架橋性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、－ＮＨ－ＣＨ₂－Ｏ－Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和二重結合を有する基、および、ブロックイソシアネート基からなる群から選ばれた少なくとも１つが挙げられる。なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。
なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
また、エチレン性不飽和二重結合を有する基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。

上記光配向層の好適態様の一つとしては、シンナメート基を含む繰り返し単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、上記重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂとを含む光配向層形成用組成物を用いて形成される光配向層が挙げられる。

ここで、本明細書において、シンナメート基とは、桂皮酸またはその誘導体を基本骨格として含む桂皮酸構造を有する基であって、下記式（Ｉ）または下記式（ＩＩ）で表される基をいう。

式中、Ｒ^１は水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表す。式（Ｉ）中、ａは０～５の整数を表し、式（ＩＩ）中、ａは０～４を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。＊は結合手であることを示す。

重合体Ａは、シンナメート基を含む繰り返し単位ａ１を有する重合体であれば特に制限されず、従来公知の重合体を用いることができる。
重合体Ａの重量平均分子量は、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましく、３０００～２０００００がさらに好ましい。
ここで、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン（ＰＳ）換算値として定義され、本発明におけるＧＰＣによる測定は、ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ、ＨＺ４０００、ＨＺ２０００を用いて測定できる。

上記重合体Ａが有するシンナメート基を含む繰り返し単位ａ１としては、例えば、下記式（Ａ１）～（Ａ４）で表される繰り返し単位が挙げられる。

ここで、式（Ａ１）および式（Ａ３）中、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を表し、式（Ａ２）および式（Ａ４）中、Ｒ^４は炭素数１～６のアルキル基を表す。
式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｌ^１は単結合または２価の連結基を表し、ａは０～５の整数を表し、Ｒ^１は水素原子または１価の有機基を表す。
式（Ａ３）および式（Ａ４）中、Ｌ^２は２価の連結基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表す。
また、Ｌ^１としては、具体的には、例えば、－ＣＯ－Ｏ－Ｐｈ－、－ＣＯ－Ｏ－Ｐｈ－Ｐｈ－、－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ－、－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｃｙ－、および、－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｃｙ－などが挙げられる。ここで、Ｐｈは置換基を有していてもよい２価のベンゼン環（例えば、フェニレン基など）を表し、Ｃｙは置換基を有していてもよい２価のシクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン－１，４－ジイル基など）を表し、ｎは１～４の整数を表す。
また、Ｌ^２としては、具体的には、例えば、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－（ＣＨ_２）_ｍ－Ｏ－などが挙げられる。ここで、ｍは１～６の整数を表す。
また、Ｒ^１の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基などが挙げられる。
また、Ｒ^２の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基などが挙げられる。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ^１がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したＰｈ、Ｃｙおよびアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、および、アミノ基などが挙げられる。

液晶層の配向性がより向上する点、および、液晶層の密着性がより向上する点から、上記重合体Ａは、さらに、架橋性基を含む繰り返し単位ａ２を有しているのが好ましい。
架橋性基の定義および好適態様は、上述した通りである。
なかでも、架橋性基を含む繰り返し単位ａ２としては、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する繰り返し単位が好ましい。

エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する繰り返し単位の好ましい具体例としては、下記の繰り返し単位が例示できる。なお、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ、上述した式（Ａ１）および式（Ａ１）中のＲ^３およびＲ^４と同義である。

上記重合体Ａは、上述した繰り返し単位ａ１および繰り返し単位ａ２以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。
他の繰り返し単位を形成するモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、および、ビニル化合物などが挙げられる。

光配向層形成用組成物中における上記重合体Ａの含有量は、後述する有機溶媒を含む場合、溶媒１００質量部に対して、０．１～５０質量部であるのが好ましく、０．５～１０質量部であるのがより好ましい。

低分子化合物Ｂは、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい化合物である。低分子化合物Ｂを用いることにより、作製される光配向層の配向性がより良好となる。
光配向層の配向性がより向上する理由から、上記低分子化合物Ｂの分子量は、２００～５００が好ましく、２００～４００がより好ましい。
低分子化合物Ｂとしては、例えば、下記式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。

式（Ｂ１）中、ａは０～５の整数を表し、Ｒ^１は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ^２は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ^１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｒ^１の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基が挙げられ、なかでも、炭素数１～２０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がさらに好ましい。
また、Ｒ^２の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基が挙げられ、なかでも、炭素数１～２０の鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～１０の分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ^１がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、および、アミノ基などが挙げられる。

光配向層形成用組成物中における、上記低分子化合物Ｂの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して、１０～５００質量％であるのが好ましく、３０～３００質量％であるのがより好ましい。

光配向層形成用組成物は、配向性がより向上する理由から、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する重合体Ａとは別に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含むことが好ましい。
上記架橋剤Ｃの分子量は、１０００以下が好ましく、１００～５００がより好ましい。
上記架橋剤Ｃとしては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、および、アルコキシメチル基含有化合物などが挙げられる。
これらのうち、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、または、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。

光配向層形成用組成物が上記架橋剤Ｃを含む場合、架橋剤Ｃの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の１００質量部に対して、１～１０００質量部であるのが好ましく、１０～５００質量部であるのがより好ましい。

光配向層形成用組成物は、光配向層を作製する作業性の観点から、溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては、水、および、有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、および、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、および、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミドなど）が挙げられる。これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

光配向層形成用組成物は、上記以外の他の成分を含んでいてもよく、例えば、架橋触媒、密着改良剤、レベリング剤、界面活性剤、および、可塑剤などが挙げられる。

＜光配向層の形成方法＞
光配向層の形成方法は特に限定されず、例えば、上述した光配向層形成用組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、光配向層形成用組成物の塗膜に対し、偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する光照射工程とを有する製造方法により作製することができる。

（支持体）
支持体としては、例えば、ガラス基板およびポリマーフィルムが挙げられる。
ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；アクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）などのスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン－プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。

支持体の厚みは特に制限されないが、５～６０μｍが好ましく、５～３０μｍがより好ましい。

＜配向層＞
本発明の積層体として、光配向層を有する場合を説明したが、液晶化合物の配向させるために、光配向層の代わりに光配向層以外の配向層（以下、「他の配向層」ともいう。）を用いてもよい。
他の配向層を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与あるいは磁場の付与により、配向機能が生じる配向層も知られている。
なかでも、他の配向層としては、配向層のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向層（ラビング処理配向層）が好ましい。
ラビング処理配向層に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向層については国際公開第０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。ラビング処理配向層の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることがさらに好ましい。

＜λ／４板＞
本発明の積層体は、上述した液晶層が偏光子として機能する場合、λ／４板を有していることが好ましい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４板と液晶層とは、接して設けられていてもよいし、λ／４板と液晶層との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着剤層が挙げられる。

＜バリア層＞
本発明の積層体は、液晶層とともに、バリア層を有していることが好ましい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から液晶層を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。

＜硬化層＞
本発明の積層体は、上述した液晶層が二色性物質を有し、円偏光板として反射防止の目的で用いられる場合、液晶層の高屈折率に起因する内部反射が問題となる場合がある。その場合に、下記に述べる硬化層が存在することが好ましい。硬化層は、液晶層に接するように配置される層であり、架橋性基を有する化合物を含有する組成物から形成され、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率が１．５５以上１．７０以下である。いわゆるインデックスマッチングを行うための屈折率調整層であることが好ましい。

屈折率調整層の面内平均屈折率は、上記範囲であればよいが、１．５８～１．７０が好ましく、１．６０～１．７０がさらに好ましい。

屈折率調整層の厚みは特に制限されないが、薄型化の点から、０．０１～２．００μｍが好ましく、０．０１～０．８０μｍがより好ましく、０．０１～０．１５μｍがさらに好ましい。

屈折率調整層を構成する成分の種類は、架橋性基を有する化合物を含有していれば特に制限されない。架橋性基があることで層内の強度が確保できる。光や熱で硬化する化合物、例えば、（メタ）アクリロイル基やエポキシ基を有する重合性化合物が好ましい。また、高い面内平均屈折率が得られる点で重合性液晶性化合物も好ましい。また、重合性液晶性化合物は面内で屈折率の異方性を制御できる点で、面内で屈折率異方性を持つ液晶層との屈折率最適化のポテンシャルが高い。

屈折率調整層は、架橋性基を有する化合物と共に、粒子を含んでいてもよい。粒子としては、有機粒子、無機粒子ならびに有機成分および無機成分を含む有機無機複合粒子が挙げられる。
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレン－ジビニルベンゼン共重合体粒子、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、スチレン－アクリル共重合体粒子、スチレン－メタクリル共重合体粒子、メラミン樹脂粒子およびこれらを２種以上含む樹脂粒子が挙げられる。
無機粒子を構成する成分としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体が挙げられる。上記金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体に含まれる金属原子としては、チタン原子、ケイ素原子、アルミニウム原子、コバルト原子、および、ジルコニウム原子が挙げられる。無機粒子の具体例としては、アルミナ粒子、アルミナ水和物粒子、シリカ粒子、ジルコニア粒子、および、粘土鉱物（例えば、スメクタイト）等の無機酸化物粒子が挙げられる。高屈折率が得られる点で、ジルコニア粒子は好ましい。

粒子の平均粒子径は、１～３００ｎｍが好ましく、１０～２００ｎｍがより好ましい。
上記範囲であると、粒子の分散性に優れ、また、高温耐久性、湿熱耐久性および透明性により優れる硬化物（透明樹脂層）が得られる。
ここで、粒子の平均粒子径は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）またはＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）の観察にて得られた写真から求めることができる。具体的には、粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径（円の直径）を粒子の平均粒子径とする。なお、本発明における平均粒子径は、１００個の粒子について求めた円相当径の算術平均値とする。粒子は、球状、針状、繊維（ファイバー状）、柱状および板状等のいずれの形状であってもよい。
屈折率調整層中における粒子の含有量は特に制限されないが、屈折率調整層の面内平均屈折率が調整しやすい点で、屈折率調整層全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。

屈折率調整層の形成方法は特に制限されないが、屈折率調整層形成用組成物を液晶層上に塗布して、必要に応じて、塗膜に硬化処理を施す方法が挙げられる。
屈折率調整層形成用組成物には、屈折率調整層を構成し得る成分が含まれており、例えば、樹脂、モノマー、および、粒子が挙げられる。樹脂および粒子の例示は、上述した通りである。
モノマーとしては、光硬化性化合物および熱硬化性化合物（例えば、熱硬化性樹脂）が挙げられる。モノマーとしては、重合性基を１分子中に１つ含む単官能重合性化合物、および、同一または異なる重合性基を１分子中に２つ以上含む多官能重合性化合物が好ましい。重合性化合物は、モノマーであっても、オリゴマーまたはプレポリマー等の多量体であってもよい。
重合性基としては、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合基等が挙げられる。カチオン重合性基としては、エポキシ基およびオキセタン基等が挙げられる。

屈折率調整層形成用組成物には、界面活性剤（界面改良剤）、重合開始剤、および、溶媒の少なくとも１種が含まれていてもよい。これらの成分としては、液晶組成物に含まれていてもよい成分として例示した化合物が挙げられる。

屈折率調整層形成用組成物の塗布方法は特に制限されず、上述した液晶組成物の塗布方法が挙げられる。

屈折率調整層形成用組成物を塗布した後、必要に応じて、塗膜に乾燥処理を施してもよい。
また、屈折率調整層形成用組成物がモノマー等の硬化性化合物を含む場合は、屈折率調整層形成用組成物を塗布した後、塗膜に硬化処理を施してもよい。
硬化処理としては、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられ、用いられる材料に応じて最適な条件が選択される。

屈折率調整層の形成に重合性液晶性化合物を用いる場合、化合物は特に限定されない。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物（以下、「ＣＬＣ」とも略す。）またはディスコティック液晶性化合物（以下、「ＤＬＣ」とも略す。）を用いるのが好ましく、棒状液晶性化合物を用いるのがより好ましい。なお、２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。

屈折率調整層の形成において液晶性化合物を用いる場合、液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する液晶性化合物（重合性液晶性化合物）を用いることが好ましく、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。なお、液晶性化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。なお、液晶性化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。

また、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタクリロイル基またはアクリロイル基を意味する表記である。

棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。

屈折率調整層形成用組成物に含まれるその他の成分としては、具体的には、例えば、上述した液晶組成物において説明した重合開始剤、界面活性剤および溶媒などを挙げることができる。

＜屈折率調整層の形成方法＞
液晶性化合物を含む屈折率調整層形成用組成物を用いた屈折率調整層の形成方法は特に限定されず、上述した屈折率調整層形成用組成物を層構成に応じて光配向層または液晶層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
ここで、塗布膜形成工程および配向工程としては、上述した液晶層の形成方法において説明したものと同様の工程が挙げられる。

＜粘着層＞
本発明の積層体は、上述したλ／４板を貼合する観点から、λ／４板を貼合する面に粘着層を有していてもよい。

粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。

粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶媒に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。

また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。

本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ～５０μｍであることが好ましく、４μｍ～４０μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることがさらに好ましい。

＜接着剤層＞
本発明における接着剤層は、貼り合わせた後の乾燥や反応により接着性を発現する。
ポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）は、乾燥により接着性が発現し、材料同士を接着することが可能となる。
反応により接着性を発現する硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤のような活性エネルギー線硬化型接着剤やカチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。
また、カチオン重合硬化型接着剤としては、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。

＜用途＞
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。

図１は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。図１において、積層体１００は、光配向層２および液晶層１がこの順に積層されている。
図２は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。図２において、積層体２００は、位相差層３、光配向層２および液晶層１がこの順に積層されている。
図１および図２における各層の詳細は、上述した通りであるので、その説明を省略する。

〔画像表示装置〕
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、画像表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネル（有機ＥＬ表示素子）を用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

＜液晶表示装置＞
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

（液晶セル）
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、さらに６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。

＜有機ＥＬ表示装置＞
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、必要に応じて設けられるバリア層、必要に応じて設けられる硬化層、液晶層（光吸収異方性層）、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔作製例１〕
＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

化合物Ｆ

（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶媒） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

＜透明支持体１の作製＞
後述する配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。膜厚は１．０μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
キシレン １２２０．００質量部
メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合体ＰＡ－１

酸発生剤ＰＡＧ－１

酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

＜液晶層Ｐ１の形成＞
得られた配向層ＰＡ１上に、下記の液晶組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜Ｐ１を形成した。
次いで、塗布膜Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布膜Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層ＰＡ１上に液晶層Ｐ１を作製した。膜厚は０．４μｍであった。
このようにして、作製例１の積層体を得た。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－１ ０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－２ ０．５３質量部
・下記二色性物質Ｄ－３ ０．３１質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ３．５８質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４５．００質量部
・テトラヒドロフラン ４５．００質量部
・ベンジルアルコール ５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

Ｄ－１

Ｄ－２

Ｄ－３

高分子液晶性化合物Ｐ－１

界面活性剤Ｆ－１

〔作製例２～６〕
液晶組成物Ｐ１の界面活性剤Ｆ－１を下記に示すＦ－２～Ｆ－６に置き換えた液晶組成物Ｐ２～Ｐ６を用いた以外は、作製例１と同様にして、作製例２～６の積層体を作製した。

界面活性剤Ｆ－２

界面活性剤Ｆ－３

界面活性剤Ｆ－４

界面活性剤Ｆ－５

界面活性剤Ｆ－６

〔作製例７〕
液晶組成物Ｐ１を下記に示すＰ７に置き換えた以外は、作製例１と同様にして、作製例７の積層体を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ７の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．２１質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．３１質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．１８質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ４．０８質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－２ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４５．００質量部
・テトラヒドロフラン ４５．００質量部
・ベンジルアルコール ５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

〔作製例８〕
液晶組成物Ｐ１を下記に示すＰ８に置き換えた以外は、作製例１と同様にして、作製例８の積層体を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ８の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－４ ０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－５ ０．５３質量部
・下記二色性物質Ｄ－６ ０．３１質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ３．４２質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｍ－１ ０．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－２ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４５．００質量部
・テトラヒドロフラン ４５．００質量部
・ベンジルアルコール ５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

Ｄ－４

Ｄ－５

Ｄ－６

高分子液晶性化合物Ｐ－２

低分子液晶性化合物Ｍ－１

〔作製例９〕
配向層形成用塗布液ＰＡ１を下記に示すＰＡ２に置き換えた以外は、作製例２と同様にして、作製例９の積層体を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向層形成用塗布液ＰＡ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合体ＰＡ－２ １００．００質量部
上記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
イソプロピルアルコール １６．５０質量部
酢酸ブチル １０７２．００質量部
メチルエチルケトン ２６８．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合体ＰＡ－２

〔作製例１０〕
配向層形成用塗布液ＰＡ１を上記に示すＰＡ２に置き換えた以外は、作製例３と同様にして、作製例１０の積層体を作製した。

〔作製例１１〕
配向層形成用塗布液ＰＡ１を下記に示すＰＡ３に置き換えた以外は、作製例２と同様にして、作製例１１の積層体を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合体ＰＡ－３ １００．００質量部
上記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
キシレン １２２０．００質量部
メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合体ＰＡ－３

〔作製例１２〕
配向層形成用塗布液ＰＡ１を上記に示すＰＡ３に置き換えた以外は、作製例３と同様にして、作製例１２の積層体を作製した。

〔作製例１３、１４〕
液晶組成物Ｐ１の界面活性剤Ｆ－１を特開２００６－１６５９９に記載の添加剤Ｈ－１、Ｈ－３に置き換えた液晶組成物Ｐ９、Ｐ１０を用いた以外は、作製例１と同様にして、作製例１３および１４の積層体を作製した。

〔作製例１５～１７〕
液晶組成物Ｐ１の界面活性剤Ｆ－１を下記に示すＦ－７～Ｆ－９に置き換えた液晶組成物Ｐ１１～Ｐ１３を用いた以外は、作製例１と同様にして、作製例１５～１７の積層体を作製した。

界面活性剤Ｆ－７

界面活性剤Ｆ－８

界面活性剤Ｆ－９

＜配向度の評価＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に作製例の各積層体をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００～７００ｎｍの波長域における液晶層の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出し、以下の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：液晶層の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：液晶層の偏光軸方向の偏光に対する吸光度
（配向度評価基準）
Ａ：０．９６以上
Ｂ：０．９０以上０．９６未満
Ｃ：０．９０未満

表１に示すように、本発明のフッ素含率３２質量％以上の界面活性剤を用いて得られた積層体は、配向度が高く優れていた。

＜ハジキの評価＞
上記で得られた積層体の液晶層表面を目視にて観察し、以下の基準でハジキの評価を行った。結果を下記表２に示す。
ハジキ評価基準
Ａ：ハジキが１個／ｍ^２未満
Ｂ：１個／ｍ^２以上２個／ｍ^２未満のハジキが存在する
Ｃ：２個／ｍ^２以上のハジキが存在する

表２に示すように、界面活性剤のδｄが１５．５～１７．５の範囲の場合は、ハジキが抑制されていることが分かった。また、δｄが１５．８以上のほうがハジキがさらに良化していることも分かった。

〔作製例１８の作製〕
＜硬化層Ｎ１の形成＞
作製例１の積層体１の液晶層Ｐ１上に、下記の硬化層形成用組成物Ｎ１（下記表１においては「組成物Ａ」と略す。）をワイヤーバーで連続的に塗布し、硬化層Ｎ１を形成した。
次いで、硬化層Ｎ１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１５秒間照射することにより、液晶層Ｐ１上に硬化層Ｎ１を作製した。
硬化層Ｎ１の膜厚は、０．０５μｍ（５０ｎｍ）であった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化層形成用組成物Ｎ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１ ２．６１質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１１質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０５質量部
・下記界面改良剤ＦＢ－３ ０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン ２９７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１（下記式中の数値は質量％を表し、Ｒは酸素原子で結合する基を表す。）

変性トリメチロールプロパントリアクリレート

下記光重合開始剤Ｉ－１

界面改良剤ＦＢ－３

＜酸素遮断層Ｂ１の形成＞
硬化層Ｎ１上に、下記の組成の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、硬化層Ｎ１上に厚み１．０μｍの酸素遮断層Ｂ１が形成された積層体１８Ｂが作製された。
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酸素遮断層形成用組成物Ｂ１の組成
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・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
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変性ポリビニルアルコール

＜光学異方性層の作製＞
（ポジティブＡプレートＡ１の作製）

上記配向層形成用塗布液ＰＡ２を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、０．２μｍ厚みの配向層ＰＡ２を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。

後述する組成の組成物Ａ１を、バーコーターを用いて配向層ＰＡ２上に塗布した。配向層ＰＡ２上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、その後６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射することで、液晶性化合物の配向を固定化し、ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１を作製した。
ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。

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組成物Ａ１
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・下記重合性液晶性化合物Ｌ－１ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－２ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－３ ８．００質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－４ ５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１ ０．５５質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ２３５．００質量部
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重合性液晶性化合物Ｌ－１

重合性液晶性化合物Ｌ－２

重合性液晶性化合物Ｌ－３

重合性液晶性化合物Ｌ－４

重合開始剤ＰＩ－１

レベリング剤Ｔ－１

（ポジティブＣプレートＣ１の作製）
仮支持体として、上記セルロースアシレートフィルム１を用いた。
セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１を作製した。

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アルカリ溶液
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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下記の組成の配向層形成用塗布液３を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成した。
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（配向層形成用塗布液３）
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ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
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後述するポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１を配向層上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶性化合物を垂直配向させ、厚み０．５μｍのポジティブＣプレートＣ１を作製した。
得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。

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（ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１）
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下記液晶性化合物Ｌ－１１ ８０質量部
下記液晶性化合物Ｌ－１２ ２０質量部
下記垂直配液晶性化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
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＜粘着剤Ｎ１、Ｎ２の作製＞
次に、以下の手順に従い、アクリレート系ポリマーを調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５重量部、アクリル酸５重量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系重合体Ａ１を得た。

次に得られたアクリレート系重合体Ａ１用いて、以下の表１の組成で、アクリレート系粘着剤を作製した。これらの組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し９０℃の環境下で１分間乾燥させ、紫外線（ＵＶ）を下記条件で照射して、粘着剤Ｎ１、Ｎ２を得た。粘着剤の組成と膜厚および貯蔵弾性率を下記表３に示す。
＜ＵＶ照射条件＞
・フュージョン社無電極ランプ Ｈバルブ
・照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２
・ＵＶ照度・光量は、アイグラフィックス製「ＵＶＰＦ－３６」を用いて測定した。

（Ａ）多官能アクリレート系モノマー：トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、分子量＝４２３、３官能型（東亜合成社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」）
（Ｂ）光重合開始剤：ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比１：１の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア５００」
（Ｃ）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート
（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
（Ｄ）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）

＜ＵＶ接着剤の作製＞
下記の、ＵＶ接着剤組成物を調製した。
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ＵＶ接着剤組成物
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・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ ２．２５質量部
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ＣＰＩ－１００Ｐ

＜作製例１８の積層体の作製＞
上記ポジティブＡプレートＡ１の位相差側と、上記ポジティブＣプレートＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いて６００ｍＪ/ｃｍ^２のＵＶ照射で貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った。次に、ポジティブＡプレートＡ１側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去し、位相差板１とした。
低反射表面フィルムＣＶ-ＬＣ５（富士フイルム社製）の支持体側に、上記粘着剤Ｎ１を用いて、上記積層体１８Ｂの酸素遮断層側を貼り合わせた。次に、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、上記位相差板１のポジティブＡプレートＡ１の位相差側とを、上記粘着剤Ｎ１を用いて貼り合わせ、作製例１８の積層体１８を作製した。このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。

〔作製例１９～２６の積層体の作製〕
作製例１８の積層体１８と同様にして、作製例１の積層体の代わりに作製例２、５～９、１１および１５の積層体をそれぞれ用いて、積層体１９～２６を作製した。

＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ４を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記の作製例１８～２６の積層体を粘着剤Ｎ２を用いてタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製し、反射防止の効果が見られることを確認した。

１００、２００ 積層体
１ 液晶層
２ 配向層
３ 位相差層

Claims (13)

1. 少なくとも、液晶性化合物と、界面活性剤と、二色性物質と、を含有する液晶組成物であって、
   前記界面活性剤が、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位と、環構造を含む繰り返し単位とを有する共重合体であり、前記界面活性剤のフッ素含率が３２質量％以上であり、
   前記フッ化アルキル基を含む繰り返し単位が、式（ａ）で表される繰り返し単位であり、
   前記環構造を含む繰り返し単位が、式（ＣＡ）で表される繰り返し単位である、液晶組成物。
   前記式（ａ）中、
   Ｒ^ａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、
   Ｒ^ａ２は、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基もしくは炭素数２～２０のアルケニル基を表す。
   前記式（ＣＡ）中、
   Ｘ_１は、水素原子またはメチル基を表し、
   Ｒは、炭素数１～１８のアルキレン基を表し、
   ６員環であるＡ、ＢおよびＣはそれぞれ独立に、下記式（ｃａ１）～（ｃａ１０）のいずれかを表し、
   Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ独立に、単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＣＨ_２－または－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ－を表し、
   Ｙ_３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基またはアルケニルオキシ基を表し、
   ｎは、０または１の整数を表す。
   ただし、式（ＣＡ）における－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－と直接結合しないアルキレン基中の－ＣＨ_２－は、－Ｏ－で置換されていてもよい。また、アルキレン基中の２以上の－ＣＨ_２－が－Ｏ－で置換されている場合、－Ｏ－同士は直接結合しない。
   前記式（ｃａ１）～（ｃａ１０）において、＊は他の基との結合位置を表し、左側の結合手が、前記式（ＣＡ）のＡ、ＢおよびＣにおける左側の結合手に相当し、右側の結合手が、前記式（ＣＡ）のＡ、ＢおよびＣにおける右側の結合手に相当する。
   前記式（ｃａ１）～（ｃａ１０）における環を構成する炭素原子に結合する水素原子は、フッ素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
2. 少なくとも、液晶性化合物と、界面活性剤と、二色性物質と、を含有する液晶組成物であって、
   前記界面活性剤が、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位と、環構造を含む繰り返し単位とを有する共重合体であり、前記界面活性剤のフッ素含率が３２質量％以上であり、前記界面活性剤のハンセンの溶解度パラメーターの分散項δｄが１５．５～１７．５の範囲であり、
   前記フッ化アルキル基を含む繰り返し単位が、式（ａ）で表される繰り返し単位であり、
   前記環構造を含む繰り返し単位が、式（ｃ）で表される繰り返し単位であり、
   前記環構造を含む繰り返し単位が、下記式（ｃａ）で表される基を含む、液晶組成物。
   前記式（ａ）中、
   Ｒ^ａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、
   Ｒ^ａ２は、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基もしくは炭素数２～２０のアルケニル基を表す。
   前記式（ｃ）中、
   Ｒ^ａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、
   Ｌ４、Ｌ５は単結合または炭素数１～８のアルキレン基を表し、
   Ｇ１、Ｇ２は２価の環状基を表し、
   Ｔ４は末端基を表し、
   ｎは、０～４の整数を表す。
   前記式（ｃａ）中、６員環であるＡ、ＢおよびＣはそれぞれ独立に、下記式（ｃａ１）～（ｃａ１０）のいずれかを表し、Ｙ _１ およびＹ _２ はそれぞれ独立に、単結合、－ＣＨ _２ ＣＨ _２ －、－ＣＨ _２ Ｏ－、－ＯＣＨ _２ －、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－（ＣＨ _２ ） _４ －、－ＣＨ _２ ＣＨ _２ ＣＨ _２ Ｏ－、－ＯＣＨ _２ ＣＨ _２ ＣＨ _２ －、－ＣＨ _２ ＝ＣＨＣＨ _２ ＣＨ _２ －または－ＣＨ _２ ＣＨ _２ ＣＨ＝ＣＨ－を表し、Ｙ _３ は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基またはアルケニルオキシ基を表し、ｎは、０または１の整数を表し、＊は、他の基との結合位置を表す。
   前記式（ｃａ１）～（ｃａ１０）において、＊は他の基との結合位置を表し、左側の結合手が、前記式（ｃａ）のＡ、ＢおよびＣにおける左側の結合手に相当し、右側の結合手が、前記式（ｃａ）のＡ、ＢおよびＣにおける右側の結合手に相当する。前記式（ｃａ１）～（ｃａ１０）における環を構成する炭素原子に結合する水素原子は、フッ素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
3. 前記二色性物質の含有量が、前記液晶性化合物１００質量部に対して、２～２００質量部である、請求項１または２に記載の液晶組成物。
4. 前記環構造を含む繰り返し単位が、２個以上の環構造を含む繰り返し単位である、請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
5. 前記界面活性剤のハンセンの溶解度パラメーターの分散項δｄが１５．５～１７．５の範囲である、請求項１に記載の液晶組成物。
6. 前記液晶性化合物が、高分子液晶性化合物である、請求項１～５のいずれか１項に記載の液晶組成物。
7. 請求項１～６のいずれか１項に記載の液晶組成物から形成された、液晶層。
8. 少なくとも、光配向層と、前記光配向層上に設けられた請求項７に記載の液晶層と、を有する積層体であって、
   前記液晶層に含まれる液晶性化合物が、水平方向に配向した状態で固定化されている、積層体。
9. 前記液晶層に含まれる二色性物質の含有量が、前記液晶層の全固形分に対して、３～３５質量％である、請求項８に記載の積層体。
10. 前記光配向層が、光配向性基を有する化合物を含有し、
    前記光配向性基が、シンナモイル構造を有する基である、請求項８または９に記載の積層体。
11. さらに、前記液晶層上に設けられたλ／４板を有する、請求項８～１０のいずれか１項に記載の積層体。
12. 請求項８～１１のいずれか１項に記載の積層体と、画像表示素子と、を有する、画像表示装置。
13. 前記画像表示素子が有機ＥＬ表示素子である、請求項１２に記載の画像表示装置。