JP2019120949A - 光学積層体および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、二色性物質の配向性に優れる光学積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。【解決手段】酸素遮断層１２、光配向層１４および光吸収異方性層１６をこの順に有する光学積層体１０であって、酸素遮断層が、鹸化度９５％以上のポリビニルアルコールまたは鹸化度９５％以上の変性ポリビニルアルコールを５０質量％以上含有する層であり、光配向層が、光活性化合物を含有する光配向層であり、光活性化合物が、重合性基を有さない、分子量１０００以下の低分子化合物であり、光吸収異方性層が、二色性物質を含有する層である、光学積層体。【選択図】図１Ａ

Description

本発明は、光学積層体および画像表示装置に関する。

近年、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）の開発が進んでおり、使用される各部材に対してフレキシブル化が進んでいる。中でも、外光の反射防止のために使用されている円偏光板は、高い偏光度とフレキシブル性が求められる。
従来、円偏光板にはヨウ素偏光子が使用されているが、ヨウ素偏光子は、ヨウ素をポリビニルアルコールのような高分子材料に溶解又は吸着させ、その膜を一方向にフィルム状に高倍率に延伸することで作製されるため、十分なフレキブル性がなかった。

そのため、透明フィルムなどの基板上に二色性色素を塗布し、分子間相互作用などを利用して配向させた偏光子が検討されている。
例えば、特許文献１には、二色性アゾ色素を高い配向性有する液晶マトリクス中に相溶させ、高い二色比を有する偏光素子が提案されている。
また、特許文献２には、二色性アゾ色素を用いて高濃度かつ薄膜で高い偏光度を有する偏光子が提案されている。
更に、特許文献３には、二色性色素化合物からなる偏光子の光堅牢性向上のため、低い酸素透過性を示すポリビニルアルコール等の酸素遮断膜を用いることが有効であることが記載されている。

特許第５９２３９４１号公報 特許第５４３７７４４号公報 特許第５６１２２９１号公報

本発明者らは、支持体上に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を塗布して酸素遮断層を形成した後、光活性化合物を含む光配向層を積層して光照射により配向させた後、二色性物質を含有する光吸収異方性層を更に積層して偏光子を作製する検討を行った。
検討の結果、本発明者らは、酸素遮断層に用いるポリビニルアルコールの種類によっては、二色性物質の配向度が劣る場合があることを明らかとした。

そこで、本発明は、二色性物質の配向性に優れる光学積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、鹸化度９５％以上のポリビニルアルコールを主成分として含有する酸素遮断層を設けると、二色性物質の配向度が高い光吸収異方性層を形成できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 酸素遮断層、光配向層および光吸収異方性層をこの順に有する光学積層体であって、
酸素遮断層が、鹸化度９５％以上のポリビニルアルコールまたは鹸化度９５％以上の変性ポリビニルアルコールを５０質量％以上含有する層であり、
光配向層が、光活性化合物を含有する光配向層であり、
光活性化合物が、重合性基を有さない、分子量１０００以下の低分子化合物であり、
光吸収異方性層が、二色性物質を含有する層である、光学積層体。
［２］ 光活性化合物が、光活性基としてアゾ基を有する、［１］に記載の光学積層体。
［３］ 光吸収異方性層が、二色性物質および液晶性化合物を含有する液晶組成物を用いて形成される層であり、
液晶組成物に含まれる二色性物質の固形分割合が２〜３０質量％である、［１］または［２］に記載の光学積層体。

［４］ 液晶組成物が、下記式（１）で表される二色性物質を含有する、［３］に記載の光学積層体。

ここで、上記式（１）中、
Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
ｍは、１〜４の整数を表し、ｍが２〜４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。

［５］ 液晶組成物が、下記式（２）で表される二色性物質を含有する、［３］または［４］に記載の光学積層体。

ここで、上記式（２）中、
Ｃ^１およびＣ^２は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ただし、Ｃ^１およびＣ^２の少なくとも一方は、架橋性基を表す。
Ｍ^１およびＭ^２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。ただし、Ｍ^１およびＭ^２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上である。
Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基および置換基を有していてもよいビフェニレン基のいずれかの基を表す。
Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
Ｒ^１は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

［６］ 液晶組成物が、下記式（３）で表される二色性物質を含有する、［３］〜［５］のいずれかに記載の光学積層体。

ここで、上記式（３）中、
ＡおよびＢは、それぞれ独立に、架橋性基を表す。
ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１を表す。ただし、ａ＋ｂ≧１である。
ａ＝０の場合にはＬ_１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ_１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ_２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ_２は単結合または２価の連結基を表す。
Ａｒ_１は（ｎ１＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_２は（ｎ２＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_３は（ｎ３＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ｎ１≧２である場合には複数のＲ_１は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ２≧２である場合には複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ３≧２である場合には複数のＲ_３は互いに同一でも異なっていてもよい。
ｋは、１〜４の整数を表す。ｋ≧２の場合には、複数のＡｒ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよい。
ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。ただし、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０であり、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。

［７］ 液晶組成物が、下記式（４）で表される液晶性化合物を含有する、［３］〜［６］のいずれかに記載の光学積層体。
Ｕ１−Ｖ１−Ｗ１−Ｘ１−Ｙ１−Ｘ２−Ｙ２−Ｘ３−Ｗ２−Ｖ２−Ｕ２ （４）
ここで、上記式（４）中、
Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基である。シクロへキサン−１，４−ジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ−に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基を表す。
Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、単結合、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−またはＣＲａ＝Ｎ−を表す。ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｕ１は、水素原子または重合性基を表す。
Ｕ２は、重合性基を表す。
Ｗ１およびＷ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−を表す。
Ｖ１およびＶ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表し、アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−に置き換わっていてもよい。

［８］ 液晶組成物が、下記式（５）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶化合物を含有し、下記式（５）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、［３］〜［７］のいずれかに記載の光学積層体。

ここで、上記式（５）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。

［９］ 光吸収異方性膜の光配向層と反対側に、酸素遮断層とは異なる別の酸素遮断層を有する、［１］〜［８］のいずれかに記載の光学積層体。
［１０］ 更に、λ／４板を有する、［１］〜［９］のいずれかに記載の光学積層体。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学積層体を有する画像表示装置。

本発明によれば、二色性物質の配向性に優れる光学積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することができる。

図１Ａは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｂは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。

［光学積層体］
本発明の光学積層体は、酸素遮断層、光配向層および光吸収異方性層をこの順に有する光学積層体である。さらに、透明支持体が、酸素遮断層の側に存在してもよい。
また、本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、二色性物質を含有する層である。
また、本発明の光学積層体が有する酸素遮断層は、鹸化度９５％以上のポリビニルアルコールまたは鹸化度９５％以上の変性ポリビニルアルコール（以下、これらをまとめて「特定ＰＶＡ」とも略す。）を５０質量％以上含有する層である。
また、本発明の光学積層体が有する光配向層は、光活性化合物を含有する光配向層である。
また、本発明においては、光配向層に含まれる光活性化合物が、重合性基を有さない、分子量１０００以下の低分子化合物である。
ここで、本発明でいう「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。

本発明の光学積層体の層構成においては、上述した通り、酸素遮断層のポリビニルアルコールの鹸化度によって、二色性物質の配向度が大きく異なる。
本発明のように、酸素遮断層に特定ＰＶＡを用いることで、二色性物質の配向度を良好にすることができる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
まず、ポリビニルアルコールの鹸化度が低く、空隙が比較的多い場合には、光配向層を形成する際に、光配向層の成分が酸素遮断層中に浸透することで、光配向層としての機能が低下していると考えられる。
これに対し、特定ＰＶＡは、ポリマー鎖にＯＨ基が多く存在することでポリマー間の水素結合力が強く、空隙が少ないと考えられる。そのため、酸素遮断層上に形成される光配向層の配向が維持されやすくなり、その結果、二色性物質の配向度が大きくなったと考えられる。

図１Ａおよび図１Ｂに、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図を示す。
ここで、図１Ａに示す光学積層体１０は、酸素遮断層配向層１２、光配向層１４、光吸収異方性層１６および別の酸素遮断層１８をこの順に有する層構成（以下、「構成Ａ」とも略す。）の光学積層体である。
また、図１Ｂに示す光学積層体２０は、酸素遮断層配向層１２、光配向層１４および光吸収異方性層１６をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｂ」とも略す。）の光学積層体である。
以下に、本発明の光学積層体が有する酸素遮断層、光配向層および光吸収異方性層ならびに任意の別の酸素遮断層などについて詳述する。

〔酸素遮断層〕
本発明の光学積層体が有する酸素遮断層は、鹸化度９５％以上のポリビニルアルコールまたは鹸化度９５％以上の変性ポリビニルアルコールを主成分とする層、すなわち、５０質量％以上含有する層である。なお、特定ＰＶＡの含有量は、５０質量％超１００質量％以下であることが好ましく、９０〜１００質量％であることがより好ましい。
ここで、一般に、ポリビニルアルコールは、酢酸ビニルポリマーのアセチル基部位を、水酸化ナトリウム等の強塩基で加水分解し水酸基にすること（鹸化）によって得られるものである。
また、ポリビニルアルコールの鹸化度とは、ポリビニルアルコールが有する酢酸基と水酸基との合計数に対する、水酸基の数の割合を百分率で表したものであり、ＪＩＳ Ｋ６７２６：１９９４に準じて測定することができる。
本発明においては、鹸化度が９５ｍｏｌ％以上であることが必要であり、９６．５ｍｏｌ％以上であることが好ましい。

本発明では、特定ＰＶＡの平均重合度は２００〜５０００であることが好ましく、２５０〜３０００であることがより好ましく、３００〜２０００であることが特に好ましい。
重合度の高い特定ＰＶＡは、水溶性が低く、酸素遮断層の耐水性をより向上させることができるが、一方では水溶性が低下するため、製膜用の水溶液のハンドリング性が低下する。上記範囲とすることで、ハンドリング性と耐水性を両立することができる。

高鹸化度ポリビニルアルコールとして市販の未変性のポリビニルアルコールを用いてもよい。平均重合度が上記範囲である未変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、クラレ社製のＰＶＡ１０２、ＰＶＡ１０３、ＰＶＡ１０５、ＰＶＡ１１０、ＰＶＡ１１７、ＰＶＡ１２４、ＰＶＡ１３５等が挙げられる。

上記変性ポリビニルアルコールは、分子内に架橋性基として重合性基を有することが好ましい。重合性基を有する変性ポリビニルアルコールを利用することで、膜強度を改善することができる。重合性基を有する変性ポリビニルアルコールは、重合性基を有する繰り返し単位をポリビニルアルコールに導入することによって、又は、重合性基を有する化合物をポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールと反応させることにより得られる。

上記変性ポリビニルアルコール中、主鎖と重合性基は、直結せずに、連結基を介して結合していることが好ましい。連結基の例には、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−アルキレン基−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−アルキレン基−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−アルキレン基−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−アルキレン基−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−アリーレン基−Ｏ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−アリーレン基−Ｏ−アルキレン基−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−アリーレン基−Ｏ−アルキレン基−及び−Ｏ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−が含まれる（左側が主鎖に結合し、右側が重合性基に結合する）。上記アルキレン基は、分岐又は環状構造を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１５であることがさらに好ましく、１〜１２であることがよりさらに好ましい。上記アリーレン基は、フェニレン又はナフチレンであることが好ましく、フェニレンであることがさらに好ましく、ｐ−フェニレンであることがよりさらに好ましい。アリーレン基は、置換基を有していてもよい。アリーレン基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、カルボキシル、シアノ、ニトロ、カルバモイル、スルファモイル、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アルキル置換カルバモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アミド基、スルホンアミド基及びアルキルスルホニル基が含まれる。

上記変性ポリビニルアルコールは、例えば、市販の未変性ポリにビルアルコールに、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、４−（４−アクリロイルオキシブトキシ）安息香酸等の試薬を、触媒の存在下で反応させることで製造することができる。原料として用いる市販の未変性ポリビニルアルコールとしては、ＰＶＡ１０３、ＰＶＡ２０３、ＰＶＡ２０５（いずれもクラレ製）を用いることができる。この方法については、特開平９−１５２５０９等の各公報に詳細に記載されている。

上記酸素遮断層は、本発明の効果を損なわない範囲で、他のポリビニルアルコール、又は添加剤を含有していてもよい。例えば、膜を硬化させるために架橋剤を用いることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉等が挙げられる。より具体的には、特開２００２−６２４２６号公報中の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
ただし、架橋剤を添加し過ぎると、耐水性が低下の傾向があるので、架橋剤を使用する場合もその添加量は少ないほうが好ましく、全ポリビニルアルコールに対して、０〜１０質量％であるのが好ましく、０〜５質量％であるのがより好ましい。

本発明においては、上記酸素遮断層が、透明であること（すなわち、透明酸素遮断層）が好ましい。
ここで、本発明でいう「透明」とは、上述した通り、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。

（透明酸素遮断層の形成方法）
上記酸素遮断層は、基本的に、酸素遮断層形成材料である特定ＰＶＡと、所望により添加される架橋剤等を含む組成物（以下、「酸素遮断層形成用組成液」とも略す。）から形成することができる。この組成物は、塗布液として調製するのが好ましい。塗布液として調製された組成物を、ポリマーフィルム等の支持体の表面に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）して形成することができる。架橋反応は、上述のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なうことができる。塗布液の調製には、消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール、イソプロパノール）と水の混合溶媒を用いることが好ましい。その比率は質量比で、水：有機溶媒が０より大きく９９以下：１００未満１以上が好ましく、０より大きく９１以下：１００未満９以上であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向層、更には光学異方層の層表面の欠陥が減少する。

上記酸素遮断層形成用組成液の塗布は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法等により行なうのが好ましい。特にロッドコーティング法、又はエクストルージョンコーティング法が好ましい。塗布量については特に制限はないが、乾燥後の膜厚が０．１〜５μｍ程度になる塗布量とするのが好ましい。

塗布後、乾燥して塗布液中の溶媒を除去し、膜とする。乾燥時には所望により加熱してもよい。乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうのが好ましい。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間が好ましく、より好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ２．５〜５．５であるのが好ましい。

〔光配向層〕
本発明の光学積層体が有する光配向層は、光活性化合物（光反応性基を有する化合物）を含有する光配向層である。
また、光配向層とは、光活性化合物と溶剤とを含む組成液（以下、「光配向層形成用組成液」とも略す。）を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光紫外線（ＵＶ））を照射することによって配向規制力を付与した配向層のことをいう。

光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子（光活性化合物と呼ぶ）の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。
光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が挙げられる。
これらの中でも、本発明においては、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）を有するアゾ基を用いることが好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。
Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。
Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。
Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とする基が挙げられる。
これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基又はハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
これらの基の中でも、アゾベンゼン基は、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましく用いられる。

アゾベンゼン基有する光活性化合物として、特に好ましいのは下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする光活性化合物である。

一般式（Ｉ）

式中、Ｒ^２１〜Ｒ^２４はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表すが、但し、Ｒ^２１〜Ｒ^２４で表される基の少なくとも一つは、カルボキシル基又はスルホ基を表し；ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１〜４の整数を表し、ｏは１〜５の整数を表し、ｐは１〜５の整数を表すが、ｍ、ｎ、ｏ、及びｐが２以上の整数を表すとき、複数個ある、Ｒ^２１〜Ｒ^２４は、同一でも異なっていてもよい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ^２１〜Ｒ^２４でそれぞれ表される置換基としては以下の基を挙げることができる。
カルボキシル基（アルカリ金属と塩を形成していてもよく、好ましくは塩を形成していないか、ナトリウム塩を形成しているカルボキシル基であり、より好ましくはナトリウム塩を形成しているカルボキシル基である）、スルホ基（アルカリ金属と塩を形成していてもよく、好ましくは塩を形成していないか、ナトリウム塩を形成しているスルホ基であり、より好ましくはナトリウム塩を形成しているスルホ基である）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、３，５−ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、

アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは２〜６であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは２〜６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、

アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。

これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ^２１〜Ｒ^２４で表される基としては、好ましくは水素原子、カルボキシル基、スルホ基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、より好ましくは水素原子、カルボキシル基、スルホ基、ハロゲン原子、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシカルボニル基であり、特に好ましくは水素原子、カルボキシル基、スルホ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基である。

Ｒ^２１〜Ｒ^２４で表される基の少なくとも一つは、カルボキシル基又はスルホ基である。カルボキシル基又はスルホ基の置換位置については特に制限はないが、光活性作用の観点では、少なくとも１つのＲ^２１及び／又は少なくとも１つのＲ^２２がスルホ基であるのが好ましく、少なくとも１つのＲ^２１及び少なくとも１つのＲ^２２がスルホ基であるのがより好ましい。また、同観点から、少なくとも１つのＲ^２３及び／又は少なくとも１つのＲ^２４がカルボキシル基であるのが好ましく、少なくとも１つのＲ^２３及び少なくとも１つのＲ^２４がカルボキシル基であるのがより好ましい。カルボキシル基は、アゾ基に対してメタ位に置換したＲ^２３及びＲ^２４であるのがさらに好ましい。

一般式（Ｉ）において、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１〜４の整数を表し、ｏは１〜５の整数を表し、ｐは１〜５の整数を表す。好ましくは、ｍは１〜２の整数、ｎは１〜２の整数、ｏは１〜２の整数、ｐは１〜２の整数である。

以下に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を挙げるが、以下の具体例に制限されるものではない。

本発明に用いられる光配向層は、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率が１．５５以上１．８以下である光配向層であることが好ましい。より反射防止性能を向上させるという観点で、光吸収異方性層との屈折率差を小さくするため、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率は１．５５〜１．７であることがさらに好ましい。

また、本発明に用いられる光配向層は、波長５５０ｎｍにおける面内の屈折率異方性Δｎが０．０５以上０．４５以下であることが好ましい。０．１以上０．４以下であることがより好ましく、０．１以上０．３以下であることがさらに好ましい。
光配向層の屈折率異方性を適切に制御することで、より反射防止機能を向上させることができる。

本発明において、光配向層の厚さは、１０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０〜３００ｎｍの範囲であることが更に好ましい。光配向層の厚さを適切に制御することで、干渉を利用し、さらに反射防止性能を高めることができる。

光配向層形成用組成液は、光活性化合物以外の他の添加剤の１種以上を含んでいてもよい。例えば、添加剤は、光配向層形成用組成液の屈折率調整の目的として添加される。添加剤としては、光活性化合物との相溶性の観点から親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましく、配向能を著しく低下させない程度添加することができる。親水性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基等が挙げられる。

添加剤を、光配向層形成用組成液の屈折率調整の目的で用いる場合には、添加剤の屈折率は１．４〜１．６が好ましく、１．４〜１．５５がより好ましい。

光配向層形成用組成液を基材上に塗布する方法としては、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法等の塗布法や、フレキソ法等の印刷法などの公知の方法が採用される。なお、偏光子製造を、ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式の連続的製造方法により実施する場合、塗布方法としては、通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法等の印刷法が採用される。

上記材料から形成した光配向層に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向層を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ〜７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

照射する光は、直線偏光の場合には、配向層に対して上面、又は裏面から配向層表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０〜９０°（垂直）が好ましく、４０〜９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向層に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましく、３０〜５０°が更に好ましい。
照射時間は、１分〜６０分が好ましく、１分〜１０分がより好ましい。

パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

〔光吸収異方性層〕
本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、二色性物質を含有する層であり、二色性物質および液晶性化合物を含有する液晶組成物を用いて形成される層であることが好ましい。

＜二色性物質＞
光吸収異方性層および液晶組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報の［００６７］〜［００７１］段落、特開２０１３−２２７５３２号公報の［０００８］〜［００２６］段落、特開２０１３−２０９３６７号公報の［０００８］〜［００１５］段落、特開２０１３−１４８８３号公報の［００４５］〜［００５８］段落、特開２０１３−１０９０９０号公報の［００１２］〜［００２９］段落、特開２０１３−１０１３２８号公報の［０００９］〜［００１７］段落、特開２０１３−３７３５３号公報の［００５１］〜［００６５］段落、特開２０１２−６３３８７号公報の［００４９］〜［００７３］段落、特開平１１−３０５０３６号公報の［００１６］〜［００１８］段落、特開２００１−１３３６３０号公報の［０００９］〜［００１１］段落、特開２０１１−２１５３３７号公報の［００３０］〜［０１６９］、特開２０１０−１０６２４２号公報の［００２１］〜［００７５］段落、特開２０１０−２１５８４６号公報の［００１１］〜［００２５］段落、特開２０１１−０４８３１１号公報の［００１７］〜［００６９］段落、特開２０１１−２１３６１０号公報の［００１３］〜［０１３３］段落、特開２０１１−２３７５１３号公報の［００７４］〜［０２４６］段落、特開２０１６−００６５０２号公報の［０００５］〜［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］〜［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］〜［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］〜［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］〜［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］〜［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］〜［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。

本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性層を黒色に近づける観点から、波長３７０〜５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（第１の二色性色素）と、波長５００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（第２の二色性色素）とを併用することが好ましい。

本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、二色性物質が架橋性基を有していることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

本発明においては、液晶組成物に含まれる二色性物質の含有量は、光吸収異方性層の配向度および均一性のバランスが良好となる観点から、固形分比率として２〜３０質量％であることが好ましく、２〜２０質量％であることがより好ましく、５〜１８質量％であることが更に好ましく、１０〜１５質量％であることが特に好ましい。

液晶組成物は、下記式（１）で表される二色性物質（以下、「特定二色性色素化合物」とも略す。）を含有することが好ましい。

ここで、式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
また、式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（１）中、ｍは、１〜４の整数を表し、ｍが２〜４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２であることが好ましい。

上記式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」について説明する。
上記置換基としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２３７］〜［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４−メチルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニルなど）等が好適に挙げられ、アルキル基がより好適に挙げられ、炭素数１〜５のアルキル基がさらに好適に挙げられる。
一方、２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６〜１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基（以下、「チエノチアゾール基」と略す。）等が挙げられる。
上記２価の芳香族基の中でも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。

ここで、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３のうちいずれか１つが、置換基を有していてもよい２価のチエノチアゾール基であることも好ましい。なお、２価のチエノチアゾール基の置換基の具体例は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じである。
また、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３のうち、Ａ^２が２価のチエノチアゾール基であることがより好ましい。この場合には、Ａ^１およびＡ^２は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ａ^２が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ^１およびＡ^２の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ^１およびＡ^２の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。

上記式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２が表す「置換基」について説明する。
上記置換基としては、溶解性やネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、３，５−ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１５、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは２〜６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｌ^１およびＬ^２が表す置換基として好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルホニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいスルホニル基、置換基を有していてもよいウレイド基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、イミノ基、アゾ基、ハロゲン原子、および、ヘテロ環基であり、より好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、イミノ基、および、アゾ基である。

Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方は、架橋性基（重合性基）を含むことが好ましく、Ｌ^１およびＬ^２の両方に架橋性基を含むことがより好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０−２４４０３８号公報の［００４０］〜［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。

Ｌ^１およびＬ^２の好適な態様としては、上記架橋性基で置換されたアルキル基、上記架橋性基で置換されたジアルキルアミノ基、および、上記架橋性基で置換されたアルコキシ基が挙げられる。

（第２の二色性色素）
液晶組成物は、長波側で高い配向度を達成できるという観点で、下記式（２）で表される二色性物質を含有することが好ましい。

上記式（２）中、Ｃ^１およびＣ^２は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ただし、Ｃ^１およびＣ^２の少なくとも一方は、架橋性基を表す。
上記式（２）中、Ｍ^１およびＭ^２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。ただし、Ｍ^１およびＭ^２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上である。
上記式（２）中、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基および置換基を有していてもよいビフェニレン基のいずれかの基を表す。
上記式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
上記式（２）中、Ｒ^１は、水素原子または置換基を表す。
上記式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
上記式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

式（２）において、Ｃ^１およびＣ^２が表す１価の置換基について説明する。
Ｃ^１およびＣ^２が表す１価の置換基としては、アゾ化合物の溶解性またはネマチック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ｎ-オクチル基、ｎ-デシル基、ｎ-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２-ブテニル基、および、３-ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、および、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６-ジエチルフェニル基、３，５-ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１５、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは２〜６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基、および、メタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、アセチルアミノ基、および、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メシル基、および、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、および、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、および、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、および、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

式（２）において、Ｃ^１およびＣ^２の少なくとも一方は、架橋性基を表し、光吸収異方性層の耐久性がより優れるという点から、Ｃ^１およびＣ^２の両方が架橋性基であることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０−２４４０３８号公報の［００４０］〜［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。

式（２）において、Ｍ^１およびＭ^２が表す２価の連結基について説明する。
２価の連結基としては、例えば、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^Ｎ−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、アルキレン基、シクロアルキレン基、および、アルケニレン基、ならびに、これらの基を２つ以上組み合わせた基などが挙げられる。
これらの中でも、アルキレン基と、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^Ｎ−、−ＳＯ_２−および−ＳＯ−からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。なお、Ｒ^Ｎは、水素原子またはアルキル基を表す。

また、Ｍ^１およびＭ^２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上であり、７個以上であることが好ましく、１０個以上であることがより好ましい。また、主鎖の原子の数の上限値は、２０個以下であることが好ましく、１５個以下であることがより好ましい。
ここで、Ｍ^１における「主鎖」とは、式（２）における「Ｃ^１」と「Ａｒ^１」とを直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、Ｍ^２における「主鎖」とは、式（２）における「Ｃ^２」と「Ｅ」とを直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
具体的には、下記式（Ｄ７）においては、Ｍ１の主鎖の原子の数は６個（下記式（Ｄ７）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｍ２の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ７）の右側の点線枠内の原子の数）である。

本発明においては、Ｍ^１およびＭ^２の少なくとも一方が、主鎖の原子の数が４個以上の基であればよく、Ｍ^１およびＭ^２の一方の主鎖の原子の数が４個以上であれば、他方の主鎖の原子数は３個以下であってもよい。
Ｍ^１およびＭ^２の主鎖の原子の数の合計は、５〜３０個が好ましく、７〜２７個がより好ましい。主鎖の原子の数の合計が５個以上であることで、二色性物質がより重合しやすくなり、主鎖の原子の数の合計が３０個以下であることで、配向度に優れた光吸収異方性層が得られたり、二色性物質の融点が上がり耐熱性に優れた光吸収異方性層が得られたりする。

Ｍ^１およびＭ^２は、分岐鎖を有していてもよい。ここで、Ｍ^１における「分岐鎖」とは、式（２）におけるＣ^１とＡｒ^１とを直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。同様に、Ｍ^２における「分岐鎖」とは、式（２）におけるＣ^２とＥとを直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。
分岐鎖の原子の数は、３個以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３個以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。

以下にＭ^１およびＭ^２の好ましい構造を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記構造中「＊」は、Ｃ^１とＡｒ^１との連結部、または、Ｃ^２とＥとの連結部を表す。

式（２）におけるＡｒ^１およびＡｒ^２が表す、「置換基を有していてもよいフェニレン基」、「置換基を有していてもよいナフチレン基」、および、「置換基を有していてもよいビフェニレン基」について説明する。
置換基としては、特に限定されず、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、および、ウレイド基などが挙げられる。これらの置換基はさらにこれらの置換基で置換されていてもよい。これらの中でも、アルキル基が好ましく、炭素数１〜５のアルキル基がさらに好ましく、原材料の入手が容易であることおよび配向度の観点から、メチル基およびエチル基が好ましい。
Ａｒ^１およびＡｒ^２は、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基、または、置換基を有していてもよいビフェニレン基であるが、置換基を有していてもよい原材料の入手が容易であることおよび配向度の観点から、フェニレン基であることが好ましい。
式（２）において、Ａｒ^１と連結する「Ｍ^１」および「Ｎ」は、Ａｒ^１におけるパラ位に位置することが好ましい。また、Ａｒ^２と連結する「Ｅ」および「Ｎ」は、Ａｒ^１におけるパラ位に位置することが好ましい。

上記式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表し、合成適性の観点からは窒素原子であることが好ましい。
また、二色性物質を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００〜５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（２）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
一方、二色性物質を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（２）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。

上記式（２）中、Ｒ^１は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^１が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述したＡｒ^１およびＡｒ^２における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。

上記式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましい。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、エステル基、エーテル基、および、チオエーテル基等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
なお、Ｒ^２は、Ｅが窒素原子である場合に式（２）中で存在する基となる（すなわち、ｎ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ^２は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（２）中で存在しない基となる（すなわち、ｎ＝０の場合を意味する）。

上記式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

以下に、上記式（２）で表される第２の二色性色素の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（第１の二色性色素）
液晶組成物は、短波側で高い配向度を達成できるという観点で、下記式（３）で表される二色性物質を含有することが好ましい。

式（３）中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、架橋性基を表す。
式（３）中、ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１を表す。ただし、ａ＋ｂ≧１である。
式（３）中、ａ＝０の場合にはＬ_１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ_１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ_２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ_２は単結合または２価の連結基を表す。
式（３）中、Ａｒ_１は（ｎ１＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_２は（ｎ２＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_３は（ｎ３＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
式（３）中、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ｎ１≧２である場合には複数のＲ_１は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ２≧２である場合には複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ３≧２である場合には複数のＲ_３は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（３）中、ｋは、１〜４の整数を表す。ｋ≧２の場合には、複数のＡｒ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（３）中、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。ただし、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０であり、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。

式（３）において、ＡおよびＢが表す架橋性基としては、例えば、特開２０１０−２４４０３８号公報の［００４０］〜［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられる。これらの中でも、反応性および合成適性の向上の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、溶解性をより向上できるという観点から、アクリロイル基およびメタクリロイル基がより好ましい。

式（３）において、ａおよびｂはそれぞれ独立に、０または１を表すが、ａ＋ｂ≧１である。すなわち、二色性物質は、末端に少なくとも１つの架橋性基を有する。
ここで、ａおよびｂは両方が１であること、すなわち架橋性基が二色性物質の両末端に導入されていることが好ましい。これにより、二色性物質の溶解性がより向上したり、光吸収異方性層の耐久性が向上するという利点がある。

式（３）において、ａ＝０の場合にはＬ_１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ_１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ_２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ_２は単結合または２価の連結基を表す。
Ｌ_１およびＬ_２は、両方が単結合または２価の連結基であることが好ましく、両方が２価の連結基であることが好ましい。これにより、二色性物質の溶解性がより向上する。

Ｌ_１およびＬ_２が表す１価の置換基としては、二色性物質の溶解性を高めるために導入される基、または、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ｎ-オクチル基、ｎ-デシル基、ｎ-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、
アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２-ブテニル基、３-ペンテニル基などが挙げられる）、
アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６-ジエチルフェニル基、３，５-ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる）、
置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、
オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１５、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、
アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは２〜６であり、例えば、アセトキシ基およびベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えばアセチルアミノ基およびベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、
スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、
カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、
アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、
スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、
スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、
ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、
リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、
ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、
シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）、
ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、
ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、および、アゾ基、などを用いることができる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
上記置換基がさらに上記置換基によって置換された基としては、例えば、アルコキシ基がアルキル基で置換された基である、Ｒ_Ｂ−（Ｏ−Ｒ_Ａ）_ｎａ−基が挙げられる。ここで、式中、Ｒ_Ａは炭素数１〜５のアルキレン基を表し、Ｒ_Ｂは炭素数１〜５のアルキル基を表し、ｎａは１〜１０（好ましくは１〜５、より好ましくは１〜３）の整数を表す。
これらの中でも、Ｌ_１およびＬ_２が表す１価の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲ_Ｂ−（Ｏ−Ｒ_Ａ）_ｎａ−基）が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲ_Ｂ−（Ｏ−Ｒ_Ａ）_ｎａ−基）がより好ましい。

Ｌ_１およびＬ_２が表す２価の連結基としては、例えば、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ_Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ_Ｎ−、−ＮＲ_Ｎ−ＣＯ−ＮＲ_Ｎ−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、アルキレン基、シクロアルキレン基、および、アルケニレン基、ならびに、これらの基を２つ以上組み合わせた基などが挙げられる。
これらの中でも、アルキレン基と、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−および−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。
ここで、Ｒ_Ｎは、水素原子またはアルキル基を表す。Ｒ_Ｎが複数存在する場合には、複数のＲ_Ｎは互いに同一でも異なっていてもよい。

二色性物質の溶解性がより向上するという観点からは、Ｌ_１およびＬ_２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、３個以上であることが好ましく、５個以上であることがより好ましく、７個以上であることがさらに好ましく、１０個以上であることが特に好ましい。また、主鎖の原子の数の上限値は、２０個以下であることが好ましく、１２個以下であることがより好ましい。
一方で、光吸収異方性層の配向度がより向上するという観点からは、Ｌ_１およびＬ_２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、１〜５個であることが好ましい。
ここで、式（３）におけるＡが存在する場合には、Ｌ_１における「主鎖」とは、Ｌ_１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、式（３）におけるＢが存在する場合には、Ｌ_２における「主鎖」とは、Ｌ_２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
また、Ａが存在しない場合には、Ｌ_１における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ_１の原子の個数のことをいう。Ｂが存在しない場合には、Ｌ_２における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ_２の原子の個数のことをいう。
具体的には、下記式（Ｄ１）においては、Ｌ_１の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ_２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の右側の点線枠内の原子の数）である。また、下記式（Ｄ１０）においては、Ｌ_１の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ１０）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ_２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１０）の右側の点線枠内の原子の数）である。

Ｌ_１およびＬ_２は、分岐鎖を有していてもよい。
ここで、式（３）においてＡが存在する場合には、Ｌ_１における「分岐鎖」とは、式（３）におけるＬ_１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。同様に、式（３）においてＢが存在する場合には、Ｌ_２における「分岐鎖」とは、式（３）におけるＬ_２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。
また、式（３）においてＡが存在しない場合には、Ｌ_１における「分岐鎖」とは、式（３）におけるＬ_１と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。同様に、式（３）においてＢが存在しない場合には、Ｌ_２における「分岐鎖」とは、式（３）におけるＬ_２と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。
分岐鎖の原子の数は、３以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。

式（３）において、Ａｒ_１は（ｎ１＋２）価（例えば、ｎ１が１である時は３価）、Ａｒ_２は（ｎ２＋２）価（例えば、ｎ２が１である時は３価）、Ａｒ_３は（ｎ３＋２）価（例えば、ｎ３が１である時は３価）、の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。ここで、Ａｒ_１〜Ａｒ_３はそれぞれ、ｎ１〜ｎ３個の置換基（後述するＲ_１〜Ｒ_３）で置換された２価の芳香族炭化水素基または２価の複素環基と換言できる。
Ａｒ_１〜Ａｒ_３が表す２価の芳香族炭化水素基としては、単環であっても、２環以上の縮環構造を有していてもよい。２価の芳香族炭化水素基の環数は、溶解性がより向上するという観点から、１〜４が好ましく、１〜２がより好ましく、１（すなわちフェニレン基であること）がさらに好ましい。
２価の芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニレン基、アズレン−ジイル基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、溶解性がより向上するという観点から、フェニレン基およびナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基は、単環であってもよいし、２環以上の縮環構造を有していてもよい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、チアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基（本発明において、「チエノチアゾール基」という。）、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基等が挙げられる。
上記の中でも、２価の芳香族複素環基としては、単環または下記構造式で表される２環の縮環構造を有する基が好ましく用いることができる。なお、下記構造式において、「＊」は、一般式（３）におけるアゾ基または酸素原子との結合位置を示す。

式（３）において、Ａｒ_１〜Ａｒ_３は、２価の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニレン基が好ましい。
ここで、Ａｒ_１がフェニレン基である場合には、Ａｒ_１に結合する酸素原子とアゾ基とが、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することが好ましい。これにより、光吸収異方性層の配向度がより向上する。同様の観点から、Ａｒ_２がフェニレン基である場合には、Ａｒ_２に結合する２つのアゾ基が、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することが好ましい。同様に、Ａｒ_３がフェニレン基である場合には、Ａｒ_３に結合する酸素原子とアゾ基とが、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することが好ましい。

式（３）において、Ａｒ_１、Ａｒ_２およびＡｒ_３が縮環構造である場合には、縮環構造を構成する複数の環がいずれも、式（３）で表される構造の長手方向に沿って連結していることが好ましい。これにより、二色性物質の分子が長手方向と交差する方向（短手方向）に嵩高くなることを抑制できるので、分子の配向性が良好となり、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
ここで、式（３）で表される構造の長手方向とは、式（３）で表される構造の延びる方向のことをいい、具体的には、Ａｒ_１、Ａｒ_２およびＡｒ_３に結合するアゾ基の結合手およびエーテル結合（酸素原子）の結合手が延びる方向のことをいう。
縮環構造を構成する複数の環の全てが式（３）で表される構造の長手方向に沿って連結している態様の具体例として、式（Ａｒ−１）で表される縮環構造を以下に示す。すなわち、Ａｒ_１、Ａｒ_２およびＡｒ_３が縮環構造である場合には、以下の式（Ａ−１）で表される縮環構造を有していることが好ましい。

上記式（Ａｒ−１）において、Ａｒ_Ｘ、Ａｒ_ＹおよびＡｒ_Ｚは、それぞれ独立に、ベンゼン環または単環の複素環を表す。ｎは、０以上の整数を表す。＊は、一般式（３）におけるアゾ基または酸素原子との結合位置を表す。
上記式（Ａｒ−１）における単環の複素環としては、単環の芳香族複素環が好ましい。単環の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。単環の芳香族複素環としては、具体的には、ピリジン環、チオフェン環、チアゾール環およびオキサゾール環等が挙げられる。
また、Ａｒ_Ｘ、Ａｒ_ＹおよびＡｒ_Ｚは、置換基を有していてもよい。このような置換基としては、後述するＲ_１〜Ｒ_３における１価の置換基が挙げられる。
ｎは、０以上の整数を表すが、０〜２が好ましく、０〜１がより好ましく、０がさらに好ましい。

式（３）において、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。
Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３が表す１価の置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、フッ化アルキル基、−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｍ−Ｒ’、−Ｏ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）ｍ−Ｒ’、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、または、ウレイド基が好ましい。ここで、Ｒ’は水素原子、メチル基またはエチル基を表し、ｍは１〜６の整数を表す。これらの置換基は、さらにこれらの置換基で置換されていてもよい。
これらの中でも、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３が表す１価の置換基は、二色性物質の溶解性がより向上するという観点から、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｍ−Ｒ’、または、−Ｏ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）ｍ−Ｒ’が好ましく、トリフルオロメチル基、メトキシ基、ヒドロキシ基、−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｍ−Ｒ’、または、−Ｏ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）ｍ−Ｒ’がより好ましい。
Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３が表す１価の置換基において、主鎖の原子の数は、二色性物質の溶解性および光吸収異方性層の配向性のバランスの観点から、１〜１５が好ましく、１〜１２がより好ましい。ここで、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３が表す１価の置換基において、「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＲ_１、Ｒ_２またはＲ_３の原子の個数のことをいう。また、「分岐鎖」とは、式（３）におけるＡｒ_１〜Ａｒ_３のいずれかを起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。

上記式（３）がＲ_１、Ｒ_２およびＲ_３から選択される少なくとも１つ以上の置換基を有する場合において、下記条件（Ｒ１）〜条件（Ｒ３）から選択される少なくとも１つの条件を満たすことが好ましい。これにより、二色性物質の溶解性がより向上する。
条件（Ｒ１）：Ａｒ_１において、少なくとも１つのＲ_１と、アゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ２）：Ａｒ_２において、少なくとも１つのＲ_２と、少なくとも１つのアゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ３）：Ａｒ_３において、少なくとも１つのＲ_３と、アゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ１）の具体例としては、Ａｒ_１がフェニレン基である場合に、Ａｒ_１に結合するアゾ基に対するオルト位にＲ_１が位置する態様が挙げられる。条件（Ｒ２）の具体例としては、Ａｒ_２がフェニレン基である場合に、少なくとも１つのアゾ基に対するオルト位にＲ_２が位置する態様が挙げられる。条件（Ｒ３）の具体例としては、Ａｒ_３がフェニレン基である場合において、Ａｒ_３に結合するアゾ基に対するオルト位にＲ_３が位置する態様が挙げられる。

式（３）において、ｋは１〜４の整数を表す。ここで、優れた溶解性を担保しつつ、耐光性にも優れるという観点からはｋが２以上であることが好ましい。一方で、二色性物質の溶解性により優れるという観点からは、ｋが１であることが好ましい。

式（３）において、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０〜４の整数を表すが、０〜３が好ましい。
ここで、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０である。すなわち、式（３）がビスアゾ構造を有する場合には、置換基（式（３）のＲ_１〜Ｒ_３）の有無に関わらず、十分な溶解性が得られるが、溶解性をより向上する観点からは置換基を有していることが好ましい。
ｋ＝１の場合には、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３は、０〜９が好ましく、１〜９がより好ましく、１〜５がさらに好ましい。
一方で、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。すなわち、式（３）がトリスアゾ構造、テトラキスアゾ構造、またはペンタキスアゾ構造を有する場合には、置換基（式（３）のＲ_１〜Ｒ_３）を少なくとも１つ有する。
ｋ≧２の場合には、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３は、１〜９が好ましく、１〜５がより好ましい。

以下に、上記式（３）で表される第１の二色性色素の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例中、ｎは、１〜１０の整数を表す。

本発明において、二色性物質とは、方向によって吸光度が異なる物質を意味する。
二色性物質は、液晶性を示してもよいし、液晶性を示さなくてもよい。
二色性物質が液晶性を示す場合には、ネマチック性またはスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶相を示す温度範囲は、室温（約２０℃〜２８℃）〜３００℃が好ましく、取扱い性および製造適性の観点から、５０℃〜２００℃であることがより好ましい。

液晶組成物は、二色性物質を１種単独で含有していてもよいし、２種以上含有していてもよい。

＜液晶性化合物＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、液晶性化合物を含有する。液晶性化合物を含むことで、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質を高い配向度で配向させることができる。
本発明における液晶性化合物とは、二色性を示さない液晶性化合物である。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶性化合物を含有する場合において、液晶性化合物の含有量は、固形分比率として、７５〜９５質量部が好ましく、７５〜９０質量部がより好ましく、８０〜９０質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。

（低分子液晶性化合物）
低分子液晶性化合物としては、下記式（４）で表されるものが好ましい。
Ｕ１−Ｖ１−Ｗ１−Ｘ１−Ｙ１−Ｘ２−Ｙ２−Ｘ３−Ｗ２−Ｖ２−Ｕ２ （４）
ここで、上記式（４）中、
Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基である。シクロへキサン−１，４−ジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ−に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基を表す。
Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、単結合、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−またはＣＲａ＝Ｎ−を表す。ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｕ１は、水素原子または重合性基を表す。
Ｕ２は、重合性基を表す。
Ｗ１およびＷ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−を表す。
Ｖ１およびＶ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表し、アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−に置き換わっていてもよい。

Ｘ１、Ｘ２およびＸ３のうち少なくとも２つが、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であると好ましい。

置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基は、無置換であることが好ましい。置換基を有していてもよいシクロへキサン−１，４−ジイル基は、置換基を有していてもよいトランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基であることが好ましく、置換基を有していてもよいトランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基は無置換であることが好ましい。

置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロへキサン−１，４−ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基、ブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基、シアノ基およびハロゲン原子が挙げられる。

Ｙ１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−または単結合であることが好ましく、Ｙ２は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−またはＣＨ_２Ｏ−であることが好ましい。

Ｕ２は、重合性基である。Ｕ１は、水素原子または重合性基であり、好ましくは重合性基である。Ｕ１およびＵ２がともに重合性基であることが好ましく、ともに光重合性基であることが好ましい。”光重合性基”とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことを意味する。

Ｕ１で示される光重合性基とＵ２で示される重合性基とは、互いに異なっていてもよいが、同じ種類の基であることが好ましい。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ｖ１およびＶ２で表されるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、テトラデカン−１，１４−ジイル基およびイコサン−１，２０−ジイル基が挙げられる。Ｖ１およびＶ２は、好ましくは炭素数２〜１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数６〜１２のアルカンジイル基である。

アルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基およびハロゲン原子が挙げられるが、アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換且つ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。

Ｗ１およびＷ２は、互いに独立に、好ましくは単結合またはＯ−である。

低分子液晶性化合物の具体例としては、式（Ｂ−１）〜式（Ｂ−２５）で表される化合物が挙げられる。低分子液晶性化合物がシクロヘキサン−１，４−ジイル基を有する場合、そのシクロヘキサン−１，４−ジイル基は、トランス体であることが好ましい。

中でも、式（Ｂ−２）、式（Ｂ−３）、式（Ｂ−４）、式（Ｂ−５）、式（Ｂ−６）、式（Ｂ−７）、式（Ｂ−８）、式（Ｂ−１３）、式（Ｂ−１４）、式（Ｂ−１５）、式（Ｂ−１６）および式（Ｂ−１７）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。

例示した低分子液晶性化合物は、単独又は組み合わせて、使用することができる。また、２種以上の低分子液晶性化合物を組み合わせる場合には、少なくとも１種が低分子液晶性化合物であると好ましく、２種以上が低分子液晶性化合物であるとより好ましい。組み合わせることにより、液晶−結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。２種類の低分子液晶性化合物を組み合わせる場合の混合比としては、通常、１：９９〜５０：５０であり、好ましくは５：９５〜５０：５０であり、より好ましくは１０：９０〜５０：５０である。

低分子液晶性化合物が示す液晶状態は、スメクチック相であることが好ましく、配向秩序度のより高い偏光層を製造することができるという点で、高次スメクチック相であることがより好ましい。”高次スメクチック相”とは、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相およびスメクチックＬ相を意味し、中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相およびスメクチックＩ相がより好ましい。配向秩序度の高い偏光層は、Ｘ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られる。”ブラッグピーク”とは、分子配向の面周期構造に由来するピークを意味し、周期間隔が３．０〜５．０Åである偏光層が好ましい。

低分子液晶性化合物は、例えば、Ｌｕｂ eｔ aｌ. Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，１１５, ３２１−３２８（１９９６）、又は特許第４７１９１５６号などに記載の公知方法で製造される。

（高分子液晶性化合物）
高分子液晶性化合物としては、後述する式（５）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶化合物を含有することが好ましい。後述する式（５）において、Ｐ１（以下、「主鎖」ともいう。）、Ｌ１、およびＳＰ１（以下、「スペーサー基」ともいう。）のｌｏｇＰ値と、Ｍ１（以下、「メソゲン基」ともいう。）のｌｏｇＰ値との差が、４以上である。
上記高分子液晶性化合物を用いることで、配向度の高い光吸収異方性層を形成できる。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標である。後述する式（５）で表される繰り返し単位は、主鎖、Ｌ１およびスペーサー基のｌｏｇＰ値と、メソゲン基のｌｏｇ値と、が所定値以上離れているので、主鎖からスペーサー基までの構造とメソゲン基との相溶性が低い状態にある。これにより、高分子液晶化合物の結晶性が高くなり、高分子液晶化合物の配向度が高い状態にあると推測される。このように、高分子液晶化合物の配向度が高いと、高分子液晶化合物と二色性物質との相溶性が低下して（すなわち、二色性物質の結晶性が向上する）、二色性物質の配向度が向上すると推測される。その結果、得られる光吸収異方性層の配向度が高くなると考えられる。

本発明において好ましい高分子液晶化合物は、下記式（５）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（５）」ともいう。）を含む。また、繰り返し単位（５）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が４以上である。

式（５）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。

Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１−Ａ）で表される基が好ましい。

式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）において、「＊」は、式（５）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１−Ａ）において、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表す。式（Ｐ１−Ｄ）において、Ｒ^２はアルキル基を表す。
式（Ｐ１−Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｂ）で表される基は、エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｃ）で表される基は、プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｄ）で表される基は、シラノールの縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、シラノールは、式Ｓｉ（Ｒ^２）_３（ＯＨ）で表される化合物である。式中、複数のＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ^２の少なくとも１つはアルキル基を表す。

Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（Ｏ）−、−ＳＯ_２−、および、−ＮＲ^３Ｒ^４−などが挙げられる。式中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ｂ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。

ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊−（ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１〜２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊−（ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１〜３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊−（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−Ｏ）_ｎ３−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊−（ＣＦ_２−ＣＦ_２）_ｎ４−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁〜第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。

メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点から、下記式（Ｍ１−Ａ）または下記式（Ｍ１−Ｂ）で表される基が好ましい。

式（Ｍ１−Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基またはアルコキシ基などの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４〜６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、ピリダジン−ジイル基、イミダゾール−ジイル基、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、オキサゾール−ジイル基、チアゾール−ジイル基、オキサジアゾール−ジイル基、ベンゾチアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基、チアゾロチアゾール−ジイル基、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基などが挙げられる。

Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

式（Ｍ１−Ａ）中、ａ１は１〜１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

式（Ｍ１−Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１−Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２は１〜１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。

式（Ｍ１−Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ｇ−、−（ＣＦ_２）_ｇ−、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−、−（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ−、−（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ−（ｇは１〜１０の整数を表す。）、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）_２−Ｃ（Ｚ’）_２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、および、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−などが挙げられる。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
なお、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、−Ｎ＝Ｎ−は黄色の着色あるため好ましくなく、本特許には含まれない。

Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基、炭素数１〜１０のオキシカルボニル基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数１〜１０のアシルアミノ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルホニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルファモイル基、炭素数１〜１０のカルバモイル基、炭素数１〜１０のスルフィニル基、および、炭素数１〜１０のウレイド基などが挙げられる。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０−２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０がさらに好ましく、１〜７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ−ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ−ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

繰り返し単位（５）の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０〜１００質量％が好ましく、３０〜９９．９質量％がより好ましく、４０〜９９．０質量％がさらに好ましい。
本発明において、高分子液晶化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（５）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶化合物が繰り返し単位（５）を２種以上含むと、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（５）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

繰り返し単位（５）を２種以上含む場合には、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（５）と、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（５）と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性層の硬化性がより向上する。
この場合、高分子液晶化合物中における、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（５）に対する、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（５）の割合（Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（５）／Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（５））が、質量比で０．００５〜４が好ましく、０．０１〜２．４がより好ましい。質量比が４以下であると、配向度に優れるという利点がある。質量比が０．０５以上であると、光吸収異方性層の硬化性がより向上する。

（ｌｏｇＰ値）
式（５）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_１」ともいう。）と、Ｍ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_２」ともいう。）との差（｜ｌｏｇＰ_１−ｌｏｇＰ_２｜）が４以上であり、光吸収異方性層の配向度がより向上する観点から、４．２５以上が好ましく、４．５以上がより好ましい。
また、上記差の上限値は、液晶相転移温度の調整および合成適性という観点から、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。

上記ｌｏｇＰ_１は、上述したように、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値を意味する。「Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値」とは、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１を一体とした構造のｌｏｇＰ値を意味しており、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のそれぞれのｌｏｇＰ値を合計したものではない、具体的には、ｌｏｇＰ_１は、式（５）におけるＰ１〜ＳＰ１までの一連の構造式を上記ソフトウェアに入力することで算出される。
ただし、ｌｏｇＰ_１の算出にあたって、Ｐ１〜ＳＰ１までの一連の構造式のうち、Ｐ１で表される基の部分に関しては、Ｐ１で表される基そのものの構造（例えば、上述した式（Ｐ１−Ａ）〜式（Ｐ１−Ｄ）など）を用いてもよいし、式（５）で表される繰り返し単位を得るために使用する単量体を重合した後にＰ１になりうる基の構造を用いてもよい。
ここで、後者（Ｐ１になりうる基）の具体例は、次の通りである。Ｐ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られる場合には、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）−で表される基（Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表す。）である。また、Ｐ１がエチレングリコールの重合によって得られる場合にはエチレングリコールであり、Ｐ１がプロピレングリコールの重合により得られる場合にはプロピレングリコールである。また、Ｐ１がシラノールの重縮合により得られる場合にはシラノール（式Ｓｉ（Ｒ^２）_３（ＯＨ）で表される化合物。複数のＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ^２の少なくとも１つはアルキル基を表す。）である。

ｌｏｇＰ_１は、上述したｌｏｇＰ_２との差が４以上であれば、ｌｏｇＰ_２よりも低くてもよいし、ｌｏｇＰ_２よりも高くてもよい。
ここで、一般的なメソゲン基のｌｏｇＰ値（上述したｌｏｇＰ_２）は、４〜６の範囲内になる傾向がある。このとき、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、１以下が好ましく、０以下がより好ましい。一方で、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、８以上が好ましく、９以上がより好ましい。
上記式（５）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、上記式（５）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましい。一方、上記式（５）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、上記式（５）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、３．７以上が好ましく、４．２以上がより好ましい。
なお、ｌｏｇＰ値が１以下の構造としては、例えば、オキシエチレン構造およびオキシプロピレン構造などが挙げられる。ｌｏｇＰ値が６以上の構造としては、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造などが挙げられる。

高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００〜５０００００が好ましく、３０００〜１０００００がより好ましく、５０００〜５００００がさらに好ましい。高分子液晶化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００〜１０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５００００未満が好ましく、３０００以上５００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ−メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３〜１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

高分子液晶化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）〜４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０℃〜４００℃であることが好ましい。

＜界面改良剤＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度の向上や、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２５３］〜［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
液晶組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部が好ましい。

＜重合開始剤＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報および特開平１０−２９９９７号公報）等が挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９およびイルガキュアＯＸＥ−０１等が挙げられる。
液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１〜３０質量部が好ましく、０．１〜１５質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性層の硬化性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性層の配向が良好となる。

＜溶媒＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２−ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。
液晶組成物が溶媒を含有する場合において、溶媒の含有量は、液晶組成物の全質量に対して、８０〜９９質量％であることが好ましく、８３〜９７質量％であることがより好ましく、８５〜９５質量％であることが更に好ましい。

＜形成方法＞
上述した液晶組成物を用いた光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上記液晶組成物を透明支持体上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

（塗布膜形成工程）
塗布膜形成工程は、液晶組成物を透明支持体上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、透明支持体上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
なお、本態様では、液晶組成物が透明支持体上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、透明支持体上に設けられた配向層上に液晶組成物を塗布してもよい。配向層の詳細については後述する。

（配向工程）
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性層）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性層として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１〜３００秒が好ましく、１〜６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０〜２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性層を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

（他の工程）
光吸収異方性層の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性層に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５〜１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

本発明においては、光吸収異方性層の厚みは特に限定されず、０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．３〜１．５μｍであることがより好ましい。

〔別の酸素遮断層〕
本発明の光学積層体は、耐光性を向上させる目的で、上述した光吸収異方性層の光配向層とは反対側に、上述した酸素遮断層とは異なる別の酸素遮断層を有していてもよい。
ここで、上述した酸素遮断層とは異なる別の「酸素遮断層」とは、酸素遮断機能のある酸素遮断膜であり、具体例としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、セルロースエーテル、ポリアミド、ポリイミド、スチレン／マレイン酸共重合体、ゼラチン、塩化ビニリデン、および、セルロースナノファイバー、などの有機化合物を含む層が挙げられる。

なお、本明細書において酸素遮断機能とは、酸素を全く通さない状態に限らず、目的の性能に応じて若干酸素を通す状態も含む。

また、金属化合物からなる薄層（金属化合物薄層）も挙げられる。金属化合物薄層の形成方法は、目的の薄層を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２−３２２５６１号、特開２００２−３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。

金属化合物薄層に含まれる成分は、酸素遮断機能を発揮できるものであれば特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、またはＴａ等から選ばれる１種以上の金属を含む酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物などを用いることができる。これらの中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＺｎおよびＴｉから選ばれる金属の酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましく、特に、Ｓｉ、Ａｌ、ＳｎおよびＴｉから選ばれる金属酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。

また酸素遮断層は、例えば米国特許第６４１３６４５号公報、特開２０１５−２２６９９５号公報、特開２０１３−２０２９７１号公報、特開２００３−３３５８８０号公報、特公昭５３−１２９５３号公報、特開昭５８−２１７３４４号公報、に記載されているように、上記の有機素材を含む層と金属化合物薄層の積層した形態であってもよいし、国際公開２０１１／１１８３６号公報、特開２０１３−２４８８３２号公報、特許第３８５５００４号公報、に記載されているように、有機化合物と無機化合物とをハイブリッドした層であってもよい。

本発明の積層体が後述するλ／４板を有し、λ／４板が支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムである場合、上記酸素遮断層がλ／４機能を有する光学異方性層の配向膜を兼ねてもよい。そのような場合、ポリビニルアルコール、ポリアミド、またはポリイミドを含む酸素遮断層であることが好ましい。

酸素遮断層の膜厚は、有機化合物を含む層の場合は、０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜５．５μｍがより好ましい。金属化合物薄層の場合は、酸素遮断層の膜厚は、５ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍがより好ましい。

〔粘着層〕
本発明の光学積層体は、上述した光吸収異方性層の光配向層とは反対側、または、上述した別の酸素遮断層を有する場合には、上述した別の酸素遮断層の光吸収異方性層側とは反対側に、他の機能層（例えば、後述するλ／４板など）を貼合する観点から、粘着層を有していてもよい。

粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。

粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０〜４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。

また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。

本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ〜５０μｍであることが好ましく、４μｍ〜４０μｍであることがより好ましく、５μｍ〜３０μｍであることが更に好ましい。

〔λ／４板〕
本発明の光学積層体は、上述した粘着層の光吸収異方性層または別の酸素遮断層側とは反対側にλ／４板を有していてもよい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
λ／４板の具体例としては、例えば米国特許出願公開２０１５／０２７７００６号などが挙げられる。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムは、ネマチック液晶層またはスメクチック液晶層を発現する液晶モノマーを重合して形成した液晶化合物（円盤状液晶、棒状液晶化合物など）の少なくともひとつを含む１層以上の位相差フィルムであることがより好ましい。
また、光学性能に優れたλ／４板として、逆波長分散性の液晶化合物を用いることもさらに好ましい。具体的には、国際公開番号ＷＯ２０１７／０４３４３８に記載の一般式（ＩＩ）の液晶化合物が好ましく用いられる。逆波長分散性の液晶化合物を用いたλ／４板の作製方法についても、ＷＯ２０１７／０４３４３８の実施例１〜１０や特開２０１６−９１０２２の実施例１の記載を参考にできる。

〔透明支持体〕
本発明の光学積層体を製造する際には、透明支持体上に塗布することが好ましい。透明支持体を形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；などが挙げられる。

また、透明支持体を形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることができる。このような熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等が挙げられる。
また、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に代表される、セルロース系ポリマーも好ましく用いることができる。

本発明においては、透明支持体の厚みは特に限定されず、１００μｍ以下であることが好ましく、８０μｍ以下であることがより好ましく、１０〜８０μｍであることが更に好ましい。

最終使用形態においては、透明支持体と透明酸素遮断層の界面で剥離して用いることも好ましい。さらに使用用途に応じて、耐湿性、耐熱性、耐折り曲げ性等の機能に合わせたフィルムを選択し、粘着剤等で張り合わせて用いることも好ましい。

〔用途〕
本発明の光学積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の光学積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、光学積層体は直線偏光板として使用できる。一方、本発明の光学積層体が上記λ／４板を有する場合には、光学積層体は円偏光板として使用できる。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の光学積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の光学積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光学積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の光学積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の光学積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の光学積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、光学積層体は、視認側から、透明支持体、必要に応じて設けられる配向層、光吸収異方性層、透明樹脂層、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［作製例１〜２５］
＜酸素遮断層形成用組成液Ａ１〜Ａ７の調製＞
下記の組成にて、酸素遮断層形成用組成液Ａ１を調製し、攪拌しながら９５℃で１時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成液Ａ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＰＶＡ１０３（クラレ社製ポリビニルアルコール） ２．０質量部
・純水 ７０．０質量部
・イソプロピルアルコール ２０．０質量部
・メタノール ８．０質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．０６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

また、下記表１に示すようにＰＶＡを変更した酸素遮断層形成用組成液Ａ２〜Ａ７も調製した。なお、酸素遮断層形成用組成液Ａ１〜Ａ７に含まれるＰＶＡの鹸化度は、下記表１に示す通りである。

なお、上記表１中、変性ＰＶＡ１および変性ＰＶＡ２は、それぞれ、ＰＶＡ１０３およびＰＶＡ２０３を原料として用い、特開平９−１５２５０９に記載の方法にて合成した。構造を以下に示す。

変性ＰＶＡ１

変性ＰＶＡ２

＜光配向層形成用組成液Ｅ１〜Ｅ３の調製＞
下記の組成にて、光配向層形成用組成液Ｅ１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成液Ｅ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光配向材料Ｅ−１ ０．３質量部
・２−ブトキシエタノール ４１．６質量部
・ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ４１．６質量部
・純水 １６．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

光配向材料Ｅ−１

また、光配向材料Ｅ−１を、下記光配向材料Ｅ−２に変更した光配向層形成用組成液Ｅ２も調製した。

光配向材料Ｅ−２

更に、下記の組成にて、光配向層形成用組成液Ｅ３を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成液Ｅ３
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光配向材料Ｅ−３ ２．０質量部
・１，１，２−トリクロロエタン ９８．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

光配向材料Ｅ−３（平均分子量；４８０００）

＜光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１〜Ｐ１０の調製＞
下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ２．１質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ ９．３質量部
・下記液晶性化合物Ｍ１ ７２．２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・下記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

二色性アゾ色素化合物Ｄ１

二色性アゾ色素化合物Ｄ２

液晶性化合物Ｍ１（平均分子量１４０００）

界面改良剤Ｆ−１

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ２を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ２
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ３ ２．１質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ４ ９．３質量部
・下記液晶性化合物Ｍ２ ７２．２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

二色性アゾ色素化合物Ｄ３

二色性アゾ色素化合物Ｄ４

液晶性化合物Ｍ２（平均分子量１５０００）

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ３を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ３
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ２．１質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ５ ９．３質量部
・上記液晶性化合物Ｍ１ ７２．２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

二色性アゾ色素化合物Ｄ５

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ４を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ４
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ２．１質量部
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ ９．３質量部
・下記液晶性化合物Ｍ３ ７２．２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶性化合物Ｍ３（平均分子量１９０００）

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ５を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ５
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ６ ２．７質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ７ ２．７質量部
・下記二色性アゾ色素化合物Ｄ８ ２．７質量部
・上記液晶性化合物Ｍ１ ７５．５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

二色性アゾ色素化合物Ｄ６

二色性アゾ色素化合物Ｄ７

二色性アゾ色素化合物Ｄ８

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ６を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ６
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ６ ２．７質量部
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ７ ２．７質量部
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ８ ２．７質量部
・下記液晶性化合物Ｍ４ ７５．５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶化合物Ｍ４（化合物Ａ／化合物Ｂ＝７５／２５で混合）

（化合物Ａ）

（化合物Ｂ）

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ７を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ７
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ２．１質量部
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ ９．３質量部
・上記液晶性化合物Ｍ４ ７２．２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ８を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ８
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ２．８０質量部
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ １２．５０質量部
・下記液晶性化合物Ｍ５ ６８．３０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８０質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６０質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶性化合物Ｍ５

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ９を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ９
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ３．６０質量部
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ １５．９０質量部
・上記液晶性化合物Ｍ５ ６４．１０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８０質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６０質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１０を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成液Ｐ１０
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ１ ４．４０質量部
・上記二色性アゾ色素化合物Ｄ２ １９．４０質量部
・上記液晶性化合物Ｍ５ ５９．８０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８０質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．６０質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜作製例１の光学積層体１の作製＞
（酸素遮断層の作製）
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）の表面に鹸化処理を行った上に、上記で調製した酸素遮断層形成用組成液Ａ１をワイヤーバーで塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み０．８μｍの酸素遮断層が形成された透明支持体１が得られた。

（光配向層の作製）
上記で調製した光配向層用塗布液Ｅ１を透明支持体１上に塗布し、６０℃で２分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、厚み０．０３μｍの光配向層１を作製した。

（光吸収異方性層の形成）
得られた光配向層１上に、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで塗布した。
次いで、１４０℃で９０秒間加熱し、室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、厚み０．６μｍの光吸収異方性層を形成し、作製例１の光学積層体１が作製できた。

＜作製例２〜１８の光学積層体２〜１８の作製＞
酸素遮断層形成用組成液、光配向層形成用組成液、および、光吸収異方性層形成用組成液を下記表２に示すように変更した以外は、作製例１と同様にして、作製例２〜１８の光学積層体を作製した。

＜作製例１９の光学積層体１９の作製＞
（酸素遮断層の作製）
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）の表面に鹸化処理を行った上に、上記で調製した酸素遮断層形成用組成液Ａ１をワイヤーバーで塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み０．８μｍの酸素遮断層が形成された透明支持体１９が得られた。

（光配向層の作製）
上記で調製した光配向層用塗布液Ｅ１を透明支持体１９上に塗布し、６０℃で２分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、厚み０．０３μｍの光配向層１９を作製した。

（光吸収異方性層の形成）
得られた光配向層１９上に、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ６を＃４のワイヤーバーで塗布した。
次いで、１２０℃で６０秒間加熱し、室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、厚み０．６μｍの光吸収異方性層を形成し、作製例１９の光学積層体１９が作製できた。

＜作製例２０〜２２の光学積層体２０〜２２の作製＞
酸素遮断層形成用組成液、光配向層形成用組成液、および、光吸収異方性層形成用組成液を下記表２に示すように変更した以外は、作製例１９と同様にして、作製例２０〜２２の光学積層体を作製した。

＜作製例２３〜２５の光学積層体２３〜２５の作製＞
酸素遮断層形成用組成液、光配向層形成用組成液、および、光吸収異方性層形成用組成液を下記表２に示すように変更した以外は、作製例１と同様にして、作製例２〜１８の光学積層体を作製した。

＜配向度の評価＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各光吸収異方性層をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００〜７００ｎｍの波長域における光吸収異方性層の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。結果を下記表２に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）−１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光吸収異方性層の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光吸収異方性層の偏光軸方向の偏光に対する吸光度

評価基準
Ａ：配向度０．９５以上
Ｂ：配向度０．９０以上０．９５未満
Ｃ：配向度０．８５以上０．９０未満
Ｄ：配向度０．８５未満

表２に示す結果から、鹸化度９５％以上の高鹸化ＰＶＡ層に、重合性基を有さない、分子量１０００以下の光活性化合物を含有する光配向層を積層させた光学積層体は、いずれも、配向度が高くなることが分かった。

［作製例２６〜３３］
作製例１、３、１３、１４、１７、１９、２２および２５と同様にして作製した光学積層体を、真空成膜装置内に設置し、下記条件にてプラズマＣＶＤ法により、光吸収異方性層の表面上に、厚さ２０ｎｍのＳｉＯｘＣｙで表される酸化珪素からなる酸素遮断層を形成し、光吸収異方性層上に別の酸素遮断層が形成された光学積層体２６〜３３を作製した。
使用ガス：ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）５ｓｃｃｍ／酸素５０ｓｃｃｍの混合ガス
印加周波数：１３．５６ＭＨｚ
印加電力：０．５ｋＷ

＜耐光性の評価＞
上記作製した光学積層体２６〜３３の支持体側から、スーパーキセノンウェザーメーター“ＳＸ−７５”（スガ試験機社製、６０℃、５０％ＲＨ条件）にて、キセノン光を１５０Ｗ／ｍ^２（３００−４００ｎｍ）で３００時間照射した。所定時間の経過後、積層体の配向度の変化を測定した。作製例２６〜３３で作製した、光吸収異方性膜上に酸素遮断層が形成された積層体は、作製例１〜２５で作製した積層体に比べて、配向度の低下が抑えられていた。

［作製例３４〜４９］
〔λ／４位相差フィルム１の作製〕
＜光配向層形成用組成物１の調製＞
（重合体Ｊ−１の合成）
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、^１Ｈ−ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ−５３００」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｊ−１）を含む溶液を得た。この重合体Ｊ−１の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、^１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｊ−１中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。

重合体Ｊ−１

（光配向層形成用組成物１の調製）
以下の成分を混合して、光配向層形成用組成物１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体Ｊ−１ １０．６７質量部
・下記低分子化合物Ｒ−１ ５．１７質量部
・下記添加剤（Ｂ−１） ０．５３質量部
・酢酸ブチル ８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

低分子化合物Ｒ−１

添加剤（Ｂ−１）：サンアプロ社製ＴＡ−６０Ｂ（以下、構造式参照）

＜光配向層形成用組成物２の調製＞
以下の成分を混合して、光配向層形成用組成物２を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物２
――――――――――――――――――――――――――――――――
・光配向材料Ｅ−４（下記） ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

光配向材料Ｅ−４（平均分子量：５１０００）

＜光学異方性層用塗布液１の調製＞
下記組成の光学異方性層用塗布液１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・下記低分子化合物Ｂ−２ ６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｇ−１ ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

＜光学異方性層用塗布液２の調製＞
下記組成の光学異方性層用塗布液２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−５ ２４．０質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−６ ６．０質量部
・重合開始剤イルガキュア３６９（ＢＡＳＦジャパン製） １．０質量部
・重合開始剤ＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦジャパン製） ０．９質量部
・重合開始剤アデカクルーズＮＣＩ−８３１（アデカ製） ０．９質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．２質量部
・Ｎ−メチル−２−ピロリドン ２５．０質量部
・シクロペンタノン ４２．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
─────────────────────────────────

化合物Ｆ

（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────

（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

＜λ／４位相差フィルム１の作製＞
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向層用組成物１をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層を形成した。
次いで、光配向層上に、先に調製した光学異方性層用塗布液１をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、λ／４位相差フィルム１を作製した。得られたλ／４位相差フィルム１の面内レターデーションは１４０ｎｍであった。

〔λ／４位相差フィルム２の作製〕
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向層用組成物２をバーコーターで塗布した。
塗布後、８０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（９０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層を形成した。
次いで、光配向層上に、先に調製した光学異方性層用塗布液２をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１２０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（８００ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、λ／４位相差フィルム２を作製した。得られたλ／４位相差フィルム２の面内レターデーションは１４３ｎｍであった。

〔ポジティブＣプレート膜２の作製〕
仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
─────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
─────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ−１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
─────────────────────────────────

上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２を用い、下記の組成の配向層形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向層を形成した。
─────────────────────────────────
配向層形成用塗布液の組成
─────────────────────────────────
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
─────────────────────────────────

上記で作製した配向層を有するセルロースアシレートフィルム２上に、下記塗布液Ｎを塗布し、６０℃６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶性化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート膜１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。

─────────────────────────────────
光学異方性膜用塗布液Ｎの組成
─────────────────────────────────
下記液晶性化合物Ｌ−１ ８０質量部
下記液晶性化合物Ｌ−２ ２０質量部
下記垂直配液晶性化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────

＜円偏光板の作製＞
λ／４位相差フィルム１の光学異方性層側に、粘着剤を介して上記で作製したポジティブＣプレート膜２の光学異方性層側を貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム２および配向層を除去した。さらに、λ／４位相差フィルム側に粘着剤を介して作製例２６〜３３で作製した光学積層体２６〜３３を貼り合わせて円偏光板３４〜４１を得た。通常の円偏光板（約１１０μｍ）に比べて非常に薄い円偏光板（約５０μｍ）が得られた。
また、λ／４位相差フィルム２の光学異方性層側に、粘着剤を介して上記で作製したポジティブＣプレート膜２の光学異方性層側を貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム２および配向層を除去した。さらに、λ／４位相差フィルム側に粘着剤を介して作製例２６〜３３で作製した光学積層体２６〜３３を貼り合わせて円偏光板４２〜４９を得た。

有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した円偏光板３４〜４９をポジティブＣプレート側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。

作製した有機ＥＬ表示装置について、λ／４板として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を用いた場合と同様の評価を行ったところ、λ／４板として、λ／４位相差フィルム１とポジティブＣプレート膜２の光学積層体を用いた場合でも同様の効果が発揮されることを確認した。

１０、２０、３０ 光学積層体
１２ 酸素遮断層
１４ 光配向層
１６ 光吸収異方性層
１８ 別の酸素遮断層

Claims (11)

1. 酸素遮断層、光配向層および光吸収異方性層をこの順に有する光学積層体であって、
   前記酸素遮断層が、鹸化度９５％以上のポリビニルアルコールまたは鹸化度９５％以上の変性ポリビニルアルコールを５０質量％以上含有する層であり、
   前記光配向層が、光活性化合物を含有する光配向層であり、
   前記光活性化合物が、重合性基を有さない、分子量１０００以下の低分子化合物であり、
   前記光吸収異方性層が、二色性物質を含有する層である、光学積層体。
2. 前記光活性化合物が、光活性基としてアゾ基を有する、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記光吸収異方性層が、前記二色性物質および液晶性化合物を含有する液晶組成物を用いて形成される層であり、
   前記液晶組成物に含まれる前記二色性物質の固形分割合が２〜３０質量％である、請求項１または２に記載の光学積層体。
4. 前記液晶組成物が、下記式（１）で表される二色性物質を含有する、請求項３に記載の光学積層体。
   
   ここで、前記式（１）中、
   Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
   Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
   ｍは、１〜４の整数を表し、ｍが２〜４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。
5. 前記液晶組成物が、下記式（２）で表される二色性物質を含有する、請求項３または４に記載の光学積層体。
   
   ここで、前記式（２）中、
   Ｃ^１およびＣ^２は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ただし、Ｃ^１およびＣ^２の少なくとも一方は、架橋性基を表す。
   Ｍ^１およびＭ^２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。ただし、Ｍ^１およびＭ^２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上である。
   Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基および置換基を有していてもよいビフェニレン基のいずれかの基を表す。
   Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
   Ｒ^１は、水素原子または置換基を表す。
   Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
   ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
6. 前記液晶組成物が、下記式（３）で表される二色性物質を含有する、請求項３〜５のいずれか１項に記載の光学積層体。
   
   ここで、前記式（３）中、
   ＡおよびＢは、それぞれ独立に、架橋性基を表す。
   ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１を表す。ただし、ａ＋ｂ≧１である。
   ａ＝０の場合にはＬ_１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ_１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ_２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ_２は単結合または２価の連結基を表す。
   Ａｒ_１は（ｎ１＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_２は（ｎ２＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_３は（ｎ３＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
   Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ｎ１≧２である場合には複数のＲ_１は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ２≧２である場合には複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ３≧２である場合には複数のＲ_３は互いに同一でも異なっていてもよい。
   ｋは、１〜４の整数を表す。ｋ≧２の場合には、複数のＡｒ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよい。
   ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。ただし、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０であり、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。
7. 前記液晶組成物が、下記式（４）で表される液晶性化合物を含有する、請求項３〜６のいずれか１項に記載の光学積層体。
   Ｕ１−Ｖ１−Ｗ１−Ｘ１−Ｙ１−Ｘ２−Ｙ２−Ｘ３−Ｗ２−Ｖ２−Ｕ２ （４）
   ここで、前記式（４）中、
   Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基である。シクロへキサン−１，４−ジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ−に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基を表す。
   Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、単結合、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−またはＣＲａ＝Ｎ−を表す。ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｕ１は、水素原子または重合性基を表す。
   Ｕ２は、重合性基を表す。
   Ｗ１およびＷ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−を表す。
   Ｖ１およびＶ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表し、前記アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−に置き換わっていてもよい。
8. 前記液晶組成物が、下記式（５）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶化合物を含有し、下記式（５）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、請求項３〜７のいずれか１項に記載の光学積層体。
   
   ここで、前記式（５）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
9. 前記光吸収異方性膜の前記光配向層と反対側に、前記酸素遮断層とは異なる別の酸素遮断層を有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学積層体。
10. 更に、λ／４板を有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学積層体。
11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学積層体を有する画像表示装置。