WO2021166694A1 - 光学積層体および表示装置 - Google Patents

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WO2021166694A1
WO2021166694A1 PCT/JP2021/004375 JP2021004375W WO2021166694A1 WO 2021166694 A1 WO2021166694 A1 WO 2021166694A1 JP 2021004375 W JP2021004375 W JP 2021004375W WO 2021166694 A1 WO2021166694 A1 WO 2021166694A1
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layer
light absorption
liquid crystal
carbon atoms
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柴田　直也
直弥 西村
俊 井上
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富士フイルム株式会社
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    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light

Definitions

  • the indentation elastic modulus of the first adhesive layer is larger than the indentation elastic modulus of the light absorption anisotropic layer.
  • the light absorption anisotropic layer is a layer formed from a composition for forming a light absorption anisotropic layer containing a liquid crystal compound and a dichroic substance.
  • the optical laminate of the present invention (hereinafter, also referred to as "laminate of the present invention") includes a surface protective layer, a first adhesive layer, a light absorption anisotropic layer, and a second adhesive layer. Have in this order. Further, the indentation elastic modulus of the first adhesive layer is larger than the indentation elastic modulus of the light absorption anisotropic layer.
  • the light absorption anisotropic layer is a layer formed from a composition for forming a light absorption anisotropic layer containing a liquid crystal compound and a dichroic substance. Further, the thickness of the light absorption anisotropic layer is less than 5 ⁇ m.
  • the laminate of the present invention is excellent in pressure resistance from the surface. The details of the reason for this are not clear, but it is estimated as follows.
  • the laminate 100 may have a photo-alignment layer (not shown) so as to be in contact with the surface of the light absorption anisotropic layer 30 on the opposite side of the first adhesive layer 20. That is, the photoalignment layer is arranged between the light absorption anisotropic layer 30 and the second adhesive layer 40.
  • the surface coat layer includes at least one selected from the group consisting of an antireflection layer, an antiglare layer, a hard coat layer, a mixed layer, and a scratch resistant layer.
  • an antireflection layer an antiglare layer
  • a hard coat layer a hard coat layer
  • a mixed layer a scratch resistant layer.
  • Known layer materials are used for these.
  • these layers may be laminated with a plurality of layers.
  • the antireflection layer refers to a structure that reduces reflection by a structure that uses light interference, unlike the antireflection plate of a so-called circularly polarizing plate.
  • the antireflection layer may have a structure consisting of only a low refractive index layer as the simplest structure. In order to further reduce the reflectance, it is preferable to form an antireflection layer by combining a high refractive index layer having a high refractive index and a low refractive index layer having a low refractive index.
  • the medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer in this order on the hard coat layer.
  • examples thereof include the configurations described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-110401, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-300902, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-243906, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-111706, and the like.
  • a three-layer antireflection film having excellent robustness against film thickness fluctuation is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-262187.
  • a radius of curvature of 3 mm or less is preferably 200,000 times, more preferably 300,000 times, still more preferably.
  • the scratch-resistant layer is a layer for suppressing scratches on the surface of the laminate, and for example, the scratch-resistant layer described in International Publication No. 2020/021931 can be used.
  • the adhesive constituting the adhesive layer is not particularly limited, but a polyvinyl alcohol (PVA) -based adhesive or a curable adhesive is preferable from the viewpoint of more excellent effects of the present invention. From the viewpoint of the durability of the dichroic dye, a polyvinyl alcohol (PVA) -based adhesive having low oxygen permeability is more preferable.
  • a polyvinyl alcohol (PVA) -based adhesive having low oxygen permeability is more preferable.
  • an active energy ray-curable adhesive is preferable, and an ultraviolet (UV) curable adhesive is more preferable.
  • UV curable adhesive include a radical polymerization curable adhesive and a cationic polymerization curable adhesive.
  • the radical polymerization curable adhesive include (meth) acrylate-based adhesives.
  • Examples of the curable component in the (meth) acrylate-based adhesive include a compound having a (meth) acryloyl group and a compound having a vinyl group.
  • Examples of the cationically polymerized and curable adhesive include compounds having an epoxy group and an oxetanyl group.
  • the compound having an epoxy group is not particularly limited as long as it has at least two epoxy groups in the molecule, and various generally known curable epoxy compounds can be used.
  • Preferred epoxy compounds include compounds having at least two epoxy groups and at least one aromatic ring in the molecule (aromatic epoxy compounds) and at least one of them having at least two epoxy groups in the molecule. Examples thereof include a compound (alicyclic epoxy compound) formed between two adjacent carbon atoms constituting an alicyclic ring.
  • the thickness of the first adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 30 ⁇ m, more preferably 0.02 to 20 ⁇ m, and more preferably 0.05, for the reason that the effect of the present invention is more excellent. It is more preferably about 10 ⁇ m.
  • the indentation elastic modulus of each layer means the elastic modulus measured by the nanoindentation method.
  • the measurement of the elastic modulus by the nanoindentation method can be performed using, for example, a nanoindenter (trade name “Triboinder TI-950”, manufactured by Hysiron).
  • the measurement mode is single indentation measurement
  • the measurement temperature is 25 ° C
  • the indenter used is the cube corner indenter
  • the indenter indentation load on the object to be measured is 50 ⁇ N
  • the indenter indentation speed is 5 ⁇ m / sec.
  • the indenter withdrawal speed from the object to be measured shall be 5 ⁇ m / sec.
  • the elastic modulus based on the nanoindentation method is derived by the Oliver-Pharr method and is performed by the equipment used.
  • the specific derivation method is as described in, for example, Hand book of Micro / nano Tribology (Second Edition) Edited by Bharat Bhushan, CRCPress (ISBN0-8493-8402-8).
  • the small molecule liquid crystal compound examples include the liquid crystal compound described in JP2013-228706.
  • the small molecule liquid crystal compound preferably has a crosslinkable group (polymerizable group) at the terminal. Specific examples of the crosslinkable group are as described above.
  • the group represented by the formula (P1-A) is preferably one unit of the partial structure of the poly (meth) acrylic acid ester obtained by the polymerization of the (meth) acrylic acid ester.
  • the group represented by the formula (P1-B) is preferably an ethylene glycol unit formed by ring-opening polymerization of the epoxy group of the compound having an epoxy group.
  • the group represented by the formula (P1-C) is preferably a propylene glycol unit formed by ring-opening polymerization of the oxetane group of the compound having an oxetane group.
  • the spacer group represented by SP1 is at least one selected from the group consisting of an oxyethylene structure, an oxypropylene structure, a polysiloxane structure and a fluorinated alkylene structure because of its tendency to exhibit liquid crystallinity and the availability of raw materials. It preferably contains the structure of the species.
  • oxyethylene structure represented by SP1 is, * - (CH 2 -CH 2 O) n1 - * groups represented by are preferred.
  • n1 represents an integer of 1 to 20, and * represents the coupling position with L1 or M1 in the above formula (1L).
  • n1 is preferably an integer of 2 to 10, more preferably an integer of 2 to 4, and most preferably 3 for the reason that the effect of the present invention is more excellent.
  • the mesogen group the following formula (M1-A) or the following formula (M1-) is used because it is more excellent in terms of expression of liquid crystal property, adjustment of liquid crystal phase transition temperature, availability of raw materials and synthetic suitability, and the effect of the present invention.
  • the group represented by B) is preferable, and the group represented by the formula (M1-B) is more preferable.
  • A1 is a divalent group selected from the group consisting of aromatic hydrocarbon groups, heterocyclic groups and alicyclic groups. These groups may be substituted with an alkyl group, an alkyl fluoride group, an alkoxy group or a substituent W.
  • the divalent group represented by A1 is preferably a 4- to 6-membered ring. Further, the divalent group represented by A1 may be a monocyclic ring or a condensed ring. * Represents the binding position with SP1 or T1.
  • the divalent heterocyclic group represented by A1 may be either aromatic or non-aromatic, but is preferably a divalent aromatic heterocyclic group from the viewpoint of further improving the degree of orientation. ..
  • Examples of atoms other than carbon constituting the divalent aromatic heterocyclic group include nitrogen atom, sulfur atom and oxygen atom.
  • the aromatic heterocyclic group has a plurality of atoms constituting a ring other than carbon, they may be the same or different.
  • divalent aromatic heterocyclic group examples include a pyridylene group (pyridine-diyl group), a pyridazine-diyl group, an imidazole-diyl group, a thienylene (thiophene-diyl group), and a quinolinene group (quinolin-diyl group).
  • a1 represents an integer from 1 to 10.
  • the plurality of A1s may be the same or different.
  • A2 and A3 are independently divalent groups selected from the group consisting of aromatic hydrocarbon groups, heterocyclic groups and alicyclic groups, respectively. Specific examples and preferred embodiments of A2 and A3 are the same as those of A1 of the formula (M1-A), and thus the description thereof will be omitted.
  • a2 represents an integer of 1 to 10, and when a2 is 2 or more, a plurality of A2s may be the same or different, and a plurality of A3s may be the same or different. Often, the plurality of LA1s may be the same or different.
  • a2 is preferably an integer of 2 or more, and more preferably 2 for the reason that the effect of the present invention is more excellent.
  • a group preferably an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a propargyl group and a 3-pentynyl group).
  • acyloxy group for example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a phenoxycarbonyl group, etc.
  • an acyloxy group preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms.
  • Particularly preferably 2 to 6 for example, an acetoxy group, a benzoyloxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group and the like), an acylamino group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 2 carbon atoms).
  • halogen atom eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom
  • cyano group
  • a benzthiazolyl group and the like a silyl group (preferably a silyl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, for example, a trimethylsilyl group, And a triphenylsilyl group and the like), a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group and the like.
  • a silyl group preferably a silyl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, for example, a trimethylsilyl group, And a triphenylsilyl group and the like
  • a carboxy group preferably a silyl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, for example, a trimethylsilyl group, And a triphenylsilyl group and the
  • RP is a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkyl halide having 1 to 20 carbon atoms.
  • a group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 1 to 20 carbon atoms, and a heterocyclic group may be called a heterocyclic group).
  • a preferred embodiment of the crosslinkable group is a radically polymerizable group or a cationically polymerizable group
  • examples of the radically polymerizable group include a vinyl group represented by the above formula (P-1) and the above formula (the above formula (P-1).
  • the vinylpyrrolidone group to be used, the maleic anhydride represented by the above formula (P-11), and the maleimide group represented by the above formula (P-12) are preferable, and the cationically polymerizable group is the above formula (P-12).
  • a vinyl ether group represented by -18), an epoxy group represented by the above formula (P-19), and an oxetanyl group represented by the above formula (P-20) are preferable.
  • a (meth) acryloyloxy group which is a radically polymerizable group, is particularly preferable.
  • small molecule liquid crystal compound examples include the structures shown below, but the small molecule liquid crystal compound is not limited to these.
  • the liquid crystal property of the small molecule liquid crystal compound may be either nematic or smectic.
  • the temperature range exhibiting liquid crystallinity is preferably room temperature (23 ° C.) to 300 ° C., and more preferably 40 to 250 ° C.
  • the liquid crystal composition contains a dichroic substance.
  • the dichroic substance means a dye having different absorbance depending on the direction. By containing a dichroic substance, the degree of orientation of the liquid crystal layer is improved.
  • the bicolor substance is not particularly limited, and is a visible light absorbing substance (bicolor dye), a luminescent substance (fluorescent substance, a phosphorescent substance), an ultraviolet absorbing substance, an infrared absorbing substance, a non-linear optical substance, a carbon nanotube, and an inorganic substance. Examples thereof include substances (for example, quantum rods), and conventionally known bicolor substances (bicolor dyes) can be used.
  • the content of the dichroic substance is 1 to 1 to 100% by mass of the solid content in the liquid crystal composition because the formed light absorption anisotropic layer has a higher degree of orientation and the heat resistance is further improved. It is preferably 80% by mass, more preferably 2 to 70% by mass, and even more preferably 3 to 60% by mass.
  • the dichroic substance include the first dichroic substance, the second dichroic substance, and the third dichroic substance shown below.
  • the dichroic substance may be used alone or in combination of two or more.
  • the first dichroic substance is a dichroic substance having a maximum absorption wavelength in the range of 560 nm or more and 700 nm or less (more preferably 560 to 650 nm, particularly preferably 560 to 640 nm). It is a sex substance.
  • the maximum absorption wavelength (nm) of the bicolor substance in the present specification is ultraviolet visible in the wavelength range of 380 to 800 nm measured by a spectrophotometer using a solution of the bicolor substance dissolved in a good solvent. Obtained from the optical spectrum.
  • Ar1 and Ar2 independently represent a phenylene group which may have a substituent and a naphthylene group which may have a substituent, respectively, and the effect of the present invention is more excellent. Phenylene groups are preferred.
  • R1 may have a hydrogen atom and a substituent, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylsulfonyl group, an alkylcarbonyl group, an alkyloxycarbonyl group, an acyloxy group and an alkyl carbonate group.
  • the alkyl group having a substituent in R1 the carbon atom of the alkyl group is -O-, -CO-, -C (O) -O-, -OC (O)-, -Si (CH 3 ) 2.
  • R1 is a group other than a hydrogen atom
  • One or more hydrogen atoms of each group may be substituted by the above groups, or two or more may be substituted by the above groups.
  • R1' represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. When a plurality of R1'are present in each group, they may be the same or different from each other.
  • the carbon atom of the alkyl group is -O-, -S-, -C (O)-, -C (O) -O-, -OC (O).
  • -, -C (O) -S- , -SC (O)-, -Si (CH 3 ) 2- O-Si (CH 3 ) 2- , -NR2'-, -NR2'-CO-, -CO-NR2'-, -NR2'-C (O) -O-, -OC (O) -NR2'-, -NR2'-C (O) -NR2'-, -CH CH-
  • One or more carbon atoms of the alkyl group may be substituted with the above group, or two or more may be substituted with the above group.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group in R2 and R3 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 16, further preferably 1 to 8, and particularly preferably 1 to 4.
  • the alkyl group in R2 and R3 may have any of linear, branched and cyclic structures, but from the viewpoint of more excellent effect of the present invention, linear or branched is preferable, and linear is preferable. More preferred.
  • R2 and R3 are groups other than hydrogen atoms
  • the hydrogen atoms of each group are halogen atom, nitro group, cyano group, -OH group, -N (R2') 2 , amino group, -C (R2').
  • ) C (R2')-NO 2
  • -C (R2') C (R2') -CN
  • -C (R2') C (CN) 2 , and so on.
  • One or more hydrogen atoms of each group may be substituted by the above groups, or two or more may be substituted by the above groups.
  • R2' representss a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. When a plurality of R2'are present in each group, they may be the same or different from each other.
  • R2 and R3 may combine with each other to form a ring, and R2 or R3 may combine with Ar2 to form a ring.
  • Examples thereof include a ureido group and an alkyl group in which a carbon atom is substituted with -C (O) -O- and -O-.
  • a group represented by R11-C (O) —O—R12—O— is preferable.
  • R11 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 3 carbon atoms)
  • R12 is a linear chain having 1 to 20 carbon atoms (preferably 2 to 18 carbon atoms).
  • Specific examples of cases where R2 and R3 are groups having a low electron donating property include groups having the following structures. The group having the following structure is shown in the above formula (1) in a form containing a nitrogen atom to which R2 and R3 are bonded.
  • the aromatic heterocyclic group has a plurality of atoms constituting a ring other than carbon, they may be the same or different.
  • Specific examples of the aromatic heterocyclic group include pyridylene group (pyridine-diyl group), pyridazine-diyl group, imidazole-diyl group, thienylene (thiophene-diyl group), quinolylene group (quinolin-diyl group), and isoquinolylene.
  • R4 in the formula (2) is the same as that of R1 in the formula (1).
  • R5 and R6 in the formula (2) are the same as those of R2 and R3 in the formula (1), respectively.
  • the third dichroic substance is a dichroic substance having a maximum absorption wavelength in the range of 380 nm or more and less than 455 nm (more preferably, 385 to 454 nm).
  • the third dichroic substance is a dichroic substance other than the first dichroic substance and the second dichroic substance, specifically, the first dichroic substance and the second two.
  • the chemical structure is different from that of color substances.
  • Specific examples of the third dichroic substance include the above-mentioned first dichroic substance and the above-mentioned first among the compounds including the compound represented by the formula (1) described in International Publication No. 2017/195833. Examples thereof include compounds other than the dichroic substance of 2.
  • the radically polymerizable group examples include a vinyl group, a butadiene group, a (meth) acryloyloxy group, a (meth) acrylamide group, a vinyl acetate group, a fumaric acid ester group, a styryl group, a vinylpyrrolidone group, and a maleic anhydride. , And a maleimide group and the like.
  • the radically polymerizable group is preferably contained in at least one of the above-mentioned liquid crystal compound and dichroic substance.
  • the liquid crystal composition preferably contains a surfactant (surfactant).
  • a surfactant surfactant
  • the smoothness of the coated surface is improved, the degree of orientation is improved, cissing and unevenness are suppressed, and the in-plane uniformity is expected to be improved.
  • a liquid crystal compound that is horizontally oriented is preferable, and the compound (horizontal alignment agent) described in paragraphs [0253] to [0293] of JP2011-237513A can be used.
  • the fluorine (meth) acrylate-based polymers described in [0018] to [0043] of JP-A-2007-272185 can also be used. Compounds other than these may be used as the interface improver.
  • the content of the interface improver in the liquid crystal composition is preferably 0.1 to 2.0% by mass with respect to the total solid content of the liquid crystal composition. 1 to 1.0% by mass is more preferable.
  • the content of the interface improver with respect to the total mass of the light absorption anisotropic layer is the same as the content of the interface improver with respect to the total solid content of the liquid crystal composition. Is preferable.
  • the liquid crystal composition preferably contains a polymerization initiator because the effect of the present invention is more excellent.
  • the polymerization initiator is not particularly limited, but a photosensitive compound, that is, a photopolymerization initiator is preferable.
  • the photopolymerization initiator various compounds can be used without particular limitation. Examples of photopolymerization initiators include ⁇ -carbonyl compounds (US Pat. Nos. 2,376,661 and 236,670), acidoin ethers (US Pat. No. 2,448,828), and ⁇ -hydrogen-substituted aromatic acidoines. Compounds (US Pat. No. 2722512), polynuclear quinone compounds (US Pat. Nos.
  • the coating film forming step is a step of applying the liquid crystal composition on the photoalignment layer to form a coating film. It is easy to apply the liquid crystal composition on the photoalignment layer by using the liquid crystal composition containing the above-mentioned solvent or by using a liquid crystal composition such as a molten liquid by heating or the like. become.
  • Specific examples of the coating method of the liquid crystal composition include a roll coating method, a gravure printing method, a spin coating method, a wire bar coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, and a die coating method. , A spray method, and a known method such as an inkjet method.
  • the liquid crystal component contained in the liquid crystal composition may be oriented by the above-mentioned coating film forming step or drying treatment.
  • the coating film is dried to remove the solvent from the coating film to have a light absorption anisotropy (that is, light absorption). Anisotropic layer) is obtained.
  • the drying treatment is performed at a temperature equal to or higher than the transition temperature of the liquid crystal component contained in the coating film to the liquid crystal phase, the heat treatment described later may not be performed.
  • the orientation step may include a cooling process performed after the heat treatment.
  • the cooling treatment is a treatment for cooling the heated coating film to about room temperature (20 to 25 ° C.).
  • the cooling means is not particularly limited, and can be carried out by a known method.
  • a light absorption anisotropic layer can be obtained.
  • a drying treatment, a heat treatment, and the like are mentioned, but the method is not limited to this, and a known orientation treatment can be used.
  • the method for forming the light absorption anisotropic layer may include a step of curing the light absorption anisotropic layer (hereinafter, also referred to as “curing step”) after the alignment step.
  • the curing step is carried out, for example, by heating and / or light irradiation (exposure) when the light absorption anisotropic layer has a crosslinkable group (polymerizable group).
  • the curing step is preferably carried out by light irradiation.
  • the photoalignment layer contains a compound having a photoreactive radical polymerizable group
  • the photoalignment layer is not contained with a radical polymerization initiator, or exposure is performed in an environment with a high oxygen concentration.
  • Unreacted radically polymerizable groups can be left on the surface of the photoalignment layer by a method or the like.
  • the photoalignment layer and the photoabsorption anisotropy are reacted. It is possible to improve the adhesion with the layer.
  • the light source used for curing various light sources such as infrared rays, visible light, and ultraviolet rays can be used, but ultraviolet rays are preferable.
  • the ultraviolet rays may be irradiated while being heated at the time of curing, or the ultraviolet rays may be irradiated through a filter that transmits only a specific wavelength.
  • the heating temperature at the time of exposure is preferably 25 to 140 ° C., although it depends on the transition temperature of the liquid crystal component contained in the light absorption anisotropic layer to the liquid crystal phase.
  • the exposure may be performed in a nitrogen atmosphere.
  • the photoabsorption anisotropic layer is cured by radical polymerization, the inhibition of polymerization by oxygen is reduced, so that it is preferable to expose in a nitrogen atmosphere.
  • the thickness of the light absorption anisotropic layer is less than 5 ⁇ m, preferably 3 ⁇ m or less, and more preferably 2 ⁇ m or less.
  • the present inventors have found that when the thickness of the light absorption anisotropic layer is less than 5 ⁇ m, the decrease in pressure resistance from the surface of the laminate becomes particularly remarkable. This problem can be solved by using a laminate.
  • the lower limit of the thickness of the light absorption anisotropic layer is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the indentation elastic modulus of the light absorption anisotropic layer is not particularly limited as long as it is smaller than the indentation elastic modulus of the first adhesive layer, but from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent, 0.1 to 5.0 GPa. It is preferably 0.5 to 3.5 GPa, more preferably 1 to 3 GPa.
  • the visible light average transmittance of the light absorption anisotropic layer is preferably 45% or more, more preferably 48% or more, still more preferably 50% or more.
  • the upper limit of the visible light average transmittance is 100%.
  • the visible light average transmittance means an arithmetic mean value of the transmittance in increments of 5 nm in the visible light region (wavelength 400 nm to 700 nm).
  • a spectrophotometer for example, a multi-channel spectroscope (manufactured by OCEAN OPTICS, product name "QE65000") is used for measuring the transmittance.
  • the laminate of the present invention preferably has an oriented layer.
  • the oriented layer include a photo-aligned layer, a rubbing-treated oriented layer, and the like. Of these, a photo-aligned layer is preferable because the effect of the present invention is more excellent.
  • the oriented layer is preferably arranged so as to be in contact with the surface of the light absorption anisotropic layer.
  • the thickness of the oriented layer is preferably 0.05 to 10 ⁇ m, more preferably 0.1 to 5 ⁇ m, and even more preferably 0.2 to 3 ⁇ m because the effect of the present invention is more excellent. ..
  • the photo-alignment layer is a layer to which an orientation-regulating force is applied by light.
  • the photoalignment layer preferably contains a polymer having a repeating unit having a radically polymerizable group from the viewpoint of more excellent effect of the present invention, and includes a repeating unit having a radically polymerizable group and a repeating unit having a cinnamoyl group. It is more preferable to contain a copolymer of.
  • Specific examples of the radically polymerizable group are as described above, and among them, the (meth) acryloyl group is preferable.
  • the photo-aligned layer is a polymer containing a compound having a photoreactive group (photoactive compound) (hereinafter, also abbreviated as "composition for forming a photo-aligned layer”) for the reason that the effect of the present invention is more excellent.
  • a step of applying on a film to form a coating film (coating film forming step), a step of drying the coating film by heating (drying step), and a polarization or coating surface of the dried coating film. It is preferable that the alignment layer is obtained by undergoing a step of irradiating non-polarized light from an oblique direction (light irradiation step) and to which an orientation regulating force is applied.
  • the coating film forming step is a step of applying the photoalignment layer forming composition onto the polymer film to form the coating film.
  • the polymer film is not particularly limited, and a commonly used polymer film can be used.
  • Specific examples of the polymer constituting the polymer film include a cellulose-based polymer; an acrylic polymer having an acrylic acid ester polymer such as polymethylmethacrylate and a lactone ring-containing polymer; a thermoplastic norbornene-based polymer; and a polycarbonate-based polymer.
  • polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate
  • styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymers (AS resin)
  • polyolefin polymers such as polyethylene, polypropylene and ethylene / propylene copolymers
  • vinyl chloride Polymers amide polymers such as nylon and aromatic polyamides
  • imide polymers sulfone polymers; polyether sulfone polymers; polyether ether ketone polymers
  • polyphenylene sulfide polymers vinylidene chloride polymers; vinyl alcohol polymers; Vinyl butyral-based polymers; allylate-based polymers; polyoxymethylene-based polymers; epoxy-based polymers; or polymers in which these polymers are mixed can be mentioned.
  • a cellulosic polymer represented by triacetyl cellulose (hereinafter, also referred to as "cellulose acylate”) can be preferably used.
  • cellulose acylate a cellulosic polymer represented by triacetyl cellulose
  • acrylic polymer examples include polymethylmethacrylate and the lactone ring-containing polymer described in paragraphs [0017] to [0107] of JP2009-98605A.
  • the polymer film is preferably transparent.
  • transparent in the present invention means that the average visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • Examples thereof include groups having a basic structure of benzene. These groups may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxy group, a sulfonic acid group or an alkyl halide group.
  • Embodiment 1 Photoactive Compound Having an Azobenzene Group
  • the photoactive compound having an azobenzene group is particularly preferably a photoactive compound represented by the following general formula (I). ..
  • R 21 to R 24 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, except that at least one of the groups represented by R 21 to R 24 represents a carboxy group or a sulfo group; m is. It represents an integer of 1 to 4, n represents an integer of 1 to 4, o represents an integer of 1 to 5, p represents an integer of 1 to 5, but m, n, o, and p represent 2 or more. When representing an integer of, a plurality of R 21 to R 24 may be the same or different.
  • a carboxy group (a carboxy group which may form a salt with an alkali metal, preferably a carboxy group which does not form a salt or forms a sodium salt, and more preferably a carboxy group which forms a sodium salt.
  • a sulfo group (which may form a salt with an alkali metal, preferably a sulfo group that does not form a salt or forms a sodium salt, more preferably a sodium salt.
  • alkenyl group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably It is an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group, an aryl group, a 2-butenyl group, a 3-pentenyl group and the like), and an alkynyl group (preferably having 2 to 8 carbon atoms).
  • alkynyl group having 2 to 20, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a propargyl group and a 3-pentynyl group), an aryl group (preferably 6 carbon atoms). ⁇ 30, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as a phenyl group, a 2,6-diethylphenyl group, a 3,5-ditrifluoromethylphenyl group, a naphthyl.
  • Alkoxy group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, particularly preferably 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, etc.), an alkoxycarbonyl group. (Preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, particularly preferably 2 to 6 carbon atoms, and examples thereof include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group), an acyloxy group (preferably 2 carbon atoms).
  • ⁇ 20 more preferably 2 to 10 carbon atoms, particularly preferably 2 to 6 carbon atoms, for example, an acetoxy group, a benzoyloxy group, etc.), an acylamino group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably carbon atoms).
  • the number is 2 to 10, particularly preferably 2 to 6, and examples thereof include an acetylamino group and a benzoylamino group), an alkoxycarbonylamino group (preferably 2 to 20, more preferably 2 to 2 carbon atoms).
  • aryloxycarbonylamino group preferably 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably.
  • a methanesulfonylamino group for example, a methanesulfonylamino group, a benzenesulfonylamino group, etc.
  • a sulfamoyl group preferably 0 to 20, more preferably 0 to 10, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms.
  • sulfamoyl group for example, sulfamoyl group, methyl sulfamoyl group, dimethyl sulfamoyl group, phenyl sulfamoyl group, etc.), carbamoyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, etc.) Particularly preferably, it has 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include an unsubstituted carbamoyl group, a methylcarbamoyl group, a diethylcarbamoyl group, a phenylcarbamoyl group, and the like).
  • An alkylthio group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, particularly preferably 1 to 6 carbon atoms, including, for example, a methylthio group, an ethylthio group, etc.), an arylthio group (preferably carbon).
  • the number is 6 to 20, more preferably 6 to 16, particularly preferably 6 to 12, such as a phenylthio group), a sulfonyl group (preferably 1 to 20, more preferably carbon).
  • the number is 1 to 10, particularly preferably 1 to 6, and examples thereof include a mesyl group and a tosyl group.
  • Sulfinyl group (preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10 carbon atoms, in particular.
  • Oxygen atom, sulfur atom and other heterocyclic groups for example, imidazolyl group, pyridyl group, quinolyl group, frill group, piperidyl group, morpholino group, benzoxazolyl group, benzimidazolyl group, benzthiazolyl group. , Etc.), a silyl group (preferably a silyl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, for example, a trimethylsilyl group and a triphenylsilyl group. Includes groups and the like).
  • substituents may be further substituted with these substituents. Moreover, when it has two or more substituents, it may be the same or different. Further, if possible, they may be combined with each other to form a ring.
  • the group represented by R 21 to R 24 may be a polymerizable group or a substituent containing a polymerizable group.
  • the groups represented by R 21 to R 24 are preferably a hydrogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, for the reason that the effect of the present invention is more excellent. It is a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, more preferably a hydrogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a halogen atom, a methyl halide group, a methoxy group halide, a cyano group, a nitro group, or a methoxycarbonyl group.
  • Yes particularly preferably a hydrogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a halogen atom, a cyano group, or a nitro group.
  • At least one of the groups represented by R 21 to R 24 is a carboxy group or a sulfo group.
  • the substitution position of the carboxy group or the sulfo group is not particularly limited, but from the viewpoint of photoactivation, it is preferable that at least one R 21 and / or at least one R 22 is a sulfo group, and at least one R 21. And more preferably at least one R 22 is a sulfo group. From the same viewpoint, it is preferable that at least one R 23 and / or at least one R 24 is a carboxy group, and more preferably at least one R 23 and at least one R 24 are carboxy groups.
  • the carboxy group is more preferably R 23 and R 24 substituted at the meta position with respect to the azo group.
  • m represents an integer of 1 to 4
  • n represents an integer of 1 to 4
  • o represents an integer of 1 to 5
  • p represents an integer of 1 to 5.
  • m is an integer of 1 to 2
  • n is an integer of 1 to 2
  • o is an integer of 1 to 2
  • p is an integer of 1 to 2.
  • the photoactive compound having a cinnamoyl group is preferably a polymer because the influence of contact with the photoalignment layer is small. Further, the polymer having a crosslinkable group together with the cinnamoyl group is preferable because the influence of the contact of the photoalignment layer is further reduced.
  • the polymer having a crosslinkable group together with the cinnamoyl group has a repeating unit A containing a cinnamoyl group represented by the following formula (A) and a repeating unit B containing a crosslinkable group represented by the following formula (B).
  • Photo-orientation copolymers are preferred.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • L 1 represents a divalent linking group containing a nitrogen atom and a cycloalkane ring, and a part of carbon atoms constituting the cycloalkane ring is replaced with a heteroatom selected from the group consisting of nitrogen, oxygen and sulfur. It may have been.
  • R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or substituent. Of R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 , two adjacent groups may be bonded to form a ring.
  • R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • L 2 represents a divalent linking group
  • X represents a crosslinkable group (polymerizable group).
  • the divalent linking group represented by L 1 in the formula (A) is, by including the nitrogen atom and the cycloalkane ring, the molecular motion is suppressed by hydrogen bonding and molecular rigidity increases As a result, it is considered that the solvent resistance is improved.
  • a divalent linking group represented by L 1 in the formula (A) is, by including the nitrogen atom and the cycloalkane ring, a glass transition temperature of the copolymer is increased, the resulting photo-alignment It is considered that as a result of the improvement in the stability of the layer over time, the liquid crystal orientation was improved regardless of the timing of forming the optically anisotropic layer.
  • a divalent linking group containing a nitrogen atom and a cycloalkane ring represented by L 1 in the above formula (A) will be described.
  • a part of the carbon atoms constituting the cycloalkane ring may be replaced with a heteroatom selected from the group consisting of nitrogen, oxygen and sulfur.
  • a part of the carbon atoms constituting the cycloalkane ring is replaced with a nitrogen atom, it is not necessary to have a nitrogen atom separately from the cycloalkane ring.
  • the cycloalkane ring contained in the divalent linking group represented by L 1 in the above formula (A) is preferably a cycloalkane ring having 6 or more carbon atoms, and specific examples thereof include a cyclohexane ring and a cyclopeptane. Examples thereof include a ring, a cyclooctane ring, a cyclododecane ring, and a cyclodocosan ring.
  • L 1 in the above formula (A) is used for the reason that the liquid crystal orientation becomes better. It is preferably a divalent linking group represented by any of the following formulas (1) to (10).
  • * 1 represents the bond position with the carbon atom constituting the main chain in the above formula (A)
  • * 2 represents the carbonyl group in the above formula (A). Represents the bond position with the constituent carbon atoms.
  • divalent linking groups represented by any of the above formulas (1) to (10) the solubility in the solvent used when forming the photoalignment layer and the solvent resistance of the obtained photoalignment layer.
  • a divalent linking group represented by any of the above formulas (2), (3), (7) and (8) is preferable for the reason that the balance is good.
  • R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 in the above formula (A) may be hydrogen atoms instead of substituents.
  • the synamoyl group easily interacts with the liquid crystal compound, and the liquid crystal orientation is better.
  • each of them independently has a halogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a linear alkyl halide group having 1 to 20 carbon atoms, and 1 to 20 carbon atoms.
  • Alkoxy group An aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, a cyano group, an amino group, or a group represented by the following formula (11) is preferable.
  • * represents the bond position with the benzene ring in the above formula (A).
  • R 9 represents a monovalent organic group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like, and among them, a fluorine atom and a chlorine atom are preferable.
  • the linear alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and specifically, for example, a methyl group. Ethyl group, n-propyl group and the like can be mentioned.
  • the branched alkyl group is preferably an alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include an isopropyl group and a tert-butyl group.
  • the cyclic alkyl group is preferably an alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.
  • a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and specifically, for example, a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, or a perfluoropropyl group. , Perfluorobutyl group and the like, and among them, a trifluoromethyl group is preferable.
  • an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms is preferable.
  • An alkoxy group having 6 to 18 carbon atoms is more preferable, and an alkoxy group having 6 to 14 carbon atoms is further preferable.
  • Groups and the like are preferably mentioned, and among them, n-hexyloxy group, n-octyloxy group, n-decyloxy group, n-dodecyloxy group and n-tetradecyloxy group are more preferable.
  • the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms is preferably an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include a phenyloxy group and a 2-naphthyloxy group. Among them, a phenyloxy group. Is preferable.
  • amino group examples include a primary amino group (-NH 2 ); a secondary amino group such as a methylamino group; a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibenzylamino group, and a nitrogen-containing heterocyclic compound (for example, pyrrolidine). , Piperidine, piperazine, etc.), such as a tertiary amino group having a nitrogen atom as a bond.
  • examples of the monovalent organic group represented by R 9 in the above formula (11) include a linear or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. ..
  • the linear alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group and an n-propyl group, and among them, a methyl group or an ethyl group is used. preferable.
  • the cyclic alkyl group is preferably an alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and the like.
  • a cyclohexyl group is preferred.
  • the monovalent organic group represented by R 9 in the above formula (11) may be a combination of a plurality of the above-mentioned linear alkyl group and cyclic alkyl group directly or via a single bond. good.
  • R 4 in the above formula (A) is an electron-donating substituent because the reaction efficiency is improved when the obtained photo-aligned layer is irradiated with light.
  • the electron-donating substituent means a substituent having a Hammett value (Hammett substituent constant ⁇ p) of 0 or less, and for example, among the above-mentioned substituents, an alkyl group, Examples thereof include an alkyl halide group and an alkoxy group. Of these, an alkoxy group is preferable, and an alkoxy group having 6 to 16 carbon atoms is more preferable, and an alkoxy group having 7 to 10 carbon atoms is used because the liquid crystal orientation is better. Is even more preferable.
  • examples of the substituent that the alkylene group, arylene group and imino group may have include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a cyano group, a carboxy group and an alkoxycarbonyl group. And hydroxyl groups and the like.
  • examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and among them, a fluorine atom and a chlorine atom are preferable.
  • a phenyl group, an ⁇ -methylphenyl group, a naphthyl group and the like can be mentioned, and among them, a phenyl group is preferable.
  • the aryloxy group include phenoxy, naphthoxy, imidazolyloxy, and the like. Examples thereof include benzoimidazolyloxy, pyridine-4-yloxy, pyrimidinyloxy, quinazolinyloxy, prynyloxy and thiophene-3-yloxy.
  • the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl.
  • the linear alkylene group specifically includes, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group and a pentylene group.
  • examples thereof include a hexylene group, a decylene group, an undecylene group, a dodecylene group, a tridecylene group, a tetradecylene group, a pentadecylene group, a hexadecylene group, a heptadecylene group and an octadecylene group.
  • branched alkylene group examples include a dimethylmethylene group, a methylethylene group, a 2,2-dimethylpropylene group and a 2-ethyl-2-methylpropylene group.
  • cyclic alkylene group examples include a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cyclooctylene group, a cyclodecylene group, an adamantane-diyl group, and a norbornane-diyl group.
  • Exo-tetrahydrodicyclopentadiene-diyl group and the like, and among them, the cyclohexylene group is preferable.
  • arylene group having 6 to 12 carbon atoms include a phenylene group, a xylylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, a 2,2'-methylenebisphenyl group and the like, and a phenylene group is preferable. ..
  • X (crosslinkable group) in the above formula (B) include an epoxy group, an epoxycyclohexyl group, an oxetanyl group, and a functional group having an ethylenically unsaturated double bond. Above all, it is preferable that it is at least one bridging group selected from the group consisting of the following formulas (X1) to (X4).
  • * represents the bond position with L 2 in the above formula (B)
  • R 8 represents any of a hydrogen atom, a methyl group and an ethyl group, and the above formula.
  • S represents a functional group having an ethylenically unsaturated double bond.
  • examples of the functional group having an ethylenically unsaturated double bond include, for example, a vinyl group, an allyl group, a styryl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group, which are an acryloyl group or a methacryloyl group. Is preferable.
  • the repeating unit B is represented by the above formula (B) because the strength of the obtained optical laminate is increased and the handleability when forming another layer using the obtained optical laminate is improved.
  • repeating unit B (repeating unit B1) containing the crosslinkable group represented by the above formula (B), specifically, for example, the following repeating units B-1 to B-17 can be mentioned.
  • repeating unit B (repeating unit B2) containing the crosslinkable group represented by the above formula (B) include the repeating units B-18 to B-47 shown below.
  • the content a of the repeating unit A described above and the content b of the repeating unit B described above preferably satisfy the following formula (12) in terms of mass ratio, and the following formula is preferable. It is more preferable that (13) is satisfied, it is further preferable that the following formula (14) is satisfied, and it is particularly preferable that the following formula (15) is satisfied. 0.03 ⁇ a / (a + b) ⁇ 0.5 ... (12) 0.03 ⁇ a / (a + b) ⁇ 0.3 ... (13) 0.03 ⁇ a / (a + b) ⁇ 0.2 ... (14) 0.05 ⁇ a / (a + b) ⁇ 0.2 ... (15)
  • the method for synthesizing the photo-orientation copolymer is not particularly limited, and for example, the above-mentioned monomer forming the repeating unit A, the above-mentioned monomer forming the repeating unit B, and the monomer forming any other repeating unit.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the photo-oriented copolymer is preferably 10,000 to 500,000, more preferably 30,000 to 300,000 for the reason that the liquid crystal orientation is further improved.
  • the content of the photo-orientation copolymer in the composition for forming a photo-orientation layer is not particularly limited, but when an organic solvent is contained, the content of the photo-orientation copolymer is relative to 100 parts by mass of the organic solvent. It is preferably 0.1 to 50 parts by mass, and more preferably 0.5 to 10 parts by mass.
  • the composition for forming a photoalignment layer may contain one or more additives other than the photoactive compound.
  • the additive is added for the purpose of adjusting the refractive index of the composition for forming a photoalignment layer.
  • a compound having a hydrophilic group and a (meth) acryloyloxy group is preferable from the viewpoint of compatibility with the photoactive compound, and the additive can be added to such an extent that the orientation ability is not significantly reduced.
  • the hydrophilic group include a hydroxy group, a carboxy group, a sulfo group, an amino group and the like.
  • Classes eg, hexane, etc.
  • alicyclic hydrocarbons eg, cyclohexane, etc.
  • aromatic hydrocarbons eg, toluene, xylene, trimethylbenzene, etc.
  • carbon halides eg, dichloromethane, dichloroethane, di, etc.
  • esters eg, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.
  • water eg, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.
  • cellosolves eg, methyl cellosolve, ethyl, etc.
  • Examples include cellosolves), cellosolve acetates, sulfoxides (eg, dimethylsulfoxide, etc.), amides (eg, dimethylformamide, dimethylace
  • composition for forming a photo-alignment layer may contain components other than the above, for example, a cross-linking catalyst (for example, a heat-reactive acid generator), an adhesion improver, a leveling agent, a surfactant, and a plasticizer.
  • a cross-linking catalyst for example, a heat-reactive acid generator
  • adhesion improver for example, an adhesion improver
  • leveling agent for example, a surfactant, and a plasticizer.
  • plasticizer plasticizer.
  • agents include agents.
  • the refractive index of the additive is preferably 1.4 to 1.6, more preferably 1.4 to 1.55.
  • the composition for forming a photoalignment layer is a compound having a photoreactive group and a crosslinkable group (for example, described above) for the reason that the adhesion between the photoalignment layer and the light absorption anisotropic layer is good. It is preferable that the composition contains (such as a photo-oriented copolymer) and does not contain a radical polymerization initiator.
  • Examples of the method for applying the composition for forming a photoalignment layer onto the polymer film described above include a spin coating method, an extrusion method, a gravure coating method, a die coating method, a bar coating method, and an applicator method.
  • a known method such as a printing method such as a flexographic method is adopted.
  • a printing method such as a gravure coating method, a die coating method, or a flexographic method is usually adopted as the coating method.
  • the method of drying the coating film formed by the coating step by heating is not particularly limited, and the drying temperature is preferably in the range of 50 to 180 ° C, more preferably in the range of 80 to 150 ° C.
  • the drying time is preferably 10 seconds to 10 minutes, more preferably 30 seconds to 5 minutes.
  • the polarization applied to the coating film after the drying step is not particularly limited, and examples thereof include linearly polarized light, circularly polarized light, and elliptically polarized light. Among them, linearly polarized light is preferable. Further, the "diagonal direction" of irradiating non-polarized light is not particularly limited as long as it is tilted by a polar angle ⁇ (0 ⁇ ⁇ 90 °) with respect to the normal direction of the coating film surface, depending on the purpose. It can be appropriately selected, but it is preferable that ⁇ is 20 to 80 °.
  • Light sources used for light irradiation are commonly used light sources such as tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, carbon arc lamps and other lamps, and various lasers [eg, semiconductor lasers, heliums].
  • Neon lasers, argon ion lasers, helium cadmium lasers and YAG (itrium aluminum garnet) lasers] light emitting diodes, and cathode wire tubes can be mentioned.
  • a method using a polarizing plate for example, an iodine polarizing plate, a two-color dye polarizing plate, and a wire grid polarizing plate
  • a prism element for example, a Gran Thomson prism
  • a Brewster angle is used.
  • a method using a polarized reflector or a method using light emitted from a polarized laser light source can be adopted. Further, only light having a required wavelength may be selectively irradiated by using a filter, a wavelength conversion element, or the like.
  • a method of irradiating the light from the upper surface of the alignment layer or from the back surface to the surface of the alignment layer perpendicularly or diagonally is adopted.
  • the incident angle of light varies depending on the photoactive compound, but is preferably 0 to 90 ° (vertical), preferably 40 to 90 °.
  • the oriented layer is irradiated with non-polarized light at an angle.
  • the incident angle is preferably 10 to 80 °, more preferably 20 to 60 °, and even more preferably 30 to 50 °.
  • the irradiation time is preferably 1 minute to 60 minutes, more preferably 1 minute to 10 minutes.
  • the laminate of the present invention has a second adhesive layer.
  • the second adhesive layer is arranged on the opposite side of the light absorption anisotropic layer from the first adhesive layer.
  • the second adhesive layer is the light absorption anisotropic layer among the two or more adhesive layers. Refers to the adhesive layer closest to the layer.
  • the storage elastic modulus of the second adhesive layer is preferably 0.5 MPa or more, more preferably 1 MPa or more, for the reason that the effect of the present invention is more excellent.
  • the storage elastic modulus of the second adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 10 MPa or less, more preferably 5 MPa or less.
  • the storage elastic modulus of the second adhesive layer refers to a value measured under the conditions of a frequency of 1 Hz and 25 ° C. using a dynamic viscoelasticity measuring device (DVA-200) manufactured by IT Measurement Control Co., Ltd. ..
  • the optically anisotropic layer is not particularly limited as long as it is a layer having optical anisotropy, but it is preferably a retardation layer, and more preferably a ⁇ / 4 plate, from the viewpoint of more excellent effects of the present invention.
  • the " ⁇ / 4 plate” is a plate having a ⁇ / 4 function, and specifically, a function of converting linearly polarized light having a specific wavelength into circularly polarized light (or converting circularly polarized light into linearly polarized light). It is a plate having. Specific examples of the ⁇ / 4 plate include, for example, US Patent Application Publication No. 2015/0277006.
  • examples of the embodiment in which the ⁇ / 4 plate has a single-layer structure include a stretched polymer film and a retardation film in which an optically anisotropic layer having a ⁇ / 4 function is provided on a support.
  • examples of the embodiment in which the ⁇ / 4 plate has a multi-layer structure include a wide band ⁇ / 4 plate formed by laminating a ⁇ / 4 plate and a ⁇ / 2 plate can be specifically mentioned.
  • the ⁇ / 4 plate is preferably formed by applying a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound, for the reason that the effect of the present invention is more excellent.
  • the thickness of the optically anisotropic layer is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 100 ⁇ m, preferably 0.5 to 5 ⁇ m, for the reason that the effect of the present invention is more excellent. Is more preferable.
  • the laminate of the present invention may have an oxygen blocking layer for the purpose of improving light resistance.
  • Oxygen is placed on either or both of the alignment layer (particularly the photoalignment layer) on the opposite side of the light absorption anisotropic layer and the light absorption anisotropic layer on the opposite side of the alignment layer (particularly the photoalignment layer). It is preferable to have a blocking layer.
  • the oxygen blocking layer having the alignment layer (particularly, the photoaligning layer) on the opposite side to the light absorption anisotropic layer is also abbreviated as "oxygen blocking layer 1", and the orientation of the light absorbing anisotropic layer is also abbreviated.
  • the oxygen blocking layer on the opposite side of the layer is also abbreviated as "oxygen blocking layer 2".
  • oxygen blocking layer 2 is an oxygen blocking film having an oxygen blocking function, and specific examples thereof include polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, polyvinyl ether, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, polyacrylic acid, cellulose ether, polyamide, and polyimide.
  • a layer containing an organic compound such as a styrene / maleic acid copolymer, gelatin, vinylidene chloride, and cellulose nanofibers.
  • the oxygen blocking function is not limited to a state in which oxygen does not pass at all, but also includes a state in which oxygen is slightly passed depending on the desired performance.
  • a thin layer made of a metal compound (a thin layer of a metal compound).
  • a method for forming the thin layer of the metal compound any method can be used as long as the desired thin layer can be formed.
  • a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method, and the like are suitable.
  • Patent No. 3400324, JP-A-2002-322561, and JP-A-2002- The forming method described in each of the publications of No. 361774 can be adopted.
  • the component contained in the thin layer of the metal compound is not particularly limited as long as it can exhibit an oxygen blocking function, and is selected from, for example, Si, Al, In, Sn, Zn, Ti, Cu, Ce, Ta and the like1 Oxides, nitrides, oxide nitrides, etc. containing more than one kind of metal can be used.
  • metal oxides, nitrides or nitrides selected from Si, Al, In, Sn, Zn and Ti are preferable, and metal oxides and nitrides selected from Si, Al, Sn and Ti are particularly preferable.
  • an oxide nitride is preferable. These may contain other elements as secondary components.
  • the oxygen blocking layer is, for example, US Pat. No. 6,413,645, JP-A-2015-226995, JP-A-2013-202971, JP-A-2003-335880, JP-A-53-12953, JP-A-58.
  • the above-mentioned layer containing an organic material and a thin layer of a metal compound may be laminated, or International Publication No. 2011 / 11836, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-248832.
  • the layer may be a hybrid of an organic compound and an inorganic compound.
  • the oxygen blocking layer may also serve as an alignment layer of an optically anisotropic layer having a ⁇ / 4 function.
  • an oxygen blocking layer containing polyvinyl alcohol, polyamide, or polyimide is preferable.
  • the thickness of the oxygen blocking layer is preferably 0.1 to 10 ⁇ m, more preferably 0.5 to 5.5 ⁇ m in the case of a layer containing an organic compound because the effect of the present invention is more excellent.
  • the thickness of the oxygen blocking layer is preferably 5 nm to 500 nm, more preferably 10 nm to 200 nm, for the reason that the effect of the present invention is more excellent.
  • the laminate of the present invention preferably has a functional layer (UV absorption layer) having a function of reducing short wave light on the surface protective layer side of the light absorption anisotropic layer.
  • a functional layer UV absorption layer
  • the oxygen blocking layer corresponds to the surface protective layer.
  • the above-mentioned adhesive layer or oxygen blocking layer has a function of reducing short wave light.
  • the method for reducing shortwave light is not particularly limited, and a method using light absorption by an absorber or the like and a method using wavelength selective reflection by a multilayer film are exemplified.
  • the above-mentioned shortwave light refers to light having a wavelength of 430 nm or less.
  • the light absorption anisotropic layer is transparent in the wavelength range of 450 nm or more.
  • the UV absorption layer is preferably a UV absorption layer having an absorbance of 0.5 or more at a wavelength of 360 nm and a wavelength of 400 nm for the reason that the effect of the present invention is more excellent.
  • the liquid crystal display device which is an example of the display device of the present invention is a liquid crystal display device having the above-mentioned optical laminate of the present invention (however, the ⁇ / 4 plate is not included) and a liquid crystal cell.
  • the laminate of the present invention among the optical laminates provided on both sides of the liquid crystal cell, it is preferable to use the laminate of the present invention as the polarizing element on the front side (visual recognition side), and as the polarizing element on the front side and the rear side. It is more preferable to use the laminate of the present invention.
  • the liquid crystal cells constituting the liquid crystal display device will be described in detail below.
  • the liquid crystal cell used in the liquid crystal display device is preferably a VA (Vertical Element) mode, an OCB (Optically Compensated Bend) mode, an IPS (In-Plane-Switching) mode, or a TN (Twisted Nematic) mode. It is not limited to.
  • the rod-shaped liquid crystal molecules (rod-shaped liquid crystal compounds) are substantially horizontally oriented when no voltage is applied, and are further twisted to 60 to 120 °.
  • the TN mode liquid crystal cell is most often used as a color TFT liquid crystal display device, and has been described in many documents.
  • the rod-shaped liquid crystal molecules are substantially vertically oriented when no voltage is applied.
  • VA mode liquid crystal cell In the VA mode liquid crystal cell, (1) a VA mode liquid crystal cell in a narrow sense in which rod-shaped liquid crystal molecules are oriented substantially vertically when no voltage is applied and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. 2-). In addition to (described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 176625), (2) a liquid crystal cell (SID97, Digist of tech. Papers (Proceedings) in which the VA mode is multi-domainized (MVA mode (Multi-domin Vertical Organic)) for expanding the viewing angle.
  • VVA mode Multi-domin Vertical Organic
  • a mode in which rod-shaped liquid crystal molecules are substantially vertically oriented when no voltage is applied and twisted and multi-domain oriented when a voltage is applied.
  • liquid crystal cells described in Proceedings 58-59 (1998) of the Japan Liquid Crystal Conference
  • SURVIVAL mode presented at LCD (liquid crystal display) International 98.
  • PVA Plasma Vertical Alignment
  • optical alignment type Optical Alignment
  • PSA Polymer-Sustained Alignment
  • ⁇ Preparation of Cellulose Achillate Film 1> (Preparation of core layer cellulose acylate dope) The following composition was put into a mixing tank and stirred to dissolve each component to prepare a cellulose acetate solution to be used as a core layer cellulose acylate dope.
  • Core layer Cellulose acylate dope ⁇ 100 parts by mass of cellulose acetate having an acetyl substitution degree of 2.88 ⁇ 12 parts by mass of the polyester compound B described in Examples of JP-A-2015-227955 ⁇ 2 parts by mass of the following compound F ⁇ Methylene chloride (first solvent) 430 Parts by mass / methanol (second solvent) 64 parts by mass ⁇
  • the core layer cellulose acylate dope and the outer layer cellulose acylate dope are filtered through a filter paper having an average pore size of 34 ⁇ m and a sintered metal filter having an average pore size of 10 ⁇ m, and then the core layer cellulose acylate dope and the outer layer cellulose acylate dope on both sides thereof. And three layers were simultaneously cast on a drum at 20 ° C. from the casting port (band casting machine). Then, the film was peeled off with a solvent content of about 20% by mass, both ends of the film in the width direction were fixed with tenter clips, and the film was dried while being stretched in the lateral direction at a stretching ratio of 1.1 times.
  • a light absorption anisotropic layer P1 was produced on the photoalignment layer PA1 to form a laminated body 1B. ..
  • the film thickness of the light absorption anisotropic layer P1 was 0.5 ⁇ m.
  • Coronate L (polyisocyanate manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) 3 parts by mass and aluminum chelate A (aluminum trisacetylacetonate manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) 0 with respect to 100 parts by mass of the solid content of the copolymer solution 1.
  • KBM-803 ⁇ -mercaptopropylmethyldimethoxysilane manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.
  • These compositions were applied to a separate film surface-treated with a silicone-based release agent using a die coater and dried in an environment of 90 ° C. for 1 minute to prepare an adhesive sheet N1 having an adhesive layer having a thickness of 5 ⁇ m. .
  • UV adhesive S2 ⁇ Preparation of UV adhesive S2> The following UV adhesive S2 was prepared. ⁇ UV adhesive S2 ⁇ ⁇ CEL2021P (manufactured by Daicel) 70 parts by mass ⁇ 1,4-butanediol diglycidyl ether 20 parts by mass ⁇ 2-ethylhexyl glycidyl ether 10 parts by mass ⁇ CPI-100P 2.25 parts by mass ⁇ ⁇
  • the acrylate-based polymer A1 was prepared according to the following procedure. 95 parts by weight of butyl acrylate and 5 parts by weight of acrylic acid are polymerized by a solution polymerization method in a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirrer to achieve an average molecular weight of 2 million and a molecular weight distribution (Mw /). An acrylate-based polymer A1 of Mn) 3.0 was obtained.
  • an acrylate-based pressure-sensitive adhesive was prepared with the compositions shown in Table 1 below. These acrylate-based adhesives are applied to a separate film surface-treated with a silicone-based release agent using a die coater, dried in an environment of 90 ° C. for 1 minute, and irradiated with ultraviolet rays (UV) under the following conditions to adhere. Agent sheets N2 and N3 were obtained. However, UV irradiation was not carried out in the preparation of the pressure-sensitive adhesive sheet N3.
  • the composition of the acrylate-based pressure-sensitive adhesive, the film thickness of the pressure-sensitive adhesive sheet, and the storage elastic modulus are shown in Table 1 below. (UV irradiation conditions) Fusion Co. electrodeless lamp H Valve illuminance 600 mW / cm 2, light quantity 150 mJ / cm 2 -UV illuminance and light intensity were measured using "UVPF-36" manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.
  • B Photopolymerization Initiator: A mixture of benzophenone and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone in a mass ratio of 1: 1, "Irgacure 500" manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.
  • (C) Isocyanate-based cross-linking agent Trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (“Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
  • composition of composition for forming an anisotropic layer of light absorption ⁇ -The following bicolor substance D-5 0.14 parts by mass-The above bicolor substance D-2 0.21 parts by mass-The following bicolor substance D-6 0.35 parts by mass-The above polymer liquid crystal compound P -1 4.07 parts by mass ⁇ Polymerization initiator IRGACUREOXE-02 (manufactured by BASF) 0.200 parts by mass ⁇ The above-mentioned interface improver F-1 0.026 parts by mass ⁇ Cyclopentanone 45.00 parts by mass ⁇ tetrahydrofuran 45. 00 parts by mass ⁇ 5.00 parts by mass of benzyl alcohol ⁇
  • This reaction solution was heated to 80 ° C., and the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 10 hours. Then, the reaction solution was cooled, 300 g of 5 mass% saline was added, and the organic layer was extracted. The organic layer was washed twice with 300 g of 5 mass% saline solution and 300 g of pure water, and then concentrated under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. to form a colorless and transparent liquid as a MIBK solution having a solid content concentration of 59.8 mass%.
  • Rb 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group
  • Rc methyl group
  • MIBK methyl isobutyl ketone
  • the obtained compound (A) had a number average molecular weight (Mn) of 2310 and a dispersity (Mw / Mn) of 2.1. In addition, 1 mmHg is about 133.322 Pa.
  • composition for forming a hard coat layer HC-1) CPI-100P the polymer (1-1) and MIBK (methyl isobutyl ketone) are added to the MIBK solution containing the compound (A), and the concentration of each component is adjusted to the following concentration. It was put into a mixing tank and stirred. The obtained composition was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 ⁇ m to obtain a hard coat layer forming composition HC-1.
  • composition for forming a mixed layer M-1 Composition for forming a mixed layer M-1
  • MEK methyl ethyl ketone
  • DPHA methyl ethyl ketone
  • CPI-100P methyl ethyl ketone
  • Irgacure 127 leveling agent-1 and MEK
  • the concentration of each component was adjusted to the following concentration.
  • the mixture was adjusted so as to be, put into a mixing tank, and stirred.
  • the obtained composition was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 ⁇ m to obtain a mixed layer forming composition M-1.
  • Compound (A) 42.85 parts by mass DPHA 42.85 parts by mass CPI-100P 1.3 parts by mass Irgacure 127 5.0 parts by mass Leveling agent-1 8.0 parts by mass Methyl ethyl ketone 500.0 parts by mass
  • composition SR-1 for forming a scratch-resistant layer
  • composition SR-1 for forming a scratch-resistant layer
  • Each component was charged into a mixing tank with the composition described below, stirred, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 ⁇ m to obtain a scratch-resistant layer forming composition SR-1.
  • the compounds used in the scratch-resistant layer forming composition are as follows. RS-90: Slipper, manufactured by DIC Corporation
  • ⁇ Preparation of surface protective layer H2> The composition for forming a hard coat layer HC-1 was applied onto the support 1 using a die coater. After drying at 120 ° C. for 1 minute, the hard coat layer was semi-cured by irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 18 mW / cm 2 and an irradiation amount of 10 mJ / cm 2 using an air-cooled mercury lamp at 25 ° C.
  • a mixed layer forming composition prepared by adding MEK to the mixed layer forming composition M-1 and diluting the solid content concentration to 1/10 was prepared and applied on a semi-cured hard coat layer using a die coater. .. After drying at 120 ° C.
  • the mixed layer is semi-cured by irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 18 mW / cm 2 and an irradiation amount of 10 mJ / cm 2 using an air-cooled mercury lamp at 25 ° C. and an oxygen concentration of 1%. Then, a mixed layer was provided on the hard coat layer.
  • the scratch-resistant layer forming composition SR-1 was applied onto the semi-cured mixed layer using a die coater. After drying at 120 ° C. for 1 minute, it is irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 60 mW / cm 2 and an irradiation amount of 800 mJ / cm 2 using an air-cooled mercury lamp under the conditions of 25 ° C.
  • the hard coat layer, the mixed layer, and the scratch-resistant layer were completely cured by irradiating ultraviolet rays having an illuminance of 60 mW / cm 2 and an irradiation amount of 800 mJ / cm 2 using an air-cooled mercury lamp under the condition of a concentration of 100 ppm. Then, the obtained film is heat-treated at 120 ° C. for 1 hour to protect the surface having a mixed layer having a thickness of 0.1 ⁇ m and a scratch-resistant layer having a thickness of 1.0 ⁇ m on a hard coat layer having a thickness of 11.0 ⁇ m. Layer H2 was obtained.
  • the laminated body was overlapped with a polarizing plate (trade name: HCL2-5618HCS, manufactured by Sanritz) so that the absorption axes were arranged orthogonally, and the part scratched with a pencil was visually observed on the backlight and evaluated by the following judgment. .. A: No light leakage B: Light leakage is slightly visible C: Light leakage is clearly visible
  • a / B is the ratio of the indentation elastic modulus of the first adhesive layer to the indentation elastic modulus of the light absorption anisotropic layer (indentation elastic modulus of the first adhesive layer / light absorption difference). It means the indentation elastic modulus of the anisotropic layer).
  • the composition A-1 having the composition described later was applied onto the photoalignment layer PA2 using a bar coater.
  • the coating film formed on the photoalignment layer PA2 is heated to 120 ° C. with warm air, then cooled to 60 ° C., and then exposed to 100 mJ / cm 2 ultraviolet rays at a wavelength of 365 nm using a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere.
  • the orientation of the liquid crystal compound was fixed, and a TAC film A1 having a positive A plate A1 was prepared. ..
  • the thickness of the positive A plate A1 was 2.5 ⁇ m, and the Re (550) was 144 nm. Further, the positive A plate A1 satisfied the relationship of Re (450) ⁇ Re (550) ⁇ Re (650). Re (450) / Re (550) was 0.82.
  • composition A1 ⁇ -The following polymerizable liquid crystal compound L-1 43.50 parts by mass-The following polymerizable liquid crystal compound L-2 43.50 parts by mass-The following polymerizable liquid crystal compound L-3 8.00 parts by mass-The following polymerizable liquid crystal Sex compound L-4 5.00 parts by mass ⁇
  • the following polymerization initiator PI-1 0.55 parts by mass ⁇
  • the following leveling agent T-1 0.20 parts by mass ⁇ Cyclopentanone 235.00 parts by mass ⁇ ⁇
  • the film was transported to a drying zone at 70 ° C. for 10 seconds and dried to prepare a cellulose acylate film 1 subjected to alkali saponification treatment.
  • the coating liquid 3 for forming an orientation layer having the following composition was continuously coated on the alkali saponified cellulose acylate film 1 using the wire bar of # 8. The obtained film was dried with warm air at 60 ° C. for 60 seconds and further with warm air at 100 ° C. for 120 seconds to form an oriented layer.
  • ⁇ (Coating liquid for forming an alignment layer 3) ⁇ Polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray, PVA103) 2.4 parts by mass Isopropyl alcohol 1.6 parts by mass Methanol 36 parts by mass Water 60 parts by mass ⁇ ⁇
  • a coating liquid C1 for forming a positive C plate which will be described later, is applied onto the alignment layer, and the obtained coating film is aged at 60 ° C. for 60 seconds, and then an air-cooled metal halide lamp (eye graphics) of 70 mW / cm 2 under air.
  • a positive C plate C1 having a thickness of 0.5 ⁇ m was prepared by vertically aligning the liquid crystal compound by irradiating an ultraviolet ray of 1000 mJ / cm 2 with (manufactured by Co., Ltd.) and immobilizing the orientation state. ..
  • the Rth (550) of the obtained positive C plate was -60 nm.
  • a and b represent the content (mass%) of each repeating unit with respect to all the repeating units, a represents 90% by mass, and b represents 10% by mass.

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Abstract

本発明の課題は、表面からの圧力耐性に優れた光学積層体およびこれを有する表示装置を提供することである。本発明の光学積層体は、表面保護層と、第１粘接着層と、光吸収異方性層と、第２粘着層と、をこの順に有し、第１粘接着層の押し込み弾性率が光吸収異方性層の押し込み弾性率よりも大きく、光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有する光吸収異方性層形成用組成物から形成された層であり、光吸収異方性層の厚みが５μｍ未満である。

Description

光学積層体および表示装置
　本発明は、光学積層体および表示装置に関する。
　従来、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置に代表される表示装置として、偏光子（光吸収異方性層）を含む光学積層体を有する表示装置が広く用いられている。
　近年、折りたたみまたは巻き取りができる表示装置が開発されており、このような表示装置に使用される光学積層体は、薄型であることが求められる。例えば、光学積層体を薄型化する方法の一つとして、二色性物質および液晶性化合物を含有する組成物を塗布して形成される偏光子（光吸収異方性層）を含む光学積層体を用いる方法が知られている（特許文献１）。
国際公開第２０１９／１５１３３４号
　光学積層体は、その表面を保護するために表面保護層を有する場合がある。表面保護層は、光学積層体の最表面に配置される層であり、粘接着層によって光吸収異方性層と貼合されることが多い。
　ここで、光学積層体を含む表示装置は、スタイラスペン等を表面保護層に押し当てて操作される場合がある。この場合、スタイラスペンによる圧力によって光吸収異方性層が変形して、表示性能が損なわれるという問題が生じることがある。そのため、表面からの圧力耐性に優れた光学積層体が求められる。
　本発明者らは、特許文献１に記載されているような偏光子（光吸収異方性層）を、粘接着層を介して表面保護層と貼合して得られた光学積層体について検討したところ、表面からの圧力耐性が不十分となる場合があり、改善の余地があることを明らかとした。
　そこで、本発明は、表面からの圧力耐性に優れた光学積層体およびこれを有する表示装置を提供することを課題とする。
　本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、表面保護層と、第１粘接着層と、光吸収異方性層と、をこの順に有する光学積層体において、第１粘接着層の押し込み弾性率が光吸収異方性層の押し込み弾性率よりも大きければ、光吸収異方性層の厚みが５μｍ未満という薄膜であっても、表面からの圧力耐性に優れた光学積層体が得られることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
［１］
　表面保護層と、第１粘接着層と、光吸収異方性層と、第２粘着層と、をこの順に有し、
　上記第１粘接着層の押し込み弾性率が、上記光吸収異方性層の押し込み弾性率よりも大きく、
　上記光吸収異方性層が、液晶性化合物および二色性物質を含有する光吸収異方性層形成用組成物から形成された層であり、
　上記光吸収異方性層の厚みが５μｍ未満である、光学積層体。
［２］
　上記光吸収異方性層の厚みが３μｍ未満である、［１］に記載の光学積層体。
［３］
　上記第１粘接着層が、ポリビニルアルコール系接着剤を含む、［１］または［２］に記載の光学積層体。
［４］
　上記第１粘接着層が、紫外線硬化型接着剤を含む、［１］または［２］に記載の光学積層体。
［５］
　上記第１粘接着層と、上記第２粘着層と、の間に配置されている層の厚みが１０μｍ以下である、［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体。
［６］
　上記第２粘着層の貯蔵弾性率が０．５ＭＰａ以上である、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体。
［７］
　上記光吸収異方性層形成用組成物中のラジカル重合性基のモル含有率が、上記光吸収異方性層形成用組成物の全固形分に対して、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上である、［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］
　さらに、ラジカル重合性基を有する繰り返し単位を有する重合体を含有する光配向層を有し、
　上記光配向層が、上記光吸収異方性層の表面に接するように配置されている、［１］～［７］のいずれかに記載の光学積層体。
［９］
　上記光吸収異方性層の可視光平均透過率が４５％以上である、［１］～［８］のいずれかに記載の光学積層体。
［１０］
　［１］～［９］のいずれかに記載の光学積層体を有する、表示装置。
　本発明によれば、表面からの圧力耐性に優れた光学積層体およびこれを有する表示装置を提供できる。
図１は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。
　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
　また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
［光学積層体］
　本発明の光学積層体（以下、「本発明の積層体」ともいう。）は、表面保護層と、第１粘接着層と、光吸収異方性層と、第２粘着層と、をこの順に有する。また、上記第１粘接着層の押し込み弾性率は、上記光吸収異方性層の押し込み弾性率よりも大きい。また、上記光吸収異方性層は、液晶性化合物および二色性物質を含有する光吸収異方性層形成用組成物から形成された層である。また、上記光吸収異方性層の厚みは、５μｍ未満である。
　本発明の積層体は、表面からの圧力耐性に優れる。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
　光学積層体を含む表示装置は、スタイラスペン等を表面保護層に押し当てて操作される場合がある。この場合、スタイラスペンによる圧力によって光吸収異方性層が変形して、表示性能が損なわれるという問題が生じることがある。
　この問題を解決する方法の一つとして、例えば、表面保護層の硬度を向上させる方法が考えられるが、本発明者らは、表面保護層の硬度を向上させただけでは、光吸収異方性層の変形を充分に抑制できず、表示性能の低下を充分に抑制できないことを知見した。
　そこで、本発明者らが検討を重ねたところ、表面保護層と光吸収異方性層との間に配置された第１粘接着層の押し込み弾性率が、光吸収異方性層の押し込み弾性のよりも大きければ、光吸収異方性層の変形を抑制できることを見出した。
　この理由としては、表面からの応力が光吸収異方性層に伝わった後、光吸収異方性層の変形を抑制するために第１粘接着層の弾性率が光吸収異方性層よりも大きいことが寄与しているのではないかと推定される。
　まず、図面を用いて、本発明の積層体について説明する。
　図１は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。
　図１に示される積層体１００は、表面保護層１０と、第１粘接着層２０と、光吸収異方性層３０と、第２粘着層４０と、をこの順に有する。
　ここで、第１粘接着層２０の押し込み弾性率は、光吸収異方性層３０の押し込み弾性率よりも大きい。また、光吸収異方性層３０の厚みは、５μｍ未満である。また、光吸収異方性層３０は、液晶性化合物および二色性物質を含有する光吸収異方性層形成用組成物から形成された層である。
　積層体１００は、光吸収異方性層３０の第１粘接着層２０とは反対側の表面に接するように、光配向層（図示せず）を有していてもよい。すなわち、光配向層は、光吸収異方性層３０と第２粘着層４０との間に配置される。
 〔表面保護層〕
　本発明の積層体は、表面保護層を有する。本発明の積層体は、表示装置の一部として用いられるが、その場合の最も視認側に、表面保護層を有することが好ましい。
　表面保護層は、１層のみからなる層であってもよいし、２層以上が積層された層であってもよい。
　本発明において、特に断りのない限り、第１粘接着層の光吸収異方性層とは反対側に配置されている層は、表面保護層に該当するものとする。
　表面保護層は、硬度が高いことも好ましいが、回復性の高いことも好ましい。また、空気界面で生じる表面反射を抑制した低反射層も好ましい。
　表面保護層の好適態様の一つとしては、透明支持体と表面コート層の構成が想定される。以下、透明支持体および表面コート層について記載する。
　＜透明支持体＞
　本発明でいう「透明」とは、可視光平均透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
　透明支持体としては、プラスチック基板が好ましい。
　プラスチック基板を構成するプラスチックとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロースおよびセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；ポリフェニレンオキシドおよびポリイミドなどが挙げられる。中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、とりわけ好ましくは、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステルである。フレキシブルの観点では、ポリイミドが優れている。ポリイミドは、屈折率が高く屈折率ギャップが大きくなる可能性があるが、シリカ粒子を混入させる等の方法で屈折率を調整することも好ましい。ポリイミドの詳細については、国際公開２０１８／０６２２９６号公報や国際公開２０１８／０６２１９０号公報に記載されている。
　透明支持体の厚さは、実用的な取扱いができる程度の質量である点、および、十分な透明性が確保できる点から、強度および加工性を維持できる程度に薄い方が好ましい。
　透明支持体の厚みは、５～３００μｍが好ましく、５～１００μｍがより好ましい。
　なお、本発明の積層体を円偏光板として使用する場合（特にモバイル機器用途の円偏光板として使用する場合）、透明支持体の厚みは５～５０μｍ程度が好ましい。
　＜表面コート層＞
　表面コート層としては、反射防止層、防眩層、ハードコート層、混合層、および、耐擦傷層からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。これらは公知の層材料が使用される。なお、これらの層は、複数層が積層してもよい。
　反射防止層は、いわゆる円偏光板の反射防止板とは異なり、光の干渉を用いた構造により反射を低下させる構造体を指す。反射防止層は、最も単純な構成として、低屈折率層のみからなる構成であってもよい。さらに反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、さらに多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８－１２２５０４号公報、特開平８－１１０４０１号公報、特開平１０－３００９０２号公報、特開２００２－２４３９０６号公報、特開２０００－１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８－２６２１８７号公報記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０－２０６６０３号公報、特開２００２－２４３９０６号公報、特開２００７－２６４１１３号公報等）等が挙げられる。
　本発明の積層体がフォルダブル（折りたたみ）用途有機ＥＬ表示装置に適用される場合、表面コート層を構成する層として特開２０１８－５６０６９号公報の記載を参考にできる。フォルダブル（折りたたみ）用途有機ＥＬ表示装置では、カバーガラスが使用できないため、カバーガラスの代わりに、表面保護層が必要となる。例えば、特開２０１８－５６０６９号公報の［００３０］～［００４０］段落において、曲率半径３ｍｍ以下（例えば、３ｍｍ、２ｍｍ、１ｍｍ）で好ましくは２０万回、より好ましくは３０万回、さらに好ましくは５０万回折り曲げ可能な屈曲性を有する基材として、ポリイミド系樹脂が好ましいこと、ハードコート層として、紫外線硬化型アクリル系樹脂にシリカ粒子やかご状シルセスキオキサン化合物などを配合した有機無機ハイブリッド材料が好ましいこと、が記載されている。
　表面コート層は、特開２０１５－２１２３５３号公報や、特開２０１７－００８１４８号公報等に記載された構造のシルセスキオキサン化合物を用いたハードコート層を含むことが好ましい。
　混合層としては、上下に位置する層間の密着性を付与するという機能を有する層であって、例えば、国際公開第２０２０／０２１９３１号に記載の混合層を用いることができる。
　耐擦傷層は、積層体表面の傷付きを抑制するための層であって、例えば、国際公開第２０２０／０２１９３１号に記載の耐擦傷層を用いることができる。
　表面保護層の厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる理由から、２０～１００μｍであるのが好ましく、３０～８０μｍであることがより好ましく、３５～６５μｍであるのがさらに好ましい。ここで、表面保護層の厚みとは、表面保護層が複数の層からなる場合には、各層の合計厚みを意味する。
　ここで、本発明の積層体おける各層の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって積層体の断面を観察して得られる画像に基づいて算出される値であり、各層における任意の５箇所の厚みの算術平均値を意味する。
 〔第１粘接着層〕
　本発明の積層体は、第１粘接着層を有する。本明細書において、粘接着層とは、接着剤から構成される接着層、または、粘着剤から構成される粘着層を意味する。
　第１粘接着層は、本発明の効果がより優れる点から、接着層であるのが好ましい。
　なお、上述した表面保護層と光学吸収異方性層との間に２以上の粘接着層を有する場合、上記第１粘接着層は上記２以上の粘接着層のうち光吸収異方性層に最も近い粘接着層を指す。
　接着層を構成する接着剤としては、特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点から、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系接着剤、または、硬化型接着剤であることが好ましい。二色性色素の耐久性の観点から、酸素透過性の低いポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系接着剤であることがより好ましい。
　硬化型接着剤は、活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましく、紫外線（ＵＶ）硬化型接着剤がより好ましい。
　ＵＶ硬化型接着剤としては、ラジカル重合硬化型接着剤およびカチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。
　ラジカル重合硬化型接着剤としては、（メタ）アクリレート系接着剤が挙げられる。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。
　カチオン重合硬化型接着剤としては、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物が挙げられる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。
　粘着層を構成する粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。
　第１粘接着層の厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる理由から、０．０１～３０μｍであるのが好ましく、０．０２～２０μｍであることがより好ましく、０．０５～１０μｍであるのがさらに好ましい。
　第１粘接着層の押し込み弾性率は、光吸収異方性層の押し込み弾性率よりも大きいのであれば特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点から、２～１５ＧＰａであるのが好ましく、３～１０ＧＰａであるのがより好ましく、４～１０ＧＰａであるのがさらに好ましい。
　本発明において、各層の押し込み弾性率は、ナノインデンテーション法により測定される弾性率を意味する。
　ナノインデンテーション法による弾性率の測定は、例えば、ナノインデンター（商品名「Ｔｒｉｂｏｉｎｄｅｎｔｅｒ　ＴＩ－９５０」，Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社製）を使用して行うことができる。本測定において、測定モードは単一押込み測定とし、測定温度は２５℃とし、使用圧子はキューブコーナー圧子とし、測定対象物に対する圧子の押込み荷重は５０μＮとし、その圧子の押込み速度は５μｍ/秒とし、測定対象物からの圧子の引抜き速度は５μｍ/秒とする。ナノインデンテーション法に基づく弾性率の導出はOliver-Pharr法にて行い、使用装置にて行われる。具体的な導出手法については、例えば、Hand book of Micro / nano Tribology (SecondEdition) Edited by Bharat Bhushan, CRCPress (ISBN0-8493-8402-8)に説明されている通りである。
 〔光吸収異方性層〕
　本発明の積層体は、光吸収異方性層を有する。
　ここで、上記光吸収異方性層は、液晶性化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性層形成用組成物（以下、「液晶組成物」ともいう。）から形成された光吸収異方性層である。光吸収異方性層は、本発明の効果がより優れる理由から、ヨウ素を含有しないのが好ましい。
　＜光吸収異方性層形成組成物（液晶組成物）＞
　以下において、液晶組成物に含まれる成分について説明する。
　（液晶性化合物）
　液晶組成物は、液晶性化合物を含有する。液晶性化合物を含有することで、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質を高い配向度で配向させることができる。
　液晶性化合物は、二色性を示さない液晶性化合物である。
　液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
　高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、光吸収異方性層の強度（特に、耐屈曲性）が優れるという観点から、末端に架橋性基（重合性基）を有するのが好ましい。架橋性基としては、例えば、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられる。これらの中でも、反応性および合成適性の向上の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基がより好ましい。
　低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。低分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（重合性基）を有するのが好ましい。架橋性基の具体例は、上記の通りである。
　液晶性化合物の含有量は、液晶組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
　液晶性化合物は、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。液晶性化合物が２種以上含まれる場合、上記液晶性化合物の含有量は、液晶性化合物の含有量の合計を意味する。
　液晶性化合物は、本発明の効果がより優れる理由から、下記式（１Ｌ）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１Ｌ）」とも言う）を含む高分子液晶性化合物を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　上記式（１Ｌ）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
　Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１Ｌ）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
　式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ４（ＯＲ５）２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ４と同義であり、複数のＲ５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。
　Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
　Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲ３Ｒ４－などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基Ｗ（後述）を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。
　ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
　ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１Ｌ）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
　また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
　メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
　メソゲン基は、本発明の効果がより優れる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。
　メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基または置換基Ｗで置換されていてもよい。
　Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
　＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
　Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
　Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
　２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
　２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
　Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
　式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｇ－、－（ＣＦ２）ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）２－Ｃ（Ｚ’）２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
　Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合または連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１およびＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
　Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、上述の架橋性基によって、さらに置換されていてもよい。
　Ｔ１の主鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
　繰り返し単位（１Ｌ）の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましい。
　本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
　繰り返し単位（１Ｌ）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、繰り返し単位（１Ｌ）が高分子液晶性化合物中に２種含まれているのがよい。
　高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１Ｌ）を２種含む場合、本発明の効果がより優れる理由から、一方（繰り返し単位Ａ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基であり、他方（繰り返し単位Ｂ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基以外の基であることが好ましい。
　上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、本発明の効果がより優れる理由から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、または、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、または、シアノ基であることがより好ましい。
　高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、本発明の効果がより優れる理由から、５０／５０～９５／５であることが好ましく、６０／４０～９３／７であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。
　また、高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（１Ｌ）とももに、メソゲン基を有しない繰り返し単位を有していてもよい。メソゲン基を有しない繰り返し単位としては、式（１Ｌ）におけるＭ１が単結合である繰り返し単位が挙げられる。
　高分子液晶性化合物がメソゲン基を有しない繰り返し単位を有する場合、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０質量％超２０質量％以下が好ましい。
（重量平均分子量）
　高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
　特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
　また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
　ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
　・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
　・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
　・カラム：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
　・カラム温度：２５℃
　・試料濃度：０．１質量％
　・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
　・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン　Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
　本明細書における置換基Ｗについて説明する。
　置換基Ｗとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、および、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、および、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基、および、メタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、アセチルアミノ基、および、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、および、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは炭素数１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、マレイミド基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、および、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、および、トリフェニルシリル基などが挙げられる）、カルボキシ基、スルホン酸基、および、リン酸基などが挙げられる。
　本発明における液晶性化合物は、本発明の効果がより優れる理由から、下記式（ＬＣ）で表される低分子液晶性化合物を含んでいてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式（ＬＣ）中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に架橋性基または末端基を表し、ＳＰＬ１およびＳＰＬ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、ＭＬはメソゲン基を表し、Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方は架橋性基（重合性基）である。
　ＳＰＬ１およびＳＰＬ２はそれぞれ独立に、上記式（１Ｌ）中のＳＰ１と同様の構造を表すため、その説明を省略する。
　ＭＬは、上記式（１Ｌ）中のＭ１と同様の構造を表すため、その説明を省略する。
　Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ(ＯＨ)2）、ホスファト基（－ＯＰＯ(ＯＨ)2）、スルファト基（－ＯＳＯ3Ｈ）、下記式（Ｐ１）～（Ｐ－３０）で表される架橋性基（重合性基）を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　上記式（Ｐ－１）～（Ｐ－３０）中、ＲＰは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖、分岐、または環状のアルキレン基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ(ＯＨ)2）、ホスファト基（－ＯＰＯ(ＯＨ)2）、スルファト基（－ＯＳＯ3Ｈ）、を表し、複数のＲＰはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
　架橋性基の好ましい態様としては、ラジカル重合性基、またはカチオン重合性基であることが挙げられ、ラジカル重合性基としては、上記式（Ｐ－１）で表されるビニル基、上記式（Ｐ－２）で表されるブタジエン基、上記式（Ｐ－４）で表される（メタ）アクリロイルオキシ基、上記式（Ｐ－５）で表される（メタ）アクリルアミド基、上記式（Ｐ－６）で表される酢酸ビニル基、上記式（Ｐ－７）で表されるフマル酸エステル基、上記式（Ｐ－８）で表されるスチリル基、上記式（Ｐ－９）で表されるビニルピロリドン基、上記式（Ｐ－１１）で表される無水マレイン酸、および、上記式（Ｐ－１２）で表されるマレイミド基が好ましく、カチオン重合性基としては、上記式（Ｐ－１８）で表されるビニルエーテル基、上記式（Ｐ－１９）で表されるエポキシ基、および、上記式（Ｐ－２０）で表されるオキセタニル基が好ましい。中でも、ラジカル重合性基である（メタ）アクリロイルオキシ基が特に好ましい。
　低分子液晶性化合物としては、具体的には以下に示す構造が挙げられるが、低分子液晶性化合物はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　低分子液晶性化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶性を示す温度範囲は、取り扱いや製造適性の観点から、室温（２３℃）～３００℃が好ましく、４０～２５０℃であることがより好ましい。
　（二色性物質）
　液晶組成物は、二色性物質を含有する。本発明において、二色性物質とは、方向によって吸光度が異なる色素を意味する。二色性物質を含有することで、液晶層の配向度が向上する。
　二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、および、無機物質（例えば量子ロッド）などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
　具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、国際公開第２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、国際公開２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
　二色性物質は、架橋性基（重合性基）を有していてもよい。
　上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　二色性物質の含有量は、形成される光吸収異方性層の配向度がより高くなり、耐熱性がより向上する理由から、液晶組成物中の固形分１００質量％に対して１～８０質量％であることが好ましく、２～７０質量％であることがより好ましく、３～６０質量％であることがさらに好ましい。
　二色性物質の好適態様としては、以下に示す第１の二色性物質、第２の二色性物質および第３の二色性物質が挙げられる。二色性物質は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
・第１の二色性物質
　第１の二色性物質は、最大吸収波長が５６０ｎｍ以上７００ｎｍ以下（より好ましくは５６０～６５０ｎｍ、特に好ましくは５６０～６４０ｎｍ）の範囲に最大吸収波長を有する二色性物質である。
　本明細書における二色性物質の最大吸収波長（ｎｍ）は、二色性物質を良溶媒中に溶解させた溶液を用いて、分光光度計によって測定される波長３８０～８００ｎｍの範囲における紫外可視光スペクトルから求められる。
　第１の二色性物質は、式（１）で表される化合物であるのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基を表し、本発明の効果がより優れる点から、フェニレン基が好ましい。
　式（１）中、Ｒ１は、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、または、アルキルシリル基を表す。
　Ｒ１における置換基を有するアルキル基としては、アルキル基の炭素原子が－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ１’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－または－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換された基が挙げられる。アルキル基の炭素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
　Ｒ１におけるアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、２～１８がより好ましく、４～１４がさらに好ましく、８～１２が特に好ましい。
　Ｒ１におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれの構造であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
　Ｒ１が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－Ｎ（Ｒ１’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（ＣＮ）２によって置換されていてもよい。各基が有する水素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
　Ｒ１’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ１’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
　式（１）中、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、または、アリールアミド基を表す。
　Ｒ２およびＲ３における置換基を有するアルキル基としては、アルキル基の炭素原子が－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ3）2－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ3）2－、－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換された基が挙げられる。アルキル基の炭素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
　Ｒ２およびＲ３におけるアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、１～８がさらに好ましく、１～４が特に好ましい。
　Ｒ２およびＲ３におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれの構造であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
　Ｒ２およびＲ３が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＨ基、－Ｎ（Ｒ２’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＣＮ、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（ＣＮ）２、によって置換されていてもよい。各基が有する水素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
　Ｒ２’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ２’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよいし、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成してもよい。
　本発明の効果がより優れる点から、Ｒ１は電子吸引性基であることが好ましく、Ｒ２およびＲ３は電子供与性が低い基であることが好ましい。
　Ｒ１が電子吸引性基である基の具体例として、Ｒ１としては、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、および、炭素原子が－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－および－Ｏ－で置換されたアルキル基が挙げられる。炭素原子が－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－および－Ｏ－で置換されたアルキル基としては、Ｒ１１－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－Ｒ１２－Ｏ－で表される基が好ましい。Ｒ１１は、炭素数１～６（好ましくは炭素数１～３）の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、Ｒ１２は、炭素数１～２０（好ましくは炭素数２～１８）の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表す。
　Ｒ２およびＲ３が電子供与性の低い基である場合の具体例としては、下記の構造の基が挙げられる。なお下記の構造の基は、上記式（１）において、Ｒ２およびＲ３が結合する窒素原子を含む形で示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　第１の二色性物質の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000012
・第２の二色性物質
　第２の二色性物質は、最大吸収波長が４５５ｎｍ以上５６０ｎｍ未満（より好ましくは４５５～５５５ｎｍ、特に好ましくは４５５～５５０ｎｍ）の範囲に最大吸収波長を有する二色性物質である。
　特に、最大吸収波長が５６０～７００ｎｍである第１の二色性物質と、最大吸収波長が４５５ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の第２の二色性物質と、を用いれば、光吸収異方性層の色味調整がより容易になる。
　第２の二色性物質は、式（２）で表される化合物であるのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式（２）中、ｎは１または２を表し、本発明の効果がより優れる点から、１が好ましい。
　式（２）中、Ａｒ３、Ａｒ４およびＡｒ５はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基または置換基を有していてもよい複素環基を表し、本発明の効果がより優れる点から、置換基を有していてもよいフェニレン基が好ましい。
　複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよい。
　芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
　芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
　式（２）中、Ｒ４の定義は、式（１）中のＲ１と同様である。
　式（２）中、Ｒ５およびＲ６の定義はそれぞれ、式（１）中のＲ２およびＲ３と同様である。
　耐久性の観点からは、Ｒ４は電子吸引性基であることが好ましく、Ｒ５およびＲ６は電子供与性が低い基であることが好ましい。
　このような基のうち、Ｒ４が電子吸引性基である場合の具体例は、Ｒ１が電子吸引性基である場合の具体例と同様であり、Ｒ５およびＲ６が電子供与性の低い基である場合の具体例は、Ｒ２およびＲ３が電子供与性の低い基である場合の具体例と同様である。
　特に、Ｒ５およびＲ６は、少なくとも一方がメチル基またはエチル基であるのが好ましく、本発明の効果がより優れる点から、少なくとも一方がメチル基であるのがより好ましく、一方のみがメチル基であるのが特に好ましい。
　第２の二色性物質の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
・第３の二色性物質
　第３の二色性物質は、３８０ｎｍ以上４５５ｎｍ未満（より好ましくは、３８５～４５４ｎｍ）の範囲に最大吸収波長を有する二色性物質である。
　第３の二色性物質は、第１の二色性物質および第２の二色性物質以外の二色性物質であり、具体的には、第１の二色性物質および第２の二色性物質とは化学構造が異なっている。
　第３の二色性物質の具体例としては、国際公開第２０１７／１９５８３３号に記載の式（１）で表される化合物が挙げられる化合物のうち、上記第１の二色性物質および上記第２の二色性物質以外の化合物が挙げられる。
　液晶組成物中のラジカル重合性基のモル含有率は、液晶組成物の全固形分に対して、０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上が好ましく、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上がより好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以上がさらに好ましい。上記モル含有率が１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であると、膜の変形が抑制されるという理由によって、本発明の効果がより優れる。
　上記モル含有率の上限値は、特に制限されないが、３．０ｍｍｏｌ／ｇ以下で用いられることが多い。
　ここで、上記ラジカル重合性基のモル含有率とは、液晶組成物の固形分１ｇに対する、液晶組成物に含まれるラジカル重合性基の合計モル量（ｍｏｌ）の割合を意味する。液晶組成物に含まれるラジカル重合性基を有する化合物の含有量（質量％）、分子量および化学構造から計算することが可能である。
　なお、ラジカル重合性基の具体例としては、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、および、マレイミド基等が挙げられる。ラジカル重合性基は、上述の液晶性化合物および二色性物質の少なくとも一方に含まれることが好ましい。
　＜溶媒＞
　液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
　溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、および、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキソラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、および、シクロペンチルメチルエーテルなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン（クロロホルム）、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル、炭酸ジエチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、および、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　これらの溶媒のうち、本発明の効果がより優れる理由から、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。
　液晶組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、液晶組成物の全質量に対して、７０～９９．５質量％であることが好ましく、８０～９９質量％であることがより好ましく、８５～９８質量％であることが特に好ましい。
　＜界面改良剤＞
　液晶組成物は、界面改良剤（界面活性剤）を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
　界面改良剤としては、液晶性化合物を水平配向させるものが好ましく、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。また、特開２００７－２７２１８５号公報の［００１８］～［００４３］等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーも用いることができる。界面改良剤としては、これら以外の化合物を用いてもよい。
　液晶組成物が界面改良剤を含有する場合、液晶組成物中の界面改良剤の含有量は、液晶組成物の全固形分に対して、０．１～２．０質量％が好ましく、０．１～１．０質量％がより好ましい。
　光吸収異方性層が界面改良剤を含む場合、光吸収異方性層の全質量に対する界面改良剤の含有量は、液晶組成物の全固形分に対する界面改良剤の含有量と同じであるのが好ましい。
　＜重合開始剤＞
　液晶組成物は、本発明の効果がより優れる理由から、重合開始剤を含有することが好ましい。
　重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）等が挙げられる。
　このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９およびイルガキュアＯＸＥ－０１等が挙げられる。
　液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、液晶組成物の全固形分に対して、０．１～６質量％が好ましく、０．５～４質量％がより好ましい。
　＜光吸収異方性層の形成方法＞
　上述した液晶組成物を用いた光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、例えば、上記液晶組成物を光配向層（例えば、後述する光配向層）上に塗布して塗膜を形成する工程（以下、「塗膜形成工程」ともいう。）と、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
　（塗膜形成工程）
　塗膜形成工程は、液晶組成物を光配向層上に塗布して塗膜を形成する工程である。
　上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、光配向層上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
　液晶組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
　（配向工程）
　配向工程は、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。
　なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
　配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗膜から除去することができる。乾燥処理は、塗膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
　ここで、液晶組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗膜を乾燥して、塗膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗膜（すなわち、光吸収異方性層）が得られる。
　乾燥処理が塗膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
　塗膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。
　配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗膜を光吸収異方性層として好適に使用できる。
　加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
　配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
　以上の工程によって、光吸収異方性層を得ることができる。
　なお、本態様では、塗膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
　（他の工程）
　光吸収異方性層の形成方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
　硬化工程は、例えば、光吸収異方性層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
　また、光配向層が、光反応性のラジカル重合性基を有する化合物を含有している場合、ラジカル重合開始剤を光配向層に含ませない方法、または、酸素濃度の高い環境で露光を行う方法などで光配向層の表面に未反応のラジカル重合性基を残存させることができる。この光配向層の表面に存在する未反応のラジカル重合性基と、光吸収異方性層のラジカル重合性基とを「硬化工程」で反応させることにより、光配向層と光吸収異方性層との密着性を高めることが可能となる。
　硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
　露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性層に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
　また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
　光吸収異方性層の厚みは、５μｍ未満であり、３μｍ以下が好ましく、２μｍ以下がより好ましい。
　ここで、本発明者らは、光吸収異方性層の厚みが５μｍ未満である場合、積層体の表面からの圧力耐性の低下が特に顕著になることを知見しているが、本発明の積層体を用いることで、この問題を解決できる。
　光吸収異方性層の厚みの下限値は、０．１μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上がより好ましい。
　光吸収異方性層の押し込み弾性率は、第１粘接着層の押し込み弾性率よりも小さいのであれば特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点から、０．１～５．０ＧＰａであるのが好ましく、０．５～３．５ＧＰａであるのがより好ましく、１～３ＧＰａであるのがさらに好ましい。
　光吸収異方性層の押し込み弾性率に対する、第１粘接着層の押し込み弾性率の比率（第１粘接着層の押し込み弾性率／光吸収異方性層の押し込み弾性率）は、１よりも大きいが、本発明の効果がより優れる点から、１．５以上が好ましい。
　上記比率（第１粘接着層の押し込み弾性率／光吸収異方性層の押し込み弾性率）の上限値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点から、１０以下が好ましい。
　光吸収異方性層の可視光平均透過率は、４５％以上が好ましく、４８％以上がより好ましく、５０％以上がさらに好ましい。なお、可視光平均透過率の上限は、１００％である。光吸収異方性層の可視光平均透過率が４５％以上であれば、輝度向上に有利である。
　本発明において、可視光平均透過率は、可視光領域（波長４００ｎｍ～７００ｎｍ）において、５ｎｍ刻みの透過率の算術平均値を意味する。透過率の測定には、分光光度計（例えば、マルチチャンネル分光器（ＯＣＥＡＮ　ＯＰＴＩＣＳ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）が用いられる。
 〔配向層〕
　本発明の積層体は、配向層を有することが好ましい。配向層としては、例えば、光配向層、ラビング処理配向層等が挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、光配向層が好ましい。
　配向層は、光吸収異方性層の表面に接するように配置されていることが好ましい。
　配向層の厚みは、本発明の効果がより優れる理由から、０．０５～１０μｍであることが好ましく、０．１～５μｍであることがより好ましく、０．２～３μｍであることがさらに好ましい。
　＜光配向層＞
　光配向層は、光により配向規制力が付与された層である。
　光配向層は、本発明の効果がより優れる点から、ラジカル重合性基を有する繰り返し単位を有する重合体を含むことが好ましく、ラジカル重合性基を有する繰り返し単位と、シンナモイル基を有する繰り返し単位と、の共重合体を含むことがより好ましい。ラジカル重合性基の具体例は、上述した通りであり、中でも（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　光配向層は、本発明の効果がより優れる理由から、光反応性基を有する化合物（光活性化合物）を含有する組成物（以下、「光配向層形成用組成物」とも略す。）をポリマーフィルム上に塗布して塗膜を形成する工程（塗膜形成工程）と、塗膜を加熱により乾燥させる工程（乾燥工程）と、乾燥後の塗膜に対して偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する工程（光照射工程）とを経ることによって得られる、配向規制力が付与された配向層であることが好ましい。
　（塗膜形成工程）
　上述のとおり、塗膜形成工程は、光配向層形成用組成物をポリマーフィルム上に塗布して塗膜を形成する工程である。
　・ポリマーフィルム
　ポリマーフィルムは、特に限定されず、通常用いるポリマーフィルムを用いることができる。
　ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
　これらのうち、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」ともいう。）を好ましく用いることができる。
　また、加工性および光学性能の観点から、アクリル系ポリマーを用いるのも好ましい。
　アクリル系ポリマーとしては、ポリメチルメタクリレートや、特開２００９－９８６０５号公報の段落［００１７］～［０１０７］に記載されるラクトン環含有重合体等が挙げられる。
　本発明においては、作製される積層体から剥離可能なポリマーフィルムを用いる態様では、セルロース系ポリマーまたはポリエステル系ポリマーを好ましく用いることができる。
　また、本発明においては、上記ポリマーフィルムは、透明であることが好ましい。
　ここで、本発明でいう「透明」とは、可視光平均透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
　ポリマーフィルムの厚さは特に限定されないが、積層体の厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましい。下限は特に限定されないが通常５μｍ以上である。
　・光活性化合物
　上述のとおり、光配向層形成用組成物は、光反応性基を有する化合物（光活性化合物）を含有する。
　光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子（光活性化合物と呼ぶ）の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。
　光反応性基としては、本発明の効果がより優れる理由から、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が挙げられる。
　Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。
　Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基および芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。
　Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。
　Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基（以下、「アゾ基」とも略す。）としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基およびホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とする基が挙げられる。
　これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、スルホン酸基またはハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
　これらの基の中でも、シンナモイル基またはアゾベンゼン基は、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。
（１）好適な態様その１：アゾベンゼン基を有する光活性化合物
　アゾベンゼン基を有する光活性化合物としては、特に好ましいのは下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする光活性化合物である。
　一般式（Ｉ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　式中、Ｒ２１～Ｒ２４はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表すが、但し、Ｒ２１～Ｒ２４で表される基の少なくとも一つは、カルボキシ基またはスルホ基を表し；ｍは１～４の整数を表し、ｎは１～４の整数を表し、ｏは１～５の整数を表し、ｐは１～５の整数を表すが、ｍ、ｎ、ｏ、およびｐが２以上の整数を表すとき、複数個ある、Ｒ２１～Ｒ２４は、同一でも異なっていてもよい。
　一般式（Ｉ）中、Ｒ２１～Ｒ２４でそれぞれ表される置換基としては以下の基を挙げることができる。
　カルボキシ基（アルカリ金属と塩を形成していてもよく、好ましくは塩を形成していないか、ナトリウム塩を形成しているカルボキシ基であり、より好ましくはナトリウム塩を形成しているカルボキシ基である）、スルホ基（アルカリ金属と塩を形成していてもよく、好ましくは塩を形成していないか、ナトリウム塩を形成しているスルホ基であり、より好ましくはナトリウム塩を形成しているスルホ基である）、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
　アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
　アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
　これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ２１～Ｒ２４で表される基は、重合性基または重合性基を含む置換基であってもよい。
　一般式（Ｉ）中、Ｒ２１～Ｒ２４で表される基としては、本発明の効果がより優れる理由から、好ましくは水素原子、カルボキシ基、スルホ基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、より好ましくは水素原子、カルボキシ基、スルホ基、ハロゲン原子、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシカルボニル基であり、特に好ましくは水素原子、カルボキシ基、スルホ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基である。
　Ｒ２１～Ｒ２４で表される基の少なくとも一つは、カルボキシ基またはスルホ基である。カルボキシ基またはスルホ基の置換位置については特に制限はないが、光活性作用の観点では、少なくとも１つのＲ２１および／または少なくとも１つのＲ２２がスルホ基であるのが好ましく、少なくとも１つのＲ２１および少なくとも１つのＲ２２がスルホ基であるのがより好ましい。また、同観点から、少なくとも１つのＲ２３および／または少なくとも１つのＲ２４がカルボキシ基であるのが好ましく、少なくとも１つのＲ２３および少なくとも１つのＲ２４がカルボキシ基であるのがより好ましい。カルボキシ基は、アゾ基に対してメタ位に置換したＲ２３およびＲ２４であるのがさらに好ましい。
　一般式（Ｉ）において、ｍは１～４の整数を表し、ｎは１～４の整数を表し、ｏは１～５の整数を表し、ｐは１～５の整数を表す。好ましくは、ｍは１～２の整数、ｎは１～２の整数、ｏは１～２の整数、ｐは１～２の整数である。
　以下に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を挙げるが、以下の具体例に制限されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　本発明においては、配向度に優れる理由から、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）を有するアゾ基（特に、アゾベンゼン基）を有する化合物としては、上述したＥ－１～Ｅ－１７などで表される、分子量１０００以下の重合性基を持たない低分子量の化合物であることが好ましい。
（２）好適な態様その２：シンナモイル基を有する光活性化合物
　一方、シンナモイル基を有する光活性化合物としては、光配向層の接触による影響が小さい理由から、ポリマーであることが好ましい。
　また、光配向層の接触による影響がさらに小さくなるい理由から、シンナモイル基とともに架橋性基を有するポリマーであることが好ましい。
　架橋性基は、架橋反応を起こして架橋する基であればよいが、例えば、エポキシ基等のカチオン重合性基；アクリレート、メタクリレート等のラジカル重合性基；などが挙げられる。
　一方、密着性改良のためには、光配向層の硬膜には、機能分離して用いることができる点で、カチオン重合性基とラジカル重合性基をどちらも有することがさらに好ましい。
　シンナモイル基とともに架橋性基を有するポリマーとしては、下記式（Ａ）で表されるシンナモイル基を含む繰り返し単位Ａと、下記式（Ｂ）で表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する、光配向性共重合体が好適に挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　上記式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。Ｌ１は、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基を表し、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が、窒素、酸素および硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
　上記式（Ｂ）中、Ｒ７は、水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は、２価の連結基を表し、Ｘは、架橋性基（重合性基）を表す。
　本発明においては、上記式（Ａ）で表されるシンナモイル基を含む繰り返し単位Ａと、上記式（Ｂ）で表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する光配向性共重合体を用いることにより、得られる光配向層の耐溶剤性、および、光吸収異方性層を形成する際の高分子液晶性化合物の配向性（以下、「液晶配向性」と略す。）が良好となる。
　これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
　すなわち、上記式（Ａ）中のＬ１で表される２価の連結基が、窒素原子とシクロアルカン環とを含むことにより、水素結合性および分子剛直性が高まることで分子運動が抑制され、その結果、耐溶剤性が向上したと考えられる。
　同様に、上記式（Ａ）中のＬ１で表される２価の連結基が、窒素原子とシクロアルカン環とを含むことにより、共重合体のガラス転移温度が上昇し、得られる光配向層の経時安定性が向上した結果、光学異方性層を形成するタイミングに寄らず、液晶配向性が良好になったと考えられる。
　次に、上記式（Ａ）中のＬ１が表す、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基について説明する。なお、本発明においては、上述した通り、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部は、窒素、酸素および硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。また、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が窒素原子で置換されている場合は、シクロアルカン環とは別に窒素原子を有していなくてもよい。
　また、上記式（Ａ）中のＬ１が表す２価の連結基に含まれるシクロアルカン環は、炭素数６以上のシクロアルカン環であることが好ましく、その具体例としては、シクロヘキサン環、シクロペプタン環、シクロオクタン環、シクロドデカン環、シクロドコサン環等が挙げられる。
　本発明においては、液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（Ａ）中のＬ１が、
下記式（１）～（１０）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　上記式（１）～（１０）中、＊１は、上記式（Ａ）中の主鎖を構成する炭素原子との結合位置を表し、＊２は、上記式（Ａ）中のカルボニル基を構成する炭素原子との結合位置を表す。
　上記式（１）～（１０）のいずれかで表される２価の連結基のうち、光配向層を形成する際に用いる溶媒に対する溶解性と、得られる光配向層の耐溶剤性とのバランスが良好となる理由から、上記式（２）、（３）、（７）および（８）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましい。
　次に、上記記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６の一態様が表す置換基について説明する。なお、上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６が、置換基ではなく水素原子であってもよいことは上述した通りである。
　上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６の一態様が表す置換基は、シンナモイル基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、
炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、アミノ基、または、下記式（１１）で表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　ここで、上記式（１１）中、＊は、上記式（Ａ）中のベンゼン環との結合位置を表し、
Ｒ９は、１価の有機基を表す。
　ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
　炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基について、直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、
エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられる。
　分岐状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基などが挙げられる。
　環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
　炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基としては、炭素数１～４のフルオロアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基などが挙げられ、中でも、トリフルオロメチル基が好ましい。
　炭素数１～２０のアルコキシ基としては、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、
炭素数６～１８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数６～１４のアルコキシ基がさらに好ましい。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基などが好適に挙げられ、中でも、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基がより好ましい。
　炭素数６～２０のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、具体的には、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
　炭素数６～２０のアリールオキシ基としては、炭素数６～１２のアリールオキシ基が好ましく、具体的には、例えば、フェニルオキシ基、２－ナフチルオキシ基などが挙げられ、中でも、フェニルオキシ基が好ましい。
　アミノ基としては、例えば、第１級アミノ基（－ＮＨ２）；メチルアミノ基などの第２級アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、含窒素複素環化合物（例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなど）の窒素原子を結合手とした基などの第３級アミノ基；が挙げられる。
　上記式（１１）で表される基について、上記式（１１）中のＲ９が表す１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の直鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。
　直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられ、中でも、メチル基またはエチル基が好ましい。
　環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、中でも、
シクロヘキシル基が好ましい。
　なお、上記式（１１）中のＲ９が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を直接または単結合を介して複数組み合わせたものであってもよい。
　本発明においては、シンナモイル基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、
少なくともＲ４が上述した置換基を表していることが好ましく、さらに、得られる光配向性共重合体の直線性が向上し、液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がさらに良好となる理由から、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６がいずれも水素原子を表すことがより好ましい。
　本発明においては、得られる光配向層に光照射した際に反応効率が向上する理由から、上記式（Ａ）中のＲ４が電子供与性の置換基であることが好ましい。
　ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
　これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、液晶配向性がより良好となる理由から、炭素数が６～１６のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数７～１０のアルコキシ基であることがさらに好ましい。
　次に、上記式（Ｂ）中のＬ２が表す２価の連結基について説明する。
　２価の連結基としては、シンナモイル基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、置換基を有していてもよい炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６～１２のアリーレン基、エーテル基（－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（－ＮＨ－）からなる群から選択される少なくとも２以上の基を組み合わせた２価の連結基であることが好ましい。
　ここで、アルキレン基、アリーレン基およびイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基および水酸基などが挙げられる。
　ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
　アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることがさらに好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
　アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることがさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
　アリール基としては、例えば、炭素数６～１２のアリール基が挙げられ、具体的には、
例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
　アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、
ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン－４－イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、チオフェン－３－イルオキシなどが挙げられる。
　アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。
　炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基について、直鎖状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。
　また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２－ジメチルプロピレン基、２－エチル－２－メチルプロピレン基などが挙げられる。
　また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン－ジイル基、ノルボルナン－ジイル基、ｅｘｏ－テトラヒドロジシクロペンタジエン－ジイル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシレン基が好ましい。
　炭素数６～１２のアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、２，２’－メチレンビスフェニル基などが挙げられ、中でも、フェニレン基が好ましい。
　次に、上記式（Ｂ）中のＸが表す架橋性基について説明する。
　上記式（Ｂ）中のＸ（架橋性基）としては、具体的には、例えば、エポキシ基、エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基、および、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基などが挙げられ、中でも、下記式（Ｘ１）～（Ｘ４）からなる群から選択される少なくとも１種の架橋性基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　上記式（Ｘ１）～（Ｘ４）中、＊は、上記式（Ｂ）中のＬ２との結合位置を表し、Ｒ８は、水素原子、メチル基およびエチル基のいずれかを表し、上記式（Ｘ４）中、Ｓは、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を表す。
　ここで、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。
　本発明においては、得られる光学積層体の強度が高くなり、得られる光学積層体を用いて他の層を形成する際のハンドリング性が良好となる理由から、繰り返し単位Ｂが、上記式（Ｂ）中のＸが上記式（Ｘ１）～（Ｘ３）のいずれかで表される架橋性基である繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｂ１」とも略す。）と、上記式（Ｂ）中のＸが上記式（Ｘ４）で表される架橋性基である繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｂ２」とも略す。）とを含んでいることが好ましい。
　上記式（Ａ）で表されるシンナモイル基を含む繰り返し単位Ａとしては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ａ－１～Ａ－４４が挙げられる。なお、下記式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。なお、以下の具体例中、繰り返し単位Ａ－１～Ａ－１０の２価の連結基に含まれる「１，４－シクロヘキシル基」は、シス体およびトランス体のいずれであってもよいが、トランス体であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000022

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000023

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000024

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000026

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000027

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000028

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000029

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000030
　一方、上記式（Ｂ）表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂ（繰り返し単位Ｂ１）としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－１～Ｂ－１７が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000032

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000033
　また、上記式（Ｂ）表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂ（繰り返し単位Ｂ２）としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－１８～Ｂ－４７が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000035

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000036

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000037
　上記光配向性共重合体は、上述した繰り返し単位Ａの含有量ａと、上述した繰り返し単位Ｂの含有量ｂとが、質量比で下記式（１２）を満たしていることが好ましく、下記式（１３）を満たしていることがより好ましく、下記式（１４）を満たしていることがさらに好ましく、下記式（１５）を満たしていることが特に好ましい。
　０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．５　・・・（１２）
　０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．３　・・・（１３）
　０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２　・・・（１４）
　０．０５ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２　・・・（１５）
　また、上記光配向性共重合体は、上述した繰り返し単位Ｂ１とともに上述した繰り返し単位Ｂ２を有する場合、良好な液晶配向性、密着性を維持しつつ、光配向層を含む光学異方性層の強度をより高められる理由から、上述した繰り返し単位Ａの含有量ａと、上述した繰り返し単位Ｂ１の含有量ｂ１と、上述した繰り返し単位Ｂ２の含有量ｂ２とが、質量比で下記式（１６）を満たしていることが好ましく、下記式（１７）を満たしていることがより好ましく、下記式（１８）を満たしていることがさらに好ましい。
　０．０５ ≦ ｂ２ ／ （ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．７　・・・（１６）
　０．１０ ≦ ｂ２ ／ （ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．５　・・・（１７）
　０．１２ ≦ ｂ２ ／ （ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．３５　・・・（１８）
　上記光配向性共重合体は、本発明の効果を阻害しない限り、上述した繰り返し単位Ａおよび繰り返し単位Ｂ以外に、他の繰り返し単位を有していてもよい。
　このような他の繰り返し単位を形成するモノマー（ラジカル重合性単量体）としては、
例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、
アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。
　上記光配向性共重合体の合成法は特に限定されず、例えば、上述した繰り返し単位Ａを形成するモノマー、上述した繰り返し単位Ｂを形成するモノマー、および、任意の他の繰り返し単位を形成するモノマーを混合し、有機溶剤中で、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。
　上記光配向性共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、液晶配向性がより向上する理由から、１００００～５０００００が好ましく、３００００～３０００００がより好ましい。
　上記光配向性共重合体を用いる場合、光配向層形成用組成物における上記光配向性共重合体の含有量は特に限定されないが、有機溶媒を含有する場合、有機溶媒１００質量部に対して０．１～５０質量部であるのが好ましく、０．５～１０質量部であるのがより好ましい。
　（添加剤）
　光配向層形成用組成物は、光活性化合物以外の他の添加剤の１種以上を含んでいてもよい。例えば、添加剤は、光配向層形成用組成物の屈折率調整の目的として添加される。添加剤としては、光活性化合物との相溶性の観点から親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましく、配向能を著しく低下させない程度添加することができる。親水性基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、アミノ基等が挙げられる。
　（有機溶媒）
　光配向層形成用組成物は、光配向層を作製する作業性等の観点から、有機溶媒を含有するのが好ましい。
　有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
　光配向層形成用組成物は、上記以外の他の成分を含有してもよく、例えば、架橋触媒（例えば、熱反応性の酸発生剤）、密着改良剤、レベリング剤、界面活性剤、可塑剤などが挙げられる。
　添加剤を、光配向層形成用組成物の屈折率調整の目的で用いる場合には、添加剤の屈折率は１．４～１．６が好ましく、１．４～１．５５がより好ましい。
　本発明においては、光配向層と光吸収異方性層との密着性が良好となる理由から、光配向層形成用組成物が、光反応性基および架橋性基を有する化合物（例えば、上述した光配向性共重合体など）を含有し、ラジカル重合開始剤を含有しない組成物であることが好ましい。
　（塗布方法）
　光配向層形成用組成物を上述したポリマーフィルム上に塗布する方法としては、例えば、スピンコ－ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法およびアプリケータ法等の塗布法や、フレキソ法等の印刷法などの公知の方法が採用される。
　なお、光学積層体の製造を、ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式の連続的製造方法により実施する場合、塗布方法としては、通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法またはフレキソ法等の印刷法が採用される。
　（乾燥工程）
　上記塗布工程により形成された塗膜を加熱により乾燥させる方法は特に限定されず、乾燥温度は、５０～１８０℃の範囲が好ましく、８０～１５０℃の範囲がより好ましい。
　乾燥時間は、１０秒間～１０分間が好ましく、３０秒間～５分間がより好ましい。
　光配向層形成用組成物が、熱反応性の酸発生剤等の架橋触媒およびカチオン重合性の架橋性基を有する化合物を含有する場合は、この工程で、熱により塗膜の架橋反応による硬化を進めることが好ましい。
　（光照射工程）
　上記乾燥工程後の塗膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。
　また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが２０～８０°であることが好ましい。
　本明細書において、「直線偏光の照射」および「非偏光の照射」は、光活性化合物に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光活性化合物により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
　光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。
　直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
　照射する光は、直線偏光の場合には、配向層に対して上面、または裏面から配向層表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光活性化合物によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
　非偏光の場合には、配向層に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°がさらに好ましい。
　照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。
　パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
　＜ラビング処理配向層＞
　ラビング処理配向層は、ラビング処理により配向規制力が付与された層である。
　ラビング処理配向層に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向層については国際公開第０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。
 〔第２粘着層〕
　本発明の積層体は、第２粘着層を有する。
　第２粘着層は、光吸収異方性層の第１粘接着層とは反対側に配置されている。
　なお、上述した光吸収異方性層と後述の光学異方性層との間に２以上の粘着層を有する場合、上記第２粘着層は上記２以上の粘着層のうち光吸収異方性層に最も近い粘着層を指す。
　粘着層を構成する材料の具体例は、上述した通りであるので、その説明を省略する。
　第２粘着層の厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる理由から、１～５０μｍであるのが好ましく、５～３０μｍであることがより好ましく、５～１５μｍであるのがさらに好ましい。
　第２粘着層の貯蔵弾性率は、本発明の効果がより優れる理由から、０．５ＭＰａ以上が好ましく、１ＭＰａ以上がさらに好ましい。
　第２粘着層の貯蔵弾性率は、特に制限されないが、１０ＭＰａ以下が好ましく、５ＭＰａ以下がより好ましい。
　本発明において、第２粘着層の貯蔵弾性率は、アイティー計測制御株式会社製の動的粘弾性測定装置（ＤＶＡ－２００）を用いて、周波数１Ｈｚ、２５℃の条件で測定した値をいう。
　本発明の積層体において、第１粘接着層と、第２粘着層と、の間に配置されている層の厚みは、本発明の効果がより顕著である点から、１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。第１粘接着層と第２粘着層との間に配置されている層の厚みの下限値は、光吸収異方性層の厚みに等しい。
 〔光学異方性層〕
　本発明の積層体は、液晶性化合物を含有する光学異方性層を有することが好ましい。
　光学異方性層は、第２粘着層の光吸収異方性層とは反対側に配置されていることが好ましい。
　光学異方性層は、光学異方性を有する層であれば特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点から、位相差層であることが好ましく、λ／４板であることがより好ましい。
　ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
　λ／４板の具体例としては、例えば米国特許出願公開２０１５／０２７７００６号などが挙げられる。
　例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
　λ／４板は、本発明の効果がより優れる理由から、液晶性化合物を含む液晶組成物を塗布することにより形成されたものであるのが好ましい。
　λ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムは、ネマチック液晶層またはスメクチック液晶層を発現する液晶モノマーを重合して形成した液晶性化合物（円盤状液晶、棒状液晶性化合物など）の少なくともひとつを含む１層以上の位相差フィルムであることがより好ましい。
　また、光学性能に優れたλ／４板として、逆波長分散性の液晶性化合物を用いることもさらに好ましい。具体的には、国際公開２０１７／０４３４３８号に記載の一般式（ＩＩ）の液晶性化合物が好ましく用いられる。逆波長分散性の液晶性化合物を用いたλ／４板の作成方法についても、国際公開２０１７／０４３４３８号の実施例１～１０や特開２０１６－９１０２２号公報の実施例１の記載を参考にできる。
　光学異方性層（特に、λ／４板）の厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる理由から、０．１～１００μｍであることが好ましく、０．５～５μｍであることがより好ましい。
 〔硬化層〕
　本発明の積層体は、光吸収異方性層とこれに隣接する層と間の屈折率差を小さくする目的で、厚み１００ｎｍ以下の硬化層を有していてもよい。光吸収異方性層の配向層（特に、光配向層）とは反対側に上記硬化層を有するのが好ましい。
　なお、硬化層が第１粘接着層の光吸収異方性層とは反対側に配置されている場合、硬化層は表面保護層に該当する。
　このような硬化層は、特に限定はなく、各種公知のものを使用できる。例えば、液晶性化合物を含む層や、多官能モノマーを含む組成物を硬化させた層があげられる。光学異方性層（特に、光吸収異方性層）とインデックスマッチングを行えるような屈折率を有することが好ましい。
 〔酸素遮断層〕
　本発明の積層体は、耐光性を向上させる目的で、酸素遮断層を有していてもよい。配向層（特に、光配向層）の光吸収異方性層とは反対側および光吸収異方性層の配向層（特に、光配向層）とは反対側のいずれか一方あるいは両方に、酸素遮断層を有するのが好ましい。なお、以下の説明において、配向層（特に、光配向層）の光吸収異方性層とは反対側に有する酸素遮断層を「酸素遮断層１」とも略し、光吸収異方性層の配向層（特に、光配向層）とは反対側に有する酸素遮断層を「酸素遮断層２」とも略す。
　なお、酸素遮断層が第１粘接着層の光吸収異方性層とは反対側に配置されている場合、酸素遮断層は表面保護層に該当する。
　「酸素遮断層」とは、酸素遮断機能のある酸素遮断膜であり、具体例としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、セルロースエーテル、ポリアミド、ポリイミド、スチレン／マレイン酸共重合体、ゼラチン、塩化ビニリデン、および、セルロースナノファイバー、などの有機化合物を含む層が挙げられる。
　なお、本明細書において酸素遮断機能とは、酸素を全く通さない状態に限らず、目的の性能に応じて若干酸素を通す状態も含む。
　透明ポリマーフィルム上に酸素遮断層を設け、その上に前述した一般式（Ｉ）で表されるアゾベンゼン化合物を有する光配向層を設ける場合は、配向性を高める観点から、酸素遮断層に鹸化度９５ｍｏｌ％以上のポリビニルアルコールまたは鹸化度９５ｍｏｌ％以上の変性ポリビニルアルコールを用いることが好ましい。
　また、金属化合物からなる薄層（金属化合物薄層）も挙げられる。金属化合物薄層の形成方法は、目的の薄層を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２－３２２５６１号、特開２００２－３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。
　金属化合物薄層に含まれる成分は、酸素遮断機能を発揮できるものであれば特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、またはＴａ等から選ばれる１種以上の金属を含む酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物などを用いることができる。これらの中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＺｎおよびＴｉから選ばれる金属の酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましく、特に、Ｓｉ、Ａｌ、ＳｎおよびＴｉから選ばれる金属酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。
　また酸素遮断層は、例えば米国特許第６４１３６４５号公報、特開２０１５－２２６９９５号公報、特開２０１３－２０２９７１号公報、特開２００３－３３５８８０号公報、特公昭５３－１２９５３号公報、特開昭５８－２１７３４４号公報、に記載されているように、上記の有機素材を含む層と金属化合物薄層の積層した形態であってもよいし、国際公開２０１１／１１８３６号公報、特開２０１３－２４８８３２号公報、特許第３８５５００４号公報、に記載されているように、有機化合物と無機化合物とをハイブリッドした層であってもよい。
　上記酸素遮断層がλ／４機能を有する光学異方性層の配向層を兼ねてもよい。そのような場合、ポリビニルアルコール、ポリアミド、またはポリイミドを含む酸素遮断層であることが好ましい。
　酸素遮断層の厚みは、有機化合物を含む層の場合は、本発明の効果がより優れる理由から、０．１～１０μｍが好ましく、０．５～５．５μｍがより好ましい。金属化合物薄層の場合は、本発明の効果がより優れる理由から、酸素遮断層の厚みは、５ｎｍ～５００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ～２００ｎｍがより好ましい。
 〔ＵＶ（紫外線）吸収層〕
　本発明の積層体は、光吸収異方性層よりも表面保護層側に、短波光を低減する機能を有する機能層（ＵＶ吸収層）を有することが好ましい。短波光を低減することで、二色性物質の光分解を抑制し、耐光性に優れた積層体を提供できる。
　なお、酸素遮断層が第１粘接着層の光吸収異方性層とは反対側に配置されている場合、酸素遮断層は表面保護層に該当する。
　一態様としては、前述の粘着層もしくは酸素遮断層が、短波光を低減する機能を有することが好ましい。
　また別の一態様として、光吸収異方性層よりも視認側に、新たに短波光を低減する機能を有する層を設けることも好ましい。
　短波光を低減する方法は特に限定されず、吸収剤等による光吸収を用いる方法、および多層膜による波長選択反射を用いる方法が例示される。
　前述の短波光とは４３０ｎｍ以下の波長の光を指す。４３０ｎｍ以下の波長の光を低減することで、太陽光もしくはＪＩＳ　Ｂ　７７５１およびＪＩＳ　Ｂ　７７５４の耐光性試験にて使用される光源光による色素化合物の光分解を抑制できる。
　また可視光における光吸収異方性層の性能に影響を与えないために、４５０ｎｍ以上波長域では透明であることが好ましい。
　ＵＶ吸収層は、本発明の効果がより優れる理由から、波長３６０ｎｍおよび波長４００ｎｍにおける吸光度が０．５以上であるＵＶ吸収層であるのが好ましい。
［表示装置］
　本発明の表示装置は、上述した本発明の積層体を有する。表示装置は、文字や図形当の画像を表示可能な画像表示装置であることが好ましい。
　本発明の表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
　これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、有機ＥＬ表示パネルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、有機ＥＬ表示装置であるのがより好ましい。
 〔液晶表示装置〕
　本発明の表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の光学積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
　なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光学積層体のうち、フロント側（視認側）の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
　以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
　＜液晶セル＞
　液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
　ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、さらに６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
　ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ　ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　ａｌｉｇｎｅｄ　ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ　ｃｒｙｓｔａｌ　ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
　ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
 〔有機ＥＬ表示装置〕
　本発明の表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
　また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容および処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
　なお、以下において、作製例１と３は比較例であり、作製例２、４～２２は実施例である。
［作製例１］
表面保護層Ｈ１として、低反射表面フィルムＣＶ－ＬＣ５（支持体はトリアセチルセルロース、富士フイルム社製）を準備した。
 〔積層体１Ｂの作製〕
　以下のようにして、セルロースアシレートフィルム１、光配向層ＰＡ１、光吸収異方性層Ｐ１がこの順に形成された積層体１Ｂを作製した。
　＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
　（コア層セルロースアシレートドープの作製）
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
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・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート　　　　１００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　１２質量部
・下記化合物Ｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　化合物Ｆ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　（外層セルロースアシレートドープの作製）
　上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ　Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　７６質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　（セルロースアシレートフィルム１の作製）
　上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
　次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
　その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
　＜光配向層ＰＡ１の作製＞
　後述する配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。光配向層ＰＡ１の膜厚は０．３μｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合体ＰＡ－１　　　　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ－１　　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ　　　　　　　　　　０．００５質量部
キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２２０．００質量部
メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　　１２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　重合体ＰＡ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
　酸発生剤ＰＡＧ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
　酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
　＜光吸収異方性層Ｐ１の形成＞
　得られた光配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
　次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
　次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
　その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ１を作製し、積層体１Ｂとした。光吸収異方性層Ｐ１の膜厚は０．５μｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－２　　　　　　　　　　　　　　　０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－３　　　　　　　　　　　　　　　０．５９質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　　２．２１質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｍ－１　　　　　　　　　　　１．３６質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ-０２（ＢＡＳＦ社製）　　 ０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　Ｄ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
　Ｄ－２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
　Ｄ－３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
　高分子液晶性化合物Ｐ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
　低分子液晶性化合物Ｍ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
　界面改良剤Ｆ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
　＜粘着剤シートＮ１の作製＞
　ブチルアクリレート７０部、メチルアクリレート３０部、アクリル酸４部、Ｎ，Ｎ－ジメチルメタクリルアミド２部、アゾビスイソブチロニトリル０．１部および酢酸エチル１２０部を加えた。これを溶液重合法により重合させて、重量平均分子量１５０万のアクリル共重合体の溶液を得た。
　共重合体溶液１の固形分１００質量部に対して、コロネートＬ（日本ポリウレタン工業（株）製 ポリイソシアネート）３質量部、アルミキレートＡ（川研ファインケミカル（株）製 アルミニウムトリスアセチルアセトネート）０．２質量部、ＫＢＭ－８０３（信越化学工業（株）製 γ－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン）の０．１質量部を混合した溶液を粘着剤組成物Ｎ１とした。これらの組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し９０℃の環境下で１分間乾燥させ、厚さ５μｍの粘着層を有する粘着剤シートＮ１を作製した。粘着層の貯蔵弾性率は、０．３ＭＰａであった。
 〔積層体１の作製〕
　積層体１Ｂの光吸収異方性層Ｐ１側と表面保護層Ｈ１の支持体１側とを、第１粘接着層として粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学社製、Ｓ１とする）を用いて貼りつけた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と第２粘着層として上記粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、積層体１とした。
［作製例２］
　＜ＵＶ接着剤Ｓ２の作製＞
　下記のＵＶ接着剤Ｓ２を調製した。
─────────────────────────────────
ＵＶ接着剤Ｓ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製）　　　　　　　　　　　７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル　　　　　　２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル　　　　　　　　　１０質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ　　　　　　　　　　　　　　　　　２．２５質量部
─────────────────────────────────
　ＣＥＬ２０２１Ｐ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
　ＣＰＩ－１００Ｐ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
　＜積層体２の作製＞
　積層体１Ｂの光吸収異方性層Ｐ１側と表面保護層Ｈ１の支持体１側とを、第１粘接着層として上記ＵＶ接着剤Ｓ２を用いて貼り合わせ、１０００ｍＪの照度で露光して硬化させた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と第２粘着層として上記粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、積層体２とした。
［作製例３］
　積層体１Ｂの光吸収異方性層Ｐ１側と表面保護層Ｈ１の支持体１側とを、第１粘接着層として上記ＵＶ接着剤Ｓ２を用いて貼り合わせ、ＵＶ照射条件を調節して、第１粘接着層の押し込み弾性率が表２の値となるように硬化させた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と第２粘着層として上記粘着剤シートＮ１を貼り合わせ、積層体３とした。
［作製例４］
　＜粘着剤シートＮ２、Ｎ３の作製＞
　以下の手順に従い、アクリレート系ポリマーＡ１を調製した。
　冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５重量部、アクリル酸５重量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系ポリマーＡ１を得た。
　次に得られたアクリレート系ポリマーＡ１用いて、以下の表１の組成で、アクリレート系粘着剤を作製した。これらのアクリレート系粘着剤を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し９０℃の環境下で１分間乾燥させ、紫外線（ＵＶ）を下記条件で照射して、粘着剤シートＮ２、Ｎ３を得た。ただし、粘着剤シートＮ３の作製において、ＵＶ照射は実施しなかった。アクリレート系粘着剤の組成と、粘着剤シートの膜厚および貯蔵弾性率を下記表１に示す。
　（ＵＶ照射条件）
・フュージョン社無電極ランプ　Ｈバルブ
・照度６００ｍＷ／ｃｍ２、光量１５０ｍＪ／ｃｍ２
・ＵＶ照度および光量は、アイグラフィックス（株）製「ＵＶＰＦ－３６」を用いて測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
（Ａ）多官能アクリレート系モノマー：トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、分子量＝４２３、３官能型（東亞合成社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」）
（Ｂ）光重合開始剤：ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比１：１の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア５００」
（Ｃ）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート
（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
（Ｄ）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）
　＜積層体４の作製＞
　積層体１Ｂの光吸収異方性層Ｐ１側と表面保護層Ｈ１の支持体１側とを、第１粘接着層として上記ＵＶ接着剤Ｓ２を用いて貼り合わせ、ＵＶ照射条件を調節して、第１粘接着層の押し込み弾性率が表２の値となるように硬化させた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と第２粘着層として上記粘着剤シートＮ２を貼り合わせ、積層体４とした。
［作製例５］
　積層体１Ｂの光吸収異方性層Ｐ１側と表面保護層Ｈ１の支持体１側とを、第１粘接着層として上記ＵＶ接着剤Ｓ２を用いて貼り合わせ、ＵＶ照射条件を調節して、第１粘接着層の押し込み弾性率が表２の値となるように硬化させた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と第２粘着層として上記粘着剤シートＮ２を貼り合わせ、積層体５とした。
［作製例６］
（ＰＶＡ接着剤Ｓ３の調製）
　アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００、ケン化度：９８．５モル％、アセトアセチル化度：５モル％）１００質量部に対し、メチロールメラミン２０質量部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度３．７質量％に調製した水溶液（ＰＶＡ接着剤Ｓ３）を調製した。
　＜積層体６の作製＞
　積層体１Ｂの光吸収異方性層Ｐ１側と表面保護層Ｈ１の支持体１側とを、第１粘接着層として上記ＰＶＡ接着剤Ｓ３を用いて貼りつけた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と第２粘着層として上記粘着剤シートＮ２を貼り合わせ、積層体６とした。
［作製例７］
　作製例４の積層フィルム１Ｂの光吸収異方性層の形成において、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示す光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２に変更して、積層体７Ｂを得た。積層体１Ｂの代わりに積層体７Ｂを用いた以外は、作製例４と同様の方法にて、作製例７の積層体を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－５　　　　　　　　　　　　　　　０．１４質量部
・上記二色性物質Ｄ－２　　　　　　　　　　　　　　　０．２１質量部
・下記二色性物質Ｄ－６　　　　　　　　　　　　　　　０．３５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　　４．０７質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ-０２（ＢＡＳＦ社製）　　 ０．２００質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４５．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４５．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　Ｄ－５
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
　Ｄ－６
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
［作製例８］
 〔表面保護層Ｈ２の作製〕
　以下のようにして、支持体１、ハードコート層、混合層、耐擦傷層がこの順に形成された表面保護層Ｈ２を作製した。
　（ポリイミド粉末の製造）
　撹拌器、窒素注入装置、滴下漏斗、温度調節器および冷却器を取り付けた１Ｌの反応器に、窒素気流下、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）８３２ｇを加えた後、反応器の温度を２５℃にした。ここに、ビストリフルオロメチルベンジジン（ＴＦＤＢ）６４．０４６ｇ（０．２ｍｏｌ）を加えて溶解した。得られた溶液を２５℃に維持しながら、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）３１．０９ｇ（０．０７ｍｏｌ）とビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）８．８３ｇ（０．０３ｍｏｌ）を投入し、一定時間撹拌して反応させた。その後、塩化テレフタロイル（ＴＰＣ）２０．３０２ｇ（０．１ｍｏｌ）を添加して、固形分濃度１３質量％のポリアミック酸溶液を得た。次いで、このポリアミック酸溶液にピリジン２５．６ｇ、無水酢酸３３．１ｇを投入して３０分撹拌し、さらに７０℃で１時間撹拌した後、常温に冷却した。ここにメタノール２０Ｌを加え、沈澱した固形分を濾過して粉砕した。その後、１００℃下、真空で６時間乾燥させて、１１１ｇのポリイミド粉末を得た。
　＜支持体１の作製＞
　１００ｇのポリイミド粉末を６７０ｇのＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶かして１３質量％の溶液を得た。得られた溶液をステンレス板に流延し、１３０℃の熱風で３０分乾燥させた。その後フィルムをステンレス板から剥離して、フレームにピンで固定し、フィルムが固定されたフレームを真空オーブンに入れ、１００℃から３００℃まで加熱温度を徐々に上げながら２時間加熱し、その後、徐々に冷却した。冷却後のフィルムをフレームから分離した後、最終熱処理工程として、さらに３００℃で３０分間熱処理して、ポリイミドフィルムからなる、厚み３０μｍの支持体１を得た。
　＜重合性を有するポリオルガノシルセスキオキサンの合成＞
（化合物（Ａ）の合成）
　温度計、撹拌装置、還流冷却器、および窒素導入管を取り付けた１０００ミリリットルのフラスコ（反応容器）に、窒素気流下で２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン２９７ミリモル（７３．２ｇ）およびメチルトリメトキシシラン３ミリモル（４０９ｍｇ）、トリエチルアミン７．３９ｇ、およびＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）３７０ｇを混合し、純水７３．９ｇを、滴下ロートを使用して３０分かけて滴下した。この反応液を８０℃に加熱し、重縮合反応を窒素気流下で１０時間行った。
　その後、反応溶液を冷却し、５質量％食塩水３００ｇを添加し、有機層を抽出した。有機層を５質量％食塩水３００ｇ、純水３００ｇで２回、順次洗浄した後、１ｍｍＨｇ、５０℃の条件で濃縮し、固形分濃度５９．８質量％のＭＩＢＫ溶液として無色透明の液状の生成物｛脂環式エポキシ基を有するポリオルガノシルセスキオキサンである化合物（Ａ）（下記（１）中のＲｂ：２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル基、Ｒｃ：メチル基、ｑ＝９９、ｒ＝１である化合物）を固形分濃度として５９．０質量％含有するメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
　得られた化合物（Ａ）の数平均分子量（Ｍｎ）は２３１０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．１であった。
　なお、１ｍｍＨｇは約１３３．３２２Ｐａである。
　（重合体（１－１）の合成）
　撹拌機、温度計、還流冷却管、および窒素ガス導入管を備えた２００ミリリットル三口フラスコに、ｔ－アミルアルコール２５.０ｇを仕込んで、１２０℃まで昇温した。次いで、２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート｛モノマー（Ｋ２）に相当｝３．２５ｇ（７．８ミリモル）、下記構造を有する化合物（Ｉ－１）｛モノマー（Ｋ１）に相当｝２．２６ｇ（４．７ミリモル）、シクロヘキサノン２５．０ｇおよび「Ｖ－６０１」（和光純薬（株）製）４．７ｇからなる混合溶液を１２０分で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、さらに３．５時間撹拌を続け、重合体（１－１）５．５ｇ（固形分換算値）を得た。この重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１，６００であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
　＜ハードコート層形成用組成物の調製＞
　（ハードコート層形成用組成物ＨＣ－１）
　上記化合物（Ａ）を含有するＭＩＢＫ溶液に、ＣＰＩ－１００Ｐ、重合体（１－１）およびＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）を添加し、各含有成分の濃度が下記の濃度となるように調整し、ミキシングタンクに投入、撹拌した。得られた組成物を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、ハードコート層形成用組成物ＨＣ－１とした。
　化合物(Ａ)　　　　　　　　　　９８．６質量部
　ＣＰＩ－１００Ｐ　　　　　　　　１．３質量部
　重合体（１－１）　　　　　　　　０．１質量部
　メチルイソブチルケトン　　　１００．０質量部
　なお、ハードコート層形成用組成物中に用いた化合物は以下のとおりである。
　ＣＰＩ－１００Ｐ：カチオン光重合開始剤、サンアプロ(株)製
　＜混合層形成用組成物の調製＞
　（混合層形成用組成物Ｍ－１）
　上記化合物（Ａ）を含有するＭＩＢＫ溶液をＭＥＫ（メチルエチルケトン）溶液に溶剤置換し、ＤＰＨＡ、ＣＰＩ－１００Ｐ、イルガキュア１２７、レベリング剤－１およびＭＥＫを添加し、各含有成分の濃度が下記の濃度となるように調整し、ミキシングタンクに投入、撹拌した。得られた組成物を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、混合層形成用組成物Ｍ－１とした。混合層形成用組成物Ｍ－１中、化合物（Ａ）とＤＰＨＡの混合比は、化合物（Ａ）／ＤＰＨＡ＝５０質量％／５０質量％である。
　化合物(Ａ)　　　　　　　　　４２．８５質量部
　ＤＰＨＡ　　　　　　　　　　４２．８５質量部
　ＣＰＩ－１００Ｐ　　　　　　　　１．３質量部
　イルガキュア１２７　　　　　　　５．０質量部
　レベリング剤－１　　　　　　　　８．０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　５００．０質量部
　なお、混合層形成用組成物中に用いた化合物は以下のとおりである。
　ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
　イルガキュア１２７：ラジカル光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製
　レベリング剤－１：下記構造のポリマー（Ｍｗ＝２００００、下記繰り返し単位の組成比は質量比）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
　＜耐擦傷層形成用組成物の調製＞
　（耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１）
　下記に記載の組成で各成分をミキシングタンクに投入、撹拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１とした。
　ＤＰＨＡ　　　　　　　　　　　９６．２質量部
　イルガキュア１２７　　　　　　　２．８質量部
　ＲＳ－９０　　　　　　　　　　　１．０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　３００．０質量部
　なお、耐擦傷層形成用組成物中に用いた化合物は以下のとおりである。
　ＲＳ－９０：滑り剤、ＤＩＣ（株）製
　＜表面保護層Ｈ２の作製＞
　支持体１上にハードコート層形成用組成物ＨＣ－１をダイコーターを用いて塗布した。１２０℃で１分間乾燥した後、２５℃の条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度１８ｍＷ／ｃｍ２、照射量１０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してハードコート層を半硬化させた。
　混合層形成用組成物Ｍ－１にＭＥＫを添加して固形分濃度を１／１０に希釈した混合層形成用組成物を準備し半硬化させたハードコート層上にダイコーターを用いて塗布した。１２０℃で１分間乾燥した後、２５℃、酸素濃度１％の条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度１８ｍＷ／ｃｍ２、照射量１０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して混合層を半硬化させ、ハードコート層上に混合層を設けた。
　半硬化させた混合層上に、耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１をダイコーターを用いて塗布した。１２０℃で１分間乾燥した後、２５℃、酸素濃度１００ｐｐｍの条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度６０ｍＷ／ｃｍ２、照射量８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、さらに８０℃、酸素濃度１００ｐｐｍの条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度６０ｍＷ／ｃｍ２、照射量８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することでハードコート層、混合層、耐擦傷層を完全硬化させた。その後、得られたフィルムを１２０℃１時間熱処理することで、厚さ１１．０μｍのハードコート層上に、厚さ０．１μｍの混合層、厚さ１．０μｍの耐擦傷層を有する表面保護層Ｈ２を得た。
　積層体１Ｂの光吸収異方性層Ｐ２側と表面保護層Ｈ２の支持体側とを、第１粘接着層として上記ＵＶ接着剤Ｓ２を用いて貼り合わせ、ＵＶ照射条件を調節して、第１粘接着層の押し込み弾性率が表２の値となるように硬化させた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と第２粘着層として上記粘着剤シートＮ２を貼り合わせ、積層体８とした。
［作製例９］
　作製例６の積層フィルム１Ｂの光吸収異方性層の形成において、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示す光吸収異方性層形成用組成物Ｐ３に変更し、かつ厚みを０．５μｍから１．５μｍに変更して、積層体９Ｂを得た。積層体１Ｂの代わりに積層体９Ｂを用いた以外は、作製例６と同様の方法にて、作製例９の積層体を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．１４質量部
・下記二色性物質Ｄ－４　　　　　　　　　　　　　　　０．２１質量部
・上記二色性物質Ｄ－３　　　　　　　　　　　　　　　０．３５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　　２．９７質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１　　　　　　　　　　　１．１０質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ-０２（ＢＡＳＦ社製）　　 ０．２００質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　Ｄ－４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
［作製例１０］
　作製例８の積層フィルム１Ｂの光吸収異方性層の形成において、積層体１Ｂの代わりに積層体９Ｂを用いた以外は、作製例８と同様の方法にて、作製例１０の積層体を得た。
［作製例１１］
　作製例１の積層フィルム１Ｂの光吸収異方性層の形成において、上記光配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ４を形成した。
　次いで、塗布層Ｐ４を１２０℃で６０秒間加熱し、速やかに室温（２３℃）になるまで冷却して乾燥皮膜を形成した。乾燥皮膜において、液晶化合物は、スメクチックＢ相であった。
　その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ４を作製し、積層体１１Ｂとした。光吸収異方性層Ｐ１の膜厚は２．５μｍであった。
　積層体１Ｂの代わりに積層体１１Ｂを用いた以外は、作製例８と同様の方法にて、作製例１１の積層体を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－７　　　　　　　　　　　　　　　２．６０質量部
・下記二色性物質Ｄ－８　　　　　　　　　　　　　　　２．６０質量部
・下記二色性物質Ｄ－９　　　　　　　　　　　　　　　２．２０質量部
・下記液晶性化合物Ｍ１　　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）　　　　  ５．０００質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製）　　　  　０．９質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　９２５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　二色性色素Ｄ１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
　二色性色素Ｄ２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
　二色性色素Ｄ３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
　液晶性化合物Ｍ１（化合物Ａ／化合物Ｂ＝７５／２５で混合）
　（化合物Ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
　（化合物Ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
［作製例１２］
　積層体１１Ｂの光吸収異方性層Ｐ４側と表面保護層Ｈ１の支持体側とを、各々コロナ処理した後、第１粘接着層として上記ＰＶＡ接着剤Ｓ３を用いて貼りつけた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と第２粘着層として上記粘着剤シートＮ２を貼り合わせ、積層体１２とした。
［押し込み弾性率］
　各層の押し込み弾性率は、上述の方法にしたがって測定した。
［貯蔵弾性率］
　第２粘着層の貯蔵弾性率は、上述の方法にしたがって測定した。
［表面からの圧力耐性評価］
　耐傷性の指標としてＪＩＳ　Ｋ－５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。得られた積層体１～１４を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに裁断し、セパレートフィルムを剥がして、粘着層２をガラス基板（コーニング社Ｅａｇle　ＸＧ）上に圧着した。これらを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、２Ｈの試験用鉛筆を用いて、ハードコート層が積層された面を、４．９Ｎの荷重にて引っ掻いた。積層体を偏光板（商品名：ＨＣＬ２－５６１８ＨＣＳ，サンリッツ社製）と吸収軸が直交配置となるように重ね、鉛筆で引っ掻いた箇所をバックライト上で目視し、以下のとおりの判定で評価した。
　Ａ：光漏れなし
　Ｂ：光漏れがわずかに見える
　Ｃ：光漏れがはっきり見える
　上記評価結果を下記表２に示す。
　表２中、「Ａ／Ｂ」は、光吸収異方性層の押し込み弾性率に対する、第１粘接着層の押し込み弾性率の比率（第１粘接着層の押し込み弾性率／光吸収異方性層の押し込み弾性率）を意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000062
　表２に示すように、表面保護層と、第１粘接着層と、光吸収異方性層と、第２粘着層をこの順に有する積層体において、第１粘接着層の押し込み弾性率が光吸収異方性層の押し込み弾性率よりも大きければ、表面からの圧力耐性に優れることが示された（作製例２、４～１２）。
　これに対して、第１粘接着層の押し込み弾性率が光吸収異方性層の押し込み弾性率以下である場合、表面からの圧力耐性が劣ることが示された（作製例１、３）。
　作製例２と作製例４との対比から、第２粘着層の貯蔵弾性率が０．５ＭＰａ以上であれば（作製例４）、積層体の表面からの圧力耐性がより優れることが示された。
　作製例４と作製例７との対比から、光吸収異方性層形成用組成物に含まれる化合物中のラジカル重合性基のモル含有率が、光吸収異方性層形成用組成物の全固形分に対して１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であれば（作製例４）、積層体の表面からの圧力耐性がより優れることが示された。
［作製例１３］
　＜光学異方性層の作製＞
（ポジティブＡプレートＡ１の作製）
　後述する配向層形成用塗布液ＰＡ２を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、０．２μｍ厚みの光配向層ＰＡ２を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合体ＰＡ－２　　　　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
上記酸発生剤ＰＡＧ－１　　　　　　　　　　　　　　　１．００質量部
イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　１６．５０質量部
酢酸ブチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０７２．００質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　２６８．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　重合体ＰＡ－２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
　酸発生剤ＰＡＧ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
　後述する組成の組成物Ａ－１を、バーコーターを用いて光配向層ＰＡ２上に塗布した。光配向層ＰＡ２上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、その後６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射することで、液晶性化合物の配向を固定化し、ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１を作製した。
　ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（組成物Ａ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－１　　　　　　　　　　４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－２　　　　　　　　　　４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－３　　　　　　　　　　　８．００質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－４　　　　　　　　　　　５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１　　　　　　　　　　　　　　０．５５質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１　　　　　　　　　　　　　　０．２０質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　２３５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　重合性液晶性化合物Ｌ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
　重合性液晶性化合物Ｌ－２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
　重合性液晶性化合物Ｌ－３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
　重合性液晶性化合物Ｌ－４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
　重合開始剤ＰＩ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
　レベリング剤Ｔ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
（ポジティブＣプレートＣ１の作製）
　仮支持体として、上記セルロースアシレートフィルム１を用いた。
　セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
　次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
　次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（アルカリ溶液）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．７質量部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５．８質量部
イソプロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ）　　　　　　　　 　 １．０質量部
プロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　１４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　下記の組成の配向層形成用塗布液３を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３）　　　　２．４質量部
イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　１．６質量部
メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６質量部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　後述するポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１を配向層上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶性化合物を垂直配向させ、厚み０．５μｍのポジティブＣプレートＣ１を作製した。
　得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記液晶性化合物Ｌ－１１　　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
下記液晶性化合物Ｌ－１２　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
下記垂直配液晶性化合物向剤（Ｓ０１）　　　　　　　　　　　１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　　　　８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）　　　　　　　　　　　　３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）　　　　　　　　　１質量部
下記化合物Ｂ０３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１７０質量部
シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
　上記ａおよびｂは、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、ａは９０質量％、ｂは１０質量％を表す。
　＜作製例１３の積層体の作製＞
　作製例２の積層体に対して、第２粘着層と上記ポジティブＡプレートＡ１の位相差側とを、貼り合わせた。
　このとき、光吸収異方性層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。
　次に、ポジティブＡプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去して、その除去した面と、上記ポジティブＣプレートＣ１の位相差側とを、各々コロナ処理した後、上記ＵＶ接着剤Ｓ２を用いて張り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは１μｍであった。
　さらに、ポジティブＣプレート側の配向層とセルロースアシレートフィルム１を除去し、その除去した面に、上記粘着剤シートＮ３を貼り合わせ、作製例１３の積層体とした。
　＜作製例１４～２２積層体の作製＞
　作製例４～１２の積層体に対して、作製例１３と同様にして、作製例１４～２２の積層体を作製した。
　＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
　有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ　Ｓ４を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記の作製例１３～２２の積層体を粘着層側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製し、反射防止の効果が見られることを確認した。
　１０　表面保護層
　２０　第１粘接着層
　３０　光吸収異方性層
　４０　第２粘着層
　１００　積層体

Claims (10)

  1. 　表面保護層と、第１粘接着層と、光吸収異方性層と、第２粘着層と、をこの順に有し、
    　前記第１粘接着層の押し込み弾性率が、前記光吸収異方性層の押し込み弾性率よりも大きく、
    　前記光吸収異方性層が、液晶性化合物および二色性物質を含有する光吸収異方性層形成用組成物から形成された層であり、
    　前記光吸収異方性層の厚みが５μｍ未満である、光学積層体。
  2. 　前記光吸収異方性層の厚みが３μｍ未満である、請求項１に記載の光学積層体。
  3. 　前記第１粘接着層が、ポリビニルアルコール系接着剤を含む、請求項１または２に記載の光学積層体。
  4. 　前記第１粘接着層が、紫外線硬化型接着剤を含む、請求項１または２に記載の光学積層体。
  5. 　前記第１粘接着層と、前記第２粘着層と、の間に配置されている層の厚みが１０μｍ以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体。
  6. 　前記第２粘着層の貯蔵弾性率が０．５ＭＰａ以上である、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学積層体。
  7. 　前記光吸収異方性層形成用組成物中のラジカル重合性基のモル含有率が、前記光吸収異方性層形成用組成物の全固形分に対して、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上である、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学積層体。
  8. 　さらに、ラジカル重合性基を有する繰り返し単位を有する重合体を含有する光配向層を有し、
    　前記光配向層が、前記光吸収異方性層の表面に接するように配置されている、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学積層体。
  9. 　前記光吸収異方性層の可視光平均透過率が４５％以上である、請求項１～８のいずれか１項に記載の光学積層体。
  10. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の光学積層体を有する、表示装置。
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