JP7402332B2 - 光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置に関する。

従来、レーザー光または自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、または、遮光機能等が必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）では、表示における旋光性または複屈折性を制御するために直線偏光子または円偏光子が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光子が使用されている。

従来、これらの偏光子には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、所定の構造を有する二色性物質を含有する組成物を用いて形成される光吸収異方性膜が記載されている（［請求項１］［請求項１４］）。

国際公開第２０１７／１９５８３３号

本発明者らは、特許文献１に記載された光吸収異方性膜および画像表示装置について検討したところ、光吸収異方性膜に含まれる二色性物質の種類および配合量、ならびに、画像表示装置における光吸収異方性膜以外の層構成などによっては、画像表示装置の表示性能および耐久性が劣る場合があることが分かった。

そこで、本発明は、表示性能および耐久性に優れた画像表示装置を作製することができる光吸収異方性膜、ならびに、それを用いた積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、光吸収異方性膜の画像表示装置の視認側に対応する表面に存在する二色性物質の量を減らすことにより、表示性能および耐久性に優れた画像表示装置を作製することができることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物を用いて形成される、画像表示装置に用いられる光吸収異方性膜であって、
飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の画像表示装置の視認側に対応する表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、下記式（Ｉ－１）を満たす、光吸収異方性膜。
２．０ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ・・・（Ｉ－１）

［２］ 光吸収異方性膜の画像表示装置の視認側に対応する表面から最大強度Ｉｍａｘを発現する位置までの厚みが、５０ｎｍ超である、［１］に記載の光吸収異方性膜。
［３］ 光吸収異方性膜の画像表示装置の視認側に対応する表面から最大強度Ｉｍａｘを発現する位置までの厚みが、６０ｎｍ超である、［１］に記載の光吸収異方性膜。
［４］ 液晶組成物が、更に、界面活性剤を含有し、
界面活性剤のｌｏｇＰ値と液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が３．１未満である、［１］～［３］のいずれかに記載の光吸収異方性膜。
［５］ 液晶組成物が、更に、界面活性剤を含有し、
界面活性剤のｌｏｇＰ値と液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が１．４未満である、［１］～［３］のいずれかに記載の光吸収異方性膜。
［６］ 液晶組成物が、更に、液晶性化合物とのｌｏｇＰ値の差が１．４未満である界面活性剤と、液晶性化合物とのｌｏｇＰ値の差が１．４以上である界面活性剤とを含有する、［１］～［３］のいずれかに記載の光吸収異方性膜。

［７］ 基材と、配向膜と、光吸収異方性膜とをこの順に有する、画像表示装置に用いられる積層体であって、
光吸収異方性膜が、［１］～［６］のいずれかに記載の光吸収異方性膜であり、
飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の画像表示装置の視認側に対応する表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、下記式（Ｉ－１）を満たす、積層体。
２．０ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ・・・（Ｉ－１）

［８］ 更に、光吸収異方性膜上に設けられる位相差板を有し、
位相差板が、液晶性化合物を含有する複数の光学異方性層を有し、
複数の光学異方性層のうち、少なくとも１層の光学異方性層が、厚み方向を螺旋軸とする捩じれ配向した液晶性化合物を含有する光学異方性層である、［７］に記載の積層体。
［９］ 更に、光吸収異方性膜上に設けられる表面保護材を有し、
基材が、厚みが１００μｍ以下のガラス基材である、［７］に記載の積層体。
［１０］ 更に、光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、［７］に記載の積層体。
［１１］ ［１］～［６］のいずれかに記載の光吸収異方性膜、または、［７］～［１０］のいずれかに記載の積層体を有する、画像表示装置。

本発明によれば、表示性能および耐久性に優れた画像表示装置を作製することができる光吸収異方性膜、ならびに、それを用いた積層体および画像表示装置を提供することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。

また、本明細書において、置換基Ｗは、以下の基を表す。
置換基Ｗとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、および、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、および、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基、および、メタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、アセチルアミノ基、および、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、および、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは炭素数１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、マレイミド基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、および、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、および、トリフェニルシリル基などが挙げられる）、カルボキシ基、スルホン酸基、および、リン酸基などが挙げられる。

［光吸収異方性膜］
本発明の光吸収異方性膜は、液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物を用いて形成される、画像表示装置に用いられる光吸収異方性膜である。
また、本発明の光吸収異方性膜は、飛行時間型二次イオン質量分析法（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）で検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の画像表示装置の視認側に対応する表面（以下、単に「視認側表面」とも略す。）における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、下記式（Ｉ－１）を満たすものである。
２．０ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ・・・（Ｉ－１）

＜ＴＯＦ－ＳＩＭＳの測定方法＞
本発明におけるＴＯＦ－ＳＩＭＳによる測定は、以下に示すように測定する。
（１）装置および条件
・装置：ＴＯＦ-ＳＩＭＳ ５ （ＩＯＮ－ＴＯＦ社製）
・深さ方向分析：Ａｒイオンスパッタ併用
・測定範囲：一の方向およびその直交方向に各々１２８点ずつラスタースキャン
・極性：ｐｏｓｉ、ｎｅｇａ
（２）強度Ｉｓｕｒ１および最大強度Ｉｍａｘ
測定対象である光吸収異方性膜について、光吸収異方性膜の視認側表面から視認側表面と反対側の表面まで厚み方向に一定速度で測定した際の、以下の各領域における強度を測定する。
（強度Ｉｓｕｒ１）
光吸収異方性膜の視認側表面から１％の領域における、二色性物質に由来するフラグメントの質量分析の強度の平均値（ベースラインからの強度の平均値）を視認側表面における強度Ｉｓｕｒ１とする。
（最大強度Ｉｍａｘ）
各表面から全厚みの１％の部分を除いた全体厚みの９８％の領域における、二色性物質に由来するフラグメントの質量分析の強度（ベースラインからの強度）の最大値を厚み方向における最大強度Ｉｍａｘとする。
（３）測定対象について
測定対象である光吸収異方性膜が、隣接層を有する積層体として存在している場合、上述した光吸収異方性膜の視認側表面（すなわち隣接層との界面）は、光吸収異方性膜から検出される液晶性化合物に由来するフラグメントの質量分析の強度と、隣接層から検出されるフラグメントのうち、最も量の多い化合物に由来するフラグメントの質量分析の強度とが交差する点として特定することができる。
また、光吸収異方性膜に二色性物質が２種以上含まれている場合、波長５００～６５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する二色性物質（以下、本段落において「測定対象二色性物質」とも略す。）に由来するフラグメントの質量分析の強度を測定し、測定対象二色性物質が２種以上含まれている場合には、測定対象二色性物質のうち吸光度の最も大きい二色性物質に由来するフラグメントの質量分析の強度を測定する。

本発明においては、上述した通り、光吸収異方性膜の視認側表面に存在する二色性物質の量を減らすこと、すなわち、ＴＯＦ－ＳＩＭＳで検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、視認側表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、上記式（Ｉ－１）を満たすことにより、表示性能および耐久性に優れた画像表示装置を作製することができる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
まず、本発明者らは、従来技術において表示性能が劣る理由として、光吸収異方性膜の視認側表面に存在する二色性物質の屈折率が高いために、視認側の隣接層との界面で内部反射が起こることに原因があると推察している。
また、本発明者らは、従来技術において耐久性が劣る理由として、光吸収異方性膜の視認側表面に存在する二色性物質が、視認側の隣接層の種類によっては、隣接層に移行してしまうことに原因があると推察している。
そのため、本発明においては、上記式（Ｉ－１）を満たすことにより、光吸収異方性膜の視認側表面に存在する二色性物質の量が少なくなり、隣接層との界面における内部反射が抑制され、かつ、二色性物質の隣接層への移行が抑制されたため、表示性能および耐久性に優れた画像表示装置を作製することができたと考えられる。

また、本発明においては、ＴＯＦ－ＳＩＭＳで検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、視認側表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、上記式（Ｉ－１）を満たすことにより、別途、屈折率調整層やバリア層（酸素遮断層）を設けなくても表示性能および耐久性が良好となるため、画像表示装置の薄型化を図ることができる。

本発明においては、上記式（Ｉ－１）は、最大強度Ｉｍａｘと強度Ｉｓｕｒ１との比率（Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１）の上限を規定していないことからも明らかな通り、最大強度Ｉｍａｘが有意に測定され、強度Ｉｓｕｒ１が測定限界以下である態様も含むものである。
また、画像表示装置の表示性能および耐久性がより良好となる理由から、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の視認側表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、下記式（Ｉ－２）を満たすことが好ましく、下記式（Ｉ－３）を満たすことがより好ましい。
５ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ・・・（Ｉ－２）
２０ ＜ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ≦ １００ ・・・（Ｉ－３）

また、本発明においては、画像表示装置の表示性能および耐久性がより良好となる理由から、光吸収異方性膜の視認側表面から最大強度Ｉｍａｘを発現する位置までの厚み（以下、「勾配厚み」とも略す。）が、５０ｎｍ超であることが好ましく、６０ｎｍ超であることがより好ましく、６０ｎｍ超３００ｎｍ未満であることが更に好ましい。
ここで、「勾配厚み」は、上述したＴＯＦ－ＳＩＭＳによる測定方法で最大強度Ｉｍａｘを測定し、以下の手順で算出した値をいう。
（１）光吸収異方性膜の視認側表面から視認側表面と反対側の表面までの膜厚方向全体のスキャン時間Ｘを測定する。
（２）光吸収異方性膜の視認側表面から最大強度Ｉｍａｘを発現する位置までのスキャン時間Ｙを測定する。
（３）走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）などを用いて光吸収異方性膜の全体厚みＺ（ｎｍ）を測定する。
（４）勾配厚み（ｎｍ）を下記式から算出する。
勾配厚み（ｎｍ）＝Ｚ（ｎｍ）×（Ｙ／Ｘ）

〔液晶組成物〕
以下、本発明の光吸収異方性膜の形成に用いられる液晶組成物に含まれる各成分について詳述する。

＜液晶性化合物＞
液晶組成物が含有する液晶性化合物としては、高分子液晶性化合物および低分子液晶性化合物のいずれも用いることができ、配向度を高くできる理由から、高分子液晶性化合物を用いることが好ましい。
ここで、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
また、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子、国際公開第２０１８／１９９０９６号の［００１２］～［００４２］段落に記載されている高分子液晶性化合物などが挙げられる。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００７２］～［００８８］段落に記載されている液晶性化合物が挙げられ、中でも、スメクチック性を示す液晶性化合物が好ましい。
また、液晶性化合物としては、高分子液晶性化合物および低分子液晶性化合物を併用してもよい。

液晶性化合物は、得られる光吸収異方性膜の配向度がより高くなる理由から、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」とも略す。）を含む高分子液晶性化合物であることが好ましい。
なお、以下の説明において、「得られる光吸収異方性膜の配向度がより高くなる」ことを「本発明の効果がより優れる」とも言う。

上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。

上記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、上記式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。
上記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
上記式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ^１４（ＯＲ^１５）_２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ^１４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ^１４と同義であり、複数のＲ^１５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。

上記式（１）中、Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^３－、－ＮＲ^３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ_２－、および、－ＮＲ^３Ｒ^４－などが挙げられる。式中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。

上記式（１）中、ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ_２－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ）_ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊－（ＣＦ_２－ＣＦ_２）_ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

上記式（１）中、Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基は、本発明の効果がより優れる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。

メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。

式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基又は置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。

式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ_２）_ｇ－、－（ＣＦ_２）_ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）_２－Ｃ（Ｚ’）_２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

上記式（１）中、Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。

Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。

Ｔ１は、隣接層との密着性がより良好となり、膜としての凝集力を向上させることができる理由から、重合性基であることが好ましい。
重合性基は、特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。

上記式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

本発明においては、後述する二色性物質との相溶性を調整しやすくなる理由から、液晶性化合物のｌｏｇＰ値が０．０～１０であることが好ましく、１．０～７．０であることがより好ましく、２．０～５．０であることが更に好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。

本発明においては、液晶性化合物の含有量は、液晶組成物における固形分中の８～９９質量％となる量であることが好ましく、８～９６質量％となる量であることがより好ましい。
ここで、「液晶組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記液晶性化合物および後述する二色性物質、重合開始剤、界面活性剤などが挙げられる。

＜二色性物質＞
液晶組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。

本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、得られる光吸収異方性膜を黒色に近づける観点から、波長３７０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。

上記二色性物質は、架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

本発明においては、画像表示装置の表示性能および耐久性がより良好となる理由から、上記二色性物質のｌｏｇＰ値と上記液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が５．０以上であることが好ましく、７．０以上であることがより好ましく、７．０以上１０．０未満であることが更に好ましい。
ここで、二色性物質のｌｏｇＰ値と液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差（絶対値）について、二色性物質または液晶性化合物を複数用いている場合には、各化合物のｌｏｇＰ値から算出される差のうち、最大の差をいう。

二色性物質の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、上記液晶性化合物１００質量部に対して１～４００質量部であることが好ましく、２～１００質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることが更に好ましい。
また、二色性物質の含有量は、液晶組成物における固形分中の１～５０質量％となる量であることが好ましく、２～４０質量％となる量であることがより好ましい。

＜重合開始剤＞
液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物（特開２０１６－２７３８４明細書［００６５］）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。

液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜界面活性剤＞
液晶組成物は、界面活性剤を含むことが好ましい。
界面活性剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が更に向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性が向上したりする効果が見込まれる。
界面活性剤としては、二色性物質と液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、例えば、国際公開第２０１６／００９６４８号の［０１５５］～［０１７０］段落に記載されている化合物、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）などを用いることができる。

本発明の液晶組成物が含有する界面活性剤は、後述する式（Ｂ－１）で表される繰り返し構造Ｂ１と、フッ素原子を有する繰り返し構造Ｂ２とを有するフッ素含有重合体であってもよい。

（繰り返し構造Ｂ１）
上記フッ素含有重合体が有する繰り返し構造Ｂ１は、下記式（Ｂ－１）で表される繰り返し構造である。

上記式（Ｂ－１）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、または、ハロゲン原子を表す。
また、Ｌ^１は、単結合、または、－ＣＯ－を表す。
また、Ｓｐは、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の炭化水素基を表す。ただし、炭化水素基の一部を構成する－ＣＨ_２－のうち、１個または隣接しない２個以上の－ＣＨ_２－は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、または、－Ｎ（Ｑ）－で置換されていてもよく、Ｑは、置換基を表す。
Ｌ^２およびＬ^３は、それぞれ独立に、単結合、または、２価の連結基を表す。

上記式（Ｂ－１）中のＲ^１としては、水素原子または炭素数１～５のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることがより好ましい。

上記式（Ｂ－１）中のＬ^１としては、－ＣＯ－であることが好ましい。

上記式（Ｂ－１）中のＳｐが示す炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の炭化水素基としては、例えば、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の２価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の２価の芳香族炭化水素基、炭素数６～２０の２価の芳香族複素環基などが挙げられ、中でも、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の脂肪族炭化水素基が好ましい。
ここで、炭素数１～２０の２価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキレン基が好ましく、炭素数１～８のアルキレン基がより好ましく、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、へプチレン基などが好適に挙げられる。
なお、Ｓｐは、上述した通り、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の炭化水素基の一部を構成する－ＣＨ_２－のうち、１個または隣接しない２個以上の－ＣＨ_２－が、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、または、－Ｎ（Ｑ）－で置換されていてもよい。なお、Ｑで表される置換基としては、上述した置換基Ｗが挙げられ、中でも、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子が好ましい。

上記式（Ｂ－１）中のＬ^２およびＬ^３の一態様が示す２価の連結基としては、例えば、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^Ｌ１－、－ＮＲ^Ｌ１Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ_２－、および、－ＮＲ^Ｌ１Ｒ^Ｌ２－などが挙げられる。式中、Ｒ^Ｌ１およびＲ^Ｌ２は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。なお、炭素数１～６のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上述した置換基Ｗが挙げられ、中でも、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子が好ましい。

また、上記式（Ｂ－１）中、Ａは、下記式（Ａ－１）～（Ａ－１５）のいずれかで表される２価の連結基を表す。ただし、下記式（Ａ－１）～（Ａ－１５）中の＊は、Ｌ^２またはＬ^３との結合位置を表し、下記式（Ａ－１）～（Ａ－１５）中の環構造を構成する炭素原子は、ヘテロ原子で置換されていてもよく、置換基を有していてもよい。なお、環構造を構成する炭素原子が有していてもよい置換基としては、上述した置換基Ｗが挙げられ、中でも、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子が好ましい。

上記式（Ａ－１）～（Ａ－１５）のいずれかで表される２価の連結基としては、具体的には、例えば、１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、１，４－シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基、１，４－ピペラジン基、１，４－ピペリジン基、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基、テトラヒドロチオピラン－２，５－ジイル基、１，４－ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ピラジン－２，５－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、２，６－ナフチレン基、フェナントレン－２，７－ジイル基、９，１０－ジヒドロフェナントレン－２，７－ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ－オクタヒドロフェナントレン２，７－ジイル基、９－フルオレノン－２，７－ジイル、フルオレン２，７－ジイル基、チエノチオフェン－３，６－ジイル基、カルバゾール－３，６－ジイル基、および、カルバゾール－２，７－ジイル基などが挙げられる。

上記式（Ｂ－１）中のＡは、形成される光吸収異方性膜の配向度がより高くなる理由から、上記式（Ａ－１）、（Ａ－４）、（Ａ－７）、（Ａ－１０）および（Ａ－１３）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましく、上記（Ａ－７）および（Ａ－１３）のいずれかで表される２価の連結基であることがより好ましい。

また、上記式（Ｂ－１）中、Ｄは、水素原子と第１４～１６族の非金属原子とで構成される水素結合性基を表す。ただし、非金属原子は、置換基を有していてもよい。
ここで、第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、および、炭素原子などが挙げられる。
また、非金属原子（特に、窒素原子および炭素原子）が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、および、水酸基等が挙げられる。

このような水素結合性基としては、例えば、水素結合供与性基および水素結合受容性基などが挙げられる。
水素結合供与性基としては、具体的には、例えば、アミノ基、アミド基、ウレア基、ウレタン基、スルホニルアミノ基、スルホ基、ホスホ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、電子求引性基が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したメチン基などが挙げられ、中でも、カルボキシル基、アミド基が好ましい。
水素結合受容性基としては、具体的には、例えば、含ヘテロ環上の非共有電子対を有するヘテロ原子、ヒドロキシ基、アルデヒド、ケトン、カルボキシル基、カルボン酸エステル、カルボン酸アミド、ラクトン、ラクタム、スルホン酸アミド、スルホ基、ホスホ基、リン酸アミド、ウレタン、ウレア、エーテル構造（特にポリエーテル構造に含まれる酸素原子を有する高分子構造）、脂肪族アミン、芳香族アミンなどが挙げられ、中でも、カルボキシル基、アミド基が好ましい。

（繰り返し構造Ｂ２）
上記フッ素含有重合体が有する繰り返し構造Ｂ２は、フッ素原子を有する繰り返し構造である。

本発明においては、繰り返し構造Ｂ２の含有量は、形成される光吸収異方性膜の配向度がより高くなる理由から、界面活性剤の総質量に対して１５～９０質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましく、３０～７０質量％であることが更に好ましい。
なお、繰り返し構造Ｂ２は、界面活性剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し構造Ｂ２が２種以上含まれる場合、上記繰り返し構造Ｂ２の含有量は、繰り返し構造Ｂ２の含有量の合計を意味する。

（繰り返し構造Ｂ３）
本発明においては、形成される光吸収異方性膜に対する上層塗布性が良好となる理由から、上記フッ素含有重合体が、上述した繰り返し構造Ｂ１およびＢ２以外に、更に、分子量３００以下のモノマーから誘導される繰り返し構造Ｂ３を含有していることが好ましい。

繰り返し構造Ｂ３としては、形成される光吸収異方性膜に対する上層塗布性がより良好となる理由から、下記式（Ｎ－１）で表される繰り返し構造であることが好ましい。繰り返し構造Ｂ３は、上述した繰り返し構造Ｂ２とは異なる構造を有しており、フッ素原子を含まないことが好ましい。

式（Ｎ－１）中、Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２が置換基である場合、Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２が連結して環を形成していてもよい。

Ｒ^Ｂ１１の分子量及びＲ^Ｂ１２の分子量の合計は、２００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましく、７０以下であることが更に好ましい。上記分子量の合計が１００以下であれば、繰り返し構造Ｂ３間での相互作用がより向上して、界面活性剤と液晶分子との相溶性をより低下させることができる。これにより、配向欠陥が少なく、優れた配向度の光吸収異方性膜が得られる。
Ｒ^Ｂ１１の分子量及びＲ^Ｂ１２の分子量の合計の下限は、２以上が好ましい。

Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２が表す置換基としては、本発明の効果がより優れる点から、有機基であることが好ましく、炭素数１～１５の有機基であることがより好ましく、炭素数１～１２の有機基であることが更に好ましく、炭素数１～８の有機基であることが特に好ましい。
上記有機基としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、芳香族炭化水素基、複素環基が挙げられる。

アルキル基の炭素数は、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８が更に好ましい。
アルキル基の炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’及びＺ”はそれぞれ独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、又は、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、－ＳＯ_２－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、及び、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、並びに、これらの基を２つ以上組み合わせた基で置換されていてもよい。アルキル基の炭素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｚ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。
アルキル基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、アリール基、ニトロ基、－ＯＺ^Ｈ、－Ｃ（Ｏ）Ｚ^Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ｈ、－ＯＣ（Ｏ）Ｚ^Ｈ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺ^Ｈ、－ＮＺ^ＨＺ^Ｈ’、－ＮＺ^ＨＣ（Ｏ）Ｚ^Ｈ’、－ＮＺ^ＨＣ（Ｏ）ＯＺ^Ｈ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺ^ＨＺ^Ｈ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺ^ＨＺ^Ｈ’、－ＮＺ^ＨＣ（Ｏ）ＮＺ^Ｈ’ＯＺ^Ｈ’’、－ＳＺ^Ｈ、－Ｃ（Ｓ）Ｚ^Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺ^Ｈ、又は、－ＳＣ（Ｏ）Ｚ^Ｈ、で置換されていてもよい。Ｚ^Ｈ、Ｚ^Ｈ’及びＺ^Ｈ’’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、を表す。アルキル基の水素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、又は、アリール基（フェニル基が好ましい。）が好ましい。

芳香族炭化水素基の水素原子及び複素環基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、－ＯＺ^Ｈ、－Ｃ（Ｏ）Ｚ^Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ｈ、－ＯＣ（Ｏ）Ｚ^Ｈ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺ^Ｈ、－ＮＺ^ＨＺ^Ｈ’、－ＮＺ^ＨＣ（Ｏ）Ｚ^Ｈ’、－ＮＺ^ＨＣ（Ｏ）ＯＺ^Ｈ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺ^ＨＺ^Ｈ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺ^ＨＺ^Ｈ’、 －ＮＺ^ＨＣ（Ｏ）ＮＺ^Ｈ’ＯＺ^Ｈ’’、－ＳＺ^Ｈ、－Ｃ（Ｓ）Ｚ^Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺ^Ｈ、－ＳＣ（Ｏ）Ｚ^Ｈ、－Ｂ（ＯＨ）_２で置換されていてもよい。Ｚ^Ｈ、Ｚ^Ｈ’及びＺ^Ｈ’’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、を表す。芳香族炭化水素基の水素原子及び複素環基の水素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－ＯＨ、－Ｂ（ＯＨ）_２が好ましい。

Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２はそれぞれ独立に、本発明の効果がより優れる点から、水素原子又は炭素数１～１５の有機基であることが好ましい。有機基の好適態様については、上述の通りである。
本発明の効果がより優れる点から、Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２のうち、少なくとも一方が置換基であることが好ましく、少なくとも一方が炭素数１～１５の有機基であることがより好ましい。

Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２が連結して形成された環は、式（Ｎ－１）における窒素原子を含む複素環であり、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等のヘテロ原子を環内に更に含んでいてよい。
Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２が連結して形成された環は、本発明の効果がより優れる点から、４～８員環であることが好ましく、５～７員環であることがより好ましく、５～６員環であることが更に好ましい。
Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２が連結して形成された環を構成する炭素原子の数は、本発明の効果がより優れる点から、３～７が好ましく、３～６がより好ましい。
Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２が連結して形成された環は、芳香族性を有していてもよいし、芳香族性を有していなくてもよいが、本発明の効果がより優れる点から、芳香族性を有していないことが好ましい。
Ｒ^Ｂ１１及びＲ^Ｂ１２が連結して形成された環の具体例としては、以下の基が挙げられる。

Ｒ^Ｂ１３は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表し、中でも、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
上記アルキル基の炭素数は、１～５であり、１～３が好ましく、１がより好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれの構造であってもよい。

繰り返し構造Ｂ３の具体例を以下に示すが、繰り返し構造Ｂ３は以下の構造に限定されるものではない。

繰り返し構造Ｂ３の含有量は、フッ素含有重合体の全繰り返し構造の総質量に対して、３～７５質量％が好ましく、１５～７０質量％がより好ましく、２０～６５質量％が更に好ましい。繰り返し構造Ｂ３の含有量が上記範囲内にあれば、本発明の効果がより優れる。
繰り返し構造Ｂ３は、界面活性剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し構造Ｂ３が２種以上含まれる場合、上記繰り返し構造Ｂ３の含有量は、繰り返し構造Ｂ３の含有量の合計を意味する。

（他の繰り返し構造（その１））
上記フッ素含有重合体は、更に下記一般式（Ｍ－３）で表される繰り返し構造を有してもよい。

上記式（Ｍ－３）中、Ｒ３は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌ３は、単結合または２価の連結基を表し、Ｔ３は芳香環を表す。
Ｌ３の連結基としては、上記式（Ｆ－２）中のＳＰ２１と同様の基が挙げられる。
Ｔ３の芳香環基としては、例えば、ベンゼン環基、ナフタレン環基、アントラセン環基、および、フェナンスロリン環基等の芳香族炭化水素環基；フラン環基、ピロール環基、チオフェン環基、ピリジン環基、チアゾール環基、および、ベンゾチアゾール環基等の芳香族複素環基；が挙げられる。なかでも、ベンゼン環基（例えば、１，４－フェニル基等）が好ましい。これらの基を重合体中に含むことで、相溶性を向上させることができる。

上記式（Ｍ－３）で表される繰返し構造を形成する単量体としては、具体的には、例えば、下記式（Ｍ３－１）～（Ｍ３－５）で表される構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（他の繰り返し構造（その２））
上記フッ素含有重合体は、更に下記一般式（Ｍ－４）で表される繰り返し構造を有してもよい。

上記式（Ｍ－４）中、Ｒ４は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌ４は、単結合または２価の連結基を表し、Ｑ４は上述の式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表される架橋性基を表す。
Ｌ４の連結基としては、上記式（Ｗ１）中のＳＰＷと同様の基が挙げられ、炭素数４～２０の芳香族炭化水素基、炭素数４～２０の環状のアルキレン基、炭素数１～２０複素環基が挙げられ、炭素数１～２０の直鎖、分岐、又は環状のアルキレン基、炭素数４～２０の芳香族炭化水素基、が好ましく、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－Ｏ－ＣＯ－を有していることが好ましい。

Ｑ４がカチオン重合性基を含む基を表す場合、カチオン重合性基としては、特に限定されず、例えば、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。
カチオン重合性基としては、脂環式エーテル基又はビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基又はビニルオキシ基がより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基がさらに好ましく、エポキシ基が特に好ましい。エポキシ基としては脂環式エポキシ基であることが特に好ましい。なお、上記した各基は置換基を有していても良い。
Ｑ４がラジカル重合性基を含む基を表す場合、ラジカル重合性基としては、特に限定されず、例えば、重合性炭素－炭素二重結合を含む基が挙げられ、具体的には、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。なお、上記した各基は置換基を有していてもよい。これらの基を含むことで、例えば後述する液晶フィルムにおいて複数の液晶組成物層を積層する形態とした際の層間の密着性を向上させることができる。

上記式（Ｍ－４）で表される繰返し構造を形成する単量体としては、具体的には、例えば、下記式（Ｍ４―１）～（Ｍ４－１７）で表される単量体が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

上記フッ素含有重合体は、ブロック構造、グラフト構造、ブランチ構造またはスター構造を有する重合体であってもよい。このようなブロック構造、グラフト構造、ブランチ構造またはスター構造を有することで、フッ素原子団が塊として存在し、重合体の塗膜表面への移行性が向上する等の点で好ましい。
また、フッ素置換アルキル鎖長が１～４のランダム構造を有する共重合体においては、フッ素原子団の塊が小さく、汎用溶剤への溶解性は優れるものの、塗膜表面への移行性は低い。一方、上記の重合体は、フッ素原子団が塊として存在することに起因し、フッ素置換アルキル鎖長が１～４でも塗膜表面への移行性が高く、このような共重合体を組成物中に添加することで、塗膜の表面張力を低下させ、塗工時における組成物の基材に対するぬれ性（均質塗工性）、塗膜表面の面状を良好なものとできることから好ましい。

本発明においては、液晶組成物が界面活性剤を含有する場合、画像表示装置の表示性能および耐久性がより良好となる理由から、界面活性剤のｌｏｇＰ値と上記液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が３．１未満であることが好ましく、１．４未満であることがより好ましく、０以上１．４未満であることが更に好ましい。
ここで、界面活性剤のｌｏｇＰ値と液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差（絶対値）について、界面活性剤または液晶性化合物を複数用いている場合には、各化合物のｌｏｇＰ値から算出される差のうち、最小の差をいう。

また、本発明においては、２種以上の界面活性剤を含有してもよい。画像表示装置の表示性能および耐久性をより良くする観点からは、液晶性化合物とのｌｏｇＰ値の差が１．４未満である界面活性剤を含有することが好ましく、塗布表面の平滑性を向上させ、配向度を更に向上させたり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性を向上させたりする観点からは、液晶性化合物とのｌｏｇＰ値の差が１．４以上である界面活性剤を更に含有することが好ましい。

液晶組成物が界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１～５質量部が好ましく、０．０１～３質量部がより好ましい。
界面活性剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。界面活性剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜密着改良剤＞
液晶組成物は、後述するバリア層との密着性の観点から、密着改良剤を含んでもよい。密着改良剤としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ボロン酸基を含む化合物が挙げられ、ボロン酸基を含む化合物が好ましい。
ボロン酸基を含む化合物としては、例えば、下記式で表される化合物が好適に挙げられる。
（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、あるいは、置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ^３は、（メタ）アクリル基と結合し得る官能基を含む置換基を表す。）

＜溶媒＞
液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、液晶組成物の溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。

液晶組成物が溶媒を含む場合、溶媒の含有量は、液晶組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが特に好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

〔作製方法〕
本発明の光吸収異方性膜の作製方法は、上述した式（Ｉ－１）を満たすように二色性物質の存在割合を調整できる方法であれば特に限定されず、例えば、上述した液晶組成物から上述した二色性物質を除いた組成物を隣接層（例えば、配向膜）上に塗布して第１塗布膜を形成する工程（以下、「第１塗布膜形成工程」ともいう。）と、上述した液晶組成物を第１塗布膜上に塗布して第２塗布膜を形成する工程（以下、「第２塗布膜形成工程」ともいう。）と、第１塗布膜および第２塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法；上述した液晶性化合物および上述した二色性物質の親疎水性を制御し、上述した液晶組成物に含まれる両者の相溶性を調整する方法；上述した液晶組成物に対し、後述する配向工程において、加熱温度を調整し、物質の流動性を調整する方法；などが挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

＜第１塗布膜形成工程＞
第１塗布膜形成工程は、液晶組成物から二色性物質を除いた組成物を隣接層（例えば、配向膜）に塗布して第１塗布膜を形成する工程である。
組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

＜第２塗布膜形成工程＞
第２塗布膜形成工程は、液晶組成物を第１塗布膜上に塗布して第２塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、第１塗布膜上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、第１塗布膜形成工程と同様のものが挙げられる。

＜配向工程＞
配向工程は、第１塗布膜および第２塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、上述した式（Ｉ－１）を満たす光吸収異方性膜が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

（他の工程）
光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性膜が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

光吸収異方性膜の厚さは、特に限定されないが、後述する本発明の積層体を偏光素子に用いた場合のフレキシブル性の観点から、１００～８０００ｎｍであることが好ましく、３００～５０００ｎｍであることがより好ましい。

［積層体］
本発明の積層体は、基材と、配向膜と、光吸収異方性膜とをこの順に有する、画像表示装置に用いられる積層体である。
本発明の積層体が有する光吸収異方性膜は、上述した本発明の光吸収異方性膜であり、ＴＯＦ－ＳＩＭＳで検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の視認側表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、下記式（Ｉ－１）を満たすものである。
２．０ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ・・・（Ｉ－１）
以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。

〔基材〕
本発明の積層体が有する基材としては、光吸収異方性膜の用途に応じて選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２－２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。

〔配向膜〕
本発明の積層体が有する配向膜は、配向膜上において液晶組成物に含まれる二色性物質を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
配向膜を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。

＜ラビング処理配向膜＞
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることが更に好ましい。

＜光配向膜＞
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向化合物としては、多数の文献等に記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。

これらのうち、光配向化合物として、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光反応性基を有する感光性化合物を用いることが好ましい。
また、光反応性基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。

また、上記光配向性基を有する感光性化合物は、更に架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基、光の作用により硬化反応を起こす光架橋性基が好ましく、熱架橋性基および光架橋性基をいずれも有する架橋性基であってもよい。
上記架橋性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、－ＮＨ－ＣＨ_２－Ｏ－Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和二重結合を有する基、および、ブロックイソシアネート基からなる群から選ばれた少なくとも１つが挙げられる。なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。
なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
また、エチレン性不飽和二重結合を有する基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。

上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、又は裏面から配向膜表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が更に好ましい。
照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。

パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

〔光吸収異方性膜〕
本発明の積層体が有する光吸収異方性膜については、上述した通りであるので、その説明を省略する。

〔光学異方性膜〕
本発明の積層体は、光学異方性膜を有することが好ましい。
ここで、光学異方性膜とは、位相差を生じるフィルム全般を指し、例えば、延伸ポリマーフィルム、支持体上に配向した液晶性化合物を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられる。
ここで、光学異方性層に含まれる液晶性化合物の配向方向に関して特に制限はなく、膜面に対し、水平、垂直、捩れ配向等が挙げられる。
また、光学異方性膜の具体的な機能としては、例えば、λ／４板、λ／２板などが挙げられる。
また、光学異方性層は複数の層からなっていてもよい。複数の光学異方性層からなる光学異方性層については、例えば、特開２０１４－２０９２１９号公報の［０００８］～［００５３］段落の記載を参照できる。
また、このような光学異方性膜と上述した光吸収異方性膜とは、接して設けられていてもよいし、間に他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層が挙げられる。

本発明の積層体は、上述した光学異方性膜としてλ／４板を用いることが好ましく、光吸収異方性膜上に、λ／４板を有していることがより好ましい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。

〔バリア層〕
本発明の積層体は、光吸収異方性膜（上述したλ／４板を有する場合はλ／４板）上に、バリア層を有していてもよい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光素子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。

〔粘着層〕
本発明の積層体は、上述したλ／４板を貼合する観点から、λ／４板を貼合する面に粘着層を有していてもよい。

粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。

粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。

また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。

本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ～５０μｍであることが好ましく、４μｍ～４０μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。

〔用途〕
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の光吸収異方性膜または積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔視野角制御層〕
本発明の画像表示装置は、視野角制御層を有していてもよい。
ここで、視野角制御層とは、表示装置の覗き込み防止や視野角切り替えのために用いられる画像表示装置の正面方向と斜め方向から見た際の透過率を制御する層で、３Ｍ社製ライトコントロールフィルムや、厚さ方向に吸収軸を持つ異方性光吸収層を利用する積層体などが挙げられる。厚さ方向に吸収軸を持つ異方性光吸収層を利用する積層体については、例えば、国際公開第２０１８／０７９８５４号公報の段落［０００６］～［００４３］の記載を参照できる。
なお、本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上記視野角制御層と、上述した光吸収異方性膜と、上述した任意の光学異方性膜と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。

〔表面保護材〕
本発明の画像表示装置は、最も視認側に、表面保護材を有することが好ましい。
ここで、表面保護材を構成する材料は特に制限されず、無機物であっても、有機物であってもよい。無機物としてはガラス基板が挙げられる。また、有機物としてはポリイミドやセルロースアシレート等のポリマーフィルムからなる支持体が挙げられる。それぞれの表面保護材の表層には表面硬化層（ハードコート層）や空気界面で生じる表面反射を抑制した低反射層などから選ばれる、１層もしくは複数の層を含んでもよい。

表面保護材の厚さは特に制限されないが、薄型化の点から、８００μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、０．１μｍ以上が好ましい。
例えば、曲げることが可能な１００μｍ以下の厚みのガラス基材は、有機ＥＬ表示装置のフレキシブルな特徴を生かすことが可能となり、好ましい。
さらに、１００μｍ以下の厚みのガラス基材については、耐衝撃性の観点から、保護フィルムとして、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂の樹脂フィルムを接着剤等でガラス基板に貼合することも好ましい。特に、フレキシブル性の観点からは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を貼合することが好ましく、さらに視認性の観点から、３０００ｎｍ以上１００００ｎｍ以下のＲｅを有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、透明支持体、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、透明樹脂層、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］
〔透明支持体の作製〕
＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

化合物Ｆ

＜外層セルロースアシレートドープの作製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶媒） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルタでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルム（透明支持体）を作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

〔光配向膜ＰＡ１の形成〕
後述する光配向膜形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ１を形成し、光配向膜付きＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを得た。光配向膜ＰＡ１の膜厚は０．５μｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用塗布液ＰＡ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ８．２５質量部
・下記安定化剤ＤＩＰＥＡ ０．６質量部
・キシレン １１２６．６０質量部
・メチルイソブチルケトン １２５．１８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合体ＰＡ－１

酸発生剤ＰＡＧ－１

安定化剤ＤＩＰＥＡ

〔光吸収異方性膜Ｐ１の作製〕
得られた光配向膜ＰＡ１上に、下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で１５秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、下記表１に記載する加熱温度で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向膜ＰＡ１上に光吸収異方性膜Ｐ１を作製した。光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚は０．５μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．５９質量部
・下記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．３６質量部
・下記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．２４質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－１ ５．５５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２１質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０５５質量部
・シクロペンタノン ４５．３４質量部
・テトラヒドロフラン ４５．３４質量部
・ベンジルアルコール ２．３３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

二色性物質Ｃ－１（極大吸収波長：５７０ｎｍ）

二色性物質Ｍ－１（極大吸収波長：４６６ｎｍ）

二色性物質Ｙ－１（極大吸収波長：４１７ｎｍ）

液晶性化合物Ｌ－１

界面活性剤Ｆ－１

〔酸素遮断層Ｂ１の形成〕
光吸収異方性膜Ｐ１上に、下記組成の塗布液Ｂ１をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、８０℃の温風で５分間乾燥することにより、厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなる酸素遮断層Ｂ１が形成された積層体Ａ、すなわち、セルロースアシレートフィルム１（透明支持体）、光配向膜ＰＡ１、光吸収異方性膜Ｐ１、および、酸素遮断層Ｂ１をこの順に隣接して備える積層体Ａを得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用塗布液Ｂ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

〔ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の作製〕
下記組成の光配向膜形成用塗布液ＰＡ２を、ワイヤーバーで連続的に上述したセルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、０．２μｍの厚みの光配向膜ＰＡ２を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用塗布液ＰＡ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合体ＰＡ－２ １００．００質量部
・上記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・イソプロピルアルコール １６．５０質量部
・酢酸ブチル １０７２．００質量部
・メチルエチルケトン ２６８．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合体ＰＡ－２

下記組成の組成物Ａ－１を、バーコーターを用いて上記光配向膜ＰＡ２上に塗布した。光配向膜ＰＡ２上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、その後６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射することで、液晶性化合物の配向を固定化し、ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１を作製した。
ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。

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組成物Ａ－１
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・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－１ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－２ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－３ ８．００質量部
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－４ ５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１ ０．５５質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ２３５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合性液晶性化合物ＬＡ－１（ｔＢｕはターシャリーブチル基を表す）

重合性液晶性化合物ＬＡ－２

重合性液晶性化合物ＬＡ－３

重合性液晶性化合物ＬＡ－４（Ｍｅはメチル基を表す）

重合開始剤ＰＩ－１

レベリング剤Ｔ－１

〔ポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１の作製〕
仮支持体として、上述したセルロースアシレートフィルム１を用いた。
セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１を作製した。

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（アルカリ溶液）
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・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．８質量部
・イソプロパノール ６３．７質量部
・含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ） １．０質量部
・プロピレングリコール １４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

下記組成の配向膜形成用塗布液ＰＡ３を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜ＰＡ３を形成した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液ＰＡ３
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・ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
・イソプロピルアルコール １．６質量部
・メタノール ３６質量部
・水 ６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

下記組成のポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１を配向膜ＰＡ３上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶性化合物を垂直配向させ、厚み０．５μｍのポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１を作製した。
得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。

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ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１
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・下記液晶性化合物ＬＣ－１ ８０質量部
・下記液晶性化合物ＬＣ－２ ２０質量部
・下記垂直配向性液晶性化合物向剤Ｓ０１ １質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
・イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
・カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
・下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
・メチルエチルケトン １７０質量部
・シクロヘキサノン ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶性化合物ＬＣ－１

液晶性化合物ＬＣ－２

垂直配向性液晶性化合物向剤Ｓ０１

化合物Ｂ０３

〔粘着剤Ｎ１およびＮ２の作製〕
次に、以下の手順に従い、アクリレート系重合体を調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５質量部、アクリル酸５質量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系重合体（Ａ１）を得た。

次に得られたアクリレート系重合体（Ａ１）用いて、以下の組成で、アクリレート系粘着剤を作製した。これらの組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し９０℃の環境下で１分間乾燥させ、紫外線（ＵＶ）を下記条件で照射して、下記アクリレート系粘着剤Ｎ１およびＮ２（粘着剤層）を得た。アクリレート系粘着剤の組成と膜厚を以下に示す。
＜ＵＶ照射条件＞
・フュージョン社無電極ランプ Ｈバルブ
・照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２
・ＵＶ照度・光量は、アイグラフィックス製「ＵＶＰＦ－３６」を用いて測定した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリレート系粘着剤Ｎ１（膜厚１５μｍ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アクリレート系重合体（Ａ１） １００質量部
・下記（Ａ）多官能アクリレート系モノマー １１．１質量部
・下記（Ｂ）光重合開始剤 １．１質量部
・下記（Ｃ）イソシアネート系架橋剤 １．０質量部
・下記（Ｄ）シランカップリング剤 ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

―――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリレート系粘着剤Ｎ２（膜厚２５μｍ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アクリレート系重合体（Ａ１） １００質量部
・下記（Ｃ）イソシアネート系架橋剤 １．０質量部
・下記（Ｄ）シランカップリング剤 ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（Ａ）多官能アクリレート系モノマー：トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、分子量＝４２３、３官能型（東亜合成社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」）
（Ｂ）光重合開始剤：ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比１：１の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア５００」
（Ｃ）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
（Ｄ）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）

〔ＵＶ接着剤の作製〕
下記組成のＵＶ接着剤組成物を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ＵＶ接着剤組成物
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ ２．２５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

ＣＰＩ－１００Ｐ

〔積層体Ａ－１の作製〕
上記ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の位相差側と、上記ポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤組成物を用いて６００ｍＪ/ｃｍ^２のＵＶ照射で貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った。次に、ポジティブＡプレートＡ１側の光配向膜ＰＡ２とセルロースアシレートフィルム１を除去し、位相差板１とした。なお、位相差板１の層構成は、ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層、ポジティブＣプレートＣ１、光配向膜ＰＡ３およびセルロースアシレートフィルム１である。
低反射表面フィルムＣＶ-ＬＣ５（富士フイルム社製）の支持体側に、上記粘着剤Ｎ１を用いて、上記積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側を貼り合わせた。次に、上記積層体Ａに含まれるセルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、上記位相差板１のポジティブＡプレートＡ１側とを、上記粘着剤Ｎ１を用いて貼り合わせた。次に、上記位相差板１に含まれるポジティブＣプレートＣ１側の光配向膜ＰＡ３とセルロースアシレートフィルム１を除去し、積層体Ａ－１を作製した。このとき、上記積層体Ａに含まれる光吸収異方性膜Ｐ１の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。なお、積層体Ａ－１の層構成は、低反射表面フィルムＣＶ-ＬＣ５、粘着剤層Ｎ１、酸素遮断層Ｂ１、光吸収異方性膜Ｐ１、光配向膜ＰＡ１、粘着剤層Ｎ１、ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層およびポジティブＣプレートＣ１である。

有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。続いて、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記で作製した積層体Ａ－１を上記粘着剤Ｎ２を用いて空気が入らないようにしてタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例２～４および比較例２～３］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ２に代えて、加熱温度を下記表１および表２に示す温度に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．５９質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．３６質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．２４質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ３．４５質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－２ ２．１０質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２１質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０５５質量部
・シクロペンタノン ４５．３４質量部
・テトラヒドロフラン ４５．３４質量部
・ベンジルアルコール ２．３３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶性化合物Ｌ－２

［実施例５］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ２に組成について、界面活性剤Ｆ－１に代えて下記界面活性剤Ｆ－２を用いた組成に変更した組成物を用いた以外は、実施例４と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
（界面活性剤Ｆ－２）

［実施例６］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ２に組成について、界面活性剤Ｆ－１に代えて下記界面活性剤Ｆ－３を用いた組成に変更した組成物を用いた以外は、実施例４と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
（界面活性剤Ｆ－３）

［実施例７］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ３に代え、光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚を２．０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ３
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６５質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．１５質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．５２質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ２．８０質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－４ １．２０質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１７質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１３質量部
・シクロペンタノン ９２．１４質量部
・ベンジルアルコール ２．３６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶性化合物Ｌ－４（下記式中、数値は質量比を表す）

［実施例８］
光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚を１．２μｍ（実施例８）に変更した以外は、実施例７と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例９］
光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚を０．８μｍ（実施例９）に変更した以外は、実施例７と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例１０］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ４に代え、光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚を２．０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６５質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．３２質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．５５質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ２．９３質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－４ １．２６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１８質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１４質量部
・シクロペンタノン ９１．７５質量部
・ベンジルアルコール ２．３５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例１１］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ５に代え、光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚を２．０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ５
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６６質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．２８質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ １．７１質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－４ ０．７３質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１１質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．００８質量部
・シクロペンタノン ９４．０９質量部
・ベンジルアルコール ２．４１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例１２］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ６に代え、光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚を２．０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ６
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６５質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．１６質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．２８質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ３．０１質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－２ ０．２３質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－４ １．３９質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１８質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．００７質量部
・シクロペンタノン ９１．７５質量部
・ベンジルアルコール ２．３５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例１３］
酸素遮断層Ｂ１の組成を下記酸素遮断層Ｂ２の組成に代え、酸素遮断層の乾燥後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射する工程に変更した以外は、実施例１２と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用塗布液Ｂ２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アクリット８ＫＸ－０７８（大成ファインケミカル社製、固形分４０％）
２３．３４質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２８質量部
・下記界面活性剤Ｆ－５ ０．００９質量部
・メチルエチルケトン ７６．３７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

界面活性剤Ｆ－５

［実施例１４］
酸素遮断層Ｂ２の組成中、アクリット８ＫＸ－０７８をアクリット８ＫＸ－２１２に変更した以外は、実施例１３と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例１５］
アクリレート系粘着剤Ｎ１を下記アクリレート系粘着剤Ｎ３に変更し、積層体Ａ－１の作製中、低反射表面フィルムＣＶ-ＬＣ５（富士フイルム社製）を、無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）に変更した上で、上記粘着剤Ｎ３を用いて、上記積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側を気泡の入らないように貼り合わせた。その際、予め上記粘着剤Ｎ３を低湿環境下（２５℃１０％ＲＨ）に２４時間放置し、脱水した上で貼り合わせを行った。脱水後の粘着剤Ｎ３の含水率は０．２％であった（カールフィッシャー法）。
上記以外については、実施例７と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリレート系粘着剤Ｎ３（膜厚２００μｍ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アクリレート系重合体（Ａ１） １００質量部
・上記（Ａ）多官能アクリレート系モノマー １１．１質量部
・上記（Ｂ）光重合開始剤 １．１質量部
・上記（Ｃ）イソシアネート系架橋剤 １．０質量部
・上記（Ｄ）シランカップリング剤 ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例１６］
積層体Ａ－１の作製中、上記粘着剤Ｎ１を用いて上記積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側を市販のシクロオレフィンフィルム（ゼオノアＺＢ１２、膜厚５０μｍ、日本ゼオン社製）に貼り合わせた。さらに上記粘着剤Ｎ３を用いて、上記積層体のシクロオレフィンフィルム側を無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）に気泡の入らないように貼り合わせた。その際、上記粘着剤Ｎ３の低湿環境での放置は行わなかった。粘着剤Ｎ３の含水率は１．１％であった（カールフィッシャー法）。
上記以外は実施例１５と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例１７］
積層体Ａ－１の作製中、シクロオレフィンフィルムを市販のポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＳＲＦ、膜厚８０μｍ）に変更した以外は、実施例１６と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例１８］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ７に代えた以外は、実施例７と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

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光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ７
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６５質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．１５質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．５２質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ２．６９質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－４ １．１５質量部
・下記密着改良剤Ａ－１ ０．１７質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１７質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１３質量部
・シクロペンタノン ９２．１４質量部
・ベンジルアルコール ２．３６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

密着改良剤Ａ－１

［実施例１９］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ８に代えた以外は、実施例７と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ８
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６５質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．１５質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．５２質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ２．６８質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－４ １．１５質量部
・上記密着改良剤Ａ－１ ０．１７質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１７質量部
・下記界面活性剤Ｆ－６ ０．０２０質量部
・シクロペンタノン ９２．１４質量部
・ベンジルアルコール ２．３６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

界面活性剤Ｆ－６

［実施例２０］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ９に代えた以外は、実施例７と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ９
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６５質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．１５質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．５２質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ２．６８質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－４ １．１５質量部
・上記密着改良剤Ａ－１ ０．１７質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１７質量部
・下記界面活性剤Ｆ－７ ０．０２０質量部
・シクロペンタノン ９２．１４質量部
・ベンジルアルコール ２．３６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

界面活性剤Ｆ－７

［実施例２１］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１０に代えた以外は、実施例７と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１０
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６５質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．１６質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．２８質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ２．９７質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－２ ０．２３質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－４ １．３７質量部
・上記密着改良剤Ａ－１ ０．０６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１８質量部
・下記界面活性剤Ｆ－８ ０．０１４質量部
・シクロペンタノン ９１．７５質量部
・ベンジルアルコール ２．３５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

界面活性剤Ｆ－８

［実施例２２］
＜セルロースアシレートフィルム２の作製＞
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、可塑剤の添加量はセルロースアシレートに対する割合であり、ドープの溶剤は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）である。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアシレート
（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０） １００質量部
・糖エステル化合物１（化学式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
・糖エステル化合物２（化学式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
・シリカ粒子分散液
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ０．１質量部
・溶剤（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
―――――――――――――――――――――――――――――――――

糖エステル化合物１

糖エステル化合物２

上記で作製したドープを、ドラム製膜機を用いて流延した。０℃に冷却された金属支持体上に接するようにドープをダイから流延し、その後、得られたウェブ（フィルム）を剥ぎ取った。なお、ドラムはＳＵＳ製であった。

流延されて得られたウェブ（フィルム）を、ドラムから剥離後、フィルム搬送時に３０～４０℃で、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いてテンター装置内で２０分間乾燥した。引き続き、ウェブをロール搬送しながらゾーン加熱により後乾燥した。得られたウェブにナーリングを施した後、巻き取った。
得られたセルロースアシレートフィルム２の膜厚は４０μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）は２６ｎｍであった。

作製したセルロースアシレートフィルム２に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は８０°とした。フィルム長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１０°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルム長手方向を基準に、反時計回りに８０°回転させた位置である。

上記ラビング処理したセルロースアシレートフィルム２を基板として、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の液晶性化合物を含む光学異方性層形成用組成物Ｑ１を塗布して、組成物層を形成した。
次に、得られた組成物層を８０℃で６０秒間加熱した。この加熱により組成物層の液晶性化合物が所定の方向に配向した。
その後、酸素を含む空気（酸素濃度：約２０体積％）下、３０℃にて、３６５ｎｍのＬＥＤランプ（アクロエッジ（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射した（照射量：３５ｍＪ／ｃｍ^２）。
続いて、得られた組成物層を８０℃で１０秒間加熱した。
その後、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、８０℃にて、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射し（照射量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）、液晶性化合物の配向状態を固定した光学異方性層を形成した。このようにしてセルロースアシレートフィルム２上に光学異方性層の形成された光学フィルムＡを作製した。

なお、光学異方性層形成用組成物Ｑ１中における左捩れキラル剤（ＣＬ１）の３６５ｎｍにおけるモル吸光係数は４０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）であり、このキラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、３６５ｎｍの光を照射（３５ｍＪ／ｃｍ^２）しても、照射前と比べて、変化が無かった。なお、ＨＴＰの測定は特開２０１３－１２９８１９号公報の段落［００６４］に記載の方法で行った。
右捩れキラル剤（ＣＲ１）の３６５ｎｍにおけるモル吸光係数は３８，４５０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）であり、このキラル剤のＨＴＰは、３６５ｎｍの光を照射（３５ｍＪ／ｃｍ²）すると、照射前と比べて、３５μｍ^-1減少した。
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９）は３６５ｎｍの吸収は小さく（モル吸光係数８６０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ））、吸収ピーク波長２９０ｎｍにおけるモル吸光係数は７，７００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）であった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物Ｑ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物ＬＱ－１ ８０質量部
・下記液晶性化合物ＬＱ－２ １０質量部
・下記の重合性化合物（Ａ） １０質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
・光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・下記の左捩れキラル剤（ＣＬ１） ０．４３質量部
・下記の右捩れキラル剤（ＣＲ１） ０．３８質量部
・下記のポリマー（Ａ） ０．０８質量部
・下記のポリマー（Ｂ） ０．５０質量部
・メチルイソブチルケトン １１６質量部
・プロピオン酸エチル ４０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶性化合物ＬＱ－１（下記式中、数値は質量比を表す）

液晶性化合物ＬＱ－２

重合性化合物（Ａ）

左捩れキラル剤（ＣＬ１）

右捩れキラル剤（ＣＲ１）

ポリマー（Ａ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

ポリマー（Ｂ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

上記で作製した光学フィルムＡをラビング方向と平行に切削し、偏光顕微鏡で光学異方性層を断面方向から観察した。光学異方性層の厚みは２．７μｍであり、光学異方性層の基板側の厚み（ｄ２）１．３μｍの領域（第２領域）は捩れ角の無いホモジニアス配向であり、光学異方性層の空気側（基板と反対側）の厚み（ｄ１）１．４μｍの領域（第１領域）は液晶性化合物が捩れ配向していた。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏｓｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学フィルムＡの光学特性を求めた。第２領域の波長５５０ｎｍにおけるΔｎ２と厚みｄ２との積（Δｎ２ｄ２）は１７３ｎｍ、液晶性化合物の捩れ角は０°であり、長尺長手方向に対する液晶性化合物の配向軸角度は、基板に接する側が－１０°、第１領域に接する側が－１０°であった。
また、第１領域の波長５５０ｎｍにおけるΔｎ１と厚みｄ１との積（Δｎ１ｄ１）は１８４ｎｍ、液晶性化合物の捩れ角度は７５°であり、長尺長手方向に対する液晶性化合物の配向軸角度は、第２領域に接する側が－１０°、空気側が－８５°であった。
なお、光学異方性層に含まれる液晶性化合物の配向軸角度は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
また、液晶性化合物の捩れ角度は、光学異方性層の表面側から基板を観察し、表面側（手前側）にある液晶性化合物の配向軸方向を基準に、基板側（奥側）の液晶性化合物の配向軸方向が時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

（円偏光板の作製）
上記で作製した光学フィルムＡに含まれる基板面と、実施例２０と同様に作製した前述の積層体Ａのセルロースアシレートフィルム１を除去した面とを粘着剤Ｎ１を用いて貼り合わせ、積層体Ａ－２を作製した。つまり、積層体Ａ－２は、低反射表面フィルム、粘着剤層、酸素遮断層、光吸収異方性膜、光配向膜、粘着剤層、セルロースアシレートフィルム、光学異方性層をこの順で有していた。
なお、光吸収異方性膜の吸収軸は積層体Ａ－２の長手方向と一致しており、光吸収異方性膜の吸収軸に対する光学異方性層の第２領域の面内遅相軸の回転角度は１０°であり、光吸収異方性膜の吸収軸に対する光学異方性層の第１領域の第２領域側とは反対側の表面の面内遅相軸の回転角度は８５°であった。

上記で作製した積層体Ａ－２を積層体Ａ－１に代えた以外は、実施例１と同様の方法で有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例２３］
実施例２２と同様に作製したセルロースアシレートフィルム２を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、実施例１と同様の方法でアルカリ鹸化処理を行った。

（配向膜の形成）
セルロースアシレートフィルム２のアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜形成用塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液ＰＡ４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記ポリビニルアルコール １０質量部
・水 ３７１質量部
・メタノール １１９質量部
・グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
・クエン酸エステル（三協化学（株）製） ０．１７５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

ポリビニルアルコール

（光学異方性層の形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７６°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１４°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、反時計回りに７６°回転させた位置である。

上記ラビング処理した配向膜上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶性化合物を含む光学異方性層塗布液（１ａ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶性化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶性化合物の配向を固定化して、光学異方性層（１ａ）を形成した。
光学異方性層（１ａ）の厚みは、１．１μｍであった。また、５５０ｎｍにおけるレタデーションは１６８ｎｍであった。円盤状液晶性化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、光学異方性層（１ａ）の遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（１ａ）側から見たとき、遅相軸は１４°であった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶性化合物ＬＱ－３ ８０質量部
・下記の円盤状液晶性化合物ＬＱ－４ ２０質量部
・下記の配向膜界面配向剤１ ０．５５質量部
・配向膜界面配向剤－２ ０．０５質量部
・下記の含フッ素化合物Ａ ０．１質量部
・下記の含フッ素化合物Ｂ ０．０５質量部
・下記の含フッ素化合物Ｃ ０．２１質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １０質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ製） ３．０質量部
・メチルエチルケトン ２００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

円盤状液晶性化合物ＬＱ－３

円盤状液晶性化合物ＬＱ－４

配向膜界面配向剤１

含フッ素化合物Ａ（各繰り返し単位中のａおよびｂは、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、ａは９０質量％、ｂは１０質量％を表す。）

含フッ素化合物Ｂ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は３２．５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は６７．５質量％であった。）

含フッ素化合物Ｃ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、真ん中の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は５０質量％であった。）

上記作製したセルロースアシレートフィルム２の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶性化合物を含む光学異方性層塗布液（１ｃ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、フィルムの両端を保持し、フィルムの塗膜が形成された面の側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるように冷却板（９℃）を設置し、フィルムの塗膜が形成された面とは反対側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるようにヒーター（７５℃）を設置し、２分間乾燥させた。
次いで、温風にて６０℃１分間加熱し、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した。その後、温風にて１２０℃１分間アニーリングすることで、前駆体層を形成した。
得られた前駆体層に、室温で、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ/ｃｍ２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を有する組成物層を形成した。
なお、形成した組成物層の膜厚は０．５μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは－６８ｎｍであった。棒状液晶性化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
このようにして、セルロースアシレートフィルム２上に光学異方性層（１ｃ）を形成した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１ｃ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記液晶性化合物ＬＱ－１ １００質量部
・重合性モノマー（Ａ－４００、新中村化学工業社製） ４．０質量部
・下記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．０質量部
・下記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
・下記の重合体Ｍ－１ ２．０質量部
・下記の垂直配向剤Ｓ０１ ２．０質量部
・下記の光配向性ポリマーＡ－１ ２．０質量部
・下記の含フッ素化合物Ｄ ０．２質量部
・メチルエチルケトン ４２．３質量部
・メチルイソブチルケトン ６２７．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合開始剤Ｓ－１

光酸発生剤Ｄ－１

重合体Ｍ－１

垂直配向剤Ｓ０１

光配向性ポリマーＡ－１（各繰り返し単位中に記載の数値は、全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位から４３質量％、２７質量％、３０質量％であった。また、重量平均分子量は６９８００であった。）

含フッ素化合物Ｄ（重量平均分子量：２２００）

次いで、上記作製した光学異方性層（１ｃ）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶性化合物を含む光学異方性層塗布液（１ｂ）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶性化合物の配向を固定化して、光学異方性層（１ｂ）を形成した。
光学異方性層（１ｂ）の厚みは１．２μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１６４ｎｍ、液晶性化合物の捩れ角度は８１°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（１ｂ）側から見たとき、液晶性化合物の配向軸角度は、空気側が－１４°、光学異方性層（１ｃ）に接する側が－９５°であった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１ｂ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記液晶性化合物ＬＱ－１ １００質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
・光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・下記の左捩れキラル剤（ＣＬ２） ０．６０質量部
・上記の含フッ素化合物Ｃ ０．０８質量部
・メチルエチルケトン １５６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

左捩れキラル剤（ＣＬ２）

上記手順によって、セルロースアシレートフィルム２上に、光学異方性層（１ｃ）と光学異方性層（１ｂ）とが直接積層された積層体（１ｃ－１ｂ）を作製した。なお、上述した方法で光学異方性層（１ｃ）の光学異方性層（１ｂ）と接する側の表面を確認したところ、光配向性ポリマーが存在していることが確認できた。

上記作製したセルロースアシレートフィルム２上に形成した光学異方性層（１ａ）の表面側と、上記作製したセルロースアシレートフィルム２上に形成した積層体（１ｃ－１ｂ）の光学異方性層（１ｂ）の表面側とを、紫外線硬化型接着剤を用いて、貼り合せた。
続いて、光学異方性層（１ａ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（１ａ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。このようにして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（１ｃ）、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ａ）がこの順に積層された光学フィルム（１ｃ－１ｂ－１ａ）を得た。

（円偏光板の作製）
上記作製した光学フィルム（１ｃ－１ｂ－１ａ）の光学異方性層（１ａ）の表面と、実施例２０と同様に作製した前述の積層体Ａのセルロースアシレートフィルム１を除去した面とを粘着剤Ｎ１を用いて貼り合わせた。続いて、光学異方性層（１ｃ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（１ｃ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。
このようにして、光学フィルム（１ｃ－１ｂ－１ａ）と、積層体Ａとからなる積層体Ａ－３を作製した。つまり、積層体Ａ－３は、低反射表面フィルム、粘着剤層、酸素遮断層、光吸収異方性膜、光配向膜、粘着剤層、光学異方性層（１ａ）、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）とが、この順に積層されており、光吸収異方性膜の吸収軸と光学異方性層（１ａ）の遅相軸がなす角度は７６°であった。また、幅方向を基準の０°として、光学異方性層（１ｂ）の光学異方性層（１ａ）側の液晶性化合物の配向軸角度は１４°であり、光学異方性層（１ａ）の遅相軸方向と一致していた。

上記で作製した積層体Ａ－３を積層体Ａ－１に代えた以外は、実施例１と同様の方法で有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例２４］
実施例１６において、光吸収異方性膜形成用組成物をＰ９に変更し、無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）を５０μｍ厚のガラス基材（ＳＨＯＴＴ社、Ｄ２６３）に変更した以外は、実施例１６と同様の方法で有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例２５］
実施例１７において、光吸収異方性膜形成用組成物をＰ９に変更し、無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）を５０μｍ厚のガラス基材（ＳＨＯＴＴ社、Ｄ２６３）に変更した以外は、実施例１７と同様の方法で有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例２６］
実施例２５において、予め多層スパッタ金属酸化膜を有するＡＲフィルム（Ｄｅｘｅｒｉａｌｓ社、ＡＲ1００；９１μｍ）と５０μｍ厚のガラス基材（ＳＨＯＴＴ社、Ｄ２６３）を前記ＵＶ接着剤で貼り合わせたＡＲフィルム付きガラスに変更した以外は、実施例２５と同様の方法で有機ＥＬ表示装置を作製した。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる際は、６００ｍＪ/ｃｍ^２のＵＶ照射で貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った。

［実施例２７］
実施例２６において、ＡＲフィルム（Ｄｅｘｅｒｉａｌｓ社、ＡＲ1００；９１μｍ）と５０μｍ厚のガラス基材（ＳＨＯＴＴ社、Ｄ２６３）を前記粘着材Ｎ１を用いて貼り合わせたＡＲフィルム付きガラスに変更した以外は、実施例２６と同様の方法で有機ＥＬ表示装置を作製した。

［実施例２８］
視野角制御用フィルムとして、二色性物質が膜厚方向に垂直に配向した光吸収異方性層Ｐ１１を下記のように作成した。

＜透明支持体１の作製＞
セルロースアシレートフィルム３（厚み４０μｍのＴＡＣ基材；ＴＧ４０ 富士フイルム社）の表面をアルカリ液で鹸化し、その上にワイヤーバーで下記配向膜形成用塗布液ＰＡ５を塗布した。塗膜が形成された支持体を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成し、配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
配向層の膜厚は１μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液ＰＡ５
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・光重合開始剤Ｉｒｇ２９５９（ＢＡＳＦ社製） ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

＜光吸収異方性層Ｐ１１の形成＞
得られた配向層上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層上に膜面に対して垂直に二色性物質が配向した、光吸収異方性層Ｐ１１を作製した。塗布層Ｐ１１の膜厚は３μｍ、配向度は、０．９６であった。これを視野角制御用フィルム１とした。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｙ－１ ０．４０質量部
・上記二色性物質Ｍ－１ ０．１５質量部
・上記二色性物質Ｃ－１ ０．６３質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ３．６５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・下記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・下記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・下記の含フッ素化合物Ｅ ０．０１０質量部
・下記の含フッ素化合物Ｆ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４７．００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．００質量部
・ベンジルアルコール １．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

化合物Ｅ－１

化合物Ｅ－２

含フッ素化合物Ｅ

含フッ素化合物Ｆ

実施例１６において、シクロオレフィンフィルを上記視野角制御フィルム１に変更し、視野角制御フィルムのセルロースアシレートフィルム側の表面と、前述の積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側とを粘着剤Ｎ１を用いて貼り合わせた。それ以外は、実施例１６と同様の方法で有機ＥＬ表示装置を作製した。得られた有機ＥＬ表示装置は、正面からの透過率が高く、斜めからの透過率が低いものであった。

［比較例１］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１２に代えて、加熱温度を下記表２に示す温度に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６４質量部
・下記第２の二色性物質Ｍ－２ ０．４２質量部
・下記第３の二色性物質Ｙ－２ ０．３９質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－３ ４．４８質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５１質量部
・下記界面活性剤Ｆ－４ ０．０３１質量部
・シクロペンタノン ４５．８３質量部
・テトラヒドロフラン ４５．８３質量部
・ベンジルアルコール ２．３５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

二色性物質Ｍ－２（極大吸収波長：４７５ｎｍ）

二色性物質Ｙ－２（極大吸収波長：４１６ｎｍ）

液晶性化合物Ｌ－３

界面活性剤Ｆ－４

［実施例２９］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１３に代え、光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚を２．０μｍに変更し、下記表１に記載する加熱温度にした以外は、実施例１と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１３
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６５質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．１６質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．２８質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ３．６４質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－４ １．５６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１９質量部
・下記界面活性剤Ｆ－９ ０．０１６質量部
・シクロペンタノン ９１．１６質量部
・ベンジルアルコール ２．３４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

界面活性剤Ｆ－９

［実施例３０］
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１を下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１４に代え、光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚を２．０μｍに変更し、下記表１に記載する加熱温度にした以外は、実施例１と同様の方法で、積層体および有機ＥＬ表示装置を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物Ｐ１４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．６５質量部
・上記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．１６質量部
・上記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．２８質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－１ ３．６４質量部
・上記液晶性化合物Ｌ－４ １．５６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１９質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．００３質量部
・上記界面活性剤Ｆ－９ ０．０１３質量部
・シクロペンタノン ９１．１６質量部
・ベンジルアルコール ２．３４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［表示性能］
作製した有機ＥＬ表示装置について、明光下にて視認性および表示品位を評価した。表示装置の表示画面を黒表示にして、正面および極角４５度から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察した。下記の基準に基づいて表示性能を評価した。評価結果を下記表１および表２に示す。
＜評価基準＞
Ａ：黒色で色づきが全く視認されない
Ｂ：わずかに着色が視認されるが、反射率が非常に低い
Ｃ：わずかに着色が視認されるが、反射率が低い
Ｄ：わずかに着色が視認され、かつ反射率が高い
Ｅ：着色が明らかに視認され、かつ反射率が非常に高い

［耐久性］
作製した有機ＥＬ表示装置について、８０℃相対湿度１０％未満の環境下で５００時間経時させた。その後得られた表示装置に関して、明光下にて視認性および表示品位を評価した。表示装置の表示画面を黒表示にして、正面および極角４５度から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察した。下記の基準に基づいて表示性能を評価した。評価結果を下記表１および表２に示す。
＜評価基準＞
Ａ：黒色で色づきが全く視認されない
Ｂ：わずかに着色が視認されるが、反射率が非常に低い
Ｃ：わずかに着色が視認されるが、反射率が低い
Ｄ：わずかに着色が視認され、かつ反射率が高い
Ｅ：着色が明らかに視認され、かつ反射率が非常に高い

［９５℃耐久性］
作製した有機ＥＬ表示装置について、９５℃相対湿度５％未満の環境下で６００時間経時させた。その後得られた表示装置に関して、明光下にて視認性および表示品位を評価した。表示装置の表示画面を黒表示にして、正面および極角４５度から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察した。下記の基準に基づいて表示性能を評価した。評価結果を下記表１および表２に示す。
＜評価基準＞
Ａ：黒色で色づきが全く視認されない
Ｂ：わずかに着色が視認されるが、反射率が非常に低い
Ｃ：わずかに着色が視認されるが、反射率が低い
Ｄ：わずかに着色が視認され、かつ反射率が高い
Ｅ：着色が明らかに視認され、かつ反射率が非常に高い

上記表１および表２に示す結果から、ＴＯＦ－ＳＩＭＳで検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の画像表示装置の視認側に対応する表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、上記式（Ｉ－１）を満たさない場合は、表示性能および耐久性がいずれも劣ることが分かった（比較例１～３）。
これに対し、最大強度Ｉｍａｘと、強度Ｉｓｕｒ１との関係が、上記式（Ｉ－１）を満たす場合は、表示性能および耐久性がいずれも良好となることが分かった（実施例１～３０）。
特に、実施例同士の対比から、勾配厚みが５０ｎｍを超えると、表示性能および耐久性がより良好となり、６０ｎｍを超えると、表示性能および耐久性が更に良好となることが分かった。同様に、界面活性剤のｌｏｇＰ値と液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が３．１未満であると、表示性能および耐久性がより良好となり、１．４未満であると、表示性能および耐久性が更に良好となることが分かった。
また、実施例と比較例の対比から、二色性物質の種類や、光吸収異方性膜を形成する際の加熱温度の条件により、最大強度Ｉｍａｘと強度Ｉｓｕｒ１との関係を調整できることも分かった。
さらに、液晶性化合物とのｌｏｇＰ値の差が１．４未満である界面活性剤と、液晶性化合物とのｌｏｇＰ値の差が１．４以上である界面活性剤とを含有する場合は、表示性能および耐久性が良好であることに加え、表面平滑性が高く、かつ、ハジキおよびムラが抑制され、面内の均一性が非常に優れていた。

Claims (13)

1. 液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物を用いて形成される、画像表示装置に用いられる光吸収異方性膜であって、
   飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される前記二色性物質に由来するシグナルについて、前記光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、前記光吸収異方性膜の前記画像表示装置の視認側に対応する表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、下記式（Ｉ－１）を満たす、光吸収異方性膜。
   ２．０ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ・・・（Ｉ－１）
2. 液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物を用いて形成される、画像表示装置に用いられる光吸収異方性膜であって、
   飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される前記二色性物質に由来するシグナルについて、前記光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、前記光吸収異方性膜の前記画像表示装置の視認側に対応する表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、下記式（Ｉ－１）を満たし、
   前記光吸収異方性膜の前記画像表示装置の視認側に対応する表面から前記最大強度Ｉｍａｘを発現する位置までの厚みが、５０ｎｍ超である、光吸収異方性膜。
   ２．０ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ・・・（Ｉ－１）
3. 液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物を用いて形成される、画像表示装置に用いられる光吸収異方性膜であって、
   飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される前記二色性物質に由来するシグナルについて、前記光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、前記光吸収異方性膜の前記画像表示装置の視認側に対応する表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、下記式（Ｉ－１）を満たし、
   前記液晶組成物が、更に、界面活性剤を含有し、
   前記界面活性剤のｌｏｇＰ値と前記液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が３．１未満である、光吸収異方性膜。
   ２．０ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ・・・（Ｉ－１）
4. 前記光吸収異方性膜の前記画像表示装置の視認側に対応する表面から前記最大強度Ｉｍａｘを発現する位置までの厚みが、５０ｎｍ超である、請求項１又は３に記載の光吸収異方性膜。
5. 前記光吸収異方性膜の前記画像表示装置の視認側に対応する表面から前記最大強度Ｉｍａｘを発現する位置までの厚みが、６０ｎｍ超である、請求項１～４のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜。
6. 前記液晶組成物が、更に、界面活性剤を含有し、
   前記界面活性剤のｌｏｇＰ値と前記液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が３．１未満である、請求項１又は２に記載の光吸収異方性膜。
7. 前記液晶組成物が、更に、界面活性剤を含有し、
   前記界面活性剤のｌｏｇＰ値と前記液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が１．４未満である、請求項１又は２に記載の光吸収異方性膜。
8. 前記液晶組成物が、更に、前記液晶性化合物とのｌｏｇＰ値の差が１．４未満である界面活性剤と、前記液晶性化合物とのｌｏｇＰ値の差が１．４以上である界面活性剤とを含有する、請求項１又は２に記載の光吸収異方性膜。
9. 基材と、配向膜と、光吸収異方性膜とをこの順に有する、画像表示装置に用いられる積層体であって、
   前記光吸収異方性膜が、請求項１～８のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜であり、
   飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される二色性物質に由来するシグナルについて、前記光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、前記光吸収異方性膜の前記画像表示装置の視認側に対応する表面における強度Ｉｓｕｒ１との関係が、下記式（Ｉ－１）を満たす、積層体。
   ２．０ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ１ ・・・（Ｉ－１）
10. 更に、前記光吸収異方性膜上に設けられる位相差板を有し、
    前記位相差板が、液晶性化合物を含有する複数の光学異方性層を有し、
    前記複数の光学異方性層のうち、少なくとも１層の光学異方性層が、厚み方向を螺旋軸とする捩じれ配向した液晶性化合物を含有する光学異方性層である、請求項９に記載の積層体。
11. 更に、前記光吸収異方性膜上に設けられる表面保護材を有し、
    前記基材が、厚みが１００μｍ以下のガラス基材である、請求項９に記載の積層体。
12. 更に、前記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、請求項９に記載の積層体。
13. 請求項１～８のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜、または、請求項９～１２のいずれか１項に記載の積層体を有する、画像表示装置。